JP2003130623A - 面積ばらつきの計測方法及び光学濃度の計測方法 - Google Patents

面積ばらつきの計測方法及び光学濃度の計測方法

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JP2003130623A
JP2003130623A JP2001325141A JP2001325141A JP2003130623A JP 2003130623 A JP2003130623 A JP 2003130623A JP 2001325141 A JP2001325141 A JP 2001325141A JP 2001325141 A JP2001325141 A JP 2001325141A JP 2003130623 A JP2003130623 A JP 2003130623A
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light
color filter
optical density
measuring
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Yoshitomo Marumoto
義朋 丸本
Makoto Akahira
誠 赤平
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】しきいで囲まれた領域内にある、光学濃度を持
った物質の量を容易に計測することができる光学濃度の
計測方法を提供する。 【解決手段】しきいで囲まれた領域内に配置された光学
濃度を持った物質の光学濃度を計測する方法であって、
しきいで囲まれた領域を含む所定範囲を第1の波長領域
の光で照明する第1の照明工程と、第1の照明工程中
に、所定範囲を透過した光、または所定範囲で反射され
た光の光量を検出する第1の検出工程と、所定範囲を第
2の波長領域の光で照明する第2の照明工程と、第2の
照明工程中に、所定範囲を透過した光、または所定範囲
で反射された光の光量を検出する第2の検出工程と、第
1の検出工程の検出結果と、第2の検出工程の検出結果
との差分に基づいて、光学濃度を持った物質の光学濃度
を算出する算出工程とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はしきいで囲まれた領
域内にある、光学濃度を持った物質の濃度を計測する方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在インクジェット技術は、従来のイン
クジェットプリンタ以外の用途のほかにも、例えば、カ
ラーフィルタ製造工程、有機EL製造工程、半導体素子
製造工程などにつかわれるようになっている。とくに液
晶表示装置用のカラーフィルタの製造ではインクジェッ
ト法は多くの利点がある。
【0003】一般に液晶表示装置は、パーソナルコンピ
ュータ、ワードプロセッサ、パチンコ遊戯台、自動車ナ
ビゲーションシステム、小型テレビ等に搭載され、近年
需要が増大している。しかしながら、液晶表示装置は価
格が高く、液晶表示装置に対するコストダウン要求は年
々強まっている。
【0004】液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ
ーは透明基板上に赤(R)、緑(G)、青(B)などの
着色されたフィルターエレメントを配列して構成され、
さらにこれらの各フィルタエレメントの周囲には液晶表
示装置の表示コントラストを高めるために、光を遮光す
るブラックマトリックス(BM)が設けられている。B
Mに関してはCr金属薄膜を使用したものから、近年は
黒色樹脂を使用した樹脂BMもある。
【0005】フィルタエレメントを含む着色層の上に
は、平滑性の改善などのためにアクリル系樹脂やエポキ
シ系樹脂からなる厚さ0.5〜2μmのオーバーコート
層(保護層)が形成され、さらにこの上に透明電極(I
TO)膜が形成される。
【0006】カラーフィルタのフィルターエレメントを
着色する方法としては、従来から種々の方法が知られて
おり、これらには染色法、顔料分散法、電着法、印刷法
等がある。
【0007】染色法とは、ガラス基板上に染色用の材料
である水溶性高分子材料を塗布しフォトリソグラフィを
用いて所定の形状にパターンニングした後これを染色液
に浸漬し着色する工程をR・G・Bの各色繰り返しカラ
ーフィルターを得る方法である。
【0008】顔料分散法とは、透明基板上に感光性樹脂
材中に色材顔料を分散した層をスピンコーターなどによ
り形成し、これをパターンニングする工程をR・G・B
の各色につき夫々1回づつ、合計3回繰り返すことによ
りR・G・Bのカラーフィルターを得る方法である。
【0009】電着法とは、透明基板上に透明電極をパタ
ーンニングし顔料、樹脂、電解液等の電着塗装液に浸漬
し着色する工程をR・G・Bの各色繰り返しカラーフィ
ルターを得る方法である。
【0010】印刷法とは、顔料系色材が分散された熱硬
化型樹脂をオフセット印刷により着色する工程をR・G
・Bの各色繰り返しカラーフィルターを得る方法であ
る。
【0011】上記のカラーフィルターの製造方法での共
通点は、R・G・Bの3色を着色するために同一の工程
を繰り返す必要があり、コストがかかることである。ま
た工程数が多くなることで製造歩留が低下するという問
題がある。
【0012】これらの欠点を補うべく、特開昭59−7
5205号公報、特開昭63−235901号公報ある
いは特開平1−217320号公報等には、インクジェ
ット方式を用いたカラーフィルターの製造方法が開示さ
れている。インクジェット方式はR・G・Bの色材を含
有する着色材をインクジェットヘッドを用いて透明基板
上に噴射して着色し、乾燥定着させ、フィルターエレメ
ントを形成する方法である。カラーフィルターに必要な
R・G・B三色を同時に形成することが可能なことから
製造工程の簡略化とコストダウン効果を得ることが出来
る。また、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法等に比
べ工程数が少ないことから製造歩留の向上が達成でき
る。
【0013】このようなインクジェット方式によりカラ
ーフィルタの製造を行う場合、一定量のインクを所望の
画素に正確に打ち込む必要がある。カラーフィルタ画素
は、各画素が均一に着色されていなければ、色むら不良
となる。実際には、インクジェットヘッドから吐出され
るインク量を精密に制御しながら着色していく。このと
き実際にカラーフィルタ画素にうちこまれたインク量を
正確に計測し、この計測データをインクジェット吐出コ
ントローラにフィードバックすることでインク量制御を
行うことができる(色むら補正)。
【0014】このように、一般的なインクジェット法の
工業的な応用では、そのインク吐出量を正確に計測する
ことが非常に重要となってきている。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、以下のような問題があった。
【0016】例えば、カラーフィルタ製造の場合、カラ
ーフィルタ画素にうちこまれたインク量を計測する場
合、BMの開口面積の違いによる測定の信頼性の低下が
ある。これによりカラーフィルタの色むら品質の低下に
よる歩留まりの低下が問題となっている。この影響を回
避するためには、BM開口面積を測定する工程が必要と
なり、工程数が増えることによる製造コストの上昇が懸
念される。
【0017】つまり、しきいに囲まれた領域内の物質の
量を、すばやく簡潔な方法で見積もるための有効な方法
がない。
【0018】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的は、しきいで囲まれた複数
の領域の面積ばらつきを容易に計測することができる面
積ばらつきの計測方法を提供することである。
【0019】また、本発明の他の目的は、しきいで囲ま
れた領域内にある、光学濃度を持った物質の量を容易に
計測することができる光学濃度の計測方法を提供するこ
とである。
【0020】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するために、本発明に係わる面積ばらつきの
計測方法は、しきいで囲まれた複数の領域の面積ばらつ
きを計測する方法であって、前記しきいで囲まれた複数
の領域を含む所定範囲を少なくとも1種類の波長領域の
光で照明する照明工程と、前記所定範囲を透過した光、
または前記所定範囲で反射された光の光量を検出する検
出工程と、該検出工程で検出された光量に基づいて、前
記しきいで囲まれた複数の領域の面積ばらつきを算出す
る算出工程とを具備することを特徴としている。
【0021】また、この発明に係わる面積ばらつきの計
測方法において、前記しきいで囲まれた領域とは、カラ
ーフィルタの画素の開口領域であることを特徴としてい
る。
【0022】また、この発明に係わる面積ばらつきの計
測方法において、前記しきいで囲まれた領域とは、有機
ELディスプレイの画素の開口領域であることを特徴と
している。
【0023】また、本発明に係わる光学濃度の計測方法
は、しきいで囲まれた領域内に配置された光学濃度を持
った物質の光学濃度を計測する方法であって、前記しき
いで囲まれた領域を含む所定範囲を第1の波長領域の光
で照明する第1の照明工程と、該第1の照明工程中に、
前記所定範囲を透過した光、または前記所定範囲で反射
された光の光量を検出する第1の検出工程と、前記所定
範囲を第2の波長領域の光で照明する第2の照明工程
と、該第2の照明工程中に、前記所定範囲を透過した
光、または前記所定範囲で反射された光の光量を検出す
る第2の検出工程と、前記第1の検出工程の検出結果
と、前記第2の検出工程の検出結果との差分に基づい
て、前記光学濃度を持った物質の光学濃度を算出する算
出工程とを具備することを特徴としている。
【0024】また、本発明に係わる光学濃度の計測方法
において、前記光学濃度を持った物質とは、インクジェ
ット法により形成された物質であることを特徴としてい
る。
【0025】また、本発明に係わる光学濃度の計測方法
において、前記しきいで囲まれた領域とは、カラーフィ
ルタ画素の開口領域であることを特徴としている。
【0026】また、本発明に係わる光学濃度の計測方法
において、前記しきいで囲まれた領域とは、有機ELデ
ィスプレイの画素の開口領域であることを特徴としてい
る。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施形態
について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0028】以下では、本発明の計測方法をカラーフィ
ルタの製造工程に適用した一実施形態について説明す
る。
【0029】[カラーフィルタ着色装置の概要]図1は
インクジェット法によるカラーフィルターの製造装置の
構成を示す概略図であり着色工程の作業中の状態を示
す。
【0030】図1において、51は装置架台、52は架
台51上に配置されたXYθステージ、53はXYθス
テージ52上にセットされたカラーフィルター基板、5
4はカラーフィルター基板53上に形成されるカラーフ
ィルター、55はカラーフィルター54の着色を行う赤
色(R)、緑色(G)、青色(B)の各インクジェット
ヘッド、56はラインセンサもしくはエリアセンサを組
み込んだCCDカメラであり、各ヘッドからのインクの
着弾位置を検出することができる。また、基板上に吐出
されたインクによる描画パターンもしくは着色された各
フィルタエレメントを読み取ることにより、各ヘッドに
不吐出・ショボ等の吐出異常を持つノズルが存在するか
否かを検出することができる。57はカメラ56により
取り込んだデータを処理し、不吐出ノズルの有無や着弾
位置等を検査する画像処理装置、58はカラーフィルタ
ー製造装置90の全体動作を制御するコントローラー、
59はコントローラー58の表示部、60はコントロー
ラーの操作部であるキーボードを示す。
【0031】図2はカラーフィルター製造装置90の制
御コントローラーの構成図である。パソコン59は制御
コントローラー58の入力手段として機能し、表示部6
2は製造の進行状況及びヘッドの異常の有無等の情報を
表示する表示部、また、60はカラーフィルター製造装
置90の動作等を指示する操作部(キーボード)であ
る。
【0032】コントローラ58はカラーフィルター製造
装置90の全体動作を制御するものであり、65はティ
ーチングペンダント59とのデータ受け渡しを行うイン
ターフェース、66はカラーフィルター製造装置90の
制御を行うCPU、67はCPU66を動作させるため
のプログラムを記憶しているROM、68はCPUのワ
ークエリアとして使用され、各種データを記憶すると共
に、製造条件に関する情報(吐出駆動電圧、走査回数、
副走査量等)を記憶するためのRAM、70はカラーフ
ィルターの各フィルタエレメント内へのインクの吐出を
制御する吐出制御部、71はカラーフィルター製造装置
90のXYθステージ52の動作を制御するステージ制
御部、90はコントローラ58に接続され、その指示に
したがって動作するカラーフィルター製造装置を示して
いる。
【0033】[インクジェットヘッドの説明]図3はイ
ンクジェットヘッドIJHの一般的な構造を示す図であ
る。
【0034】図1の装置においては、インクジェットヘ
ッド55はR,G,Bの3色に対応して3個設けられて
いるが、これらの3個のヘッドは夫々同一の構造である
ので、図3にはこれらの3個ヘッドのうち1個の構造を
代表して示している。
【0035】図3において、インクジェットヘッドIJ
Hはインクを加熱するための複数のヒータ102が形成
された基板であるヒータボード104と、このヒータボ
ード104の上に被せられる天板106とから概略構成
されている。天板106には複数の吐出口108が形成
されており吐出口108の後方には、この吐出口108
に連通するトンネル状の液路110が形成されている。
各液路110は、隔壁112により隣りの液路と隔絶さ
れている。各液路110はその後方において1つのイン
ク液室114に共通に接続されており、インク液室11
4にはインク供給口116を介してインクが供給され、
このインクはインク液室114から夫々の液路110に
供給される。
【0036】ヒータボード104と、天板106とは各
液路110に対応した位置に各ヒータ102が来る様に
位置合わせされて図3の様な状態に組み立てられる。図
3においては2つのヒータ102しか示されていないが
ヒータ102は夫々の液路110に対応して1つずつ配
置されている。図3の様に組み立てられた状態でヒータ
102に所定の駆動パルスを供給すると、ヒータ102
上のインクが沸騰して気泡を形成する。この気泡の体積
膨張によりインクが吐出口108から押し出されてイン
クが吐出される。従ってヒータ102に加える駆動パル
スを制御することで気泡の大きさを調節し吐出口から吐
出されるインク体積をコントロールすることが可能であ
る。制御するパラメータとしてはヒータに供給する電力
等がある。
【0037】[インク吐出量の制御方法]図4は、この
ようにヒータに加える電力を変化させてインクの吐出量
を制御する方法を説明するための図である。
【0038】この実施形態では、インクの吐出量を調整
するために、ヒータ102に2種類の定電圧パルスを印
加する様になされている。2つのパルスとは、図4に示
す様にプレヒートパルスとメインヒートパルス(以下、
単にヒートパルスという)である。プレヒートパルス
は、実際にインクを吐出するに先立ってインクを所定温
度に温めるためのパルスであり、インクを吐出するため
に必要な最低のパルス幅t5よりも短い値に設定されてい
る。従って、このプレヒートパルスによりインクが吐出
されることはない。プレヒートパルスをヒータ102に
加えるのは、インクの初期温度を、一定の温度にまで上
昇させておくことにより、後に一定のヒートパルスを印
加したときのインク吐出量を常に一定にするためであ
る。また、逆にプレヒートパルスの長さを調節すること
により、予めインクの温度を調節しておき、同じヒート
パルスが印加された場合でも、インクの吐出量を異なら
せることも可能である。また、ヒートパルスの印加に先
立ってインクを暖めておくことにより、ヒートパルスを
印加した時のインク吐出の時間的な立ち上がりを早めて
応答性を良くする働きを持っている。
【0039】一方、ヒートパルスは、実際にインクを吐
出させるためのパルスであり、上記のインクを吐出する
ために必要な最低のパルス幅t5よりも長く設定されてい
る。ヒータ102が発生するエネルギーは、ヒートパル
スの幅〈印加時間〉に比例するものであるため、このヒ
ートパルスの幅を調節することのより、ヒータ102の
特性のバラツキを調節することが可能である。
【0040】なお、プレヒートパルスとヒートパルスと
の間隔を調節して、プレヒートパルスによる熱の拡散状
態を制御することによってもインクの吐出量を調節する
ことが可能である。
【0041】上記の説明から分かる様に、インクの吐出
量は、プレヒートパルスとヒートパルスの印加時間を調
節することによっても可能であるし、またプレヒートパ
ルスとヒートパルスの印加間隔を調節することによって
も可能である。従って、プレヒートパルス及びヒートパ
ルスの印加時間やプレヒートパルスとヒートパルスの印
加間隔を必要に応じて調節することにより、インクの吐
出量やインクの吐出の印加パルスに対する応答性を自在
に調節することが可能となる。特に、カラーフィルタを
着色する場合、色ムラの発生を抑制する意味で、各フィ
ルタエレメント間や1つのフィルタエレメント内での着
色濃度(色濃度)を略均一化することが望ましく、その
ために各ノズルからのインク吐出量を同じにするように
制御する場合がある。ノズル毎のインク吐出量が同じで
あれば、各フィルタエレメントに打ち込まれるインク量
も同じになるので、フィルタエレメント間での着色濃度
を略同一にできる。また、1つのフィルタエレメント内
でのムラも低減できる。従って、各ノズル毎のインク吐
出量を同一に調節したいときは、上記したインク吐出量
の制御を行えばよい。
【0042】[カラーフィルタの製造工程―受容層タイ
プ]図5は、本実施形態におけるカラーフィルタの製造
方法の一例を説明するための図である。本実施形態にお
いては、基板1としてガラス基板を用いているが、液晶
用カラーフィルタとしての透明性、機械的強度等の必要
特性を有するものであればガラス基板に限定されるもの
ではない。例えば、プラスチック基板でも適用可能であ
る。
【0043】図5(a)は、光透過部9と、斜光部10
を構成するブラックマトリックス(BM)2とを備えた
ガラス基板1を示す。尚、このブラックマトリックス2
は必ずしも必要とはしない。
【0044】まず、ブラックマトリックス2が設けられ
た基板1上に、それ自身はインク受容性に乏しいが、あ
る条件下(例えば光照射、または光照射と加熱)で親イ
ンク化されると共に、ある条件下で硬化する特性を有す
る樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行っ
て樹脂組成物層3を形成する(図5(b))。尚、この樹
脂組成物層3の形成には、スピンコート、ロールコー
ト、バーコート、スプレーコート、ディップコート等の
塗布方法を用いることができ、特に限定されるものでは
ない。
【0045】次に、フォトマスク4を使用して光透過部
9上の樹脂層にパターン露光を行うことにより、マスク
されていない樹脂層部分を親インク化させて(図5
(c))、樹脂組成物層3に親インク化された部分6
(露光された部分)と親インク化されていない部分5
(マスクされた部分)を形成する(図5(d))。
【0046】その後、インクジェットヘッド55により
R(赤)、G(緑)、B(青)の各色のインクを樹脂組
成物層3に吐出して着色し(図5(e))、更に必要に応
じてインクの乾燥を行う。
【0047】尚、R、G、Bの各色に着色される部分の
ことをフィルタエレメントといい、このフィルタエレメ
ントはカラーフィルタとして機能する部分である。ま
た、インクジェット方式としては、熱エネルギーによる
方式あるいは機械エネルギーにようる方式が挙げられる
が、いずれの方式も好適に用いることができる。また使
用するインクとしては、インクジェット用として用いる
ことができるものであれば特に限られるものではなく、
インク着色材としては、各種染料あるいは顔料の中か
ら、R、G、Bの各画素に要求される透過スペクトルに
適合したものが適宜選択される。
【0048】次いで、光照射または光照射と加熱処理を
行って、その着色された樹脂組成物層3を硬化させ、必
要に応じてその表面に保護層8を形成する(図5
(f))。この樹脂組成物層3を硬化させるには、先の
親インク化処理(図5(c))における条件とは異なる条
件、例えば光照射における露光量を大きくするか、加熱
条件を変えるか、もしくは光照射と加熱処理を併用する
等の方法が採用できる。
【0049】次に本実施形態で適用可能であって、上記
カラーフィルタの製造方法とは異なる製造方法を図6を
用いて説明する。尚、図6において図5と同符号のもの
は、図5の部材と同部材をさす。
【0050】図6(a)は、光透過部9と遮光部である
ブラックマトリックス2とを有するガラス基板1を示
す。まず、ブラックマトリックス2の形成された基板1
上に光照射又は光照射と加熱により硬化可能であり、且
つインク受容性を有する樹脂組成物を塗布し、必要に応
じてプリベークを行って樹脂層3を形成する(図6
(b))。この樹脂層3の形成には、スピンコート、ロ
ールコート、バーコート、スプレーコート、ディップコ
ート等の塗布方法を用いることができ、特に限定される
ものではない。
【0051】次に、ブラックマトリックス2により遮光
される部分の樹脂層3をフォトマスク4を使用して予め
パターン露光を行うことにより、樹脂層3の一部を硬化
させてインクを吸収しない部位5(非着色部位)を形成
し(図6(c))、その後インクジェットヘッド55を用
いて、R、G、Bの各色を一度に着色し(図6(d))、
必要に応じて乾燥を行う。
【0052】このパターン露光の際に使用されるフォト
マスク4としては、ブラックマトリックス2による遮光
部分を硬化させるための開口部を有するものを使用す
る。この際、ブラックマトリックス2に接する部分での
着色剤の色抜けを防止するために、比較的多くのインク
を付与することが必要である。そのためにブラックマト
リックス2の(遮光)幅よりも狭い開口部を有するマス
ク4を用いることが好ましい。着色に用いるインクとし
ては、染料系、顔料系共に用いることが可能であり、ま
た液状インク、ソリッドインク共に使用可能である。
【0053】本実施形態で使用する硬化可能な樹脂組成
物としては、インク受容性を有し、且つ光照射又は光照
射と加熱の少なくとも一方の処理により硬化し得るもの
であればいずれも使用可能であり、例えばアクリル樹
脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース
誘導体あるいはその変性物等が挙げられる。
【0054】これらの樹脂を光あるいは光と熱により架
橋反応を進行させるために光開始剤(架橋剤)を用いる
ことも可能である。光開始剤としては、重クロム酸塩、
ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始
剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。またこれら
の光開始剤を混合して、あるいは他の増感剤と組み合わ
せて使用することもできる。なお、架橋反応をより進行
させるために光照射の後に熱処理を施してもよい。
【0055】これらの組成物を含む樹脂層は、非常に耐
熱性、耐水性等に優れており、後工程における高温ある
いは洗浄工程に十分耐え得るものである。
【0056】また、本実施形態で使用するインクジェッ
ト方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換
体を用いたバブルジェット(登録商標)タイプ、あるい
は圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能
であり、着色面積及び着色パターンは任意に設定するこ
とができる。
【0057】また、本例では基板上にブラックマトリッ
クス2が形成された例を示しているが、このブラックマ
トリックスは、硬化可能な樹脂組成物層を形成後、ある
いは着色後に樹脂層上に形成されたものであっても特に
問題はなく、その形態は本例に限定されるものではな
い。また、その形成方法としては、基板1上にスパッタ
もしくは蒸着により金属薄膜を形成し、フォトリソ工程
によりパターニングすることが好ましいが、これに限定
されるものではない。
【0058】次いで光照射のみ、熱処理のみ、又は光照
射及び熱処理を行って硬化可能な樹脂組成物を硬化させ
(図6(e))、必要に応じて保護層8を形成(図6
(f))する。なお、図中hvは光の強度を示し、熱処理
の場合は、hvの光の代わりに熱を加える。また保護層8
としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併
用タイプの第2の樹脂組成物を用いて形成するか、ある
いは無機材料を用いて蒸着またはスパッタによって形成
することができ、カラーフィルタとした場合の透明性を
有し、その後のITO形成プロセス、配向膜形成プロセ
ス等に十分耐えうるものであれば使用可能である。
【0059】尚、上記の図5及び図6の例では、ガラス
基板上にインクを受容するための樹脂組成物層3を設け
た場合を説明しているが本発明はこれには限定されず、
直接ガラス基板1上にインクを付与して各フィルタエレ
メントを形成してもよい。これを図7を参照しながら以
下に説明する。
【0060】[カラーフィルタの製造工程―受容層レス
タイプ]図7は、本実施形態で適用可能であって、上記
カラーフィルタの製造方法とは異なる製造方法を示した
ものである。尚、図7において図5と同符号のものは、
図5の部材と同部材をさす。
【0061】図7(a)は光透過性の基板1上に撥イン
ク性を有する隔壁12を形成し、インクジェットヘッド
55により硬化性インク14を付与する工程を示したも
のである。本発明において、隔壁12は硬化性インク1
4を受ける凹部を形成し、且つ隣接するカラーフィルタ
間で異なる色のインクの混色を防止するために設けられ
る部材である。隔壁12は例えば感光性レジストをパタ
ーニングして容易に形成することができが、該隔壁をブ
ラックマトリックスやブラックストライプで兼用するこ
ともでき、その場合には黒色レジストをパターニングす
れば良い。
【0062】本発明において、隔壁12は光透過性基板
1に直接形成しても良いが、必要に応じて他の機能を有
する層を形成した基板、例えばTFTアレイを作製した
アクティブマトリックス基板上に形成しても良い。いず
れの場合にも、硬化性インクの拡散性を高めるために、
カラーフィルタ形成面表面に何らかの表面処理を施して
も良い。
【0063】本発明に用いられる硬化性インク14は、
光照射又は熱処理、或いはこれらの併用によって硬化す
るインクである。硬化性インク14としては、液状イン
ク、ソリッドインク共に使用可能であり、また、顔料
系、染料系のいずれも用いることができる。インク14
中には、光照射又は熱処理、或いはこれらの併用によっ
て硬化する樹脂成分、色材、有機溶剤及び水を含有す
る。
【0064】硬化成分としては、市販の樹脂や硬化剤を
用いることができ、具体的には、アクリル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、メラミン樹脂等が好適に用いられる。
【0065】各フィルタエレメントに硬化性インク14
を付与した後(図7(b))、必要に応じて乾燥処理を
行い、光照射又は熱処理、或いはこれらの併用によって
インクを硬化し、カラーフィルタを形成する(図7
(c))。その後、必要に応じて保護膜8を形成する
(図7(d))。
【0066】[本実施形態の特徴部分]次に本実施形態の
特徴的な部分であるカラーフィルタの画素インク量計測
について説明する。
【0067】本実施形態で作成するカラーフィルタは、
1280×1024×RGB3色の画素が規則正しく並んだ構成
になっている。インクジェット法ではこれらの3色の画
素をインクジェットヘッドから吐出されたインクによっ
て着色する。図8にカラーフィルタ画素を拡大した模式
図を示す。501はBMとよばれる遮光部である。50
2はR着色部、503はG着色部、504はB着色部で
あり、それぞれインクジェットヘッドから吐出された各
色のインクで形成されている。
【0068】カラーフィルタ画素は、各画素が均一に着
色されていなければ、色むら不良となる。よって、イン
クジェットヘッドから吐出されるインク量を精密に制御
しながら着色していく。このとき実際にカラーフィルタ
画素にうちこまれたインク量を正確に計測し、この計測
データをインクジェット吐出コントローラにフィードバ
ックすることでインク量制御を行うことができる(色む
ら補正)。
【0069】色むら補正のインク量計測工程は、図9に
示すような測定装置で行う。基板ステージ514とそれ
をコントロールするステージコントローラ517、CC
Dカメラ512、画像処理装置515、光源511、照
明系513、制御用コンピュータ516を備えている。
照明系513から光をカラーフィルタ(CF)基板の画
素に照射し、その透過光をCCDカメラ512で撮影す
る。基板ステージ514を動かし、CCDカメラ512
からのデータをAD変換機能を有するフレームグラバー
ボードにとこみ、例えばR画素の計測なら図10に示し
た計測領域541の輝度値を合計することにより画素透
過率を計算する。画素透過率の大小で各画素にうちこま
れたインク量を推定する。
【0070】一方、BMはフォトリソプロセスにより形
成されたものであるが、カラーフィルタ画素領域は大面
積であるため、露光ムラなどにより厳密にいえば、同一
カラーフィルタ内にも各画素間における開口面積ばらつ
きがある。図11に着色前のカラーフィルタのBMの開
口面積を測定した結果を示す。測定は図51に示した方
法と同様に、画素を透過してくる光の量を検出すること
により行った。画素が着色されていない場合測定される
光量は、BMでかこまれた領域すなわち開口面積Sに比
例した値となる。図11より、同一のカラーフィルタ内
の画素の開口面積にばらつきがあることがわかる。ここ
で測定範囲は図12に示した部分の測定データである。
【0071】この開口面積のばらつきは、色むら補正時
の画素インク量計測工程に深刻な影響を与える。着色工
程前に開口面積を測定することでインク量計測工程の計
測精度を向上させて、色むら不良による歩留まり低下を
防ぐことはできるが、製造工程数の増加、スループット
の低下をまねく。
【0072】そこで次のような計測方法を用いた。透過
光源からカラーフィルタ画素を透過してきた光をプリズ
ムで380〜730nmの光を4領域波長域に分光し、
それぞれ4個のCCD素子に取り込む。CCDカメラの
データはAD変換機能を有するフレームグラバーボード
に4面独立にとりこまれる。光源装置にはハロゲンラン
プを用いた。
【0073】ここで、着色画素iを透過してくる光量Ii
は、 Ii=Si×Ti×I0 で表すことができる。I0は計測領域を照らす光源の入射
光量、Tiは着色層の透過率、Siは画素iの開口面積であ
る。ここでIiは開口面積に比例することがわかる。また
Tiは打ち込まれたインクの量によって変わる値であり、
インク量が多い(着色層が光学的に厚い)ほど小さくな
る。Tiは一般に着色の変化つまりインク量の変化にたい
して比例の関係にない(Lambert-Beer's Law)。
【0074】図13にインク量を実際に変化させたとき
の透過率データを示す。特に着色インクの透過率が低い
波長にたいしては、急激に減衰する。つまり使用する測
定波長領域によりインク量変化に対する感度がかわる。
今回IiにおけるSiとTiの寄与度を、計測波長を変えるこ
とにより変化させ、インク量の計測と開口面積の計測を
同時におこなった。ここで測定波長の変化は、上記4面
のCCDからのデータを選択して使うことによっておこ
なう。
【0075】図10に示したカラーフィルタのR画素を
着色し計測を行った。図14にR画素の測定データ1を
示す。このデータは530〜630nm付近の波長を主
成分としたCCDのデータである。この波長領域では、
Rのインク量の変化に対して十分感度をもっており、色
むらに関するデータを十分含んでいると考えられる。し
かしながら、このデータは、開口面積のばらつきも含ん
でおり、このままでは色むら補正には使えない。
【0076】図15は630〜700nm付近の波長を
主成分としたCCDで計測したデータ(測定データ2)
である。この波長領域では、Rのインク量の変化による
光量の変化は少なく、つまりTiの変化が少ない。そのた
め、測定データはSiの変化の割合が大きく反映されてい
ると考えられる。実際、図11と図15を比較するとよ
い一致を示している。
【0077】よって、図14におけるデータから、図1
5のデータを差し引くことにより色ムラデータが得られ
ることがわかる。この方法により色むら補正を行い、色
むら品質のよいカラーフィルタを作成できた。
【0078】このように、選択するCCDデータの組み
合わせを変えることにより、測定データにおける開口面
積の寄与率、インク量の寄与率を選択できる。
【0079】カラーフィルタ以外でも、光学濃度を持っ
た物質の精密な測定に有効である。また本実施形態では
可視領域のデータのみを使用したが、それ以外でも仕切
りの物質が透過させない波長領域ならばどの領域を用い
てもかまわない。
【0080】また、本実施形態では1つの波長領域のデ
ータから、しきい面積、つまり開口面積を求めたが、複
数の波長領域のデータから類推することも可能である。
【0081】また、本実施形態ではプリズムにより、複
数の波長領域のデータを計測したが、時間分割による光
学フィルタの入れ替えでおこなっても、まったく同じこ
とである。例えば、画素測定において、光学フィルタの
入れ替えと、CCDの取り込みを同期させることによっ
て、複数の波長領域のデータを計測することも可能であ
る。さらに複数の光源を用い、その光路切り替えをCC
Dの取り込みと同期させることも有効である。
【0082】また、本実施形態では、カラーフィルタの
透過率を計測したが、これに限定されることなく、カラ
ーフィルタの反射率を計測することによりインク量を検
出するようにしてもよい。
【0083】図16〜図18は上記のカラーフィルター
を組み込んだカラー液晶表示装置30の基本構成を示す
断面図である。カラー液晶表示装置は、一般的にカラー
フィルター基板1と対向基板21を合わせ込み液晶化合
物18を封入することにより形成される。液晶表示装置
の一方の基板21の内側にTFTと透明画素電極20が
マトリクス状に形成される。又、もう一方の基板1の内
側には画素電極に対向する位置にR,G,Bの色材料が
配列する様にカラーフィルター54が設置され、その上
に透明な対向電極16が一面に形成される。ブラックマ
トリクス2は通常カラーフィルター基板1側に形成され
るが(図16参照)、ブラックマトリクスオンアレイタ
イプの液晶パネルにおいては対向するTFT基板側に形
成される(図17参照)。
【0084】更に両基板の面内には配向膜19が形成さ
れており、これをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることが出来る。又、夫々のガラ
ス基板の外側には偏光板11、22が接着されており、
液晶化合物18はこれらのガラス基板の2〜5μm程度
の隙間に充填される。又、バックライトとしては蛍光灯
と散乱板の組み合わせが一般的に用いられており、液晶
化合物をバックライト光の透過率を変化させる光シャッ
ターとして機能させることで表示を行う。
【0085】又、図18に示す様に画素電極20上に着
色部を形成しカラーフィルターとして機能させる様にし
ても良い。
【0086】カラーフィルターを構成する着色部はガラ
ス基板上に形成されることに限定されるものでは無い。
尚、図18に示す形式においては画素電極上にインク受
容層を形成し、この受容層にインクを付与する場合と画
素電極上に色材料を混入した樹脂インクを用いて着色す
る直打ちの場合がある。
【0087】このような液晶表示装置を情報処理装置に
適用した場合の例を図19乃至図21を参照して説明す
る。
【0088】図19は上記の液晶表示装置をワードプロ
セッサ、パーソナルコンピュータ、ファクシミリ装置、
複写装置として機能を有する情報処理装置に適用した場
合の概略構成を示すブロック図である。
【0089】図中1801は装置全体の制御を行う制御
部でマイクロプロセッサ等のCPUや各種I/Oポート
を備え、各部に制御信号やデータ信号等を出力したり、
各部よりの制御信号やデータ信号を入力して制御してい
る。1802はディスプレイ部で、この表示画面には各
種メニューや文書情報及びイメージリーダー1807で
読み取ったイメージデータ等が表示される。1803は
ディスプレイ部1802上に設けられた透明な感圧式の
タッチパネルで、指等によりその表面を押圧すること
で、ディスプレイ部1802上での項目入力や座標位置
入力等を行うことが出来る。
【0090】1804はFM(Frequency Modulatio
n)音源部で、音楽エディタ等で作成された音楽情報を
メモリ部1810や外部記憶装置1812にデジタルデ
ータとして記憶しておき、それらメモリ等から電気信号
はスピーカー部1805により可聴音に変換される。プ
リンタ部1806はワードプロセッサ、パーソナルコン
ピュータ、ファクシミリ装置、複写装置の出力端末とし
て用いられる。
【0091】1807は原稿データを光電的に読み取っ
て入力するイメージリーダ部で、原稿の搬送経路中に設
けられており、ファクシミリ原稿や複写原稿の他各種原
稿の読み取りを行う。
【0092】1808はイメージリーダ部1807で読
み取った原稿データのファクシミリ送信や送られてきた
ファクシミリ信号を受信して復号するファクシミリ(F
AX)の送受信部であり、外部とのインターフェイス機
能を有する。1809は通常の電話機能や留守番電話機
能の各種電話機能を有する電話部である。
【0093】1810はシステムプログラムや、その他
のアプリケーションプログラム等や文字フォント及び辞
書等を記憶するROMや外部記憶装置1812からロー
ドされたアプリケーションプログラムや文字情報、更に
はビデオRAM等を含むメモリ部である。1811は文
字情報や各種コマンド等を入力するキーボード部であ
る。1812はフロッピー(登録商標)ディスクやハー
ドディスク等を記憶媒体とする外部記憶装置で、この外
部記憶装置1812には文書情報や音楽あるいは音声情
報、ユーザーアプリケーションプログラム等が格納され
る。
【0094】図20は図19に示す情報処理装置の模式
的外観図である。
【0095】図中1802は上記の液晶表示装置を利用
したフラットパネルディスプレイで各種メニューや図形
情報及び文書情報等を表示する。このディスプレイ18
02上ではタッチパネル1803の表面は指等で押圧す
ることにより座標入力や項目指定入力を行うことが出来
る。1902は装置が電話機として機能する時に使用さ
れているハンドセットである。キーボード1903は本
体と脱着可能にコードを介して接続されており、各種文
書機能や各種データ入力を行うことが出来る。又、この
キーボード1811には各種機能キー1904等が設け
られている。1905は外部記憶装置1812へのフロ
ッピーディスクの挿入口である。
【0096】1806はイメージリーダ部1807で読
み取られる原稿を載置する用紙載置部で、読み取られた
原稿は装置後部より排出される。又、ファクシミリ受信
等においては、インクジェットプリンタ1806よりプ
リントされる。
【0097】上記情報処理装置をパーソナルコンピュー
タやワードプロセッサとして機能する場合、キーボード
部1811から入力された各種情報が制御部1801に
より所定のプログラムに従って処理されプリンタ部18
06に受信画像として出力される。
【0098】又、複写装置として機能する場合イメージ
リーダ部1807によって原稿を読み取り、読み取られ
た原稿データが制御部1801を介してプリンタ部18
06に複写画像として出力される。尚、ファクシミリ装
置の受信機として機能する場合、イメージリーダー部1
807によって読み取られた原稿データは、制御部18
01により所定のプログラムに従って送信処理された
後、FAX送受信部1808を介して通信回線に送信さ
れる。
【0099】本発明は、特にインクジェット記録方式の
中でも、インク吐出を行わせるために利用されるエネル
ギーとして熱エネルギーを発生する手段(例えば電気熱
変換体やレーザ光等)を備え、前記熱エネルギーにより
インクの状態変化を生起させる方式のプリント装置につ
いて説明したが、かかる方式によれば記録の高密度化、
高精細化が達成できる。
【0100】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第4723129号明細書、同第4740796号明細書
に開示されている基本的な原理を用いて行うものが好ま
しい。この方式はいわゆるオンデマンド型、コンティニ
ュアンス型のいずれにも適用可能であるが、特に、オン
デマンド型の場合には、液体〈インク〉が保持されてい
るシートや液路に対応して配置されている電気熱変換体
に、記録情報に対応していて膜沸騰を超える急速な温度
上昇を与える少なくとも1つの駆動信号を印加すること
によって、電気熱変換体に熱エネルギーを発生せしめ、
記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさせて、結果的に
この駆動信号に1対1で対応した液体〈インク〉内の気泡
を形成できるので有効である。この気泡の成長、収縮に
より吐出用開口を介して液体〈インク〉を吐出させて、
少なくとも1つの滴を形成する。この駆動信号をパルス
形状すると、即時適切に気泡の成長収縮が行われるの
で、特に応答性に優れた液体〈インク〉の吐出が達成で
き、より好ましい。
【0101】このパルス形状の駆動信号としては、米国
特許第4463359号明細書、同第4345262号明細書に記載さ
れているようなものが適している。なお、上記熱作用面
の温度上昇率に関する発明の米国特許第4313124号明細
書に記載されている条件を採用すると、さらに優れた記
録を行うことができる。
【0102】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口、液路、電気熱変換体
の組み合わせ構成(直線状液流路または直角液流路)の
他に熱作用面が屈曲する領域に配置されている構成を開
示する米国特許第4558333号明細書、米国特許第4459600
号明細書を用いた構成も本発明に含まれるものである。
加えて、複数の電気熱変換体に対して、共通するスロッ
トを電気熱変換体の吐出部とする構成を開示する特開昭
59−123670号公報や熱エネルギーの圧力波を吸収する開
口を吐出部に対応させる構成を開示する特開昭59−1384
61号公報に基づいた構成としても良い。
【0103】さらに、カラーフィルタ基板の着色に用い
る記録ヘッドとしては、上述した明細書に開示されてい
るような複数記録ヘッドの組み合わせによって長尺化さ
れた構成や、一体的に形成された1個の記録ヘッドとし
ての構成のいずれでもよい。
【0104】加えて、カラーフィルタ製造装置本体に装
着されることで、装置本体との電気的な接続や装置本体
からのインク供給が可能になる交換自在のチップタイプ
の記録ヘッド、あるいは記録ヘッド自体に一体的にイン
クタンクが設けられたカートリッジタイプの記録ヘッド
を用いてもよい。
【0105】また、本発明のカラーフィルタ製造装置の
構成として設けられる、記録ヘッドに対しての回復手
段、予備的な補助手段等を付加することは本発明の効果
を一層安定にできるので好ましいものである。これらを
具体的に挙げれば、記録ヘッドに対してのキャッピング
手段、クリーニング手段、加圧あるいは吸引手段、電気
熱変換体あるいはこれとは別の加熱素子あるいはこれら
の組み合わせによる予備加熱手段、記録とは別の吐出を
行う予備吐出モードを行うことも安定した記録を行うた
めに有効である。
【0106】また、ヘッドと基板とを相対走査させる場
合は、ヘッドを移動させずXYステージ移動させるよう
記載したが、ヘッド・ステージをそれぞれX,Y方向の
移動にふりわけても良いし、逆にステージを固定して、
ヘッドを移動させても良い。また、インク吐出量の調整
としては、駆動電圧、駆動パルス幅、吐出密度のいづれ
かを変更することで行っても良いし、これらを組み合わ
せて行っても良い。
【0107】また、インクを液体として説明している
が、室温やそれ以下で固化するインクであっても、室温
で軟化もしくは液化するものを用いても良く、使用記録
信号付与時にインクが液状をなすものであればよい。
【0108】加えて、積極的に熱エネルギーによる昇温
をインクの固形状態から液体状態への状態変化のエネル
ギーとして使用せしめることで積極的に防止するため、
またはインクの蒸発を防止するため、放置状態で固化し
加熱によって液化するインクを用いてもよい。いずれに
しても熱エネルギーの記録信号に応じた付与によってイ
ンクが液化し、液状インクが吐出されるものや、記録媒
体に到達する時点では既に固化し始めるもの等のよう
な、熱エネルギーの付与によって初めて液化する性質の
インクを使用する場合も本発明は適用可能である。この
ような場合インクは、特開昭54−56847号公報あるいは
特開昭60−71260号公報に記載されるような、多孔質シ
ート凹部または貫通孔に液状または固形物として保持さ
れた状態で、電気熱変換体に対して対向するような形態
としてもよい。本発明においては、上述した各インクに
対してもっとも有効なものは、上述した膜沸騰方式を実
行するものである。
【0109】また本発明は、複数の機器から構成される
システムに適用しても、1つの機器からなる装置に適用
してもよい。また、本発明はシステム又は装置に本発明
を実施するプログラムを供給することによって達成され
る場合にも適用できる。この場合、本発明に係るプログ
ラムを格納した記録媒体が、本発明を構成することにな
る。そして記録媒体からそのプログラムをシステム域は
装置に読み出すことによって、そのシステム域は装置が
そのプログラムに従って動作する。
【0110】本発明は、前記の実施形態に限定されるも
のではなく、種々の応用が可能である。
【0111】本発明に係るカラーフィルター、その製造
方法及び製造装置は、たとえば液晶表示装置用のカラー
フィルターの製造に限定されるものではなく、たとえ
ば、エレクトロルミネッセンス(EL)表示素子等にも
応用が可能である。エレクトロルミネッセンス表示素子
は、蛍光性の無機および有機化合物を含む薄膜を、陰極
と陽極とで挟んだ構成を有し、前記薄膜に電子および正
孔(ホール)を注入して再結合させることにより励起子
を生成させ、この励起子が失活する際の蛍光或いは燐光
の放出を利用して発光させる素子である。こうしたエレ
クトロルミネッセンス表示素子に用いられる蛍光性材料
のうち、赤、緑および青色の発光色を呈する材料を本発
明の製造装置を用いて、TFT等の素子基板上にインク
ジェットパターニングすることで、自発光フルカラーエ
レクトロルミネッセンス表示素子を製造することができ
る。本発明におけるカラーフィルターの範囲にはこのよ
うなエレクトロルミネッセンス表示素子の基板をも含む
ものである。
【0112】本発明のカラーフィルター製造装置は、エ
レクトロルミネッセンス材料が付着しやすいように、樹
脂レジスト、画素電極および下層となる層の表面に対
し、プラズマ、UV処理、カップリング等の表面処理を
行う工程を有するものであってもよい。
【0113】本発明のカラーフィルター製造方法を用い
て製造したエレクトロルミネッセンス表示素子は、セグ
メント表示や全面同時発光の静止画表示、例えば絵、文
字、ラベル等といったローインフォメーション分野への
応用、または点・線・面形状をもった光源としても利用
することができる。さらに、パッシブ駆動の表示素子を
はじめ、TFT等のアクティブ素子を駆動に用いること
で、高輝度で応答性の優れたフルカラー表示素子を得る
ことが可能である。
【0114】以下に、本発明を機能性薄膜デバイスとし
ての構造を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子に
応用した例を示す。
【0115】図22に本応用例の有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の積層構造断面図を示す。本有機エレクト
ロルミネッセンス素子は、図22に示すように、駆動基
板3001、隔壁3002、発光層3003、透明電極
3004および金属層3006を備えている。この図で
は、簡略化のために一つの画素を表示させるための領域
(画素領域)のみを図示してある。
【0116】駆動基板3001は、図示しない薄膜トラ
ンジスタ(TFT)、配線膜および絶縁膜等が多層に積
層されており、金属層3006および各透明電極300
4間に画素単位で電圧を印加可能に構成されている。駆
動基板3001は公知の薄膜プロセスによって製造され
る。
【0117】隔壁3002は、インクジェット法により
発光層3003となる材料を付与する際に隣接する画素
間で該材料が混合しないよう隔離する機能を有する。隔
壁3002は、該材料に対して親和性の異なる多層構造
であっても問題無い。
【0118】発光層3003は、電流を流すことにより
発光する材料、例えばポリフェニレンビニレン(PP
V)等公知の有機半導体材料を使用して、十分な光量が
得られる厚み、例えば0.05μm〜0.2μm程度積
層して構成される。発光層3003はインクジェット方
式などの方法によって液相の薄膜材料液を隔壁3002
で囲まれる凹部に充填し加熱処理することで形成され
る。カラーの有機エレクトロルミネッセンス素子を形成
する場合には、赤、緑または青などの異なる発光色を有
する発光層を形成する必要がある。したがって、隣接す
る領域に異なる発光層を形成する必要があり、任意の位
置に異なる薄膜材料液を吐出できるインクジェット方式
で発光層を形成する方法は非常に有効な方法である。
【0119】透明電極3004は、導電性がありかつ光
透過性のある材料、例えばITO等により構成されてい
る。透明電極3004は、画素単位で発光させるため
に、画素領域ごとに独立して設けられている。
【0120】金属層3006は、導電性のある金属材
料、例えばアルミニウムリチウム(Al−Li)を0.
1μm〜1.0μm程度積層して構成される。金属層3
006は、透明電極3004に対向する共通電極として
作用するように形成されている。
【0121】上記のような層構造を有する有機エレクト
ロルミネッセンス素子において、透明電極3004と金
属層3006との間に電圧が印加された画素領域では、
発光層3003に電流が流れ、エレクトロルミネッセン
ス現象を生じ、透明電極3004および駆動基板300
1を通して光が射出されるようになっている。
【0122】本応用例の方法によれば、簡便な工程でフ
ルカラーのエレクトロルミネッセンス素子を形成するこ
とが可能となる。
【0123】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
しきいに囲まれた領域の面積と、その中にある光学濃度
をもった物質の光学濃度を同時に計測することが可能に
なり、しきいに囲まれた物質の量を正確に計測すること
ができるようになる。とくに、インクジェット法により
打ち込まれたインク量を正確にはかることができ、正確
なインクジェット打ち込み制御へのフィードバックを実
現できる。
【0124】また、インクジェットカラーフィルタ製造
工程に本計測方法を適用することで、BM開口面積測定
工程を省略することが可能となり、歩留まり向上、スル
ープットの向上が可能となり製造コストをさげることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】カラーフィルターの製造装置の一実施形態の構
成を示す概略図である。
【図2】カラーフィルターの製造装置の動作を制御する
制御部の構成を示す図である。
【図3】カラーフィルターの製造装置に使用されるイン
クジェットヘッドの構造を示す図である。
【図4】インクジェットヘッドのヒータに印加される電
圧波形を示した図である。
【図5】カラーフィルターの製造工程の一例を示す図で
ある。
【図6】カラーフィルターの製造工程の一例を示す図で
ある。
【図7】カラーフィルターの製造工程の一例を示す図で
ある。
【図8】カラーフィルタの画素の拡大図である。
【図9】カラーフィルタの画素の濃度を測定するための
測定装置の模式図である。
【図10】計測領域を示すためのカラーフィルタの画素
の拡大図である。
【図11】開口面積の測定結果を示す図である。
【図12】色むらデータ測定個所を示す図である。
【図13】Rインク量の変化と透過率の変化の測定結果
を示す図である。
【図14】CCDカメラからの測定データを示す図であ
る。
【図15】CCDカメラからの測定データを示す図であ
る。
【図16】一実施形態のカラーフィルターを組込んだカ
ラー液晶表示装置の基本構成の例を示す断面図である。
【図17】一実施形態のカラーフィルターを組込んだカ
ラー液晶表示装置の基本構成の他の例を示す断面図であ
る。
【図18】一実施形態のカラーフィルターを組込んだカ
ラー液晶表示装置の基本構成の更に他の例を示す断面図
である。
【図19】液晶表示装置を情報処理装置に適用した場合
の概略構成を示すブロック図である。
【図20】液晶表示装置が使用される情報処理装置を示
した図である。
【図21】液晶表示装置が使用される情報処理装置を示
した図である。
【図22】応用例の有機エレクトロルミネッセンス素子
の積層構造断面図である。
【符号の説明】
1 光透過性基板 2 ブラックマトリクス 3 樹脂組成物層 4 フォトマスク 5 非着色部 8 保護層 12 隔壁 14 硬化インク 52 XYZθステージ 53 ガラス基板 54 カラーフィルタ 55 インクジェットヘッド 58 コントローラ 59 ティーチングペンダント(パソコン) 60 キーボード 65 インターフェイス 66 CPU 67 RAM 68 ROM 70 吐出制御部 71 ステージ制御部 90 カラーフィルタ製造装置 501 BM 511 光源 512 CCDカメラ 513 照明系 514 基板ステージ 515 画像処理装置 516 制御用コンピュータ 517 ステージコントローラ 502 R着色部 503 G着色部 504 B着色部 541 計測領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/10 H05B 33/12 B 3K007 33/12 33/14 A 33/14 B41J 3/04 101Z Fターム(参考) 2C056 EB42 FB01 2F065 AA58 CC21 CC25 EE00 FF02 GG21 HH13 HH15 JJ03 JJ09 JJ26 NN20 PP12 PP13 QQ25 2G051 AA73 AA90 AB20 BA08 BA11 BA20 CA03 CA04 CA07 CB01 CB02 DA07 EA12 EA14 FA10 2G086 EE05 EE10 EE12 2H091 FA02X FC01 FC12 FC30 FD02 FD04 FD24 FD26 LA12 LA15 LA30 3K007 AB11 AB18 DB03 FA00

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 しきいで囲まれた複数の領域の面積ばら
    つきを計測する方法であって、 前記しきいで囲まれた複数の領域を含む所定範囲を少な
    くとも1種類の波長領域の光で照明する照明工程と、 前記所定範囲を透過した光、または前記所定範囲で反射
    された光の光量を検出する検出工程と、 該検出工程で検出された光量に基づいて、前記しきいで
    囲まれた複数の領域の面積ばらつきを算出する算出工程
    とを具備することを特徴とする面積ばらつきの計測方
    法。
  2. 【請求項2】 前記しきいで囲まれた領域とは、カラー
    フィルタの画素の開口領域であることを特徴とする請求
    項1に記載の面積ばらつきの計測方法。
  3. 【請求項3】 前記しきいで囲まれた領域とは、有機E
    Lディスプレイの画素の開口領域であることを特徴とす
    る請求項1に記載の面積ばらつきの計測方法。
  4. 【請求項4】 しきいで囲まれた領域内に配置された光
    学濃度を持った物質の光学濃度を計測する方法であっ
    て、 前記しきいで囲まれた領域を含む所定範囲を第1の波長
    領域の光で照明する第1の照明工程と、 該第1の照明工程中に、前記所定範囲を透過した光、ま
    たは前記所定範囲で反射された光の光量を検出する第1
    の検出工程と、 前記所定範囲を第2の波長領域の光で照明する第2の照
    明工程と、 該第2の照明工程中に、前記所定範囲を透過した光、ま
    たは前記所定範囲で反射された光の光量を検出する第2
    の検出工程と、 前記第1の検出工程の検出結果と、前記第2の検出工程
    の検出結果との差分に基づいて、前記光学濃度を持った
    物質の光学濃度を算出する算出工程とを具備することを
    特徴とする光学濃度の計測方法。
  5. 【請求項5】 前記光学濃度を持った物質とは、インク
    ジェット法により形成された物質であることを特徴とす
    る請求項4に記載の光学濃度の計測方法。
  6. 【請求項6】 前記しきいで囲まれた領域とは、カラー
    フィルタ画素の開口領域であることを特徴とする請求項
    4に記載の光学濃度の計測方法。
  7. 【請求項7】 前記しきいで囲まれた領域とは、有機E
    Lディスプレイの画素の開口領域であることを特徴とす
    る請求項4に記載の光学濃度の計測方法。
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