TWI305786B - A silicone co-polymer containing the condensed polycyclic hydrocarbon groups - Google Patents

A silicone co-polymer containing the condensed polycyclic hydrocarbon groups Download PDF

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TWI305786B TW095111653A TW95111653A TWI305786B TW I305786 B TWI305786 B TW I305786B TW 095111653 A TW095111653 A TW 095111653A TW 95111653 A TW95111653 A TW 95111653A TW I305786 B TWI305786 B TW I305786B
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Description

1305786 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 - 本發明係關於適合用作為電子材料或微細加工材 . 含有縮合多環烴基之新穎的聚矽氧（s i 1 i C ο n e )共聚合物 【先前技術】 近年來，隨著半導體元件的微細化，對於製造其 用之微影照像製程也演變至需要更微細化。其微細化之 能快速發展之背景，係受到投影透鏡之高 NA (數值孔 化、光阻之性能提高、及短波長化之影響。 其中，使用含有苯紛（phenol)性經基之聚有機 矽氧烷來用作為微細加工之實例，已揭示於許多報導， 以藉由含有苯酚性羥基而可溶於鹼水溶液為其特徵（參 明專利文獻1 )。 另一方面，為製作微細圖案，也已有一種設置中 的三層光阻製程之提案，尤其是最近則也有將含有苯酚 基的梯形（ladder )聚矽氧共聚合物使用於抗反射膜之 報導。在該報導中，則特別以供使用於微細加工的 ArF 來形成抗反射膜（參閱發明專利文獻2)。 然而，含有苯酚性羥基之聚倍半矽氧烷，對於 KrF曝光法的248奈米之遠紫外線吸收波長而言，卻因 射性較高，以致無法形成抗反射膜。因此，目前正需要 供一種含有苯酚性羥基而可溶於鹼，且在 200奈米以上 外線吸收部會顯示吸收之矽氧烷材料。 料的
所使 所以 徑） 倍半 其係 閱發 間層 性羥 實例 雷射 例如 光透 能提 之紫 1305786 第 08-334900 2004-341479 米以上之紫外 寸溶於鹼水溶 達成。 氪）（248奈 且含有苯酚性 現含有特定的 )的 200奈米 由含有苯酚性 料，並根據此 物，其係包含 、及含有縮合 多環烴基，即 (發明專利文獻 1 )曰本發明專利特開 號公報 (發明專利文獻 2 )日本發明專利特開 號公報 【發明内容】 〔所欲解決之技術問題〕
本發明係以提供一種為提高對於2 〇 0奈 線吸收部的吸收而導入縮合多環烴基，且含有 液的苯酚性羥基之聚矽氧共聚合物為其目的所 〔解決問題之技術方法〕 本發明之發明人等對於例如 KrF (氟化 米）之遠紫外線曝光波長也能將光加以吸收、 羥基之聚矽氧共聚合物加以專心研討，結果發 組成之聚矽氧共聚合物在例如KrF ( 248奈米 以上之遠紫外線曝光波長會顯示吸收，並且藉 經基因此可適合用作為微細加工材料之新穎材 觀點終於達成本發明。 亦即，本發明係提供一種聚矽氧共聚合 含有苯酌·單元之倍半石夕氧烧（silsesquioxane) 多環烴基之倍半矽氧烷。 〔發明之功效〕 根據本發明係可提供一種由於含有縮合 使在2 0 0奈米以上之遠紫外線域也具有高吸收，且藉由含有 1305786 t 苯酚性羥基而可溶於鹼的聚矽氧共聚合物。 本發明之聚矽氧共聚合物，由於在例如 2 4 8奈米之曝 光波長的2 0 0奈米以上之遠紫外線域能將光加以吸收以提供 抗反射膜之功能，因此可用於導入微細加工製程。並且，由 於可將苯酚性羥基作為反應點而導入各種取代基，因此也可 應用於塗料、黏著劑等。 【實施方式】
〔本發明之最佳實施方式〕 本發明係一種聚矽氧共聚合物，其係包含含有苯酚單 元之倍半矽氧烷、及含有縮合多環烴基之倍半矽氧烷。 本發明之聚矽氧共聚合物較佳為包含含有苯酚單元之 倍半矽氧烷、及含有縮合多環烴基之倍半矽氧烷之聚矽氧共 聚合物，其係包含：以下式所代表的含有苯酚單元之倍半矽 氧烷單元：
OH
A
-SiO 丨Π 3/2 J
(C (式中，n係代表0〜10 ) 、及含有以下式所代表之倍半矽氧烷單元的骨架：
A
I —SiO— 3/2
-7- 1305786 (A係代表縮合多環烴基） ，且更佳為含有以下式所代表的重複單元者：
(式中，η係代表0〜10，A係代表縮合多環烴基， 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫 也可為0莫耳％，但是符合a + b + c = 100之條件） 本發明之聚矽氧共聚合物較佳為具有重量平均 (以聚苯乙烯換算）為在 500 ~ 100,000之範圍，最 1,000〜10,000之範圍。分散度較佳為在1.0〜10.0 ，且最佳為在1·2~5·0之範圍。 另外，本發明之聚矽氧共聚合物，較佳為在以 代表的各矽原子與3個氧原子鍵結，且各氧原子係鍵 個矽原子： Β
I -Si—ΟΙ Ο (其中之Β係代表一般的有機基）。 本發明之聚矽氧共聚合物也可以下式所代表的 來代表： R係代 耳％，c 5 分子量 佳為在 之範圍 下式所 結於兩 結構式 1305786
OH
(式中，n係代表0〜1 0，A係代表縮合多環烴基，R係代 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，c 也可為〇莫耳％，但是符合a + b + c = 1 0 0之條件）。 另外，本發明之聚矽氧共聚合物也可為以下式所代表 的梯形聚矽氧共聚合物：
OH
「(C卜
Si-0 I 0 I
—Si 一 0 I
OH (式中，η係代表0〜10，A係代表縮合多環烴基，R係代 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，c 也可為0莫耳％，但是符合a + b + c= 100之條件）。 1305786 表 代 係 η 之 式 下 Φ— 其
來 點 觀 的 性 得 獲 易 之 料 原 從 若 是 但 重 之 式 下 考在 若 時 性:: 易元 容單 的複 成 合 及 *6^ η -時，貝1J η較佳為 0〜佳為0〜3。 Α. S.0 /2 3/ 代： 係括 基包 烴係 環例 多實 合的 縮佳 的較 表其 代， 所煙 Α 之 以成 而 合 {奠該 起、此 、 茚因!£、， 、 烯基 苯搭烴 三戊環 伸之多 聯架合 、 骨 縮 苯的於 六外屬 稠以也 ρ e η 龄於適伸基之 苯由更 、 烴式 用，係烷環下 烧 者庚多 在 效氧小 、 合 有矽 性奠縮 為 半體、 之 性 立此慧 特 為因、 之積，萘 基 體用、 羥 较 使采 -181/AT. 性 比合聯 元 單 複 重 烷可使大佳等 庚也欲性較菲 、 等而體，、 表兩個以上之苯環所縮 萘、蒽、菲、稠五苯、 )等。另外，具有苯環 、伸聯苯、乙烯合萘等 包括在較佳的實例中。 其成為鹼可溶性的聚倍 的縮合多環烴基，以立 的實例則為戊搭烯、茚 匕苯環單元為 3個以下 -10- 1305786 人
以R所代表的有機基，雖然並無特殊限制，但是較佳為 子數為1〜20之直鏈狀、分枝狀或環狀之一元烴基或交 基。較佳的具體實例：碳原子數為1〜2 0之直鏈狀飽和 係包括甲基、乙基、正-丙基、正-丁基、正-戊基、正-等之烴基；分枝狀烴基係包括異丙基、異丁基等之烴基 狀烴基係包括環戊基、環己基、環庚基等之環狀烴基。 ，交聯環狀烴基係包括下述結構式之交聯烴基等： 碳原 聯烴 烴基 己基 ;環 另外
在製造本發明之聚矽氧共聚合物時，藉由將苯酚 加以保護的聚矽氧單體與含有縮合多環烴基的聚矽氧單 以水解來聚合，以製造經保護苯酚部位的矽氧烷聚合物 後則將苯盼部位之保護部分加以脫保護（d e p r 〇 t e c t i ο η ) 製得。 在製造本發明之聚矽氧共聚合物時，則適合使用 述所揭示之合成法來製造： 部位 體加 ，最 即可 以下 -11 - 1305786
(CHt)-S(Xh *-Si(X)i R-S：(X)j l)水解 «聚合
OH
3)脫保1 (C卜. A 1 f R 1.. C ['"s,0va _ β Π&〇ΪΛ b ί c (式中，n係代表0〜10，A係代表縮合多環烴基，R係代 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，c 也可為〇莫耳％，但是符合a + b + c = 1 0 0之條件，Μ係代 表碳原子數為1 ~ 5之烴基，但是也可具有羰基，X係代表
亦即，將以下述結構式所代表的苯酚性羥基： MO\—(CH2)—Si(X)3 加以保護的三氣矽烷單體或三烷氧基矽烷單體與以下述 結構式所代表的三氯矽烷單體或三烷氧基矽烷單體： A_Si(X〉3 (A係代表縮合多環烴基）
與下述結構式： R-Si(X)3 (R係有機基） 加以水解後，藉由聚合而加以高分子化，即可合成下述結構 式之聚石夕氧共聚合物： -12- 1305786 ό
.(C r A 1 Ι· • R 「咖π a L 3/2. b biU' L 3/2 J
(式中，η係代表0〜10，Α係代表縮合多環烴基，R係代 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，c 也可為〇莫耳％，但是符合a + b + c = 1 0 0之條件，Μ係代 表碳原子數為1〜5之烴基）。
其中，Μ係代表將苯酚性羥基加以保護的保護基，其 較佳實例係包括碳原子數為1 ~ 5之烴基的甲基、乙基、正-丙基、正-丁基、異丙基、三級-丁基、正-戊基等之烴基，也 可為具有乙醯基、乙羰基、正-丙羰基等之含有羰基系的情 形。另外，從原料之易獲得性的觀點來看，則以曱基、乙基 、三級-丁基為特別佳，在含有羰基時，從原料之易獲得性 的觀點來看，則特佳為乙醯基。 另外，X係代表水解性基，且代表鹵素或碳原子數為 1〜5之直鏈狀或分枝狀之烷氧基。 該水解之實例，若所使用之矽烷單體皆為三氯矽烷單 體之情形時，則在例如碳酸氫鈉水溶液之接近於中性的條件 下即可容易進行水解。另外，若使用三烷氧基矽烷單體時， 由於在強鹼條件下即容易變成三維化的聚合物，因此，較佳 為在例如鹽酸或磷酸水溶液的酸性條件、或使用胺的弱鹼性 條件下進行。 -13 - 1305786 其次，將藉由水解所回收的油層加熱至 200°C ，藉此 即可製得苯酚性羥基係為保護基Μ所保護之下述化合物： ΟΜ
(式中，η係代表0〜1 0，Α係代表縮合多環烴基，R係 代表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％ ，c也可為0莫耳％，但是符合a + b + c = 10 0之條件，Μ 係代表碳原子數為1 ~ 5之烴基）。 該聚矽氧共聚合物之重量平均分子量（以聚苯乙烯換 算）較佳為在1，000〜100,000之範圍，且最佳為在2,000 ~ 30，000之範圍。分散度則較佳為在1.0〜10.0之範圍，且最 佳為在1 . 5〜5.0之範圍。 其次，將藉由保護基Μ所保護的聚矽氧共聚合物之苯 酚性羥基的部位加以脫保護即可製得具有目的羥基之下述化 合物之聚石夕氧共聚合物： ΟΗ
( 式中 SO: 係代表 )η· 3/2 j a 0 10 3/2
A ISiO
-R-SiO— L 3/2 J 1 0，A係代表縮合多環烴基，R係 -14- 1305786 代表有 ，C也 藉由使 保護反 合物。 破化鈉 因此應
等，但 而分開 共聚合
波長下 8 0 %以 248奈 下者。 有縮合 吸收， 200奈 功能， 紛性經 機基，a、b、c係代表莫耳％，a ' b係1〜9 9莫耳。/。 可為0莫耳％，但是符合a + b + c = 1 0 0之條件）。 該脫保護條件之實例，較佳為在酸性條件下進行，且 用例如三曱基矽烷基碘的脫保護試劑即可容易進行脫 應。接著，用水加以水解，藉此即可製得聚矽氧共聚 也可取代該三曱基矽烷基碘而使用三甲基矽烷基氯與 。由於S i — Ο之鍵結在鹼性條件下即有可能被切斷， 加以避免。該脫保護反應之溶劑通常使用乙腈或氯仿 是應視苯酚部位受到保護的聚矽氧共聚合物之溶解性 使用。 如上所述經加以脫保護，即可合成具有羥基之聚矽氧 物。 該聚矽氧共聚合物係在200奈米以上之遠紫外線曝光 對光會顯示吸收，在2 4 8奈米之波長的透射率較佳為 下者，但是如欲用作為抗反射膜用途時，則更佳為在 米之波長的透射率為 5 0 %以下，進一步更佳為 2 0 %以 根據本發明可提供一種聚矽氧共聚合物，其係由於具 多環烴基，即使在2 0 0奈米以上之紫外線域也具有高 且由於含有苯酚性羥基而可溶於鹼。 本發明聚矽氧共聚合物，由於含有縮合多環烴基，在 米以上之紫外線域下也會顯示吸收而提供抗反射膜性 因此可導入微細加工製程中應用。並且，由於可將苯 基用作為反應點而導入各種取代基，也可應用於塗料 -15- 1305786 、黏著劑等，但是其應用範圍並不受限於此等。 《實施例》 茲以實施例具體說明本發明如下，但是本發明並 限於此等實施例。 測定係使用下述裝置，原料係購自一般的試劑廠： 測定裝置： NMR (核磁共振）測定：日本電子公司製造之 MHz NMR測定儀； IR (紅外線分光）測定：島津（S h i m a d z u )製作 造之 IR Prestige-21 ; GPC (膠體滲透層析）測定：東曹達（Tosoh ) 製造之HLC-8220 ; UV (紫外線分光）測定：島津製作所製造之 2400PC (調製 2χ1(Γ4莫耳/公升之乙醇溶液後，放入4 度為1 0毫米之見方形石英薄殼，然後在 2 5 °C下使用 鹵素燈來測定）。 〔實施例1〕 對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 9 -菲基倍半矽氧烷共 物（n = 1、a = 70莫耳％、b = 30莫耳％、c = 0莫耳％ 9 -菲基之合成 在配備有攪拌機、回流冷凝器、滴液漏斗及溫度 5 0 0毫升的四頸燒瓶中，裝入1 1 7克之水，然後在1 0〜 不受
400 所製 公司 UV-程長 50 W
聚合 、A = 計之 2 0°C -16-
1305786 之反應溫度逐滴加入117克之含有45.2克（0.187莫耳 對-甲氧基苯曱基三氣矽烷與23.9克（0.080莫耳）之 基三甲氧基矽烷的曱苯溶液。逐滴加入結束後，在相同 下使其熟化2小時後，靜置，然後分液，以回收油層。 ，以5 %之碳酸氫鈉水溶液加以洗蘇，以回收甲苯油層。 其次，將該曱苯溶液移入配備有攪拌機、蒸餾塔 卻器及溫度計之 1公升的四頸燒瓶中，並放入油浴中， 地加熱，以使曱苯餾出。曱苯餾出後再提高溫度，並在 °C下使其熟化2小時，以合成46.5克之藉由GPC分析 重量平均分子量（Mw:以聚笨乙烯換算）為3,000，分 (Mw/Mn：以聚苯乙烯換算）為1.4之對-曱氧基笨甲基 矽氧烷· 9 -菲基倍半矽氧烷共聚合物。 以NMR與IR分析確認結構： ^-NMR ( CDC13 ) ： δ (ppm) - 0.82 〜2.40 (bs CH2- ) 、3.30 ~ 3.70 (bs、- OCH3 ) 、6.10 〜7.70 (m 環）； IR(KBr) ： v (cm·1) = 1，0 1 8 〜1，1 9 6 ( S i - 0 ) 其次，在配備有攪拌機、回流冷凝器、滴液漏斗及 計之500毫升的四頸燒瓶中，裝入 215克之乙腈，然 40.2克之對-曱氧基苯甲基倍半矽氧烷· 9-菲基倍半矽氧 聚合物、66.8克（0.445莫耳）之碘化鈉及 48_4克（I 莫耳）之三甲基氯矽烷依此順序加入，並在 6 5 ~ 7 0°C 行2 4小時之回流。回流後，逐滴加入7 1.7克之水，並 〜7 0 °C下進行6小時之回流後加以冷卻，以亞硫酸氫鈉 )之 9_菲 溫度 接著 、冷 缓慢 200 結果 散度 倍半 、苯 〇 溫度 後將 烷共 1.445 下進 I 65 水溶 -17- 1305786 液將 層。 43.2 乙燁 為1 合物
CH 1,25 游離碘加以還原後，以1 5 %食鹽水洗滌2次，並回收油 再將油層放入水中以回收結晶，然後乾燥結晶，以合成 克之藉由GPC分析結果重量平均分子量（Mw:以聚苯 換算）為 2,5 00，分散度（Mw/Mn :以聚苯乙烯換算） _3之對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1-萘基倍半矽氧烷共聚 〇 以NMR與IR分析確認結構： !H-NMR ( CDC13 ) : δ (ppm) = 0.82 〜2_40(bs、— -)、6.10 〜7.70 (m、苯環）、8.80 〜9.10 (bs、— OH IR ( KBr ) v { cm'1 ) = 3,340 ( - OH ) 、993 〜 1 ( Si - O )。 〔實
萘基 1-萘 行合 以聚 換算 烷共 施例2〕對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1-萘基倍半矽氧烷共聚合 n = 1、a = 70 莫耳 ％、b = 30莫耳％、〇 = 0莫耳％、A = )之合成 除將實施例1之9-菲基三曱氧基矽烷變更為20.9克之 基三曱氧基矽烷以外，其餘則以與實施例 1相同條件進 成，以合成藉由 GPC分析結果重量平均分子量（Mw: 苯乙烯換算）為 2,500，分散度（Mw/Mn :以聚苯乙烯 )為1.3之對-羥基苯甲基倍半矽氧烷·1-萘基倍半矽氧 聚合物。 以NMR與IR分析確認結構： -18- 1305786
'H-NMR ( CDC13 ) : δ (ppm) = 0.85 〜2_40(bs、一 CH2- ) 、6.20 〜8.20 (m、苯環）、8.80 〜9.10 (bs、— OH )； IR(KBr) ： v (cm-1) = 3,3 3 5 ( - OH ) 、993 〜 1,25 1 ( Si — O )。 〔實施例3〕
對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1 -蒽基倍半矽氧烷共聚合 物（n = 1、a = 70莫耳％、匕=30莫耳％、。= 0莫耳％、A = 蒽基）之合成 除將實施例1之9-菲基三甲氧基矽烷變更為20.9克之 1 -蒽基三曱氧基矽烷以外，其餘則以與實施例 1相同條件下 進行合成，以合成藉由 GPC分析結果重量平均分子量（Mw ：以聚苯乙烯換算）為 2,300，分散度（Mw/Mn :以聚苯乙 烯換算）為1.4之對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1-蒽基倍半矽 氧烷共聚合物。 以NMR與IR分析確認結構： *H-NMR ( CDC13 ) ·· (5 ( ppm ) = 0.85 〜2.40 ( bs、—
CH2 — ) ' 6.20 ~ 8.20 (m、苯環）、8.65 〜9.25 (bs、一 OH IR ( KBr ) ： ^ (cm· 1 ) = 3,3 3 8 ( - OH ) 、995 〜 1,250 ( Si— O )。 -19- 1305786 〔實施例4〕 對-羥基苯乙基倍半矽氧烷· 9-菲基倍半矽氧烷共聚合 物（n = 1、a = 70 莫耳 ％、b = 30 莫耳 ％、c = 0 莫耳 ％、A = 萘基）之合成
除將實施例1之對-甲氧基苯曱基三氯矽烷變更為22.8 克之對-乙醯氧基苯乙基三氯矽烷以外，其餘則以與實施例1 相同條件進行合成，以合成藉由GP C分析結果重量平均分子 量（Mw:以聚苯乙烯換算）為 2,000、分散度（Mw/Mn:以 聚苯乙烯換算）為1.2之對-羥基苯曱基倍半矽氧烷·1-萘基 倍半矽氧烷共聚合物。 以NMR與IR分析確認結構： ^-NMR ( CDC13 ) ： δ ( ppm) = 0.82 ~ 2.45 ( bs、一
CH2- ) 、6.20 〜8.20 (m、苯環）、8.80 〜9.10 (bs、一 OH IR ( KBr ) ： y ( cm'1 ) = 3,3 3 5 ( - OH ) 、990 〜 1,250 ( Si - 0 )。 〔參考例1〕 對-羥基苯甲基倍半矽氧烷聚合物（η = 1、a = 100莫 耳％、b = 0莫耳％、c = 0莫耳％ )之合成 除未使用實施例1之1 -萘基三氯矽烷以外，其餘則以 與實施例1相同條件進行合成，以合成藉由GPC分析結果重 量平均分子量（Mw:以聚苯乙烯換算）為4,500，分散度（ Mw/Mn：以聚苯乙烯換算）為1 .5之對-羥基苯曱基倍半矽氧 -20- 1305786 烧聚合物。 以NMR與IR分析確認結構：
'H-NMR ( CDCI3) : δ ( ppm) = 0.82 ~ 2.40 (bs' — CΗ2— ) 、6.10 ~ 7.70 (m、苯環）、8.80 〜9.10 (bs、一 OH )； IR ( KBr ) ： v (cm-1) = 3,340 ( - OH ) 、993 〜 1，251 ( Si- O )。
〔參考例2〕 對-羥基苯曱基倍半矽氧烷•苯基倍半矽氧烷共聚合物 (η = 1、巳=70莫耳％、5 = 30莫耳％、〇 = 0莫耳％、八= 苯基）之合成 除將實施例1之1-萘基三氯矽烷變更為16.9克之苯基 三氯矽烷以外，其餘則以與實施例1相同條件進行合成，以 合成藉由 GPC分析結果重量平均分子量（Mw:以聚苯乙烯 換算）為8,000，分散度（Mw/Mn:以聚苯乙烯換算）為1.8 之對-羥基苯甲基倍半矽氧烷·苯基倍半矽氧烷共聚合物。 以NMR與IR分析確認結構：
^-NMR ( CDCI3 ) ： δ ( ppm ) = 0.82 ~ 2.40 ( bs、— CH2- ) 、6.10 〜7.70(m、苯環）、8.80- 9.10 (bs、一 OH )； IR ( KBr ) ： y ( cm·1) = 3,340 ( — OH) 、993 ~ 1,251 ( Si - O )。 將分別合成所製得之聚矽氧共聚合物溶解於乙醇時之
-21 - 1305786 U V測定結果（透射率）展示於下表。2 4 8奈米係遠紫外線之 代表性波長。 表1 化合物名稱 組成比 (a: b: c) 在365奈米 之透射率（ %) 在248奈 米之透射 率（％) 實施例1 對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 9-菲基倍半矽氧烷共聚合物 70： 30： 0 92.3 0.4 實施例2 對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1-萘基倍半矽氧烷共聚合物 70： 30： 0 95.0 15.0 實施例3 對-羥基苯曱基倍半矽氧烷· 1-蒽基倍半矽氧烷共聚合物 70： 30： 0 92.0 0.5 實施例4 對-羥基苯乙基倍半矽氧烷· 9-菲基倍半矽氧烷共聚合物 70： 30： 0 92.5 0.8 參考例1 對-羥基苯甲基倍半矽氧烷聚合 物 100： 0： 0 99.9 92.0 參考例2 對-羥基笨甲基倍半矽氧烷•苯 基倍半矽氧烷共聚合物 70: 30: 0 99.5 92.3
以2 X 1 0'4莫耳/公升之乙醇溶液（25 °C )進行測定。 如上所述，經藉由導入縮合多環烴基，即可獲得即使 在248奈米波長之透射率也小的聚矽氧共聚合物。 -22-

Claims (1)

1305786 十、申請專利範圍： 1. 一種聚矽氧共聚合物，其係包含含有苯酚單元之倍 半矽氧烷（silsesquioxane)與含有縮合多環烴基之倍半矽氧 烷。 2. 如申請專利範圍第1項之聚矽氧共聚合物，其係具 有包含含有以下式所代表的苯酚單元之倍半矽氧烷單元：
人
(式中，η係代表0 ~ 10 ) 、及含有以下式所代表之倍半矽氧烷單元： A I 3/2
-SiO (A係代表縮合多環烴基）的骨架。 3. 如申請專利範圍第1或2項之聚矽氧共聚合物，其 中含有以下式所代表的重複單元： -23- 1305786
(式中，η係代表0〜10，A係代表縮合多環烴基，R係代 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，c 也可為〇莫耳％，但是符合a + b + c=100之條件）。 4. 如申請專利範圍第1項之聚矽氧共聚合物，其中含 有以下式所代表的重複單元：
(式中，η係代表0〜1 0，A係代表縮合多環烴基，a、b係 代表莫耳％，a、b係1〜9 9莫耳％，但是符合a + b = 1 0 0之 條件）。 5. 一種聚矽氧共聚合物之製造方法，該聚矽氧共聚合 物係如申請專利範圍第1項所揭示者，其特徵為將含有以下 式所代表的重複單元之聚矽氧共聚合物加以脫保護： -24- 1305786
(式中，η係代表0 ~ 10，A係代表縮合多環烴基 表有機基，a、b、c係代表莫耳％，a、b係1〜9 9 . 也可為〇莫耳％，但是符合a + b + c = 1 0 0之條件 表碳原子數為1 ~5之烴基，但是也可含有羰基）。 、R係代 t 耳 ％，c ，Μ係代
-25-
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