TWI311078B - - Google Patents

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1311078 ⑴ 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明，係有關於對應處理在光阻劑稀釋系統中高黏 度光阻劑之乾燥問題的技術。 【先前技術】 作爲在半導體晶圓或液晶基板等之被塗布體上，將光 阻劑作塗布而形成均句厚度的塗膜之前置階段，係有必要 調製此光阻液。光阻液，從運送成本等之觀點來看，通常 係爲被濃縮而提供之高黏度光阻劑，而在實際使用之工廠 作稀釋，而調製爲適當之黏度。 圖3，係爲展示先前之光阻劑稀釋系統。光阻劑稀釋 系統21，係由：調製槽22，和高黏度光阻劑用配管23， 和稀釋溶劑用配管25，和閥24、26所構成。高黏度之光 阻劑27，係被導入高黏度光阻劑用配管23，並成爲流入 調製槽22內。閥24，係被設置於高黏度光阻劑用配管23 ，而能調整流入至調製槽22之高黏度光阻劑27的流量。 稀釋溶劑2 8，係被導入稀釋溶劑用配管2 5，並成爲流入 調製槽22內。閥26，係被設置於稀釋溶劑用配管25，而 能調整流入至調製槽22之稀釋溶劑28的流量。 針對使用此種光阻劑稀釋系統2 1，而將高黏度光阻 劑稀釋的方法作說明。首先，將閥24開放，並使特定量 之高黏度光阻劑27流入調製槽22後，關閉閥24。 接下來’開放閥26，使稀釋溶劑28流入調製槽22 -5- (2) 1311078 內。使能將高黏度光阻劑27稀釋至成爲適 量之稀釋溶劑2 8流入調製槽22後，關閉閥 ' 如此這般，分別從高黏度光阻劑用配管 ^ 用配管之個別獨立之配管，導入高黏度光阻 ’而將此高黏度光阻劑稀釋直到成爲適當之 - 又’作爲將高黏度光阻劑稀釋的其他方 ’於專利文獻1中，係揭示有：在塗布膜形 • 高濃度之原料液及稀釋液，並在供給塗布液 的噴嘴前端部，將此原料液和稀釋液攪拌混 成裝置。 又，於專利文獻2中，係揭示有：在光 噴嘴之間，具備有使光阻劑稀釋用溶液與光 ' 釋槽，和將光阻劑稀釋用溶液注入此稀釋槽 阻劑塗布裝置。 [專利文獻1]日本國特開2001-176776 φ [專利文獻2]日本國實公昭6 1 - 1 8 8 3 5 1 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 在被使用於圖3之光阻劑稀釋系統21 分別獨立設置有高黏度光阻劑用配管，和稀 。因此，在高黏度光阻劑用配管之內側表面 之高黏度光阻劑，而此光阻劑乾燥後會固定 在高黏度光阻劑用配管中，特別是在最會與 當黏度的特定 26 ° ’和稀釋溶劑 劑、稀釋溶劑 黏度。 法，舉例而言 成裝置內保持 至半導體晶圓 合的塗布膜形 阻劑槽與稀釋 阻劑混合之稀 內之裝置的光 號公報 號公報 的配管中，係 釋溶劑用配管 會附著有殘留 附著於其上。 空氣接觸之排 -6- (3) 1311078 出口附近，此固定附著係爲明顯。因此’此種光阻劑稀釋 系統，係以藉由定期維修來將高黏度光阻劑用配管洗淨並 使用作爲前提而設計。 又，當在高黏度光阻劑用配管之連接處，或是設置於 高黏度光阻劑用配管之閥，存在有高黏度光阻劑之乾燥物 或是黏度變化物時，係擔憂會有基於此乾燥物或是黏度變 化物而使異物產生，或是使光阻劑之特性產生變化的問題 〇 進而，在進行高黏度光阻劑用配管之洗淨時，係有必 要停止此光阻劑稀釋系統的動作，故用以代替其之機器（ 洗淨中之備用裝置）係變爲必要。因此，對於恆常動作之 光阻劑稀釋系統係爲不適用。 又，在專利文獻1及專利文獻2中之光阻劑塗布裝置 ，係難以對光阻液作嚴密之濃度調製，而無法設定適當之 黏度。因此，會有當在半導體晶圓上塗布光阻液時，對其 厚度之控制變爲困難之虞。 有鑑於上述之課題，本發明，係提供一種具備流動有 高黏度光阻劑等之易於乾燥而難以使用的液體之配管的光 阻劑稀釋系統。 [用以解決課題之手段] 本發明之光阻劑稀釋系統，其特徵爲，具備有： 配管，係具有2個以上之流入部與1個以上之流出部 :和 (4) (4)1311078 混合部，係將第1液體和第2液體混合， 第1液體，係從前述流入部中之第1流入部流入，而 從前述流出部中之第1流出部流出’ 第2液體，係從前述流入部中之第2流入部流入，並 從前述第1流出部流出’且相較於前述第1流體，其黏度 相對較低。 藉由此種構成’在使用時，第2液體能恆常地將殘留 於配管之表面的前述第1液體洗去。 又，於前述光阻劑稀釋系統中，前述第1液體，係爲 光阻材，前述第2液體，係爲將前述光阻材稀釋之稀釋劑 〇 藉由此種構成’在使用時，稀釋溶劑能恆常地將殘留 於配管之表面的高黏度光阻劑洗去。 又，於前述光阻劑稀釋系統中，前述混合部，係具備 有：藉由前述第2液體來將前述第1液體稀釋，以調整該 第1液體之黏度的調製槽。 藉由此種構成’經由以第2液體來稀釋，能將第1液 體之黏度調製使其成爲適當的黏度。 刖述光阻劑稀釋系統，係更具備有： 第1供給部’係能塡充前述第1液體，並將該第1液 體供給至前述第1流入部；和 第2供給部’係能塡充前述第2液體，並將該第2液 體供給至前述第2流入部。 藉由此種構成’能從第丨供給部將第1液體供給至第 -8- (5) 1311078 1流入部，並從第2供給部將第2液體供給至第2流入部 〇 前述光阻劑稀釋系統，係更具備有： 連結部，係連結前述第1供給部與前述第2供給部， 並藉由該第2供給部而使前述第2液體流入該第1供給部 〇 藉由此種構成，能更加將殘留於前述第1供給部之內 側表面及第1流入部之內側表面的第1液體洗去。 本發明之光阻劑稀釋系統之使用方法中，該光阻劑稀 釋系統係具備有： 配管，係具有2個以上的流入部和1個以上的流出部 ;和 調製部，係稀釋光阻劑並調製其黏度，其特徵爲： 藉由前述流入部中之第1流入部，使第1液體流入， 並使該第1液體從前述流出部中之第1流出部流出，而供 給至前述調製部，在供給前述第1液體後，藉由前述流入 部中之第2流入部，使相較於該第1液體其相對黏度爲較 低的第2液體流入，並使該第2液體從前述第1流出部流 出，而供給至前述調製部。 藉由此種方法，在使用時，第2液體能恆常地將殘留 於配管之表面的前述第1液體洗去。 又，於前述光阻劑稀釋系統之使用方法中，其特徵爲 從被塡充有被供給至前述第1流入部之前述第1液體 -9- (6) 1311078 的第1供給部，供給該第1液體’並在從前述第1供給部 供給該第1液體後’在該第1供給部加入前述第2液體， 將該第2液體從該第1供給部供給至前述第1流入部，而 藉由前述第I流出部使其流出。 藉由此種方法，更進而能將殘留在前述第1供給部之 內側表面及第1流入部之內側表面的第1液體洗去。 於前述光阻劑稀釋系統之使用方法中，其特徵爲：前 述第1液體’係爲光阻材，前述第2液體，係爲將前述光 阻材稀釋之稀釋劑。 藉由此種構成，能將殘留在前述第1供給部之內側表 面及第1流入部之內側表面的高黏度光阻劑洗去。 [發明效果] 藉由在高黏度光阻劑用配管連接稀釋溶劑用配管，在 使用時，由於稀釋溶劑會恆常將殘留於配管之表面的高黏 度光阻劑洗去，故能減低異物之產生或是混入黏度變化品 的危險性。又，能減低光阻劑稀釋系統的維修頻度，而能 對作動率之提昇有所幫助。 【實施方式】 [發明實施之最佳形態] [第1實施形態] 圖〗，係爲展示本實施形態之光阻劑稀釋系統。光阻 劑稀釋系統1，係主要由調製槽2，和配管3所構成。配 -10- (7) 1311078 管3 ’係爲具有2個的流入部與1個的流出部之配管。從 2個的流入部之其中一方，被導入有高黏度光阻劑5。以 下’將導入高黏度光阻劑5之一方的配管，稱爲高黏度光 阻劑用配管3 a。 又’於此配管3中，在2個的流入部之另外一方，係 被導入有稀釋溶劑6 (低黏度溶劑）。以下，將導入稀釋 溶劑6之一方的配管，稱爲稀釋溶劑用配管3b。 高黏度光阻劑用配管3a和稀釋溶劑用配管3b係被連 接’在其連接部3 c，係成爲朝向流出部3 e更加延伸出配 管的構成。以下，將從連接部3 e起到流出部3 e爲止的配 管，稱爲共通配管3d。 在高黏度光阻劑用配管3a，與稀釋溶劑用配管3b， 係分別設置有閥4a，4b。閥4a，係用以調整從高黏度光 阻劑用配管3 a流向流出部3 e之高黏度光阻劑5之流量者 。閥4b，係用以調整從稀釋溶劑用配管3b流向流出部3e 之稀釋溶劑6之流量者。 於調製槽2，係藉由將從流出部3 e所流出之高黏度 光阻劑5及稀釋溶劑6混合，而將高黏度光阻劑5以稀釋 溶劑6稀釋，而能將高黏度光阻劑以使其成爲特定之黏度 的方式來調製。 以下，針對使用此種光阻劑稀釋系統1，而將高黏度 光阻劑5稀釋的方法作說明。另外，光阻劑稀釋系統1之 初期狀態時’調製槽2係爲空的，閥4a、4b係爲關閉狀 態。 -11 - (8) 1311078 首先’開放閥4a，使高黏度光阻劑5流入調製槽2 內。在使特定量之高黏度光阻劑5流入後，關閉閥4a。 此時’在配管內側中之閥4a周邊，共通配管3(i之內側表 面’以及流出部3 e，係附著有殘留之高黏度光阻劑5。 接下來，開放閥4b，使特定量之稀釋溶劑6流入調 製槽2內。此時，在配管內側中之閥4a周邊，共通配管 3 d之內側表面，以及流出部3 e所殘留之高黏度光阻劑5 ’係藉由此稀釋溶劑6而被洗去。在使特定量之稀釋溶劑 6流入後，關閉閥4b。 而後，於調製槽2內，藉由稀釋溶劑6來將高黏度光 阻劑5稀釋。亦即是，藉由使儲存於調製槽2內的高黏度 光阻劑5與稀釋溶劑6混合，能得到具有適當黏度之光阻 劑。 如此這般，當稀釋溶劑6流動時，能將殘留於配管內 側中之閥4a周邊，共通配管3d之內側表面，以及流出部 3e之高黏度光阻劑5洗去。因此，能防止附著於共通配 管表面的高黏度光阻劑乾燥而固定附著。 又，由於能在調製槽2中使高黏度光阻劑5成爲適當 黏度地調製後，使用於半導體晶圓，因此，和直接將稀釋 後之光阻劑塗布在半導體晶圓的情況相較，能使黏度之控 制變爲容易。 [第2實施形態] 於第1實施形態中，閥4a爲關閉時，當在高黏度光 -12- (9) 1311078 阻劑配管3 a內恆常塡充有高黏度光阻劑的情況，由於高 黏度光阻劑用配管3 a之內側表面幾乎不會有與空氣接觸 的情形，因此不會有高黏度光阻劑乾燥而固定附著於高黏 度光阻劑用配管3 a之內側表面的情況。 然而，當對高黏度光阻劑用配管3 a停止供給高黏度 光阻劑時，由於高黏度光阻劑用配管3 a之內側表面會與 空氣接觸，因此殘留於高黏度光阻劑用配管3 a之內側表 面的高黏度光阻劑5有可能會乾燥而產生固定附著的情況 〇 於此，在本實施形態中，更進而針對能將高黏度光阻 劑用配管3 a ’以及供給高黏度光阻劑5至高黏度光阻劑 用配管3 a的供給槽作洗淨的光阻劑稀釋系統作說明。 圖2，係爲展示本實施形態中之光阻劑稀釋系統。本 實施形態中之光阻劑稀釋系統1，係在圖1之光阻劑稀釋 系統中，更追加有稀釋溶劑供給槽1 0、高黏度光阻劑供 給槽11、以及連接管12者。 於稀釋溶劑供給槽1 〇中，係塡充有稀釋溶劑6，稀 釋溶劑6 ’係被供給至稀釋溶劑用配管3 b。在高黏度光阻 劑供給槽11中，係塡充有高黏度光阻劑5，此高黏度光 阻劑5 ’係被供給至高黏度光阻劑用配管3 a。 連接管1 2 ’係用以連接稀釋溶劑供給槽1 〇，和高黏 度光阻劑供給槽11者。透過此連接管1 2，稀釋溶劑6係 從稀釋溶劑供給槽1 0起流向高黏度光阻劑供給槽1 !。 以下’針對使用此種光阻劑稀釋系統1，而將高黏度 -13- (10) 1311078 光阻劑稀釋的方法作說明。 若將高黏度光阻劑5持續供給至高黏度光阻劑用配管 3 a ’則高黏度光阻劑供給槽丨]內之高黏度光阻劑5係被 消耗而幾乎成爲空的。如此一來，高黏度光阻劑用配管 3 a之內側表面’於配管內側之閥4 a周邊，以及高黏度光 阻劑供給槽1 1之內側表面，露出於空氣部分係變多。 接下來’經由連接管12，暫時將稀釋溶劑6從稀釋 溶劑供給槽1 〇供給至高黏度光阻劑供給槽1 1，將殘留於 高黏度光阻劑供給槽1 1之內側表面的高黏度光阻劑5洗 去。而後’此洗淨後之稀釋溶劑6，係被供給至高黏度光 阻劑用配管3 a，而就這樣經由流出部3 e，被排出至調製 槽2。 如此這般，在每次使稀釋溶劑6從稀釋溶劑供給槽 1 0經由連接管1 2以及高黏度光阻劑供給槽1 1而流動時 ，能將殘留於高黏度光阻劑供給槽11之內側表面、高黏 度光阻劑用配管3 a、配管內側中之閥4 a周邊、共通配管 3 d之內側表面、以及流出部3 e之高黏度光阻劑5洗去。 其結果，能防止附著於此些之表面的高黏度光阻劑5乾燥 而固定附著。 另外，於第1及第2實施形態中，雖係使用具有2個 的流入部及1個的流出部之配管’但並不限定於此。舉例 而言，由於亦有將不同黏度之光阻劑混合’或是使用各種 之稀釋溶劑的情況，故亦可使用具有3個以上之流入部的 配管。此時’不用說’在各流入部被設置有閥’且具備有 -14- (11) 1311078 對應於各流入部之光阻劑供給槽。 又，在使用此種具有2個以上之流入部的配管時’由 - 於亦有希望能得到不同黏度之複數光阻劑的情況’因此亦 可使用具有2個以上之流出部的配管，亦可分別設置複數 之調製槽。在使用此種具有2個以上之流出部的配管時’ . 不用說，係設置有用以將液體導引至作爲目的地之流出部 的流出路徑切換機構。 B 另外，本發明之光阻劑稀釋系統，係不限定於以上所 述實施形態，只要是在不脫離本發明之要旨內的範圍，可 採用種種其他的構成又或是形狀。 由以上可知，藉由使用本發明，在使用時，由於稀釋 ' 溶劑會恆常將殘留於配管之表面的高黏度光阻劑洗去，故 — 能減低異物之產生或是混入黏度變化品的危險性。又，能 減低光阻劑稀釋系統的維修頻度，而能對作動率之提昇有 所幫助。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]展示第1實施形態中之光阻劑稀釋系統。 [圖2 ]展示第2實施形態中之光阻劑稀釋系統。 — [圖3 ]展示先前之光阻劑稀釋系統。 【主要元件符號說明】 1 :光阻劑稀釋系統 2 :調製槽 -15- (12) (12)1311078 3 :配管 3 a :高黏度光阻劑用配管 3 b :稀釋溶劑用配管 3 c :連接部 3 d :共通配管 3 e :流出部 4a :閥 4 b :閥 5 :高黏度光阻劑 6 :稀釋溶劑 1 0 :稀釋溶劑供給槽 1 1 :高黏度光阻劑供給槽 1 2 :連接管 2 1 :光阻劑稀釋系統 22 :調製槽 23 :高黏度光阻劑用配管 24 :閥 25 :稀釋溶劑用配管 2 6 :閥 2 7 :高黏度光阻劑 2 8 :稀釋溶劑 -16-

Claims (1)

1311078 (1) 十、申請專利範圍 1 - 一種光阻劑稀釋系統，其书 配管’係具有2個以上之流入 :和 混合部’係將第1液體和第2 該第】液體，係從前述流入部 而從前述流出部中之第1流出部流 該第2液體，係從前述流入部 並從前述第1流出部流出，且相較 度相對較低。 2 _如申請專利軔圍第1項所 ’其中’前述第1液體，係爲光阻 爲將前述光阻材稀釋之稀釋劑。 3-如申請專利範圍第1項所 ’其中，前述混合部，係具備有： 前述第1液體稀釋，以調整該第1 4. 如申請專利範圍第1項所 ，其中，前述光阻劑稀釋系統，係 第1供給部，係能塡充前述第 體供給至前述第〗流入部；和 第2供給部，係能塡充前述第 體供給至前述第2流入部。 5. 如申請專利範圍第4項所 ，其中，前述光阻劑稀釋系統，係 |徵爲，具備有： 部與1個以上之流出部 液體混合’ 中之第1流入部流入’ 出， 中之第2流入部流入， 於前述第1液體，其黏 記載之光阻劑稀釋系統 材，前述第2液體，係 記載之光阻劑稀釋系統 藉由前述第2液體來將 液體之黏度的調製槽。 記載之光阻劑稀釋系統 更具備有： 1液體，並將該第1液 2液體，並將該第2液 記載之光阻劑稀釋系統 更具備有： -17- (2) 1311078 連結部’係連結前述第〗供給部與前述第2供給部， 並藉由該第2供給部而使前述第2液體流入該第i供給部 窳 〇 - 6·—種光阻劑稀釋系統之使用方法，該光阻劑稀釋 系統係具備有： - 配管’係具有2個以上的流入部和1個以上的流出部 :和 • 調製部，係稀釋光阻劑並調製其黏度，其特徵爲： 藉由前述流入部中之第1流入部，使第1液體流入， 並使該第1液體從前述流出部中之第1流出部流出，而供 給至前述調製部， 在供給前述第1液體後，藉由前述流入部中之第2流 _ 入部’使相較於該第1液體其相對黏度爲較低的第2液體 流入’並使該第2液體從前述第1流出部流出，而供給至 前述調製部。 # 1 如申請專利範圍第6項所記載之光阻劑稀釋系統 之使用方法，其中， 從被塡充有被供給至前述第1流入部之前述第1液體 的第1供給部，供給該第1液體， ' 並在從前述第1供給部供給該第1液體後，在該第1 供給部加入前述第2液體，將該第2液體從該第1供給部 供給至前述第1流入部，而藉由前述第1流出部使其流出 〇 8 .如申請專利範圍第6項或第7項所記載之光阻劑 -18- (3) 1311078 稀釋系統之使用方法，其中，前述第1液體，係爲光阻材 ，前述第2液體，係爲將前述光阻材稀釋之稀釋劑。

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