FR2717828B1 - Dispositif pour le montage et démontage d'une cible, cible pour ce dispositif, source pourvue de ce dispositif et de cette cible et chambre de traitement sous vide pourvue de cette source. - Google Patents

Dispositif pour le montage et démontage d'une cible, cible pour ce dispositif, source pourvue de ce dispositif et de cette cible et chambre de traitement sous vide pourvue de cette source.

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19535894A1 (de) * 1995-09-27 1997-04-03 Leybold Materials Gmbh Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung
US6500321B1 (en) * 1999-05-26 2002-12-31 Novellus Systems, Inc. Control of erosion profile and process characteristics in magnetron sputtering by geometrical shaping of the sputtering target
US6436254B1 (en) * 2001-04-03 2002-08-20 General Electric Company Cathode mounting system for cathodic arc cathodes
CH695807A5 (de) * 2001-11-20 2006-08-31 Unaxis Balzers Ag Quelle für Vakuumbehandlungsprozess.
JP2010116605A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Fujikura Ltd ターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法
JP5951975B2 (ja) * 2010-12-28 2016-07-13 キヤノンアネルバ株式会社 スパッタリング装置
US9303311B2 (en) * 2012-03-30 2016-04-05 Applied Materials, Inc. Substrate processing system with mechanically floating target assembly
DE102013102851A1 (de) * 2013-03-20 2014-09-25 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Target für einen physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess, Targetanordnung und Sputterbeschichtungsanordnung
DE102013216303A1 (de) * 2013-08-16 2015-02-19 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Sputtertarget, Vorrichtung zum Befestigen eines Sputtertargets, Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials sowie Herstellungsverfahren
CN104109840A (zh) * 2014-07-09 2014-10-22 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司 一种扫描磁场磁控溅射阴极
CN106089944A (zh) * 2016-06-22 2016-11-09 新昌县七星街道鑫瑞机械厂 一种方便拆卸且带有紧固功能的螺母
CN107101080A (zh) * 2016-10-31 2017-08-29 屈吕成 一种壁挂式的液晶显示屏机构
CN107101079A (zh) * 2016-10-31 2017-08-29 屈吕成 一种能壁挂的液晶显示屏设备
WO2018220067A1 (fr) * 2017-06-01 2018-12-06 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Ensemble cible pour évaporation sécurisée et économique de matériaux fragiles
CN111156374B (zh) * 2019-12-30 2021-07-20 广州创显科教设备有限公司 一种多媒体设备用防盗壁挂架
CN214864487U (zh) * 2020-12-30 2021-11-26 九牧厨卫股份有限公司 一种连接结构和喷雾花洒
CN114351099B (zh) * 2021-04-26 2023-09-08 辽宁分子流科技有限公司 一种真空磁控溅射镀膜机

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4673411A (en) * 1984-01-09 1987-06-16 Polar Molecular Corporation Anti-gel fuel composition
WO1987005948A1 (fr) * 1986-04-04 1987-10-08 Regents Of The University Of Minnesota Revetement a l'arc de composes metalliques refractaires
US4820397A (en) * 1988-04-04 1989-04-11 Tosoh Smd, Inc. Quick change sputter target assembly
EP0393344A1 (fr) * 1989-04-20 1990-10-24 Balzers Aktiengesellschaft Dispositif de support de cibles dans des sources de pulvérisation et procédé pour maintenir une cible dans un support
DE4020659C2 (de) * 1990-06-29 1997-09-11 Leybold Ag Katodenzerstäubungsvorrichtung
DE9102052U1 (de) * 1991-02-21 1991-06-13 Hauzer Holding B.V., Venlo Indirekt gekühlter Verdampfer mit Schnellwechselsystem
EP0512456B1 (fr) * 1991-05-08 1997-06-18 Balzers Aktiengesellschaft Procédé de montage et démontage d'une plaque cible dans une chambre de traitement sous vide, dispositif de montage, plaque cible et chambre à vide
US5147521A (en) * 1991-05-20 1992-09-15 Tosoh Smd, Inc. Quick change sputter target assembly
US5269403A (en) * 1992-06-15 1993-12-14 Johnson Matthey Electronics Sputtering target assembly for a sputter coating apparatus
DE4301516C2 (de) * 1993-01-21 2003-02-13 Applied Films Gmbh & Co Kg Targetkühlung mit Wanne

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US5676810A (en) 1997-10-14

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