TWI304465B - Method for drying material to be heated, heating furnace, and method for manufacturing device - Google Patents
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1304465 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於被加熱體之乾燥方法、加熱爐及裝置之势 造方法。 【先前技術】 一般,在各種顯示裝置(光電裝置)中,為了可施行彩色 顯示,設有彩色濾光器。此彩色濾光器例如係在玻璃或塑 膠等構成之基板上,以所謂帶狀排列、三角形排列、鑲嵌 排列等特定之排列圖案排列R(紅)、G(綠)、B(藍)之各色之 光點狀之濾光器元件。 又,作為顯示裝置,以液晶裝置或EL(電致發光)裝置等 之光電裝置為例,有在玻璃或塑膠等構成之基板上,排列 著可獨立控制其光學狀態之顯示光點之顯示裝置。此情 形,在各顯示光點上設有液晶或EL·發光部。作為顯示光點 之排列態樣,一般例如係排列成縱橫之格子(光點矩陣)狀。 在可衫色顯示之顯示裝置中,通常例如形成對應於上述 R、G、B各色之顯示光點(液晶*EL發光部),藉對應於全 色之例士 3個顯示光點構成一個晝素(pkd)。而,可藉分別 拴制個旦素内所含之多數顯示光點之灰階,以施行彩色 顯示。 例如“如專利文獻1所揭示,在此等顯示裝置之製程中, 有將感光性樹脂塗敷於基板上,對此感光性樹脂施行曝光 :里及’員〜處理,以形成格子狀之隔牆(岸堤)後,使噴頭等 喷出之液滴命中於此隔牆所劃分之區域,經乾燥而形成顯 106137.doc 1304465 一元件(即’上述彩色濾光器之濾光器元件及EL發光部之顯 不光點等)之情形。在此方法中,由於不必利用光微影照相 法等在各色將顯示元件圖案化,故具有容易製造之優點。 ★將k敷於基板上之液狀材料之塗敷膜真空加熱乾燥而 使膜之厚度均勻化(例如參照專利文獻丨)。 [專利文獻1]日本特開2003_279245號公報 [發明所欲解決之問題] :、、〈、而在上述以在之彩色濾光器或顯示裝置(光電裝置) 之製造方法中,大部分在畫素區域周邊以撥液性材料形成 稱為岸堤之隔牆部,將液狀材料之功能液配置於此岸堤 内以使塗敷膜變成均勻方式,利用可一面控制爐内溫度, -面變化真空度之加熱爐乾燥功能液。此加熱爐採用可加 熱爐内,並提高爐内真空度(降低壓力)之減壓加熱乾燥法。 在啟動此加熱爐之際,可知在爐内達到一定之真空度之範 圍時,將電通至加熱器而加熱時,會由配線部分產生漏電 肌。且獲悉在將電通至加熱器而加熱爐内之狀態下,提高 真空度(降低壓力)之情形,在達到一定之真空度之範圍時, 也會由配線部分產生漏電流。此現象在降低爐内壓力時, 僅少量之電子會被加熱器之陰極吸出,使電子飛向正電極 (%極),迷中會與氣體分子相碰撞而由分子中將電子撞 出。此等電子會流向陽極。另一方面,)離子會被陽極吸 引。此時,會將電子撞出(濺射法之原理),利用此重複動作 持續放電。又,本現象不僅在電極間,亦會產生於爐體(sus) 或其他金屬間,而使此成為漏電之來源。進一步降低壓力 106137.doc 1304465 (提高真空度)時,氣體之分子數會降低,因離子數劇減,停 止放電而不再漏電。 而’在此漏電流之值達到⑽心寺,為防止對人體之景〈 響’會啟動附屬之漏電阻斷器.,以停止加熱爐之加熱。而: 停^加熱爐之加熱時,會因乾燥處理不足而使乾燥處理中 之彩色濾光器或顯示裝置(光電裝置)變得不良。 本發明之目的在於提供在㈣下加熱乾燥被加熱體時, 可防止漏電流對人體之影塑, θ 不中斷地繼績乾燥處理之 乾燥方法、加熱爐及裝置之製造方法。 【發明内容】 、本·明之加熱爐係包含可收容被加熱體之收容室、加熱 :收容於前述收容室内之前述被加熱體用之加熱器、減麼 别述收容室内用之減壓泵者, 茶具特敛在於包含:壓力檢測 其係檢測前述收容室之麗力者;漏電量檢測部,盆係 ^則在前述加熱器通電下因減麼收容室内而產生之漏電流 者’及控制部,其係依據前述壓力檢測部、前述漏電量檢 测部之各檢測結果,將前述加熱器之通電接通或切斷者。 依據本發明,-面減慶,一面加熱收容室内時,在加執 :所產生之漏電流達到最大容許電流之前,可依據漏電量 :測部之檢測結果切斷加熱器之電源。又,可依據漏電量 “測部之檢測結果接通加熱器之電源。 最好本發明之加熱爐之前述控制部係在施行前述收容室 :減壓之減壓過程中,至少前述漏電流超過容許值之減壓 &域之放電區域之間,執杆 執订控制以停止前述加熱器之通電 106137.doc 1304465 者。 依據本發明’即使產生漏電流,也可在放電區域之間, 執行控制以停止前述加熱器之通電。 最好本發明之加熱爐之前述控制部係在前述漏電量檢測 部所檢測之漏電流達到前述容許值以下之設定電流值時, 切斷前述加熱器之通電;在前述壓力檢測部所檢測之前述 收谷室内之壓力達到不足前述放電區域之下限值之設定壓 力值時,接通前述加熱器之通電。 依據本發明’在漏電流達到超過最大容許值之值時,切 斷加熱器之通電,收容室内之壓力達到不足放電區域之下 限值之設定壓力值時,接通加熱器之通電,故可繼續乾燥 處理,因此,可謀求被加熱體之品質之穩定。 、本發明之加熱爐之特徵在於前述控制部係在前述壓力檢 測部所檢測之前述收容官內夕所 谷至内之壓力達到超過前述放電區域 之上限值之第1設定值時’切斷前述加熱器之通電;在達到 =足前述放電區域之下限值之第2設定值時,接通前述加熱 裔之通電。 依據本發明,在收容室内之壓力達到超過放電區域之上 限值之第1設定值時,切斷加 …、σσ之通電,在達到不足放電 區域之下限值之第2設定值時,接通加熱器之通電,故可繼 t乾燦處理^此’可謀求被加熱體之品質之穩定。且, 相當容易。 。艮值與壓力之下限值即可,故管理 本發明之基板之乾燥方法之特徵在於其係在基體上之特 106137.doc 1304465 定區域塗敷功能液者,包含減壓前述收容室之減壓步驟; 以力…、叩力…、鈿述收容室内之被加熱體之加熱步驟;在前 述u之通電下,因進行前述收容室内之減壓而產生之 漏電抓之k測值達到設定電流值時,切斷前述加熱器之通 電之步驟;在前述加熱器斷電後,進-步進行前述收容室 内之減壓’在前述收容室内之壓力之檢測值達到設定壓力 值時,接通前述加熱器之通電之步驟者。 ❿ 、依據本發明,由於包含減壓收容室之減壓步驟;屬於與 咸L/驟至/局^重複且同時進行之步驟而以加熱器加敎 收容室内之被加熱體之加熱步驟;在加熱器之通電下,因 進仃收容室内之減壓而產生之漏電流之檢測值達到設定電 流值時:切斷加熱器之通電之步驟;在加熱器斷電後,進 步進仃收谷室内之減壓,在收容室内之壓力之檢測值達 到設定壓力值時,接通前述加熱器之通電之步驟,故只要 預先决疋叹疋電流值與設定壓力值即可,故管理相當簡單。 〜本發明之基板之乾燥方法之特徵在於其係在基體上之特 定區域塗敷功能液者,包含減壓前述收容室之減壓步驟; :繼加熱前述收容室内之被加熱體之加熱步驟;在前 述加熱1§之通電下,扁;隹γ 乂 电下在進仃削述收容室内之減壓,前述收 之壓力之檢測值達到第1設定值時,切斷前述加熱器 ^藏之步驟’在鈾述加教哭斷雷徭,、隹 …电後進一步進行前述收 ::内:減壓’前述收容室内之厂堅力之檢測值達到第2設定 寺,接通則述加熱器之通電之步驟者。 依據本發明,由於包令、、成 匕3減壓收谷室之減壓步驟;屬於與 106137.d〇i 1304465 減壓步驟至少局部重複且同時進行之步驟而以加熱器加熱 收容室内之被加熱體之加熱步驟;在加熱器之通電下,在 進行收容室内之減壓,收容室内之壓力之檢測值達到第i 設定值時,切斷加熱器之通電之步驟;在加熱器斷電後, 進一步進行收容室内之減壓,收容室内之壓力之檢測值達 到第2設定值時,接通加熱器之通電之步驟,故只要預先決 定第1設定值之壓力與第2設定值之壓力即可,故管理更為 簡單。 … 本毛明之基板之乾燥方法最好在切斷前述加熱器之通電 之步驟中,電流值為8〇 mA。 依據本發明,收容室内之漏電流之檢測值達到80 mA時, 可切斷加熱器之通電,故不會啟動漏電阻斷器而使裝置停 不努月之基板之乾燥方法最好在 ❿ 之步驟中,壓力值為1000 pa。 依據本^明,收容室内之壓力之檢測值達到1刪卜時 可切斷加熱器之通電,&可取代漏電流值而以屢力值/ 用,故管理相當簡單。 本發明之基板之乾燥方法最好在接通前述加熱器之❸ 之步驟中,壓力值為1 Pa。 :衣據本發明,收容室内之壓力之檢測值達到1 Pa時,, :刀::熱器之通電’故可繼續乾燥處理,因此,可謀求承 加…、體之品質之穩定。 本么明之裝置之製造方法之特徵在於其係利用液滴喷4 106137.doc ί3〇4465 出法在基板上形成畫素者,且使用前述之乾燥方法者。 依據本發明,由於可繼續乾燥處理被加熱體,因此,可 使被加熱體之品質保持穩定。 之裝置之製造方法。 了“可獲得穩定品質 【實施方式】 以下’列舉實施 被加敎體圖砰細說明有關本發明之 為… 法、加熱爐及裝置之製造方法。又,作 板“ίΛ、 體切㈣纽法塗敷魏液之基 ΓΓΠ說明。在說明本發明之特徵的構成及方法之 滴喷吐序說明有關在液滴喷出方法使用之基體、液 彩色滅光哭:贺吐裝置、肛發光面板之構造及製造方法、 慮先為基板之構造及製造方法。 <有關基體> 作為在液滴嘴出方法使用之基 璃、塑膠等各種基體。 &用麵石央玻 <有關液滴噴吐法> 作為液滴噴吐法之噴出技術,可列兴* , 壓振動方式、電氣機械變換带:电工制方式、加 引方式等。在此·* *乳熱受換方式、靜電吸 至材料,以偏=▼電控制方式係以帶電電極將電荷施加 方式。又,加壓振動方式传向而由喷嘴喷出之 至材料而使材料向嗔嘴〜 g⑽程度之超高壓施加 厂堅之情形,材料直:4爾出之方式’不施加控制電 刊了寸直接月進而由噴 在材料間會產生靜電的相斥,、料会二加控制電壓時, 料^队濺而不由喷嘴喷 106137.doc 1304465 • *。又’電氣機械變換式係利用壓電(piez〇)元件受到脈衝 . 性的電氣信號而變形之性質,藉麗電元件之變形而在儲存 料之㈣,經由可撓性物質施力⑶力,將材料由空間擠 出而由喷嘴喷出之方式。 又,電氣熱變換方式係利用設於儲存材料之空間内之加 熱器,使材料急遽氣化而產生氣泡(bubMe),利用氣泡產生σ 之麼力喷出空間内之材料之方式。靜電吸引方式係對儲存 > 材料之空間内施加微小壓力,在喷嘴形成材料之彎月面, 在此狀態下,施加靜電引力後引出材料之方式。又,此外 ^可適用利用電場之流體之黏性變化之方式及利用放電火 化使其濺出之方式等之技術。液滴喷吐法具有材料之使用 上浪費較少,且可正確地將希望量之材料配置於希望之位 置之優點。又’液滴喷吐法喷出之液狀材料之一滴之量例 如為1〜300奈克。 〈有關液滴噴吐裝置> =次’說明有關液滴喷吐裝置之構成。圖W表示液滴喷 吐裝置IJ之全體構成之概略立體圖。圖2係局部地表示液滴 噴吐裝置之主要部之局部立體圖。 液滴喷吐裝置1;如11 1所示,具有設置喷頭22作為液滴喷 ^頭之一例之噴頭單元26、控制喷頭22之位置之喷頭位置 控制裝置1 7、控制基板12之位置之基板位置控制裝置1 $、 使贺頭22對基板12向掃描方向X掃描移動之作為掃描驅動 ^構之抑描驅動裝置! 9、使喷頭22對基板12向與掃描方向 叉(正乂)之Υ方向輸送之輸送驅動裝置2 1、將基板丨2供應 106137.doc 1304465 、商貪土凌置IJ内之特定作業位置之基板供應裝置23、 及負責此液滴噴吐裝置U之全般控制之控制裝置24。 上述之嘴碩位置控制裝置17、基板位置控制裝置18、掃 描驅動裝置…輸送驅動裝置21之各裝置係設置於基“ 之上。又此等袭置可依需要用蓋15加以覆蓋。 /3係表示噴頭之圖’同圖⑷係表示概略立體圖,同圖(b) 絲不喷嘴之排列之圖。噴頭22如圖3⑷所示,具有多數喷 切排列而成之噴嘴列28。噴嘴27之數例如為刚個,喷嘴 27之孔徑例如為28 ”,㈣27之間關如為⑷心(參照 圖())圖3(a)所不之基準方向8係表示喷頭之標準之掃 描方向,排列方向τ係表示喷嘴列28之喷嘴27之排列方向。 圖4係表示喷頭之主要部之構成,同圖⑷係概略立體圖, 同圖帽剖面圖。噴頭22係具有不銹㈣構成之喷嘴板 ::、與此相向之振動板31、及將此等互相接合之多數分隔 構件32。在此噴嘴板29與振動_之間,藉分隔構件咖 成多數液狀材料室33與儲液部34。此等液狀材料室^與儲 液一 3 4係經由通路3 8而互相連通。 在振動板3卜形成液狀材料供應孔%。在此液狀材料供 應孔36形成材料供應裳置37。此材料供應裝置π係將卜 g、b中之-色,例如R色之濾光器元件材料等構成之液狀 材料Μ供應至液狀材料供應孔刊。如此被供應之液狀材料M 充滿於儲液部34,再經由通路38而充滿於液狀材料室仏 ,•在喷嘴板29’設有由液狀材料室33以噴射狀喷出液狀材 料Μ用之噴嘴27。又’在振動板3】之面臨液狀材料室”之 106l37.doc 1304465 面之月面,對應於此液狀材 Μ ,μ ^ 十至33而女衣有液狀材料加壓 |V . 4+ 4dr f 口 4㈧)所不,具有壓電元件41 4 之―對€極42认仙。«元件㈣藉對電極 42a及42b之通電,以向技稚耵电位 ^ 内則唬C所示之外側突出方式彎曲 !,精以增大液狀材料室33之容積。於是,相當於增大之 备積部分之液狀材料M會由 狀材料室33。 儲,“34通過通路38而流入液 動=比Γ對壓電元件41之通電時,此㈣元件41與振 =二恢復原來之形狀,因此,液狀材咖 谷積’故液狀材料室33之内部之液狀材料歡屬力上 、,由喷嘴27喷出液狀材料M作為液滴8。又,在噴嘴取 周邊口P ’ ·為防止液滴8之-曲飛行及阻塞噴嘴w之孔等,例 ^成Νι-四氟乙烯共析電鍍層構成之撥液材料層u。 -其-人’㈣圖2,說明有關配置於上述噴頭22之周圍之喷 碩位置控制裝置17、基板位置控制裝置18、掃描驅動裝置 19 :輸送驅動裝置21以及其他之機構。如圖2所示,喷頭位 置技制衷置17具有使安裝於喷頭單元26之喷頭22在平面 (水平面)内旋轉之4達44、使喷頭22在平行於輸送方向γ ^軸線周圍擺動旋轉之点馬達46、使喷頭22在平行於掃描 向X之軸線周圍擺動旋轉之r馬達47、及使喷頭22向上下 方向平行移動之2馬達48。 2,基板位置控制裝置18具有載置基板12之台49、與使 此口 49在平面(水平面)内旋轉之0馬達51。又,掃描驅動裴 ”有向掃描方向X延伸之X導軌52、與例如内建被脈衝 1〇6137.d0( 1304465 驅動之線性馬達之χ滑塊53。此χ滑塊53例如藉内建之線性 馬達之運轉,沿著X導軌52向掃描方向X平行移動。 另外,輸送驅動裝置21具有向輸送方向丫延伸之γ導軌 54、與例如内建被脈衝驅動之線性馬達之γ滑塊%。此γ滑 塊56例如藉内建之線性馬達之運轉,沿著γ導軌54向輸送方 向Υ平行移動。 在X滑塊53及Υ滑塊56内被脈衝驅動之線性馬達可藉供 應至該馬達之脈衝信號,精密地施行輸出軸之旋轉角度控 制。因此,可高精密地控制支持於χ滑塊53之噴頭22之掃描 方向X上之位置及台^9之輸送方向γ上之位置等。又,喷頭 22及台49之位置控制並不限定於使用脈衝馬達之位置控 制,也可利用使用伺服馬達之回饋控制或其他任意方法實 現。 、 在上述台49,設有規制基板丨2之平面位置之定位銷50a、 5〇b。基板12係在藉後述之基板供應裝置23而使掃描方向χ 側及輸送方向γ側之端面擋接於定位銷5〇3、5〇b之狀態,被 定位,持著。最好在台49,設置用來固定被保持於此種定 位狀態之基板12之例如空氣吸引(真空吸附)等之習知之固 定機構。 如圖2所示’在液滴喷吐裝置U中,在台49之上方配置多 數組(在圖示之例中為2組)攝影裝置91R、饥及规、饥。 ^此’攝影裝置91R、91L及92R、92L在圖2中,僅顯示鏡 同其他部分及其支持構造則予以省略。作為此等之觀察 機構之攝影裝置,可使用CCD攝影機等。又,在圖丨中,省 106137.doc 1304465 略此等攝影裝置之圖示。 /圖1所不’基板供應裝置23具有收容基板η之基板收容 ^57輸运基板12之機器人等基板移載機構5卜基板移載 2構L有基口 59、對基台59升降移動之升降轴6卜以升 牛車1為中〜而方疋轉之第62、對第丄臂Μ旋轉之第二臂 〃及叹於第2臂63之雨端下面之吸附墊64。此吸附塾64 係構成可糟空氣吸引(真空吸附)等吸附保持基板口之狀態。 又,在噴頭22之掃描執跡下,在輸送驅動裝置21之一方 側面位置,配設有封蓋裝置76及洗淨装置π。另外,在輸 送駆動裝置21之他方側面位置,配設有電子秤78。在此, 封蓋裝置76係在喷頭22處於待機狀態時,用來防止喷嘴 巧參照圖3)之乾燥之裝置。洗淨裝置川系用來洗淨喷頭η 之裝置。電子秤78係在各噴嘴測定由喷㈣内之各個喷嘴 Μ出之材料之液滴8之重量。另外,在喷抑附近,安裝 有與喷頭22成一體移動之噴頭用攝影機8ι。 々又’控制裝置24具有收容處理器之電腦本體糾、鍵盤 等輸入Α置67、及CRT等之顯示裝置68。在電腦本體部%, 具有圖5所示之CPU(中央處理裝置)69、記憶各種資訊之記 憶體之資訊記錄媒體71。 圖5係液滴喷吐裝別之控制系統之區塊圖。,辱區動喷頭位 置控制裝置17、基板位置控制裝置18、掃描驅動裝置… 輸送驅動裝置、及喷頭22内之a電元件41(參照圖· 之喷頭驅動電路72之各機器如圖5所示,係經由輸出入介面 73及匯流排74而被連接至cpu69。又,基板供應裝㈣、 I06137.doc -16- 1304465 輸入裝置67、顯示裝置68、封盍裝置76、洗淨裝置77及電 子秤78亦與上述同樣地,經由輸出入介面73及匯流排74而 被連接至CPU 69。 又’彡己憶體71係RANI(Random Access Memory :隨機存取 記憶體)、R〇M(Read Only Memory :唯讀記憶體)等半導體 記憶體及硬碟、CD-ROM(Compact Disc Read 0nly
Memory :音碟唯讀記憶體)、DVD(Digital Versatile Disc : 數位多用途光碟)、MD(Mini Disc ·•小型磁碟)等磁碟型記錄 媒體,含有利用此等讀取資料之外部記憶裝置等之概念。 在機Sb上,e又疋有§己憶描述液滴喷吐裝置I j之動作之控制 程序之程式軟體之記憶區域、記憶利用喷頭22之材料在基 板12内之喷出位置作為座標資料用之記憶區域、記憶對圖2 所示之輸送方向Y之基板12之輸送移動量用之記憶區域、具 有CPU 69用之工作區域及作為暫存檔等之機能之區域、及 其他各種記憶區域。 CPU 69係依照記憶於資訊記錄媒體71之記憶體内之程式 軟體,用於施行將材料噴出至基板12之表面之特定位置之 控制。作為具體的功能實現部,如圖5所示,具有施行實現 洗淨處理用之控制之運算之洗淨運算部15丨、實現封蓋處理 用之封盍運算部1 52、實現利用電子秤78之重量測定用之重 ϊ測定運算部153、及藉液滴喷出而使材料命中於基板12 之表面上’以特定圖案施行描繪用之描繪運算部〗54。 上述描繪運异部1 54具有用於將喷頭22設置於描繪用之 初始位置之描繪開始位置運算部〗55、施行使喷頭U以特定 I06137.doc -17· 1304465 速度向掃描方向X掃描移動用之控 管邱1以 # / 之運异之掃描控制運 #。卩156、施行使基板12向 剌連 抻制夕、富从 门Υ私動特定輸送量用之 u之運弃之輸送控制運算部157、施行 噴嘴2 7巾夕胡κ + 、員内之多數 噴嘴噴出::起作用而噴出材料之控制用之運算之 貧夤賀出控制運算部丨5 8等各種運算部。 又,上述各種機能雖利用使用cPU 6 但可利用不使用CPU之電子電路實現之:=貫現’ 子電路亦㈣。 見之^,使用該種電 其次’依據圖6所示之流程圖,說明有關液滴噴吐裝置 之動作。操作員接通電源而啟動液滴嘴吐裝置山寺,首先 實現初始設定(步驟S1)。具體上’將噴頭單元%、基板供 應裝置23及控制裝置24等設定於預定之初始狀態。 其次’重量測定時間來到時(步驟S2),㈣掃描驅動裝 置1 9使圖2所示之喷頭單元26移動至圖丨所示之電子秤π之 處(步驟S3)。而,利用電子秤78測定由噴嘴27噴出之液狀 材料之量(步驟S4)。再配合如此測定之液狀材料噴出特 性,而調節施加至各喷嘴27之壓電元件41之電壓(步驟s5)。 此後,洗淨時間來到時(步驟S6),利用掃描驅動裝置Η 使喷頭單元26移動至洗淨裝置77之處(步驟s7),利用該洗 淨裝置77洗淨噴頭22(步驟S8)。 重里測疋日$間及洗淨時間未來到之情形,或重量測定時 間及洗淨完畢之情形,在步驟S9,啟動圖1所示之基板供應 裝置23而將基板12供應至台49。具體上,利用吸附墊64吸 附保持基板收容部57内之基板12,移動升降軸61、第1臂62 106137.doc •18- 1304465 及第2臂63而將基板12輸送至台49’再將其緊塵在預先設在 台4 9之適處之定位鎖5 〇 a、5 0 b (參照圖2 )。
其次,如圖2所示,一面利用攝影裝置91R、9il觀察基 ㈣,以-面以微小角度單位使Θ馬達51之輸出軸旋轉, 而使台49在平面(水平面)内旋轉’並將基板12定位(步驟 Sl〇)。更具體而言,利用攝影裝置91R、91匕或9211、9乩分 別攝影分別形成於基板12之左右兩端之校準標記,由此^ 校準標記之攝影位置運算以求出基板丨2之平面態勢,依照 此平面態勢而使台49旋轉,以調整角度0。 啟動知描驅動裝置19及輸送驅動裝置2】,而难^ π衣直川,而使噴頭22移動 至描繪開始位置(步驟S 12)。 此後,一面利用圖!所示之噴頭用攝影機81觀察基板η, 一面藉運算而決定開始描繪之位置(步驟su)。而,適宜地 此時,噴頭22係構成可使圖3所示之基準方向8與掃描方 向X-致之態勢,或使基準方向8以特定角度對掃描方向χ 傾斜之態勢。由於喷嘴27之間距、與使材料應命中於基板 12之表面上之位置之間相異之情形頗多,故此特定角声係 在使噴頭22向掃描方向X移動時,為使排列於排列方向^之 噴嘴27之間距之輸送方向γ之尺寸成分與基板12之輸送方 向Υ之命中位置之間距在幾何學上相等而設之措施。 在圖6所示之步驟S12’當喷頭22被置於描綠;始位置 時,喷嘴22以-定速度直線地向掃描掃描移動(步驟 S 1 3)。在此掃描中,墨汁之液滴會由噴頭22之噴嘴υ庐 地喷出至基板12之表面上。 ‘ 106137.doc -19- 1304465 又,墨汁之液滴之喷出量 ^ 而將全量喷出至喷頭22所能涵蓋、 (構成可藉-度之掃描,本來應 ==:也可 ㈤如4分之-)之材料,而構成在多次掃描嘴二 將其掃描範圍設定為在輸送方向γ相互局部二,=之 區域中施行數次(例如4次)材料之噴出。 在以之 口貧頭2 2對基板12之1後份夕搞ρ 伤之知描結束(步驟S14)時,反轉 和動而返回初始位置(步驟S15),向輸送 _定之輸送移動量)(步驟Sl6)。此次,以步驟== ^喷出材料’其後’重複上述之動作而在多數線中施行 知描。在此,也可驅動成在1線之掃描結束時,交互反轉掃 搖方向而使其照樣向輸送方向γ移動特定量後,反轉而向反 向掃描。 在此如後所述,說明欲在基板12内形成多數彩色滤光 為之情形時,就在基板〗2内之彩色濾光器區域一列份完成 全部材料之噴出(步驟Sl7)時,喷頭22向輸送方向γ移動特 定量’再度與上述同樣地重複步驟S13〜步驟S16之動作。 而’最後,對基板12上之全列之彩色濾光器區域結束材料 之喷出(步驟S 18)時,在步驟S20,藉基板供應裝置23或別 的搬出機構,將處理後之基板12排出外部。其後,只要操 作員無作業結束之指示,便會如上所述,重複執行基板1 2 之供應、與材料喷出作業。在步驟S 1 8,CF全列未結束時, 移動至次列之CF區(步驟S 19),而,再度重複步驟S1 3〜步驟 S 1 6之動作。 106137.doc -20- 1304465 操作員有作業結束之指示(步驟S21)時,CPU 69在圖i 中’將噴頭22輸送至封蓋裝置76之處,藉該封蓋裝置騎 噴頭22施行封蓋處理(步驟S22)。 以上說明之液滴喷吐裝置可在本發明之配置方法及製造 方法中使用,但本發明並不限定於此,只要屬於可噴出液 滴,使其命中特定之命中預定位置之裝置,任何裝置皆可 使用。 又,在本發明中,最好使上述液滴噴吐裝置之喷頭等液 滴喷出頭在上述區域之長度方向(例如,冑質上若為矩形之 區域或開口部,係指其長邊延伸之方向;f質上若為帶狀 之區域或開口部,係指其延伸方向)掃描而逐次喷出多數液 滴。 < EL發光面板之構造及製造方法> 其次,參照圖7及圖8,說明有關EL發光面板252及製造方 法。在此,圖7(a)〜(h)係表示EL發光面板252之製程之步驟 剖面圖,圖8係表示EL發光面板252之製程之程序之概略流 程圖。 如圖7(a)所示,製造丑1發光面板252之情形,在透光性玻 璃或塑膠等構成之基板12上,形成第i電極2〇1。EL發光面 板252為被動矩陣型之情形,第i電極2〇1係形成帶狀,又, 在基板12上形成未圖示之TFD元件或TFT元件等主動元件 所構成之主動矩陣型之情形,第丨電極2〇1係獨立地形成在 各顯不光點上。作為此等構造之形成方法,例如可使用光 U影照相法、真空蒸鍍法、濺射法、高溫溶膠法等。作為 106137.doc 21 1304465 第1電極2〇1之材料,可使用1T0(In—0xide:鋼錫 礼化物)、氧化錫、氧化銦與氧化鋅之複合氧化物等。 其—人,如圖7(b)所*,在第1電極2〇1上,與上述彩色據 光器基板之情形同樣地以同樣之方法塗敷放射線感應性; 材6A(正型)(圖8之步驟S31)。*,如圖7⑷所示,以與上述 同樣之方法’施行放射線照射(曝光)處理(圖8之步驟叫 及顯影處理(圖8之步驟S33),以形成隔牆(岸堤)6b。 此岸堤6B係形成格子狀,以分隔形成於各顯示光點之第i 電極201之間之方式,即以構成對應於顯示光點之EL發光部 形成區域7之方式形成。又,與上述彩色濾光器基板之情形 同樣地,最好也具有遮光機能。此情形,可提高對比、防 止發光材料之混色、防止由畫素與晝素間漏光等。作為隔 牆6B之材料’基本上可使用採用於上述彩色濾光器基板之 隔牆之各種素材。&,此情形最好使㈣後述之發光材料 之溶劑具有_性之材料’另外’最好使用可藉碳氣化合 物氣體電漿處理而可四氟乙烯化之例如丙烯酸樹脂、環氧 樹脂、感光性聚醯亞胺等之有機材料。 其次,在塗敷作為功能性液狀體之電洞注入層用材料 202A之刖’對基板12施行氧氣與碳氟化合物氣體電激之連 、,哭包水處理。藉此,使聚醯亞胺表面撥水化,使ιτ〇表面親 水化’可&行用於將液滴微細圖案化之基板側之濕潤性之 控制。作為產生電漿之裝置,在真空中產生電漿之裝置、 及在大氣中產生電浆之裝置皆可同樣使用。又,有別於此 處理或取代此處理,可對上述隔牆沾以2〇〇它程式施行烘烤 106137.doc -22- 1304465 (煅燒)處理(圖8之步驟S34)0藉此,形成隔牆6c。 其次,如圖7⑷所示,以液滴8之型態喷出電洞注入層用 材料202A,使其命中區域7(圖8之步驟s35)。此電洞注入層 用材料2G2A係藉溶劑等使作為電洞注人層之素材液狀化之 材料。 其次’如圖7⑷所示,作為烘烤處理,在真空(卜㈣叫 中,以60t、15分之條件形成與發光層材料不相溶之電洞 注入層202(圖8之步驟S36)。又,在上述條件中,電洞注入 層202之膜厚為4〇 nm。 其次,如圖7(f)所示,在各區域7内之電洞注入層2〇2上, 與上述同樣地導入作為功能性液狀體之發光材料之發光層 用材料之R發光層用材料、G發光層用材料、B發光層用材 料作為液滴(圖8之步驟S37)。而,在塗敷此等發光層用材 料後’作為供烤處理’在真空(1〜〇.〇1 pa)中,以6吖、5〇 分等之條件除去溶劑而形成尺色發光層2〇3R、G色發光層 2〇3G、B色發光層2_(圖8之步驟S38)。熱處理所形成之^ 光層不溶於溶劑。又’上述條件所形成之R色發光層2〇艰、 G色發光層203G、B色發光層2〇3B之膜厚為5〇 nm。 又,也可形成發光層之前,對電洞注入層2〇2施行氧氣與 碳鼠化合物氣體電裝之連續電漿處理。藉此,在電洞注入 層202上形成氟化物層,可藉離子化電位之升高而增加電洞 注入效率,提供發光效率較高之有機EL裝置。 如圖7(g)所示,重疊配置3色發光層2〇3B時,不僅可形成 R、G、B之3原色,且可填埋尺色發光層2〇3R&G色發光層 I06i37.doc -23- 1304465 203 G與岸堤6C之階差而使其平坦化。因此,可確實防止上 下電極間之短路。另一方面,調整6色發光層2〇3B之膜厚 時,B色發光層203B可在與R色發光層2〇311及〇色發光層 203G之疊層構造中,發揮作為電子注入輸送層之作用而不 施行B色發光。作為如以上之]3色發光層2〇3B之形成方法, 例如作為濕式法,既可採用一般的自旋式塗敷法,或亦可 採用與R色發光層2〇3R&G色發光層2〇3〇之形成法同樣之 方法。 作為上述R色發光層203R、G色發光層203G、B色發光層 203B之排列態樣,可依照需要之顯示性能,適宜地選擇條 狀排列、二角排列、鑲嵌排列等習知之圖案。
/、人利用目視或顯微鏡等觀察,或利用圖像處理等檢 查有關如上所述在各顯示光點上形成電洞注入層202、及R 色發光層2〇3R、G色發光層2〇3G或B色發光層2_之虹發 光面板252(圖8之步驟㈣)。而,藉此檢查,在各顯示絲 内之EL發光部(由電洞注入層加、與R色發光層203R、G色 發光層2〇3ΜΒ色發光層卿之疊層體所構幻發現有瑕 戚$層構造不良、發光部之材料過多、塵埃等異物 之混入等)情形,將其由處理對象中排除。 、 在此檢查中未發現瑕痴之情形
向電極213(圖8之牛聰cm、 L 之…40)。又’相向電極2"為面電極之 f月形,例如f丨". g Λ Ag、ΑΙ、U等為材料,利用墓鲈法、 ha照相法等圖案化方法形成所成膜之電極層。最 I06137.doc -24- 1304465 後,如圖7(h)所示,在相向電極213上以適宜之 型無機絕緣膜等)形成保護層2M(圖S之步驟州)= 以製造作為目標之EL發光面板252。 曰 〈彩色/慮光益基板之構造及製造方法> 圖9(a)〜(f)係表示彩色濟井考其 巴t尤裔基板之製程之步驟剖面 圖,圖1 0係表示彩色濾光器基板 双 < 表矛王之紅序之概略流程 圖0
如圖9⑷所示,在具有透光性之玻璃或塑膠等構成之基板 12之表面上’利用自旋式塗敷(旋轉塗敷)、流延塗敷、概式 塗敷等種種方法塗敷放射線“性素材从(圖iq之步驟 叫。作為此放射線感應性素材6A,最好為樹脂組成物。 塗敷後之放射線感應性素材6A之厚度料狀卜心爪,最 好為 0.5〜3.0 μπι。 此樹脂組成物例如可使用⑴含黏合劑樹脂、多官能性單 體、光聚合引發劑等之藉照射放射線而硬化之放射線感應 性樹脂組成物、⑻含黏合劑樹脂、藉照射放射線而產生酸 之化合物、可藉照射放射線而產生酸之作用而交聯之交聯 f生化口物等之藉照射放射線而硬化之放射線感應性樹脂組 成物等。此等樹脂組成物通常在其使用之際,會混合溶劑 而調製成液狀組成4勿’此溶劑可為高沸點溶劑,也可為低 沸點溶劑。作為放射線感應性素材6A,最好為如日本特開 平1 0-86456號公報所载之⑷六氟丙烯、不飽和羧酸(酐)與 其他可共聚脂乙稀性不飽和單體之共聚物、(b)藉照射放射 線而產生酸之化合物、(c)可藉照射放射線而產生酸之作用 106137.doc -25- 1304465 而又聯之父聯性化合物、⑷含有前述⑷成分以外之含氟有 機化合物、及(e)含有可溶解前述⑷〜⑷成分之溶劑之組成 物0 其次,介著特定之圖案遮罩對放射線感應性素材6入照射 放射線(曝光)(圖1〇之步驟S52)。X,所謂放射線,雖含可 見光、i外光、X線、電子線等,但以波長19〇〜45〇nm之範 圍之放射線(光)為宜。 其-人,顯影放射線感應性素材6A(圖1〇之步驟S53)而形成 如圖9(b)所不之隔牆(岸堤)6B。此隔牆沾係構成對應於上述 圖案遮罩之形狀(負型圖案)。作為隔牆6B之形狀,例如, 最好為可將方形之濾光器元件形成區域7縱橫排列於平面 上而劃分成之格子狀。X,作為顯影放射線感應性素材6 A 所使用之顯影液,使用驗性顯影液。最好為碳酸鈉、氯氧 化鈉、氫氧化鉀、㈣、正錢、氨水、乙胺、丙胺、 二乙胺V二η-丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲基乙醇胺、 三乙醇胺、經基四曱銨、膽驗”比洛、二氮雜: %[5,4,0]1十一碳烯' 丨,5·二氮雜二環[4,3,〇]_5_壬烯等水 溶液。在此鹼性顯影液中,例如,也可適量添加甲醇、乙 醇等水溶性有機溶劑或界面活性劑等。又,利用鹼性顯影 液顯影後,通常需施行水洗。 其次,如圖9(c)所示,將上述隔牆6B,例如以2〇〇t程度 烘烤(煅燒)處理而成為隔牆6C(圖1〇之步驟S54)。此煅燒溫 度可依照上述放射線感應性素材6 A適宜地加以調整。又, 也可能有不需要烘烤處理之情形。又,在本實施型態中, 106l37.doc -26- 1304465 隔牆6C係以遮光性素 區)各區域7之不折不扣之同時兼具作為劃分(劃 外之部分之光之遮光與作為遮住區域7以 牆之機能也無妨。此情形,也可W獨立,、有作為隔 孟屬等構成之遮光層。 /成 其次’在以如上述方々游 述方式形成之隔牆6C所劃分之各區域7,
導入丙婦酸樹料基材中混人著色劑(顏料、染料: 器元件材料13(在圖9之例中,為 “先 為(紅耗材料)、13G(綠 、广、13B(監著色材料))◊作為將濾光器元件材料13 導各區域7之方法,藉混合溶劑等而將遽光器元件材料13 形成作為液狀材料(功能液),將此功能液倒人上述區域7。 更具體而言’在本實施型態中,藉使用後述之液滴噴出頭 之液滴喷出’以液滴8之形態使功能液命中於區域7内,藉 以施行材料之導入。 上述濾光器元件材料13係作為功能液被導入區域7内,其 後,藉施行乾燥或低溫(例如60°C )之煅燒之預烘烤(假煅 燒),而被假固化或假硬化。例如,施行濾光器元件材料丨3r 之導入(圖9(c)及圖10之步驟S55),其後,施行濾光器元件 材料13R之預烘烤而形成濾光器元件3R(圖10之步驟S56), 其次,施行濾光器元件材料13G之導入(圖9(d)及圖1〇之步 驟S5 7),形成濾光器元件3G(圖10之步驟S5 8),再施行濾光 器元件材料13B之導入(圖9(e)及圖10之步驟S59),然後,施 行濾光器元件材料13B之預烘烤而形成濾光器元件3B(圖 9(f)及圖10之步驟S60)。如此,將全部顏色之濾光器元件材 106137.doc -27- 1304465 料U導入各區域7,形成被假固化或假硬化之顯示元件μ 光器元件3(311、3(^、叫,藉以形成顯示素材(彩色渡光= 基板 CF)。 “ 其次’檢查如上述方式所構成之顯示素材之彩色遽光器 =CF(圖1G之步驟S61)。此檢查例如_用_或顯微鏡 Μ察上述隔牆6C及顯示元件之遽光器元件3。此情形,也 賴料HI i e F 攝影圖像自動地施行檢 查。藉此檢查’在顯示元件之濾、光器元件3有發現缺陷之情 形,除去該彩色ϋ光器基板CF,轉移至基體再製步驟。 在此’所謂滤光器元件3之缺陷,係指欠缺濾、光器元件 3(即所謂脫點)之情形’或雖有形成遽光器元件3,但配置於 區=内之材料量(體積)過多或過少之情形,或雖有形成濾 光器7L件3,但有塵埃等異物混入或附著之情形等。 。在此檢查中’在顯示元件未發現缺陷之情形,例如以期 C程度之溫度施行輯(锻燒)處理,使彩㈣光器基板以 之戚光器元件3(3R、3G、3B)完全固化或硬化(圖ι〇之步驟 S62) :發現缺陷之情形’除去該元件。此烘烤處理之溫度 可依遽光器元件材料13之組成等而適宜地加以決定。且不 ,特別加熱至高溫’亦可只要在異於通常之氣體環境(含氮 乳中或乾燥空氣中等)下,使其乾燥或熟化即可。最後,如 圖9⑴所示’在上述濾、光器元件3上形成透明之保護層14。 (第1實施型態) 其次,詳細說明有關可適用於以上說明视發光面板、 及彩色^器基板之製程中之本發明之烘烤處理之要部。 I06137.doc -28- 1304465 圖π係表示使用於烘烤處理之乾燥裝置之全體構成之概略 圖,同圖(a)係概略平面圖,同圖(b)係概略剖面圖。又,可 適用之本發明之烘烤處理步驟係圖8中之EL發光面板製程 之步驟S36與步驟S38。同樣地,圖1()之彩色渡光器基板之 製程之步驟S56、步驟S58與步驟S60。 士圖1 l(a)(b)所示,乾燥裝置1〇〇係由作為具有加熱器^ 之加熱爐之加熱部110、可輸送基板12之基板供應裝置 〇用於操作乾燥裝置100之操作面板140所構成。而,在 基板供應裝置130,具有向上下方向(Y2方向)輸送基板〗2用 之空壓缸133、與向左右方向(χ2方向)輸送基板12而將基板 12收容於設於加熱部11〇之收容室119中之未圖示之空壓 缸。又,以可向Χ2方向滑動方式設有線性導件丨3 6。 基板供應裝置1 3〇連接著配置於基板丨2之軸丨32與台 131。而,空壓缸133係繫合於台131,並被固定於架台135 上。 打開加熱部110之門114時,可將由基板供應裝置13〇送來 之基板12收容於收容室119中。在收容室119中,配置承載 基板12用之台πι。而,在此收容室119中,於基板以上配 置夕數加熱112。接通此加熱器112之通電,可加熱收容 至119内與基板12。又,在加熱器112附近,配置監視收容 室119内溫度用之熱電偶113。 為確保收容室119内之真空度,啟動減壓泵116而由大氣 壓中將收容室119内減壓。此減壓泵! 16係被配置於架台12〇 上。又,啟動減壓泵116時,存在於收容室119内之氣體會 106137.doc -29- 1304465 • 被排出於軋燥裝置丨〇。之外側。啟動減壓泵116時,可使收 - 备·室Π 9内減壓。排出此氣體用之排氣導管11 5連接於減壓 . 泵丨16,而以未圖示之方法被固定於架台120。 又,榀查收容室119内之真空度用之壓力感應器117係以 未圖不之方法被固定於架台12〇。又,檢測收容室IB内之 漏電流用之漏電量檢測裝置118係以未圖示之方法被固定 於^作面板14G内。另外,乾燥裝置1⑽係將操作此乾燥裝 置1〇〇用之操作面板140(如圖u⑷所示)以纟圖示之方法固 定於架台120。 。圖12係乾燥裝置⑽之控制系統之區塊圖。如圖η所示, " ▲作面板MG、輸出人裝置14卜溫度控制運算部142之各機 • 器、係經由輸出人介面143及匯流排144而連接於CPU 145、 RAM 146。且猎減壓泵116、壓力感應器η?、基板供應裝 置130㉟電里檢測裝置118連接於輸出入裝置⑷。又,藉 • ,熱器112、熱電偶⑴連接於溫度控制運算部142。輸出二 裝:141係由驅動電路及卿換器等所構成,可將壓力感 —117及漏電里檢測裝置j j 8所檢測之值輸入至輸出入裝 置⑷。又’輸出入裝置141可產生驅動減壓果ιΐ6及基板供 應裝置130用之輸出。而’可使驅動基板供應裝置130中之 閥、感應器、空壓缸用之開關等執行動作。 '。乾燥裝置⑽之構成如以上所述,以下,說明有關使用乾 秌4置100乾私基板12之乾燥方法(棋烤)。圖㈣表示乾燥 裝置⑽之動作程序之概略流程圖。圖14係乾燥裝置】⑼之 時間圖。 I06137.doc -30- 1304465 指示開始作業時,CPU1 45將信號送至輸出入裝置141, 啟動基板供應裝置130,將基板12輸送至台lu之處,利用 加熱器112對基板12在減壓下施行乾燥處理(參照圖 11 (a)(b))。以下,詳細說明更具體的乾燥方法。 操作設於乾燥裝置1〇〇之操作面板14〇,接通加熱器112之 通電,使爐内加熱器通電(圖13之步驟S71)。其後,以熱電 偶113檢測收谷室119内之溫度是否已達設定溫度(圖丨3之 步驟S72)。檢測溫度未達設定溫度(此情形為6〇它)時,繼續 加熱。 收容室a9内之溫度達設定溫度後,以打開門114之狀 態,使設於輸出入裝置141之基板供應裝置13〇起作用,使 空壓缸133向上下方向(Y2方向)移動,再使未圖示之空壓紅 向左右方向(X2方向)移動,而將基板12配置於設於收容室 119内之台111上,關閉門1而供應基板(圖13之步驟S73)。 其次,啟動減壓泵116,由大氣壓中將收容室119内減壓, 開始壓力控制(圖13之步驟S74)。並待機至收容室119内達到 特定溫度為止,開始溫度控制(圖13之步驟S 7 5)。 藉漏電量檢測裝置11 8之檢測信號,判斷已進入放電區域 H1。將放電開始壓力A1時之漏電流值預先記憶於 146,利用圖12所示之漏電量檢測裝置丨18檢測漏電流值是 否在容許範圍内(圖14之放電開始壓力A1、圖13之步驟 S76)。漏電流值在容許範圍内時,可將收容室〗19内減壓及 加熱。而’漏電流值超過放電開始塵力A1時,切斷加熱器 1 12之通電。即,停止溫度控制(圖〗3之步驟S77)。切斷加熱 106137.doc -31 - 1304465 器112時,放電區域出之漏電流會下降,由圖14所示之放電 開始壓力A1之位置下降。因此,將放電結束壓力B丨時之壓 力值預先記憶於RAM 146,檢測收容室119内之壓力是否已 下降至放電結束壓力B1(圖13之步驟S78)。收容室119内之 壓力高時,可繼續施行收容室119内之減壓。 壓力下降至放電結束壓力B 1後,再度接通加熱器π 2之通 電,以加熱收容室Π9内,而開始溫度控制(圖13之步驟 579) 。在減壓下將基板12乾燥處理特定時間(圖13之步驟 580) 。而’在乾燥處理特定時間後,切斷加熱器m之通電, 而停止溫度控制(圖13之步驟S81)。同時,停止減壓泵丨16(升 壓),以停止壓力控制(圖13之步驟S82)。 最後’打開乾燥裝置100之門114,由收容室i 19内排出基 板12(圖13之步驟S83)。 又,檢測圖12所示之收容室119之溫度用之熱電偶113、 與連接於加熱用之加熱器112之溫度控制運算部142係依據 熱電偶11 3之檢測結果,運算溫度而控制收容室丨1 9内之溫 度。而,壓力感應器117與連接於減壓泵116之輸出入裝置 ’控制收容室119内之
之溫度與壓力等資料之記錄區域。 141係依據壓力感應器U7之檢測結果 壓力。此等之機能可利用使用CPU ] 現。又,RAM 146具右
電流(mA), 電流(mA),同圖右側之縱軸表示壓力。 。同圖之橫軸表 I06I37.doc -32- 1304465 示接通或切斷減壓泵Π6與加熱器112之通電之轉換時間之 經過。而,在圖14之上段,表示溫度、壓力與漏電流。在 同圖中,實線表示溫度之經過時間之變化,虛線表示壓力 之、、二過日寸間之變化,一點短劃線表示漏電流之經過時間之 變化。
接通加熱器112之通電而將收容室119内由室溫加熱至處 理溫度(此情形約60。〇時,可獲得實線所示之溫度之經過時 間變化曲、線。其次’暫時㈣加熱器112之通電而打開門 114 ’將基板12收容於收容室1丨9内。 自閉門114再接通加熱器1丨2之通電 内其-人,啟動減壓泵Π 6,將收容室丨丨9内減壓。收容室 内之真二度會上升,如虛線所示之壓力之經過時間變化 曲線般’收容室119内之壓力會下降。而,一點短劃線所示 :溫度之:過時間變化曲線與虛線所示之塵力之經過時間
艾化曲線父又之點係漏電流(放電電流值)超過最大容許值 (:mA)之放電開始壓々A1。而,進一步繼續減壓時,收容 至119内之覆力會下降,變成放電結束麼力B1。繼續減單 時,即變成可施行穩定之乾燥處理之乾燥處理麼力,此: 力值為〇.〇1Pa。而,放電開始塵力Am放電結束麼力紙 間成為放電之放電區域。 mA, 可事先將漏電流阻斷器 此漏電流阻斷器起作用時 之額定感度電流設定於1〇〇 ’裝置之運作會停止。 裝置1〇〇不致於停止運作, 放電開始壓力A1之漏φ、、☆ ·’ /瓜之檢測值設定為額定感度電流 106i37.doc -33- 1304465 • l〇0mA之約80%(80mA)。而,此漏電流之檢測值被預先設 - 定於RAM 146。同樣地,結束放電時之壓力之檢測值為j • Pa ’此值被預先設定於RAM 146。而,漏電流之最大容許 值達到80 mA時,切斷加熱器112之通電,放電結束壓力⑴ 之塵力值達到1 Pa時,接通加熱器112之通電。 又,漏電流之檢測值可任意設定,並不限定於8〇 mA(約 80%)。例如,預先將檢測值設定於低於8〇 mA時,放電區 • 域H1之範圍會變窄,萬一通常以上之電流過渡地流至加熱 112也可降低啟動漏電流阻斷器而使裝置停止之概率。 另一方面,預先將檢測值設定於高於8〇 mA時,放電區域 • H1之範圍會變寬,可獲得餘裕,可縮短溫度一時地變得不 - 穩定之期間,故可減少對製品品質之影響。又,放電結束 壓力B 1之壓力檢測值可任意設定,並不限定於工。例如, 預先將檢測值設定於低於i Pa時,放電區域m之範圍會變 _ 見,萬一通常以上之電流過渡地流至加熱器丨丨2,也可降低 啟動漏電流阻斷器而使裝置停止之概率。另一方面,預先 將k測值设定於高於丨Pa時,放電區域出之範圍會變寬, 可G彳于釭裕,可縮短溫度一時地變得不穩定之期間,故可 減〆對裝扣品質之影響。且可快速接通加熱器丨12之通電, 可使基板12更快乾燥。 八尺在乾$眾處理壓力0·〇1 Pa,且溫度60°C下,加熱乾 V :板12特定日守間(此情形約15分)。經過特定時間後,切斷 力L泵116M加熱态112。於是,收容室I”内之溫度降低, 在收谷至119内之壓力達到大氣壓後,即可取出基板12。 106137.doc -34- 1304465 在如以上之第1實施型態中,可獲得如下之效果·· •⑴啟動減壓泵116與加熱器112 ’ 一面將收容室⑴内減 :面加熱乾燥基板12時,在所產生之漏電流達到超過 取大备δ午值之放電區域之前,可切斷加熱器^ Μ之電源,故 可避免啟動漏電流阻斷器而使裝置停止,可減少對製、品品
⑺溫度控制運算部可再度使加熱器m通電,故可繼續施 打乾無處理而不會改變乾燥處理中之基板12之品質 提供穩定之品質。 (3)可確認漏電流值後切斷加熱器,故達到最大容許值 時二可正確施行溫度控制,因此,不致於有起因於切斷加 熱裔U2之通電之時間而停止漏電流阻斷器。 (第2實施型態) 其认’’洗明有關本發明之繁2音始丨1 At ^ _ 月惑弟2貫轭型態。第2實施型態係 異於前述之第1實施型離之給泪1 士 不貝她i心之杈測方法之實施型態,在切斷通 電時’相異之點在於以麼力值取代漏電流值而加以檢測。 又’因使用與前述之糾實施型態相同之乾燥裝置ι〇〇,故 省略其說明。 &說明有關作為第2實施型態之乾燥方法(供烤)。圖15係 表示乾燥裝置⑽之動作程序之概略流程圖。圖⑽乾燥裝 置100之時間圖。 、操作設於乾燥裝置⑽之操作面板14(),接通加熱器112之 通電’使爐内加熱器通電(圖15之步 y ^S91)。其後,以熱電 偶113檢測收容室119内之溫度是否已達設定溫度(圖15之 I06l37.doc -35- 1304465 步驟S92)。檢測温度未達設定溫度(此情形為,繼續 加熱。 收容室Π 9内之溫度達設定溫度後,以打開門1丨4之狀 態,使設於輸出入裝置141之基板供應裝置13〇起作用,使 空壓缸133向上下方向(Y2方向)移動,再使未圖示之空壓缸 向左右方向(X2方向)移動,而將基板12配置於設於收容室 119内之台111上,關閉門114而供應基板(圖15之步驟S93)。 其次’啟動減壓泵11 6,由大氣壓中將收容室11 9内減壓, 開始壓力控制(圖15之步驟S94)。並待機至收容室119内達到 特定溫度為止,開始溫度控制(圖15之步驟S95)。 檢測放電區域H2之放電開始壓力A2之壓力檢測值是否 在容許範圍内(圖16之放電開始壓力A2、圖15之步驟S96)。 壓力較高時,可將收容室丨19内減壓。而,壓力檢測值超過 放電開始壓力A2時,切斷加熱器112之通電,而停止溫度控 制(圖15之步驟S97)。切斷加熱器112時,放電區域H2之壓 力會下降,由放電開始壓力A2下降。利用圖12所示之壓力 感應17檢測壓力是否已下降至放電結束壓力B2(圖丨5之 步驟S98)。壓力較高時,可將收容室119内減壓。 壓力下降至放電結束壓力B2後,再度接通加熱器】12之通 電,以加熱收容室119内,而開始溫度控制(圖15之步驟 s99)。在減壓下將基板丨2乾燥處理特定時間(圖1 5之步驟 s 1 〇〇)。而,在乾燥處理特定時間後,切斷加熱器112之通 電,而停止溫度控制(圖丨5之步驟sl〇1)。同時,停止減壓 泵H6(升壓),以停止壓力控制(圖15之步驟S][〇2)。 I06137.doc -36- 1304465 最後打開乾餘裝置100之門i! 4,由收容室i i 9内排出基 板12(圖15之步驟S103)。 在圖16之時間圖中,同圖左側之縱軸表示溫度(。〇,同 圖右側之縱轴表示壓力(Pa)e橫軸表示接通或切斷減壓栗 116與加熱器m之通電之轉換時間之經過。而,在表示圖 16:上段之溫度與壓力之圖實線表示溫度之經過時間 之變化’虛線表示壓力之經過時間之變化。 接通加㉟器112之通電而將收容室119内自室溫加熱至處 理溫度(此情形約60。〇。其次,暫時切斷加熱器112之通電 而打開門114,將基板12收容於收容室119内。 關閉門114再接通加熱器112之通電而加熱收容室ιΐ9 内。其次,啟動減壓泵116,將收容室119内減壓。收容室 11 9内之真空度會上升,如虛線所示之壓力之經過時間變化 曲線般,收容室119内之麼力會下降。開始放電之放電開始 [力A2之壓力值成為1〇〇〇 pa。進一步繼續減壓時,收容室 119内之壓力會下降,變成結束放電之放電結束壓力B2。此 放電結束壓力B2之壓力值成為1 pa。繼續減壓時,即變成 可施行穩定之乾燥處理之乾燥處理壓力,此壓力值為〇〇1
Pa。而,放電開始壓力A2與放電結束壓力们之間成為放電 之放電區域H2。 又,收容至11 9内之真空度上升而開始放電時之放電開始 壓力A2為1〇〇〇 pa,此壓力之檢測值預先被設定於壓力感應 器117。又,結束放電時之放電結束壓力们為1Pa,此壓力 之檢測值預先被設定於壓力感應器117。而,放電開始壓力 106l37.doc -37- 1304465 A2達到looo Pa,切斷加熱器U2之通電,放電結束壓力B2 之壓力值達到1 pa時,接通加熱器112之通電。 又’放電開始壓力A2之壓力之檢測值可任意設定,並不 限定於1000 Pa。例如,預先將壓力之檢測值設定於高於 1〇〇〇 Pa時,放電區域H2之範圍會變寬,萬一通常以上之漏 電流過渡地流至加熱器112,也可降低啟動漏電流阻斷器而 使裝置仔止之概率。另一方面,預先將壓力之檢測值設定 於低於1 000 Pa時,切斷爐内加熱器之時間會變短,可縮短 /皿度時地父彳于不穩定之期間,故可減少對製品品質之影 響。又,放電結束壓力B2之壓力檢測值可任意設定,並不 限疋於1 Pa。例如,預先將檢測值設定於低於工時,放電 區域H2之範圍會變寬,萬一通常以上之電流過渡地流至加 熱器112,纟可降低啟動漏電流阻斷器而使裝置停止之概 率另方面,預先將檢測值設定於高於^ 時,放電區 域H1之範圍會變寬,可獲得餘裕,可縮短溫度一時地變得 不穩定之期間,故可減少對製品品質之影響。且可快速接 通加熱器112之通電,可使基板12更快乾燥。 其次,在乾燥處理壓力0·01 Pa,且溫度6〇。口,加敎乾 燥基板Π特定時間(此情形約15分)。經過特定時間後,切斷 加㈣m與加熱器112。於是,收容室ιΐ9内之溫度降低, 在收容室119内之壓力達到大氣壓後,即可取出基板… 以上之第2實施型態中,除可獲得與前述之第1實施 型/¾同樣之效果外,可獲得如下之效果· ⑷由於使用壓力感應器117,可將加熱器ιΐ2之通電轉換 106137.doc -38- ϊ3〇4465 於接通或切斷,故也可不使用漏電量檢測裝置1 i 8。因此, 可簡化乾燥裝置100之構成。 以上,列舉理想之實施型態說明本發明,但本發明並不 限定於上述各實施型態,包含如以下所示之變形例,可在 可達成本發明之目的之腳m於其他任何具體的構 造及形狀。
(變形例1)前述第i實施型態或第2實施型態所使用之乾 燥裝置100並不p艮定於上述之有機EL裝置、或彩色遽光器基 板。例如,也可使用於FED(Field · Emissi〇n · ㈣:電 場發射顯示器)等之電子釋放裝置、PDp(piasma P_1:電漿顯示面板)、電泳裝置即將含有帶電粒子之功能 性液狀體之材料喷出於各晝素之隔牆間之凹部,對配設成 上下挾持各畫素之電極間施加電壓而使帶電粒子移動至一 方電極側而在各畫素施行顯示之裝置、薄型布朗管、 CRT(Cath〇de-Ray •丁ube :自極射線管)顯示器等、具有基 板(基材)’且具有在其上方之區域形成特定層之步驟之各種 顯示裝置(光電裝置)。 使用乾燥裝置100所製造者並非限定於前 ,也可為基板以外之JU形物。如此,由於 (變形例2)又, 述之基板。例如 故乾燥裝置100 可將特種物體一面減壓,一面加熱乾燥 之用途相當廣泛。 (變形例3)乾燥裝置1〇〇之用诠 ' < π地不限定於前述之乾燥作
業。例如也可使用於陶瓷及金屬等 社w W Α 蜀寻之燒結、接著劑及樹脂 之加熱硬化、流動物之加敎映彳卜 ,、,、呎化專。如此,由於可將特種 106137.doc -39- 1304465 物體一面減壓,一面加熱乾燥,故乾燥裝置i00之用途相者 廣泛。 ”田 (變形例4)在前述第丨實施型態或第2實施型態中,雖一面 加熱,一面減壓,但不限定於此。例如,也可將順序顛倒, 一面減壓,一面加熱。如此,也可獲得與第丨實施型態或第 2實施型同樣之效果。 【圖式簡單說明】
圖1係表示液滴噴吐裝置之全體構成之概略立體圖。 圖2係局部地表示液滴噴吐裝置之主要部之局部立體圖。 圖3係表示喷頭之圖,(a)係概略立體圖,(b)係噴嘴之排 列之圖。 圖4係局部地表示噴頭之主要部之圖,⑷係概略立體圖 (b)係概略剖面圖。 圖5係液滴喷吐裝置之控制系統之區塊圖。
圖6係液滴噴吐裝置之動作步驟之概略流程圖。 園⑷〜(h)係表示EL發光面板之製程之步驟剖面圖。 圖8係表示EL發光面板之釗鞀夕牛驟 圖 u叫饭n柱之步驟之程序之概略流程 圖9⑷〜⑺係表示彩色渡光器基板之製程之步驟剖面圖。 圖10係表示彩㈣光器基板之製程之步驟之 概略 流程圖。 圖1】係表示第1實施型態之蘚 又钇展哀置之全體構成之概略 圖’⑷係概略立體圖,(b)係概略剖面圖。 圖12係乾燥裝置之控制系統之區塊圖。 I06I37.doc -40- 1304465 圖13係表示乾燥裝置之動作程序之概略流程圖。 圖丨4係乾燥裝置之時間圖。 圖1 5係表示第2實施型態之乾燥裝置之動作程序之概略 程圖〇 圖16係乾燥裝置之時間圖。 【主要元件符號說明】 作為基板之彩色濾光器 3(3R、3G、3B) 作為顯示元件及顯示層之濾光器元件 6A 放射線感應性素材 6(6B、6C) 隔牆 8 液滴 12 作為基體之基板 100 乾燥裝置 110 作為加熱爐之加熱裝置 112 加熱器 113 熱電偶 116 減壓泵 117 作為壓力檢測部之壓力感應器 118 作為漏電量檢測部之漏電量檢測裝置 119 收容室 130 基板供應裝置 140 操作面板 141 輸出入裝置 142 作為控制部之溫度控制部 106137.doc -41 · 1304465 145 CPU 146 RAM 202 構成顯示元件之電洞注入層 203 EL發光層 252 作為顯示裝置之EL發光面板 A(A1 、 A2) 放電開始壓力 B(B1 、 B2) 放電結束壓力 H(H1 、 H2) 放電區域 106137.doc 42-
Claims (1)
- 淡7¾〆日修(更)正替換頁 1304^6¾142798號專利申請案 ^ 中文申請專利範圍替換本(97年10月) 十、申請專利範圍: 1 · 一種加熱爐,其係包含可收容被加熱體之收容室、加熱 被收谷於前述收容室内之前述被加熱體用之加熱器、減 壓前述收容室内用之減壓泵者,其特徵在於包含: 壓力檢測部,其係檢測前述收容室之壓力者; 漏電里檢測部’其係檢測在前述加熱器通電下因減壓 前述收容室内而產生之漏電流者;及控制部’其係依據前述壓力檢測部、前述漏電量檢測 部之各檢測結果,將前述加熱器之通電接通或切斷者。 2.如請求項1之加熱爐,其中 刖述控制部係在施行前述收容室之減壓之減壓過程 中,至少前述漏電流超過容許值之減壓區域之放電區域 之間’執行控制以停止前述加熱器之通電者。 3·如請求項2之加熱爐,其中 前述控制部係 藉由前述漏電量檢測部所檢測之漏電流達到前述容許 值以下之設定電流值時,切斷前述加熱器之通電; 在鈿述壓力;^双測部所檢測之前述收容室内之壓力達到 不足前述放電區域之τ限值之設定壓力值時,接通前述 加熱器之通電者。 4·如請求項2之加熱爐,其中 月J述控fj (5係藉由如述廢力檢测部所檢測之前述收容 室内之壓力達到超過前述放電區域之上限值之第i設定 值時,切斷前述加熱器之通電; 106137-971001.doc ί^/^月^修(更)正替換頁 I . 之第2設定值時,接 1304465 在達到不足前述放電區域之下限值 通前述加熱器之通電者。 5. -種基板之乾燥方法,其特徵在於其係在基體上之特定區 域塗敷功能液者,包含: 減壓前述收容室之減壓步驟; 以加熱器加熱前述收容室内之被加熱體之加熱步驟; 在前述加熱器之通電下,因進行前述收容室内之減壓而產生之漏電流之檢測值達到設定電流值時,切斷前述 加熱器之通電之步驟; 在前述加熱器斷電德,推_丰、备> 1, 研电佼進一步進行前述收容室内之減 壓,前述收容室内之壓入袖丨y士、土 坚刀之私,則值達到設定壓力值時, 接通前述加熱器之通電之步驟者。 6. —種基板之乾燥方法,1特徽 、、 八W倣在於其係在基體上之特定區 域塗敷功能液者,包含: 減壓前述收容室之減壓步驟; 以加熱器加熱前述收裳宮& ^ I队今至内之破加熱體之加熱步驟; ,在:述加熱器之通電下’在進行前述收容室内之減 [义别述收合至内之壓力之檢測值達到㈣^值時,切 斷前述加熱器之通電之步驟; 在前述加熱器斷電後,進一步進行前述收容室内之減 壓i前述收容室内之壓力之檢測值達到第沒定值時,接 通刖述加熱器之通電之步驟者。 如請求項5之基板之乾燥方法,其中 電流值為80 mA。 在切斷前述加熱器之通電之步驟中 106137-971001.doc -2- 13044658·如請求項6之基板之乾燥方法,其中 在切斷刚述加熱器之通電之步驟中,壓力值為⑽。“。 9.如請求項5或6之基板之乾燥方法,其中 在接通前述加執 …、盗之通電之步驟中,壓力值為1 Pa。 -一種裝置之製造方法,其特徵在於其係利用液 在基板上形成畫素者,且 、电 使用如請求項5至9中任-項之乾燥方法者。106137-971001.doc
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