DE4410466C1 - Targethalterung, Target und ihre Verwendung - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Targethalterung für die
Montage bzw. Demontage eines Targets nach dem Oberbegriff von
Anspruch 1, und ein an diese angepaßtes Target.
Targethalterungen dieser
Art sind aus EP-A 0 512 456 entsprechend
der US-A 5 269 894 bekannt, wobei auch auf den darin
erläuterten Stand der Technik und die beschriebenen Probleme
bei derartigen Targethalterungen bezüglich Montage/Demontage
verwiesen wird.
Eine Targetbefestigung bei Zerstäubungsquellen mit Schrauben
ist äußerst zeitaufwendig, was dazu führt, daß in diesen
Fällen oft ganze Quellenteile, z. B. bei Magnetronquellen die
Kühlanordnung, gewechselt werden oder gar die ganze Quelle,
d. h. bei Magnetronquellen, mit Kühlanordnung und Magnetanordnung,
gewechselt wird. Dabei ist der Einsatz von Spezialwerkzeugen
unumgänglich.
Bajonett-Targetbefestigungen, wie sie spezieller Gegenstand
der EP-A 0 512 456 sind, oder von Targetbefestigungen, wie sie
aus DE-A 40 20 659 bekannt sind, bedürfen zusätzlicher
bewegter Elemente, z. B. von Kugeln, bergen die Gefahr
der Partikelbildung durch Reibeingriff und/oder des
Kaltverschweissens relativ der zueinander bewegten und verspannten
Teile und bringen, wie der kühlmembranverspannte Bajonettverschluß
gemäß der EP-A-0 512 456 die Gefahr in sich, daß bei
der notwendigen Drehbewegung die relativ
dünne Wärmeleitmembran zwischen Kühlkanälen und Target
beschädigt wird.
Die erfindungsgemäße Targethalterung ist insbesondere für Zerstäubungsquellen
oder Bogenverdampfungsquellen vorgesehen, insbesondere für
Magnetronquellen,
die mit hohen Leistungen betreiben werden können und spezielle
Anforderungen an die Effizienz der Kühlanordnung stellen.
Bezüglich Bogenverdampfungstechnik wird auf die US-A 4 673 477
oder die US-A 4 839 011, insbesondere was den Aufbau
solcher Quellen anbelangt, verwiesen.
Im weiteren können die in die erfindungsgemäße Targethalterung zu montierende
Targets beliebige Körperformen aufweisen, sind aber vorzugsweise
plattenförmig mit beliebigem, aber
vorzugsweise rundem Umriß; Targetplatten sind besonders
einfach zu fertigen.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Targethalterung
der genannten Art und ein daran angepaßtes
zu schaffen, durch welche ein einfacher und schneller
Targetwechsel werkzeuglos, ohne
Gefahr von Beschädigungen und ohne Beeinträchtigung eines guten Kühlkontaktes
möglich ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Targethalterung,
nach dem Anspruch 1,
gelöst.
Dadurch, daß im wesentlichen parallel zur Membranebene verschiebliche
Eingreifbolzen vorgesehen sind, die gegebenenfalls
im Sinne einer mechanischen Umkehr auch am Target angeordnet
sein könnten, wird eine exakte Positionierung eines mit
entsprechender Einnehmung gemäß Anspruch 7 versehenen Targets möglich, und durch
Druckbeaufschlagung des Kühlsystems und entsprechendes Spannen
der Membran gegen die Targetrückseite wird das Target starr
an den eingeführten Eingreifbolzen klemmend in Position gehalten,
so daß die Membran an der Targetrückseite einen optimalen
Wärmekontakt aufrechterhalten kann.
Obwohl es durchaus möglich wäre, die Eingreifbolzen
kraftschlüssig in die entsprechende Einnehmung am Target einzutreiben,
sind gemäß einer bevorzugten Ausführungsform
nach Anspruch 2 und 3, die Eingreifbolzen federgespannt
derart, daß sie
beim Einführen des Targets
selbsttätig erst nach außen gedrückt werden und dann, wenn
die Einnehmung am Target mit ihnen fluchtet, darin einschnappen.
Zum Entfernen des Targets nach Entspannung des Kühlsystems
können die Eingreifbolzen mit Entriegelungsmitteln gemäß
Anspruch 4 rückgeholt werden, zu deren Realisation sich eine Vielzahl
Ausbildungsvarianten eröffnet, welche jedoch in
der bevorzugten Ausführungsform an den
Wandteilen der Targethalterung gelagert sind, um
eine werkzeuglose Montage bzw. Demontage zu ermöglichen.
Üblicherweise sind Targets mit halterungsseitigen
Berandungen des Aufnahmeraumes im wesentlichen bündig
montiert, so daß, auch nach Lösen der Befestigung durch Entspannen
des Kühlsystems und Rückholen der erfindungsgemäß
vorgesehenen Eingreifbolzen, ein manuelles Ergreifen des
auswechselnden Targets nur schwer möglich ist.
Um dies zu erleichtern, kann nach Anspruch 6
eine Federanordnung vorgesehen werden,
welche bei Entriegelung der Eingreifbolzen das Target
hochstößt, so daß es bequem ergriffen werden kann.
Bezüglich der Entriegelungsmittel zum Rückholen der Eingreifbolzen
muß an dieser Stelle ausgeführt werden, daß es ohne
weiteres möglich ist, die Eingreifbolzen umgekehrt als in
Anspruch 2 spezifiziert nach außen federnd zu spannen, sie
nach Eingreifen formschlüssig in die Einnehmung am Target
einzutreiben, d. h. ein mit den Bolzen zum Verriegeln in Eingriff
gelangendes Verriegelungsmittel vorzusehen, derart, daß
nach Entfernen des Entriegelungsmittels die Eingreifbolzen
federgetrieben und selbsttätig das Target freigeben, d. h.
nach außen getrieben werden.
Die Erfindung wird anschließend beispielsweise anhand von
Figuren erläutert.
Diese zeigt
Fig. 1 schematisch und vereinfacht einen Querschnitt durch
Kombination einer erfindungsgemäßen Anordnung und
eines erfindungsgemäßen Targets an einer
erfindungsgemäßen Magnetronquelle,
Fig. 2 einen Ausschnitt der Anordnung gemäß Fig. 1 bei
verriegelter und gespannter Targethalterung,
Fig. 3 eine Darstellung analog zu Fig. 2 bei entriegelter
und freigegebener Targetplatte.
Gemäß Fig. 1 ist ein Target 1, hier in der bevorzugten Plattenform
und vorzugsweise rund dargestellt mit bereits fortgeschrittenen
Erosionsgräben 13, in einen anlageseitigen bzw.
quellenseitigen, für die Targetplatte 1 vorgesehenen Aufnahmeraum
3 eingelegt. Der Aufnahmeraum 3 für eine wie auch immer
geformte Targetplatte 1, rund, oval oder rechteckig, aber
vorzugsweise rund, weist mindestens zwei sich gegenüberliegende
Wandungsteile 5 auf. Wie schematisch in Fig. 1 angedeutet,
ist eine Kühlanordnung rückseitig der Targetplatte an der
Quelle vorgesehen, welche grundsätzlich ein Kühlmediumskanalsystem
umfaßt, das gegen den Aufnahmeraum 3 hin mittels einer
wärmeleitenden Membran 7, beispielsweise einer Kupfermembran,
dichtend verschlossen ist. Eine solche Kühlanordnung kann eine
separate Kühlplatte sein, ist bei der Ausführung gemäß Fig. 1
ausgebildet durch die Räume 9, in welche, wie schematisch
gezeigt, Kühlmediumsleitungen 11 ein- und ausmünden. Durch
sie wird ein Kühlmedium, wie Wasser, druckbeaufschlagt, ein-
bzw. ausgelassen. Bei der bevorzugten Realisation der vorliegenden
Erfindung an Magnetronquellen sind, wie in Fig. 1 dargestellt,
Magnete 10, durch die Membran 7 von der Targetplatte
1 getrennt, vorgesehen. Diese können, wie bekannt, stationär
oder bewegt sein, um die Ausbildung des Erosionsgrabens 13 zu
beeinflussen. In den mindestens zwei sich gegenüberliegenden
Wandungsteilen 5 sind im wesentlichen, parallel zur Ebene E
der Membran 7, Führungsbohrungen 12 eingearbeitet, bevorzugterweise
durchgehend, worin die Eingreifbolzen 14 in bevorzugter
Ausführungsform gegen das Innere des Aufnahmeraumes 3 hin
mittels Federn 16 federgespannt sind. Detaillierter ist diese
Anordnung in den Fig. 2 und 3 ersichtlich.
Bei wie in Fig. 1 und 2 dargestellter eingelegter und verspannter
Targetplatte 1 greifen die Eingreifbolzen 14 in mindestens
eine Einnehmung targetplattenseitig ein. Diese Einnehmung
kann durch Bohrungen gebildet sein, ist aber bevorzugterweise
eine längsausgedehnte oder gar umlaufende Nut 18.
Die Bolzen 14 sind mit Schrägflächen 20 versehen, derart, daß
bei Einschieben der Targetplatte 1 dann, wenn die Nut 18 auf
die Bolzen 14 ausgerichtet ist, letztere automatisch
einschnappen. Die Targetplatte 1 kann dabei senkrecht zur Membranebene
eingelegt werden, kann gegebenenfalls aber auch, wie
mit der Richtung y in Fig. 1 angedeutet, seitlich oder mindestens
auch seitlich in den Aufnahmeraum 3 eingeschoben werden.
Entsprechend der Bewegung von Targetplatte zum Ausrichten
der Nut 18 auf die Bolzen 14 sind auch die Schrägflächen 20
angeordnet, so daß bei dieser Bewegung die Bolzen vorerst
selbsttätig in die in Fig. 3 dargestellte Entriegelungsposition
geschoben werden, dies gegen die Kraft der Feder
16, bis sie einschnappen.
Im gespannten Zustand ist die Kühlanordnung durckbeaufschlagt,
wie in den Fig. 1 und 2 mit p dargestellt, so daß, wie insbesondere
in Fig. 2 ersichtlich, die Targetplatte 1 im Bereich
22 an die eingeschnappten Bolzen 14 gepreßt wird.
Zum Demontieren der Targetplatte 1 wird nach Druckentspannung
(p=0) ein Entriegelungsschieber 24, wie mit dem Pfeil A in
Fig. 3 dargestellt, auf eine Schrägfläche 26 an den Bolzen 14
gedrückt, wodurch letzterer gegen die Kraft der Federn 16 aus
dem Eingriff mit der Targetplatte 1 geschoben wird. Dies in
Richtung des Pfeiles B in Fig. 3.
Zur Erleichterung der Targetplattenentnahme sind Stoßfedern
28 vorgesehen, welche einerseits quellenseitig abgestützt sind
und welche andererseits auf Widerlagerflächen 30 an der Targetplatte
1 wirken. Dadurch wird die Targetplatte im entriegelten
Zustand und nachdem, wie in Fig. 3 mit p=0, dargestellt,
die Kühlmediumsanordnung entlastet wurde, in Richtung
C hochgehoben, so daß sie einfach ergriffen und entfernt werden
kann. Dies ist selbstverständlich vornehmlich dann notwendig,
wenn die Quelle eine im wesentlichen nach oben gerichtete
zu zerstäubende Fläche entsprechend 13 aufweist.
Wie insbesondere aus den Fig. 2 und 3 ersichtlich, ist auch
der Entriegelungsschieber 24 mittels Federn 34 so vorgespannt,
daß er gegen deren Kraft, d. h. selbsttätig rückgeführt, zur
Entriegelung der Bolzen 14 in Richtung A eingedrückt werden
kann.
Claims (10)
1. Targethalterung für die Montage und Demontage eines Targets
an einer Zerstäubungs- oder Bogenverdampfungsquelle,
wobei die Targethalterung eine unter den Druck des Kühlmediums
setzbare Kühlkanalanordnung (9), die targetseitig von
einer eine Ebene (E) definierenden Membran (7) verschlossen
ist, sowie Befestigungsmittel für das Target (1) aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Targethalterung von der Ebene (E) der Membran (7) vorstehende
Wandteile (5) aufweist, die einen Aufnahmeraum (3)
für das Target mindestens teilweise umgrenzen, und daß die
Befestigungsmittel als Eingreifbolzen (14) ausgebildet
sind, die in den Wandteil (5) im wesentlichen parallel zu
der Ebene (E) der Membran (7) verschiebbar gelagert sind.
2. Targethalterung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Eingreifbolzen (14) federgespannt (16) sind, vorzugsweise
gegen den Aufnahmeraum (3) hin.
3. Targethalterung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die gegen den Aufnahmeraum (3) gerichteten
Enden der Bolzen (14) von der Membran (7) weggerichtete
Abschrägungen (20) aufweisen.
4. Targethalterung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß an den Wandteilen (5) verschiebbare
Entriegelungsmittel (24) gelagert
sind, welche mit den Eingreifbolzen (14)
in Wirkverbindung stehen.
5. Targethalterung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Entriegelungsmittel (24) im wesentlichen senkrecht zur
Membranebene (E) an den Wandteilen (5) verschieblich gelagerte
Verschiebeorgane umfassen, welche vorzugsweise über Schrägflächen
(26) auf die Eingreifbolzen (14) wirken.
6. Targethalterung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß im wesentlichen senkrecht zur Membranebene
(E) wirkende Federorgane (28) vorgesehen sind, welche einerseits
kühlkanalseitig (9) abgestützt und andererseits
zur Abstützung am Target (1) ausgebildet sind.
7. Target zur Montage an einer Targethalterung nach einem der Ansprüche
1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es in seinen
Seitenflächen mindestens eine Einnehmung (18) für die
Eingreifbolzen aufweist, vorzugsweise in Form einer längsausgedehnten
Nut oder von Einbohrungen.
8. Targethalterung
nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit daran montiertem Target
nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Eingreifbolzen
(14) in die Einnehmung (18) eingreifen und das Target (1) durch
Druckbeaufschlagung der Kanalanordnung (9) mit Kühlmedium,
über die Membran (7), gegen die Eingreifbolzen (14) verspannt
ist.
9. Targethalterung mit daran montiertem Target
nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß im
wesentlichen senkrecht zum Membranebene (E) wirkende Federorgane
(28) sich einerseits kühlkanalanordnungsseitig (4) abstützen,
andererseits gegen das Target (1) gespannt sind.
10. Verwendung einer Targethalterung nach einem der Ansprüche 1-6,
8 und 9 in einer
Vakuumprozeßkammer.
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DE4410466A DE4410466C1 (de) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | Targethalterung, Target und ihre Verwendung |
NL9500411A NL194766C (nl) | 1994-03-25 | 1995-03-02 | Samenstel voor de montage respectievelijk demontage van een doel aan een verstuiver- of boogdampbron. |
FR9502713A FR2717828B1 (fr) | 1994-03-25 | 1995-03-08 | Dispositif pour le montage et démontage d'une cible, cible pour ce dispositif, source pourvue de ce dispositif et de cette cible et chambre de traitement sous vide pourvue de cette source. |
CH00739/95A CH689673A5 (de) | 1994-03-25 | 1995-03-15 | Anordnung fuer die Montage bzw. Demontage eines Targets, Target zur Montage daran sowie Quelle und Vakuumprozesskammer mit einer derartigen Anordnung und mit einem solchen Target. |
JP7064024A JPH07268619A (ja) | 1994-03-25 | 1995-03-23 | ターゲットの取付けないし取り外し装置、それに取り付けるためのターゲット並びにこの種の装置とこの種のターゲットを有するソースおよび真空プロセスチャンバ |
US08/410,793 US5676810A (en) | 1994-03-25 | 1995-03-27 | Target mounting-demounting arrangement |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
DE4410466A DE4410466C1 (de) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | Targethalterung, Target und ihre Verwendung |
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FR (1) | FR2717828B1 (de) |
NL (1) | NL194766C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0770701A1 (de) * | 1995-09-27 | 1997-05-02 | LEYBOLD MATERIALS GmbH | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE102013102851A1 (de) * | 2013-03-20 | 2014-09-25 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Target für einen physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess, Targetanordnung und Sputterbeschichtungsanordnung |
DE102013216303A1 (de) * | 2013-08-16 | 2015-02-19 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Sputtertarget, Vorrichtung zum Befestigen eines Sputtertargets, Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials sowie Herstellungsverfahren |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6500321B1 (en) * | 1999-05-26 | 2002-12-31 | Novellus Systems, Inc. | Control of erosion profile and process characteristics in magnetron sputtering by geometrical shaping of the sputtering target |
US6436254B1 (en) * | 2001-04-03 | 2002-08-20 | General Electric Company | Cathode mounting system for cathodic arc cathodes |
CH695807A5 (de) * | 2001-11-20 | 2006-08-31 | Unaxis Balzers Ag | Quelle für Vakuumbehandlungsprozess. |
JP2010116605A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Fujikura Ltd | ターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法 |
JP5951975B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2016-07-13 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
US9303311B2 (en) * | 2012-03-30 | 2016-04-05 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing system with mechanically floating target assembly |
CN104109840A (zh) * | 2014-07-09 | 2014-10-22 | 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司 | 一种扫描磁场磁控溅射阴极 |
CN106089944A (zh) * | 2016-06-22 | 2016-11-09 | 新昌县七星街道鑫瑞机械厂 | 一种方便拆卸且带有紧固功能的螺母 |
CN107101079A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-08-29 | 屈吕成 | 一种能壁挂的液晶显示屏设备 |
CN107101080A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-08-29 | 屈吕成 | 一种壁挂式的液晶显示屏机构 |
WO2018220067A1 (en) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Target assembly for safe and economic evaporation of brittle materials |
CN111156374B (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-20 | 广州创显科教设备有限公司 | 一种多媒体设备用防盗壁挂架 |
CN214864487U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-11-26 | 九牧厨卫股份有限公司 | 一种连接结构和喷雾花洒 |
CN114351099B (zh) * | 2021-04-26 | 2023-09-08 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种真空磁控溅射镀膜机 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4673411A (en) * | 1984-01-09 | 1987-06-16 | Polar Molecular Corporation | Anti-gel fuel composition |
US4839011A (en) * | 1986-04-04 | 1989-06-13 | Regents Of The University Of Minnesota | Arc coating of refractory metal compounds |
DE4020659A1 (de) * | 1990-06-29 | 1992-01-02 | Leybold Ag | Katodenzerstaeubungsvorrichtung |
EP0512456A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-11 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4820397A (en) * | 1988-04-04 | 1989-04-11 | Tosoh Smd, Inc. | Quick change sputter target assembly |
EP0393344A1 (de) * | 1989-04-20 | 1990-10-24 | Balzers Aktiengesellschaft | Haltevorrichtung für Targets von Zerstäubungsquellen und Verfahren zum Festhalten eines Targets in einer Halterung |
DE9102052U1 (de) * | 1991-02-21 | 1991-06-13 | Hauzer Holding B.V., Venlo | Indirekt gekühlter Verdampfer mit Schnellwechselsystem |
US5147521A (en) * | 1991-05-20 | 1992-09-15 | Tosoh Smd, Inc. | Quick change sputter target assembly |
US5269403A (en) * | 1992-06-15 | 1993-12-14 | Johnson Matthey Electronics | Sputtering target assembly for a sputter coating apparatus |
DE4301516C2 (de) * | 1993-01-21 | 2003-02-13 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Targetkühlung mit Wanne |
-
1994
- 1994-03-25 DE DE4410466A patent/DE4410466C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-03-02 NL NL9500411A patent/NL194766C/nl not_active IP Right Cessation
- 1995-03-08 FR FR9502713A patent/FR2717828B1/fr not_active Expired - Fee Related
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- 1995-03-27 US US08/410,793 patent/US5676810A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4673411A (en) * | 1984-01-09 | 1987-06-16 | Polar Molecular Corporation | Anti-gel fuel composition |
US4839011A (en) * | 1986-04-04 | 1989-06-13 | Regents Of The University Of Minnesota | Arc coating of refractory metal compounds |
DE4020659A1 (de) * | 1990-06-29 | 1992-01-02 | Leybold Ag | Katodenzerstaeubungsvorrichtung |
EP0512456A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-11 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
US5269894A (en) * | 1991-05-08 | 1993-12-14 | Balzers Aktiengesellschaft | Method of mounting a target plate to be cooled into a vacuum process chamber, an arrangement of a target plate, a target plate and a vacuum chamber |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0770701A1 (de) * | 1995-09-27 | 1997-05-02 | LEYBOLD MATERIALS GmbH | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE102013102851A1 (de) * | 2013-03-20 | 2014-09-25 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Target für einen physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess, Targetanordnung und Sputterbeschichtungsanordnung |
DE102013216303A1 (de) * | 2013-08-16 | 2015-02-19 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Sputtertarget, Vorrichtung zum Befestigen eines Sputtertargets, Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials sowie Herstellungsverfahren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2717828B1 (fr) | 1997-12-26 |
NL194766B (nl) | 2002-10-01 |
CH689673A5 (de) | 1999-08-13 |
NL9500411A (nl) | 1995-11-01 |
JPH07268619A (ja) | 1995-10-17 |
US5676810A (en) | 1997-10-14 |
FR2717828A1 (fr) | 1995-09-29 |
NL194766C (nl) | 2003-02-04 |
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