TWI325446B - Cathode for vacuum sputtering - Google Patents

Description

(2) (2)1325446 至少一面具有至少一臂在同平面中，以界定導管供冷卻流 體循環之用。 如所述，本發明發現特別有利應用於真空濺射陰極之 情形，包含一靶子安裝於膜片冷卻組件上。 本發明欲解決之另一問題爲以簡單，可靠，有效，及 迅速之方法固定靶子，並能非常容易更換靶子。 在實際上，依據先前技藝，靶子固定裝置並不使其可 容易處理及更換。靶子通常由安排於周邊周圍之多個螺釘 固定。 如考慮到需要非常多之螺釘來固定靶子，則裝上及卸 下時間顯然特別長。而且，會引起卡住之危險。 亦有提出使用面夾聯同螺釘固定靶子，此解決仍不滿 意，因爲螺釘仍直接用以整個夾緊靶子。 爲解決迅速及有效固定靶子之問題，使其可迅速卸下 及再裝上，俾可更換，陰極固定於一框，界定一封閉空間 ，用以安置靶子於中心位置；該框周邊具有一輪廓捕捉 及互鎖周緣，能與具有互補捕捉形狀之一組獨立之握持元 件合作，能由施加於構件上之夾緊行動引起該等元件之傾 斜效應，構件接合於元件之厚度，並抵壓於框之補捉周緣 之部份上，俾在該傾斜效應下，該組握持元件之補捉形狀 之部份表面抵壓於靶子之周邊上，以固定靶子。/ 【實施方式】 如顯示於圖1，本發明之陰極由支持底座（3)構成 -5- 1325446

捕捉輪廓（5 d )及互補形狀（8 a )在橫斷面上之形狀 設計爲，由於夾緊行動施加於構件（9 )之結果，可引起 握持元件（8 )之傾斜效應，構件接合於元件（8 )之厚度 ，並抵壓於框（7 )之捕捉周緣之部份上。在傾斜效應下 ，該組捕捉元件（8 )之捕捉形狀（8 a )之部份表面抵壓 於靶子（2)之周邊邊緣，以固定靶子，如以下所示。 圖 9顯示框（5)之捕捉周緣（5d)之斷面輪廓及 握持元件（8 )之互補捕捉形狀（8a )之有利實施例。 捕捉及互鎖周（5d)由一偏置直線輪廓部份（5dl) 構成，界定一直線槽（5d2 )。直線輪廓部份（5dl )由一 傾斜面（5 d 4 )連接至抵壓面（5 d 3 )。 握持元件（8 )之互補形狀由一直線凹槽（8a 1 )構成 ，設計接合於框（5 )之偏置直線輪廓部份（5 d 1 )上。直 線凹槽（8al )界定一尖端（8a2 )與槽（5d2 )合作。尖 端（8 a 2 )伸出傾斜抵壓面（8 a 3 )外，抵壓面設計與靶子 (2 )之周緣合作。 當握持元件（8)之斷面配合於框（5)之捕捉及互鎖 輪廓部份時（凹槽（8a])中之尖端（8 a2)之接合於輪廓 部份（5d )之槽（5d2 ))，所有其餘要做的僅爲操作構 件（9 )，以製造握持元件（8 )之傾斜效應。記住此點， 構件（9)由固定螺釘整合於元件（8)之厚度中構成，在 捕捉形狀（8a )下，及抵壓於框（5 )之連接部份（5d4 ) 之傾斜面上。 -7- (5) (5)1325446 圖7顯示在固定螺釘（9)上緊前之元件（8)，而 圖4則顯示在固定螺釘（9 )已上緊後之元件。可見在 上緊且故此夾緊行動後，傾斜面（8 a3 )抵壓靶子（2 )之 周邊。 如圖5及 6所示，握持元件（8 )經適當切製， 一旦此等並排組合時，形成一封閉周邊框，包圍及完全封 閉祀子（2 )之 4邊，從而界定一自由中心區用於濺射 。換言之’在組合後，元件（8 )再生與框（5 )相同之幾 何形狀。 在元件（8)及框（5)之捕捉輪廓之形狀之疊覆中， 各元件（8 )相互獨立。一些具有至少一斜接邊，以形成 四角’同時其他則爲直線，由滑動於二元件之間插入，尤 其是’此等已與框（5 )相對設置。 在所不之例中，握持元件（8)由二元件（8Α)及（ 8Β )構成，相當於框之二短邊，此二元件（8a ) ， ( 8Β )在其端部處斜接四元件（8C)，在其端部之一處斜接， 俾與元件（8Α )及（8Β )相對設置，及最後，在安裝框 之同邊上二元件（8C)後，預定插入之二元件（8D)。 在此等安排中，顯然，靶子（2)之裝上及卸下特別 簡單及容易。實則，僅需由鬆開固定螺釘（9 )，卸下握 持元件（8 )。 同樣，可非常快速裝上新靶子（2)。已置於框（7) 內後，所有其餘工作僅爲握持元件（8 )回至其位置，如 所示，及固定螺釘上緊，使元件（8 )傾斜。故此顯然， -8 * (6) (6)叫5446 寺元件（8)及框（5)之匹配輪廓，而非夾螺釘固定靶 子。 依據本發明之一重要特色，如本發明之特徵所述之陰 極’通件安裝於端板（1)上，在設計容易取出之機器之部 份上。機器之此部份宜由一門（10)構成。 需注意握持元件（8 )可爲或非爲與濺射靶子相同之 材料所製。 自該說明顯然可見該等優點。 | 【圖式簡單說明】 - 以下使用附圖’更詳細說明本發明，在附圖中： · 圖】爲本發明之陰極之主要元件在安裝前之透視圖 » 圖2爲在各元件已組合後相當於圖1之透視圖； 圖3爲在圖2之3-3上所取之斷面圖； 圖4爲非常大比例之部份圖，顯示膜片之內部結構 » 圖5爲在裝配握持元件用以固定靶子前之濺射陰極 之部份之平面圖： 圖6爲握持元件已裝配後與圖1相當之圖； 圖7爲斷面圖’顯示在夾緊靶子前，陰極之生產及 應用； 圖 8爲在夾緊IE子後與圖3相當之圖； -9- (7) 1325446 圖 9爲透視圖，顯示膜片支持及握持元件之輪廓部 份。 [主要元件對照表】 2 濺射靶子 3 支持底座 4 膜片

4 a 層 4 b 層 5 框 5 A 直線輪廓部份 5 d 捕捉周緣 5 d 1 偏置直線輪廓部份 5 d 2 直線槽 5 d 3 抵壓面

5 d 4 傾斜面 7 螺釘 8 握持元件 8a 互補捕捉形狀 8 a 1 直線凹槽 8 a 2 尖牺 8 a 3 傾斜抵壓面 8A、8B、8C、8D 元件 9 構件 -10 - 1325446 (8) 10 門 11 框 11a 空隙 lib 臂

-11 -

Claims (1)

1325446 拾、申請專利範圍 ；: 附件5 : 第92 1 1 863 1號專利申請案 中文申請專利範圍替換本 民國98年9月17日修正 1. 一種真空濺射用之陰極，具有一用以支撐其靶子 (2)之支座，該支座包含一冷卻器，具有一其上疊置有 一框（11)的支持底座（3)，該框（11)在同一平面上 具有至少一臂（lib)，界定導管以供冷卻流體循環之用 ，該框（11)具有一膜片（4)疊置其上，該支持底座（3 )’框（Π)及膜片（4)在周邊周圍連接一起，該膜片 (4)由至少二重疊之材料（4a)及（4b)構成，該材料 之一（4b)作用如一結構，並可接受彈性變形，而另—材 料（4a )則可接受塑性變形，俾可與該膜片（4 )相組合 安裝之濺射靶子（2)之表面相對應/匹配。 2. 如申請專利範圍第1項所述之陰極，其特徵爲， 由支座（3)，框（11)，及膜片（4)構成之組件固定於 一框（5) ’界定一封閉空間（6)用以設置靶子（2)於 中心位置；框（5)周邊具有輪廓捕捉周緣（5d)能與 一組獨立之握持元件（8)合作，具有互補之捕捉形狀（ 8a ) ’能由施加於構件（9 )上之夾緊行動，可引起元件 (8)之傾斜效應’構件（9)接合於元件之厚度並抵壓於 框（5)之捕捉周緣之部份上，俾在該傾斜效應下，該組 1325446 件上 元緣 持邊 握周 子 靶 於 壓 抵 面 表 份 部 之 狀 形 捉 捕 之 之 子 靶 該 定 固 以 之 述 所 項 2 第 圍 範 利 專 請 甲 如 Niy 8 件 元 持 握 組 該 製 切 當 適 此 旦 爲， 徵時 特合 其組 PF ， «W 極並 陰等 子 靶 圍 包用 全之 完衬 身 並濺 繞供 圍區 框、L·' 邊中 周由 閉自 封一 - 定 成界 形而 從 邊 四 之 4. 如申請專利範圍第 3項所述之陰極，其特徵爲 ，一些元件（8)具有至少一斜接邊，以形成四角，而其 他則爲直線，俾特別由滑動於二角元件之間而插入，此等 已與該框相對設置。_ 5. 如申請專利範圍第 2項所述之陰極，其特徵爲 ，框（5)之捕捉及互鎖周緣由一偏置直線輪廓部份構成 ，界定一直線槽（5d2 )。 6. 如申請專利範圍第 2或5項所述之陰極，其特徵 爲握持元件（8)之互補捕捉形狀由一直線凹槽（8al)構 成，與框（5)之偏置直線輪廓部份合作，並界定一尖端 該槽（5d2 )合作，以產生在夾緊行動下之該傾斜效應。 7. 如申請專利範圍第 2項所述之陰極，其特徵爲 膜片支持組件（3) ’ （11) ，（〇安裝於機器之部份上 ，設計容易取出，尤其是成門之形狀。 IS 3 -2-