TWI307804B - - Google Patents

Description

1307804 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明’係有關於進行玻璃基板等之基板的去角之基 板去角方法，以及將此適用之光學構件之製造方法。 【先前技術】 構成以光拾波器作爲代表之光學系統的光學構件，使 用有各種物品，作爲其中一例，有波長板或濾光片等。波 長板或濾光片等之光學構件，係爲在四角形狀之玻璃基板 上成膜光學機能膜所成者。當將此種光學構件作爲光拾波 器而組入時，係藉由專用之保持器來固定保持。又，在適 用於數位相機等之CCD( Charged Coupled Device)中， 係安裝有用以保護CCD之外蓋玻璃或是用以進行色修正 之光學濾光片。在外蓋玻璃上係成膜有反射防止膜，在光 學濾光片上係成膜有進行色修正之光學機能膜。外蓋玻璃 或是進行色修正之光學濾光片亦爲光學構件的一種，與上 述之波長板或濾光片等同樣被做成四角形狀，在作爲數位 相機等之構件而被組入時，係藉由專用之保持器來固定保 持。 上述之各種光學構件，雖係由薄型之基板所構成，但 若是其棱線部分係爲銳利狀態，則在與其他構件接觸時會 產生玻璃屑，玻璃屑會付著在光學構件上，又或是由於玻 璃屑而造成光學構件損傷’會有對其機能造成不良影響之 虞。特別是，由於上述之光學構件係安裝於專用之保持 -4- (2) (2)1307804 器’故在安裝時與保持器接觸而產生玻璃屑的可能性很 高。又，在運送、搬運光學構件時雖然是在收納於專用之 箱內的狀態來進行，但是若不將其極爲嚴格地固定在箱子 內部，則光學構件有可能會在箱內與其他構件因滑動而產 生玻璃屑。又，光學構件與其他構件因爲滑動而產生玻璃 屑一事’換句話說，即是代表對其他構件造成損傷。進 而’若是光學構件的角隅部係爲銳利狀態，則從使用的容 易性來看亦會造成問題。 於此，一般而言，係將光學構件之稜線部分預先去 角，來防止產生上述之玻璃屑。於此，上述之光學構件， 由於其形狀係極爲小型，且係爲大量生產，因此若是進行 個別的去角，則在生產性、效率性的觀點而言係有問題。 近年的光學構件，並不是以單獨生產，而是在同時生產大 量的光學構件。於此，在專利文獻1中揭示有：在其生產 過程中，對藉由接著劑使複數之光學構件成爲一體物（中 間生成物）者，施加蝕刻處理，並同時對複數之光學構件 進行去角者。 [專利文獻1]日本國特開2000-169166號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 然而’在上述之專利文獻1的發明中，係藉由因應玻 璃板之組成而選定的蝕刻液，進行玻璃板之稜線部分的蝕 刻，而進行去角。藉由此種蝕刻液，能進行玻璃板之去 -5- 1307804 , (3) . 角。但是，由於用以進行玻璃板之去角的鈾刻液，係爲能 溶解玻璃之強力的溶劑，故不僅具有玻璃板之去角功能， 而亦具有將形成於玻璃板上之光學機能膜溶解的作用。因 此，由於用以進行去角的蝕刻液，最終會成爲將製造的光 學構件之光學機能損害的結果。又，由於蝕刻液是強力的 溶劑，故不僅是進行玻璃板去角之部分，亦有會對玻璃表 面等之其他部分造成不良影響的可能。 φ 於此，本發明，係以提供一種不使用蝕刻液，而能進 行被層積之各基板的去角之基板的去角方法，以及適用此 方法之光學構件的製造方法。 [用以解決課題之手段] 本發明之基板之去角方法，其特徵爲：藉由對將複數 枚之基板以接著劑黏接並層積而成之基板連結體的側面進 行噴沙處理，進行構成前述基板連結體之各基板的去角。 • 又，本發明之光學構件之製造方法，其特徵爲： 將於其中一面成膜有光學機能膜之平板狀的基板藉由 . 接著劑來黏著並層積，並在其最上層及最下層接著有覆蓋 . 用之基板來構成基板層積體， 將前述基板層積體，於縱方向及橫方向以特定之間隔 切斷，產生複數之基板連結體， 對前述基板連結體之切斷側面進行噴沙處理，進行構 成前述基板連結體之各基板的去角， 在進行前述基板連結體之接著劑的剝離後進行洗淨， -6- (4) (4)1307804 產生複數之光學構件。 [發明效果] 本發明之基板之去角方法及光學構件之製造方法，係 可不對形成於基板之光學機能膜造成不良影響’而進行基 板之去角。 【實施方式】 t 以下，參考圖面，針對本發明之實施形態作說明。另 外’以下所示之實施形態，係針對進行IR ( Infrared)遮 光濾光片的稜線部分之去角，而製造IR遮光濾光片的方 法作說明，但是除遮光滤光片之外，亦可對任意之光學構 件的製造適用本發明。 於圖1，係展示最終被製造出之IR遮光濾光片1。IR 遮光濾光片1，係在基板10P上成膜IR遮光膜20而構 成。IR遮光膜20，係爲具備有對射入光僅去除紅外線成 分的機能的光學機能膜，例如係藉由真空蒸鍍等被蒸鍍在 基板上。如圖1所示’構成IR遮光濾光片1的基板l〇p 之稜線部分係被去角。針對進行此種去角，製造IR遮光 濾光片1之方法作說明。 首先’如圖2所示，硏磨平面狀之大型基板的兩 面。作爲大型基板1 〇的材料，係可使用各種之物，但於 此係適用玻璃基板。若進行兩面之硏磨，則能得到大型基 板10之平面度及平行度。而後’對進行了兩面硏磨之大 (5) (5)1307804 型基板10的其中一面成膜IR遮光膜20。此時，若在大 型基板10成膜IR遮光膜20以外之光學機能膜，則能製 造具有其他之光學機能的光學構件。 而後，對複數之大型基板成膜IR遮光膜20，將 成膜有IR遮光膜20之複數的大型基板層積。此時，在將 大型基板10之成膜有IR遮光膜的面之反面，塗佈接著劑 3 〇之後，將大型基板1 〇彼此接著而層積。此時，以使形 成有IR遮光膜之面與形成有接著劑之面互相黏合的方 式，進行大型基板彼此的接著。接著劑30，係用以進行 大型基板10彼此之接著的預接著劑，最終係被剝離。於 此，在將大型基板1〇彼此層積時，於最上層及最下層， 設置有覆蓋用基板11及12。覆蓋用基板11及12，係用 以在後述之噴沙處理時，保護大型基板之成膜有IR遮光 膜20之面及其反面，可適用任意的材料，但於此處係與 大型基板10相同，使用玻璃基板。因此，如圖3所示， 將大型基板10彼此藉由接著劑而接著並層積，在最上層 及最下層設置覆蓋用基板11及12，而生成基板層積體 40 〇 接下來’如圖4所示，在縱方向及橫方向，以特定間 隔來切斷基板層積體40。藉由該切斷，生成複數之基板 連結體5 0。基板連結體5 0，由於係如圖5所示，係爲層 積有複數枚之作爲最終製品之IR遮光濾光片1者，故基 ®層積體40 ’係以因應作爲最終製品之IR遮光濾光片1 的間隔而被切斷。 -8- (6) (6)1307804 於此，如圖5所示之基板連結體50 ’雖係爲將基板 層積體40切斷所成者，但是，舉例而言，若是將基板層 積體4〇藉由鑽石磨輪（diamond wheel)來切斷時’其切 斷側面會成爲極爲銳利之狀態。因此，若將接著基板i〇P (大型基板1 〇被切斷之狀態的基板）之接著劑3 〇剝離’ 則基板1 0P之邊緣部分係成爲非常銳利之狀態。因此，也 必要對各基板1 0P之切斷側面進行去角。 於此，對上述之基板連結體5 0的切斷側面，如圖5 所示，進行噴沙處理。作爲噴沙處理，係可適用如利用壓 縮空氣並藉由從噴嘴之壓力將硏磨粒子噴著的乾噴沙，或 是同樣利用壓縮空氣使與液體混合之硏磨粒子噴著的濕噴 沙等，各種之方法的噴沙處理。如圖5所示，從配置於基 板連結體50之上部的噴沙噴嘴60，將混入有硏磨粒子之 液體，藉由壓縮空氣，來對基板連結體5 0以強力的壓力 噴著。作爲適用於濕噴沙的液體，例如可使用水，作爲混 入液體之硏磨粒子，例如可使用氧化鋁。 對基板連結體5 0之切斷側面，進行上述之噴沙處 理。此時，使基板連結體5 0又或是噴沙噴嘴60移動，對 基板連結體5 0之切斷側面全面施加噴沙處理。如此一 來，如圖6所示，構成基板連結體50之各基板10P之邊 緣部分被硏磨，而能進行各基板10P之去角。亦即是，各 基板1 0P雖係藉由接著劑30而被接著並層積，但是接著 劑3 0係具有某種程度的厚度。故而，若對基板連結體5 〇 進行噴沙處理’則接著劑3 0被剝離又或是去除。各基板 -9- (7) (7)

1307804 1 ο P之角隅部露出。而後，藉由從噴沙噴嘴6 0噴 體所混入的硏磨粒子，硏磨各基板1 0 P之露出部， 基板10P之邊緣部分被去角。 然而，由於上述之接著劑30係具有某種程 度，故能進行各基板1 0P之邊緣部分的去角。但是 要對各基板1 0P之邊緣部進行大幅度去角，則必須 著劑30之厚度增厚。因此，使用爲了代替接著劑 充厚度的其他構件，例如藉由將紙等的較薄之構付 能S周整去角之大小。 於此，上述之噴沙處理，由於係將混入液體之 子’以強力之壓力對基板連結體50噴著，故不僅 板連結體50之切斷側面，亦會對端面51及52 傷。然而，就算是對端面51及52造成損傷，亦由 係爲不作爲製品來使用之覆蓋用基板1 1及1 2的一 故對基板10P之成膜有IR遮光膜20的面和其反谊 成不良影響。換言之，基板10P之成膜有IR遮光 及其反面，由於係藉由端面51及52而實質上被保 能防止成爲最終之製造物的IR遮光濾光片丨之光 的損失。 而後，最終係將構成基板連結體50之接著齊I 離。作爲將接著劑3 0剝離之方法，舉例而言，係 熱溶解性之接著劑作爲接著劑3 0，而施加加熱處 剝離的方法。又或是，使用水溶性之接著劑作爲 3 〇 ’而後將基板連結體5 0浸泡於水中而使其剝 出之液 而使各 度之厚 ，若是 要將接 3 〇而補 夾入， 硏磨粒 是對基 造成損 於此些 部份， 不會造 膜的面 護，故 學機能 30剝 可使用 理將其 接著劑 離的方 -10- (8) (8)1307804 法。藉由此，可大量生成如圖1所示之IR遮光滤光片 1。所生成之1R遮光濾光片1，係進行用以將所殘存之接 著劑3 0、硏磨粒子及其他之不純物去除的洗淨，而生成 作爲最終之製造物的IR遮光濾光片1。 如以上說明所示，本發明，係對於藉由接著劑將複數 的基板接著所成之基板連結體，施加噴沙處理而進行去 角。因此，能不使用蝕刻液而能進行去角，不會對形成於 基板之光學機能膜造成不良影響。 【圖式簡單說明】 [圖1]作爲最終之製造物的IR遮光濾光片的立體圖。 [圖2]大型基板之立體圖 [圖3]基板層積體之立體圖 [圖4]將基板層積體切斷時之說明圖 [圖5]對基板連結體之切斷側面施加噴沙處理時之說 明圖 [圖6]已進行基板連結體之去角者的說明圖 【主要元件符號說明】 1 :遮光濾光片 1 〇 :基板 10P :基板 11、12 :覆蓋用基板 20 : IR遮光膜 -11 - 1307804 ⑼ 30 ： 40 ： 50 ： 5 1、 6 0 ·· 接著劑 基板層積體 基板連結體 5 2 :端面 噴沙噴嘴

Claims (1)

1. (1) (1)1307804 十、申請專利範圍 1. 一種基板之去角方法，其特徵爲：藉由對將複數 枚之基板以接著劑黏接並層積而成之基板連結體的側面進 行噴沙處理，進行構成前述基板連結體之各基板的去角。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之基板之去角方 法，其中，前述基板係爲玻璃基板。 3. —種光學構件之製造方法，其特徵爲： 將於其中一面成膜有光學機能膜之平板狀的基板藉由 接著劑來黏著並層積，並在其最上層及最下層接著有覆蓋 用之基板來構成基板層積體， 將前述基板層積體，於縱方向及橫方向以特定之間隔 切斷，產生複數之基板連結體， 對前述基板連結體之切斷側面進行噴沙處理，進行構 成前述基板連結體之各基板的去角， 在進行前述基板連結體之接著劑的剝離後進行洗淨， 產生複數之光學構件。 4. 如申請專利範圍第3項所記載之光學構件之製造 方法，其中，前述基板係爲玻璃基板。 5. 如申請專利範圍第3項又或是第4項所記載之光 學構件之製造方法，其中，前述光學構件，係爲CCD覆 盍罩又或是IR遮光濾光片。 -13-