DE4301516C2 - Targetkühlung mit Wanne - Google Patents
Targetkühlung mit WanneInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Target-
Kathodenanordnung für eine Kathoden-Zerstäubungsanlage mit
einer räumlich geschlossenen Kathodenform, mit einem
Targetkörper, der mittels einer lösbaren Befesti
gungseinrichtung an ein Kühlsystem ankoppelbar ist.
Der Dauerbetrieb von Kathoden-Zerstäubungsanlagen, der
insbesondere in Produktionsstätten zur Herstellung von zu
beschichtenden Substraten zu beobachten ist, bedingt durch
den ständigen Beschuß der Targetkörper mit Ionen und die
dadurch bewirkte Zerstäubung der Targetkörper, einen rou
tinemäßigen Wechsel der Targets. Dadurch verursachte Aus
fallzeiten sind jedoch unter dem Gesichtspunkt der wirt
schaftlichen Auslastung derartiger Maschinen möglichst
kurz zu halten. Die hierzu durchzuführenden Target-Wech
selarbeiten werden oftmals auch dadurch erschwert, daß die
Targetkörper zur Kühlung während des Beschichtungs
prozesses unmittelbar mit einem Kühlsystem in Kontakt
stehen, was schließlich dazu führt, daß beim Targetwechsel
das Kühlsystem zumeist offengelegt werden muß und langwie
rige Säuberungstätigkeiten erfordert.
Die Kühlung von Targetkörpern ist durch den andauernden Beschuss mit Ionen notwendig,
da der Targetkörper stets einer hohen thermischen Belastung ausgesetzt ist. Zur Vorkehrung
gegen Versprödung und Überhitzung des Targetmaterials, muss für einen besonders guten
Wärmeübergang zwischen Targetkörper und Kühlsystem gesorgt sein. Dies erfolgt in aller
Regel dadurch, dass der Targetkörper mit seiner Unterseite ganzflächig mit einer Kühlflä
che, deren Unterseite wiederum mit einer Kühlflüssigkeit beaufschlagt ist, in Kontakt steht.
Die bekannten Kühlsysteme weisen zwischen dem Kühlsystem und dem Targetkörper eine
Zwischenplatte auf, die jedoch beim Targetwechsel vom Kühlsystem mit abgehoben werden
muss, so dass der Kühlkanal offen steht und ein Auswechseln bzw. Säubern von vorhande
nen Dichtungen erfordert. Ein Wechsel der Targetkörper bedingt somit gleichzeitig einen
Eingriff in das Kühlsystem, wodurch ein enormer zusätzlicher Arbeitsaufwand geschaffen
wird. Ferner ist beim Zusammenbau das Risiko von Undichtigkeiten im Kühlsystem sehr
groß, so dass eine Wasser-Vakuumdichtheitsprüfung erfolgen muss, um einen einwandfrei
en Weiterbetrieb zu garantieren.
Nicht nur das Offenlegen von Kühlsystemen ist mit dem Targetwechsel bei bekannten Ka
thodenzerstäubungsanlagen verbunden, sondern je nach baulichen Gegebenheiten sind die
Magnetanordnungen der Anlage ebenfalls äußeren mechanischen Einflüssen ausgesetzt.
Ungewollte Dejustierungen oder Beschädigungen der Magnete können leicht durch Unacht
samkeit die Folge sein, wodurch die Plasmastabilität nachteilhaft beeinflussbar ist.
Die EP 0 482 541 A1 zeigt eine Kathodenanordnung mit geschlossener Kathodengestalt,
einen mit einer lösbaren Befestigungseinrichtung an einem Kühlsystem ankoppelbaren Tar
getkörper, sowie eine Zwischenplatte zwischen Targetkörper und Kühlsystem. Die Zwi
schenplatte ist mit getrennten Befestigungseinrichtungen mit dem Target und dem Kühl
system verbunden. Die Verbindung zwischen der Grundplatte des Kühlsystems und der
Zwischenplatte erfolgt mittels Schrauben. Die Kathodenplatte (das Target) ist mittels Halte
rungen und Kathodenhalteschrauben an der Zwischenplatte befestigt.
Die DE 40 15 388 A1 offenbart den Einsatz einer Trennmembran zwischen Kühlsystem und
Target. Die Befestigung der Membran am Kühlsystem erfolgt mittels Verschweißung. Die
Durchbiegung einer verschweißten Membran ist jedoch begrenzt. Außerdem kann die
Membran bei einer bahnförmigen Ausführung der Kathode nach wenigen Targetwechseln
Falten ausbilden.
Die Verwendung einer elastischen Folie im Kühlsystem einer Magnetron-
Zerstäubungsanlage ist auch in J. Vac. Sci. Technol. A2 (3) Jul.-Sept. 1984, 1391-3 (M. R.
Lake et al.) gezeigt. Die Verbindung zwischen der Folie und dem Gehäuse des Magnetrons
wird durch Hartlöten bewerkstelligt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Target-Kathodenanordnung für eine
Kathoden-Zerstäubungsanlage mit bahnförmig geschlossener Kathodengestalt und mit einem
Targetkörper, der mittels einer lösbaren Befestigungseinrichtung an ein Kühlsystem ankop
pelbar ist, derart anzugeben, dass der Wechsel eines Targetkörpers möglichst schnell durchzu
führen ist und insbesondere das Kühlsystem hiervon unberührt lässt. Es soll insbesondere
ein Befestigungssystem für die Target-Kathodenanordnung bereitgestellt werden, welches,
auch beim Targetwechsel, gegenüber einer einfachen Verschraubung oder Verschweißung
der Membran erhöhte Anforderungen an die Dichtigkeit des Kühlsystems, selbst bei ver
schiedener thermischer Ausdehnung der Bauteile im Taktbetrieb sowie bei extremer Durch
biegung der Membran, erfüllt. Zudem soll es ermöglicht werden, einen intensiven Kontakt
zwischen Kühlsystem und Targetkörper und damit eine bestmögliche Kühlung zu bewirken,
ohne Einbußen bei der Dichtigkeit des Kühlsystems hinnehmen zu müssen. Durch den in
tensiven Kontakt kann die Abtragerate des Targetmaterials optimiert werden.
Eine erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben. Weiterbil
dungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Erfindungsgemäß wird eine Target-Kathodenanordnung für eine Kathoden-
Zerstäubungsanlage mit bahnförmig geschlossener Kathodengestalt, mit einem Targetkör
per, der mittels einer lösbaren Befestigungseinrichtung an ein Kühlsystem ankoppelbar ist, das als eine
Wanne ausgebildet ist und einen geschlossenen Kühlkanal bildet, derart
ausgebildet, dass zwischen dem Targetkörper und dem Kühlsystem eine Trennmembran
vorgesehen ist, die zum einen mit dem Kühlsystem und zum anderen mit dem Targetkörper
durch getrennte Befestigungseinrichtungen in Verbindung steht. Dadurch ist es möglich,
dass beim Targetwechsel die Befestigung der Membran auf der Wanne durch Schraubver
bindungen bestehen bleiben kann, wobei die Schraubverbindungen von unten durch die
Wanne eine Befestigungsleiste von oben gegen die Membran pressen. Außerdem sind
Dichtungen zwischen der Membran und der Wanne vorgesehen.
Die erfindungsgemäße Idee wird anhand eines speziellen Ausführungsbeispiels, der soge
nannten "HLK-Kathode" (Hoch-Leistungs-Kathode) beschrieben, ohne das Anspruchsbegehren
gemäß Patentanspruch 1 zu beschränken. Ebenso
sind beispielsweise auch erfindungsgemäße Anwendungen bei
sogenannten "Zwischen-Pol-Targets" möglich.
HLK-Target-Anordnungen sind dadurch charakterisiert, daß
zwei Targetkörperbahnen im wesentlichen parallel nebenein
ander verlaufen und einen gegenseitigen Abstand voneinan
der aufweisen. An den sich gegenüberliegenden Stirnseiten
der parallel, geradlinig verlaufenden Kathodenkörper sind
jeweils zwei halbkreisförmige Targetabschnitte vorgesehen,
die die Parallelbahnen miteinander verbinden.
Die erfindungsgemäße Trennmembran ist dabei einstückig
derart unter der Targetkörperanordnung angebracht, daß sie
mit der gesamten Unterseite des Targetkörpers in Kontakt
steht. Wesentlich dabei ist, daß die Befestigung der
Trennmembran mit dem Kühlkörper, der bevorzugt als Wanne
ausgebildet ist, an dessen Rand mit Schraubverbindungen
mit diesem verbunden ist. Getrennt hiervon ist der
Targetkörper mit dem Kühlsystem verbunden, so daß dieser
separat abgenommen werden kann.
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des
allgemeinen Erfindungsgedankens anhand eines
Ausführungsbeispieles unter Bezugnahme auf die Zeichnung
exemplarisch beschrieben, auf die im übrigen bezüglich der
Offenbarung aller im Text nicht näher erläuterten
erfindungsgemäßen Einzelheiten ausdrücklich verwiesen
wird. Es zeigt:
Fig. 1 eine Querschnittsdarstellung durch zwei
parallel verlaufende Targetkörper mit dem
jeweils damit verbundenen Kühlsystem.
Fig. 1 zeigt eine Querschnittsdarstellung durch ein
sogenanntes HLK-Target, das zwei parallel zueinander ange
ordnete Targetkörper 1 aufweist. Die plattenförmig ausge
bildeten Targetkörper 1 werden durch sogenannte
Pratzleisten 2' 2" auf der übrigen Targethaltevorrichtung
fixiert. Die jeweils äußeren Pratzleisten 2' sind durch
von oben eingesetzte Schrauben mit der übrigen
Targethaltevorrichtung lösbar fest verbunden, so daß das
Lösen der Befestigungsschrauben die Abnahme der
Pratzleisten 2' erlaubt. Die Befestigung des Targetkörpers
1 durch die Pratzleisten 2' und 2" geschieht derart, daß
die stufenförmigen Seitenabschnitte der Pratzleisten je
weils auf ebenso stufenförmig ausgebildeten, seitlichen Vor
sprüngen der Targetkörper aufliegend und auf diese durch
den Anpreßdruck der Schrauben einen nach unten gerichteten
Anpreßdruck erzeugen.
Neben der Verwendung von plattenförmig ausgebildeten
Targetkörpern sind auch runde Targetkörper verwendbar, die
mit einer mittigen Hohlschraube auf die Trennmembran
fixierbar sind.
Die Targetkörper 1 liegen ganzflächig mit ihrer Unterseite
auf der erfindungsgemäßen Trennmembran 3 auf, ohne dabei
mit ihr in einem unverrückbaren Kontakt zu stehen; d. h.
die Trennmembran kann sich aufgrund thermischer Ausdehnung
in einem gewissen Rahmen relativ zum Targetkörper bewegen.
Die Trennmembran 3 erstreckt sich einstückig über die
gesamte Fläche unterhalb der Targetkörper der An
ordnung. In ihr sind Bohrungen enthalten, durch die je
weils mittig bzw. an den Randbereichen die Befesti
gungsschrauben für die Pratzleisten eingesetzt werden
können. Die Dicke der Trennmembran 3 ist in vorteilhafter
Weise derart bemessen, daß die Eigenflexibilität der
Trennmembran jegliche thermische Ausdehnungen des
Targetkörpers 1 zuläßt und stets direkt an der Unterseite
des Targetkörpers anliegt.
Die Trennmembran 3 wird jeweils an der linken und rechten
Seite der gesamten Targetanordnung durch Befesti
gungsleisten 4' gegen die übrige Anordnung fixiert.
Erfindungsgemäß sind die Pratzleisten 2' zur Befestigung
der Targetkörper 1 und die Befestigungsleisten 4' räumlich
voneinander getrennt. So werden in der in Fig. 1 gezeigten
Ausführungsform die Befestigungsleisten 4' von unten mit
tels Langschrauben 10 gegen ihre Unterseite gezogen, so
daß die Trennmembran 3 zwischen den Befestigungsleisten 4'
und der als Wanne 5 ausgebildeten Unterseite gepreßt wird.
Im Mittelbereich ist ebenfalls eine Befestigungsleiste 4"
vorgesehen, die zusammen mit der Pratzleiste 2" durch von
oben einsetzbare Schrauben 9 fixierbar sind.
Durch die genannten Befestigungsmaßnahmen wird die
Trennmembran von oben gegen einen Wannenkörper 5 gepreßt,
der in seinem Randbereich Dichtungen 6 aufweist, die ein
Austreten einer in dem durch die Wanne gebildeten Kanal 7
befindlichen Kühlflüssigkeit verhindert. Der Kühlkanal 7
ist dabei derart ausgebildet, daß ein möglichst großer
Teil der Unterseite der Trennmembran mit Kühlflüssigkeit
in Kontakt tritt.
Unterhalb der in der Fig. 1 schraffiert dargestellten
Wannenkörper 5 ist die Magnetanordnung 8 vorgesehen, die
in vorteilhafter Weise derart unter der Wanne angebracht ist,
daß die Magnetpole durch den Wannenkörper verdeckt sind.
Ein unmittelbarer Kontakt der Magnete mit der
Kühlflüssigkeit ist durch diese Anordnung vollkommen aus
geschlossen.
Ein Wechsel der Targetkörper erfordert daher nur ein Lösen
der von oben an den Randbereichen der Pratzleisten 4'
eingesetzten Schrauben, die jedoch nur die Pratzleisten 2'
freigeben. Durch Lockern bzw. Lösen der Schrauben für die
mittleren Pratzleisten 2" können die Targetkörper 1 aus
der Vorrichtung entnommen werden, ohne dabei die Trenn
membran 3, die zumindest durch die äußeren Befesti
gungsleisten 4' fest mit dem Wannenkörper 7 verbunden
sind, zu lösen. Das Einsetzen eines neuen Targetkörpers 1
erfolgt sodann in der umgekehrten Reihenfolge.
Durch die erfindungsgemäße Trennung der Befestigungsvor
richtung für die Targetkörper von derjenigen für die Trennmembran
wird ein schneller und sauberer Targetwechsel möglich, der
insbesondere beim Betrieb in Produktionsstätten wünschens
wert ist. Das Problem von möglicherweise auftretenden
Undichtigkeiten im Kühlkreislauf ist mit dieser Anordnung
ausgeschlossen.
Ein weiterer Vorteil der in Fig. 1 dargestellten
Vorrichtung betrifft die Anordnung der Magnete. Da die
Magnete in der beschriebenen Ausführungsform nicht in
Kontakt mit dem in dem Kühlkanal 7 enthaltenen
Kühlflüssigkeit treten, unterliegen sie auch keiner Gefahr
der Korrosion. Ferner werden sie durch die Wannenform
derart gegen äußere mechanische Beschädigungen geschützt,
so daß der Wechsel der Targetkörper keine Gefahr für eine
derartige mechanische Beschädigung bedeutet.
Die in Fig. 1 im Querschnitt dargestellte HLK-Target-
Anordnung weist an ihren Endbereichen jeweils zwei halb
kreisförmige Verbindungsstücke auf, so daß der Kühlkanal 7
einen in sich geschlossenen Flüssigkeitskreislauf bildet.
Insbesondere in den Kurvenbereichen des Kühlkanals 7 wird
die Kühlflüssigkeit durch die dort auftretenden Zentri
fugalkräfte in den Kurvenaußenbereich gedrückt, so daß es
vorkommen kann, daß im Kurveninnenbereich nicht genügend
Kühlflüssigkeit vorhanden ist. Aus diesem Grund ist insbe
sondere in den Kurvenbereichen ein den Kühlkanal in
Längsrichtung durchsetzendes Trennblech vorgesehen, das
das Wegdriften der Kühlflüssigkeit in Richtung des Kurven
außenbereichs verhindert. Somit ist gewährleistet, dag die
Unterseite der Trennmembran von der Kühlflüssigkeit be
netzt ist und für eine optimale Kühlung des Targetkörpers
gesorgt ist.
Durch die erfindungsgemäße Anordnung der Trennmembran
zwischen dem Kühlkreislauf und dem damit thermisch an
gekoppelten Targetkörper ist es möglich, bei einem Target
körperwechsel keine langwierigen Unterbrechungszeiten in
Kauf nehmen zu müssen und ferner den Kühlkreislauf möglichst
unberührt davon zu lassen. Durch diese Maßnahmen wird die
Betriebssicherheit von Kathodenzerstäubungs-Anlagen erheb
lich erhöht und die Wirtschaftlichkeit verbessert.
1
Targetkörper
2
',
2
" Pratzleisten
3
Trennmembran
4
',
4
" Befestigungsleisten
5
Wanne
6
Dichtung
7
Kühlkanal
8
Magnetanordnung
9
Schraube
10
Langschraube
Claims (10)
1. Targetkathodenanordnung für eine Kathodenzerstäubungsanlage mit geschlossener
Kathodengestalt, mit einem Targetkörper (1), der mittels einer lösbaren Befestigungs
einrichtung an ein Kühlsystem ankoppelbar ist,
dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Targetkörper (1) und dem Kühlsystem
(7), welches als eine Wanne (5) ausgebildet ist und einen geschlossenen Kühlkanal (7)
bildet, eine Trennmembran (3) vorgesehen ist, die während des Betriebs zum einen
mit dem Kühlsystem (7) und zum anderen mit dem Targetkörper (1) durch Befesti
gungseinrichtungen in Verbindung steht, beim Targetwechsel jedoch die Befestigung
der Membran (3) auf der Wanne (5) durch Schraubverbindungen (10) bestehen bleibt,
die von unten durch die Wanne (5) eine Befestigungsleiste von oben gegen
die Membran (3) pressen, und Dichtungen (6) zwischen Membran (3) und der Wanne
(5) vorgesehen sind.
2. Targetkathodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, dass der Targetkörper (1) durch von oben aufgesetzte Pratzleisten (2', 2")
auf die Membran (3) fixierbar ist.
3. Targetkathodenanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die
Pratzleisten (2', 2") durch Schraubverbindungen (9) fixierbar sind.
4. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeich
net, dass die bahnförmig geschlossene Kathodengestalt zwei, zueinander parallel
verlaufende Kathodenabschnitte aufweist, die an ihren Enden mit jeweils zwei halb
kreisförmigen Targetbahnabschnitten miteinander verbindbar sind.
5. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeich
net, dass die Membran (3) eine die Kühlwannenanordnung ganz bedeckende Platte
ist.
6. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeich
net, dass die Membran (3) elastisch ist.
7. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeich
net, dass die Wanne (5) zumindest in den Kurvenabschnitten ein Profil aufweist, das
zur Kurvenaußenseite flacher gegen die Membran verläuft als in Richtung der Kurve
ninnenseite.
8. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeich
net, dass zumindest im Kurvenbereich der Kühlkanal (7) wenigstens ein Trennblech
aufweist, das den Kühlstrom in einen Kurveninnen- und Kurvenaußenbereich auf
trennt.
9. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeich
net, dass Magnete (8) innerhalb der senkrechten Wannenprojektion unterhalb der
Wanne (5) angeordnet sind.
10. Targetkathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn
zeichnet, dass Magnete (8) außerhalb der senkrechten Wannenprojektion neben der
Wanne angeordnet sind.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4301516A DE4301516C2 (de) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | Targetkühlung mit Wanne |
US08/174,149 US5421978A (en) | 1993-01-21 | 1993-12-28 | Target cooling system with trough |
JP00471694A JP3400516B2 (ja) | 1993-01-21 | 1994-01-20 | ターゲット陰極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4301516A1 DE4301516A1 (de) | 1994-07-28 |
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Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6689254B1 (en) * | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
DE4410466C1 (de) * | 1994-03-25 | 1995-09-14 | Balzers Hochvakuum | Targethalterung, Target und ihre Verwendung |
DE4426751A1 (de) * | 1994-07-28 | 1996-02-01 | Leybold Ag | Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden |
DE19508405A1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-09-12 | Leybold Ag | Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben von einem Target-Paar |
US5683560A (en) * | 1995-07-08 | 1997-11-04 | Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag | Cathode assembly |
DE19535894A1 (de) * | 1995-09-27 | 1997-04-03 | Leybold Materials Gmbh | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5736019A (en) * | 1996-03-07 | 1998-04-07 | Bernick; Mark A. | Sputtering cathode |
DE19614598A1 (de) * | 1996-04-13 | 1997-10-16 | Singulus Technologies Gmbh | Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung |
US6068742A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-30 | Balzers Aktiengesellschaft | Target arrangement with a circular plate, magnetron for mounting the target arrangement, and process for coating a series of circular disc-shaped workpieces by means of said magnetron source |
DE19731025C2 (de) * | 1997-07-18 | 1999-10-14 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Targetkathodenanordnung |
DE19746988A1 (de) * | 1997-10-24 | 1999-05-06 | Leybold Ag | Zerstäuberkathode |
DE19805471A1 (de) * | 1998-02-11 | 1999-08-12 | Leybold Materials Gmbh | Verfahren zur Reparatur von Targetgrundplatten und nach diesem Verfahren reparierte Targetgrundplatte |
DE19836125C2 (de) * | 1998-08-10 | 2001-12-06 | Leybold Systems Gmbh | Zerstäubungsvorrichtung mit einer Kathode mit Permanentmagnetanordnung |
DE19916938A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-19 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Kühlung eines Targets mit einem Kühlmedium |
DE10018858B4 (de) * | 2000-04-14 | 2005-08-18 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Magnetronanordnung |
ES2228830T3 (es) * | 2001-03-27 | 2005-04-16 | Fundacion Tekniker | Evaporador de arco con guia magnetica intensa para blancos de superficie amplia. |
US20030209431A1 (en) * | 2001-04-10 | 2003-11-13 | Brown Jeffrey T. | Magnetron sputtering source with improved target utilization and deposition rate |
FR2842348B1 (fr) * | 2002-07-10 | 2004-09-10 | Tecmachine | Cathode pour pulverisation sous vide |
DE502004007133D1 (de) * | 2004-06-22 | 2008-06-26 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Zerstäubungskatode für Beschichtungsprozesse |
US7087145B1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-08-08 | Robert Choquette | Sputtering cathode assembly |
US20060289305A1 (en) * | 2005-06-27 | 2006-12-28 | Applied Materials, Inc. | Centering mechanism for aligning sputtering target tiles |
CN102859027A (zh) * | 2010-05-04 | 2013-01-02 | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) | 用于借助陶瓷靶进行电弧气相沉积的方法 |
KR101079621B1 (ko) * | 2011-06-30 | 2011-11-03 | 박경일 | 타겟과 백킹 플레이트의 비접착식 체결구조 |
DE102012006717A1 (de) * | 2012-04-04 | 2013-10-10 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | An eine indirekte Kühlvorrichtung angepasstes Target |
CN104583454A (zh) * | 2012-04-26 | 2015-04-29 | 因特瓦克公司 | 用于物理气相沉积处理的窄源 |
DE102013112861B4 (de) * | 2013-01-15 | 2018-11-15 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Magnetronanordnung und Target für eine Magnetronanordnung |
CN103409793B (zh) * | 2013-07-31 | 2016-01-13 | 安徽大晟新能源设备科技有限公司 | 准单晶铸锭炉的水冷盘及其制备方法 |
DE102013216303A1 (de) * | 2013-08-16 | 2015-02-19 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Sputtertarget, Vorrichtung zum Befestigen eines Sputtertargets, Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials sowie Herstellungsverfahren |
US9328410B2 (en) | 2013-10-25 | 2016-05-03 | First Solar, Inc. | Physical vapor deposition tile arrangement and physical vapor deposition arrangement |
RU2555264C1 (ru) * | 2014-03-18 | 2015-07-10 | Борис Львович Горберг | Узел катода магнетронного распылителя |
DE102015101206A1 (de) | 2015-01-28 | 2016-07-28 | Von Ardenne Gmbh | Magnetronanordnung mit Planartarget |
TWI641712B (zh) * | 2017-12-04 | 2018-11-21 | 國家中山科學研究院 | Heating stage device applied to sputtering target gun |
CN108320832B (zh) * | 2018-03-21 | 2024-06-07 | 东莞中子科学中心 | 一种散裂中子源靶体插件的遥控维护结构 |
SE542687C2 (en) * | 2018-06-27 | 2020-06-23 | Impact Coatings Ab Publ | Arc source system for a cathode |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU699032A1 (ru) * | 1976-11-04 | 1979-12-07 | Минский радиотехнический институт | Катодный узел |
SU823459A1 (ru) * | 1979-06-11 | 1981-04-23 | Предприятие П/Я А-1067 | Катодный узел |
EP0242826A2 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-28 | dos Santos Pereira Ribeiro, Carlos Antonio, Dipl.-Ing. | Magnetron-Zerstäubungskathode |
DE3810175A1 (de) * | 1988-03-25 | 1989-10-05 | Elektronische Anlagen Gmbh | Kathodenzerstaeubungsvorrichtung |
CH672319A5 (en) * | 1987-12-20 | 1989-11-15 | Bogdan Zega | Sputtering target cooling system - has metal membrane sepg. cooling liq. circuit from sputtering chamber |
DE9102052U1 (de) * | 1991-02-21 | 1991-06-13 | Hauzer Holding B.V., Venlo | Indirekt gekühlter Verdampfer mit Schnellwechselsystem |
US5039913A (en) * | 1989-06-05 | 1991-08-13 | Balzers Aktiengtesellschaft | Method for the cooling of targets as well as cooling device for targets |
DE4015388A1 (de) * | 1990-05-14 | 1991-11-21 | Leybold Ag | Kathodenzerstaeubungsvorrichtung |
EP0482541A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-29 | METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH | Grossflächige Kathodenanordnung mit gleichmässigem Abbrandverhalten |
EP0512456A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-11 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335770A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-16 | Seiko Epson Corp | スパツタリングタ−ゲツト用バツキングプレ−ト |
-
1993
- 1993-01-21 DE DE4301516A patent/DE4301516C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-28 US US08/174,149 patent/US5421978A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-01-20 JP JP00471694A patent/JP3400516B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU699032A1 (ru) * | 1976-11-04 | 1979-12-07 | Минский радиотехнический институт | Катодный узел |
SU823459A1 (ru) * | 1979-06-11 | 1981-04-23 | Предприятие П/Я А-1067 | Катодный узел |
EP0242826A2 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-28 | dos Santos Pereira Ribeiro, Carlos Antonio, Dipl.-Ing. | Magnetron-Zerstäubungskathode |
CH672319A5 (en) * | 1987-12-20 | 1989-11-15 | Bogdan Zega | Sputtering target cooling system - has metal membrane sepg. cooling liq. circuit from sputtering chamber |
DE3810175A1 (de) * | 1988-03-25 | 1989-10-05 | Elektronische Anlagen Gmbh | Kathodenzerstaeubungsvorrichtung |
US5039913A (en) * | 1989-06-05 | 1991-08-13 | Balzers Aktiengtesellschaft | Method for the cooling of targets as well as cooling device for targets |
DE4015388A1 (de) * | 1990-05-14 | 1991-11-21 | Leybold Ag | Kathodenzerstaeubungsvorrichtung |
EP0482541A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-29 | METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH | Grossflächige Kathodenanordnung mit gleichmässigem Abbrandverhalten |
DE9102052U1 (de) * | 1991-02-21 | 1991-06-13 | Hauzer Holding B.V., Venlo | Indirekt gekühlter Verdampfer mit Schnellwechselsystem |
EP0512456A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-11 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
et.al.:Simple planar magnetron sput-tering source. In: Rev.Sci.Instrum.58(8),Aug.1987,S.1505-1506 * |
G.L.: Cathode cooling apparatusfor a planar magnetron sputtering system. In: J.Vac.Sci.Technol A2(3),July-Sept.1984,S.1391-1393RASTOGI,R.S. * |
HARDING * |
LAKE,M.R. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4301516A1 (de) | 1994-07-28 |
US5421978A (en) | 1995-06-06 |
JPH06256941A (ja) | 1994-09-13 |
JP3400516B2 (ja) | 2003-04-28 |
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