JPH08271728A - 保護層形成方法及びそれによって作製されたカラーフィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 通常の露光機を用いた場合でも、保護層の端
部に、より簡便にしかも所望のスロープパターンを作製
できる方法と、この方法により作製された、透明電極の
剥がれ、クラックのない信頼性の高いカラーフィルター
基板を提供する。 【構成】 透明基板上に設けられた、赤，緑及び青の画
素からなるストライプ状またはモザイク状のパターン上
に、感光性透明樹脂層を形成後露光、現像及び／又は加
熱して保護層を形成する保護層形成方法において、該感
光性透明樹脂層を散乱光により露光する保護層形成方
法、及びこの方法により形成された保護層を有するカラ
ーフイルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、カラー
液晶ディスプレー、あるいはカラー撮像デバイス等に使
用されるカラーフィルターを形成するのに適当なカラー
フィルターの保護層の形成方法及び当該保護層を有する
カラーフィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のカラーフィルターは、透明基板上
にゼラチン等の変性タンパク質あるいは合成染色性樹脂
の所定パターンを形成後各色に染色して各色フィルター
層を形成している。また最近では、特開昭６０−１２９
７０７に開示されているように、耐候性のある顔料を分
散させたレジストを透明基板上に塗布／または印刷し、
所定のマスクを介して露光、現像することによってカラ
ーフィルターを形成している。

【０００３】これらフィルター層の上に透明電極層およ
び配向膜が設けられパネル化されるが、これらの工程
中、カラーフィルター画素に凹凸があると透電極に剥が
れやクラックを生じる。また工程中使用される薬品、特
に配向膜の溶剤として用いられるＮ−メチルピロリドン
やγ−ブチロラクトンは、色フィルターを形成している
ゼラチン等の可染性レジストを侵食してしまう。顔料分
散法により作製された着色層の場合も、上記溶剤によっ
て膨潤や色抜け等の故障を引き起こす。

【０００４】このような理由から、フィルター画素上
に、平坦性の良い、また耐薬品性のある感熱あるいは感
光性の透明樹脂材料を塗布、印刷、または転写して保護
層を形成する技術が開発されている。

【０００５】このような保護層は、透明性がよいこと、
液晶基板製造プロセス中、各種洗浄溶剤や塗布溶剤、特
に配向膜の溶剤として用いられるＮ−メチルピロリドン
やγ−ブチロラクトンに耐性があること、表面が平坦で
あること、またＩＴＯ（インジウム−錫−酸化物）等透
明電極との密着性がよいこと等様々な性能の要求を満た
さなければならない。

【０００６】保護層形成材料としては、一般にアクリル
系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキ
シ樹脂などが用いられる。また、ＳｉＯ２等の無機材料
を蒸着して保護層を形成する方法も用いられている。

【０００７】最近では、対向基板とのシール性確保、お
よび画素電極からの引き出し（フレキ）電極の密着性確
保と修正のしやすさから、フィルター周辺部はガラス面
を露出させたいという要求もあり、感光性材料を用いた
保護層がよく利用されている。

【０００８】このような保護層がフィルター画素上に形
成された後、該保護層上にＩＴＯ（インジウム−錫 酸
化物）透明電極膜がスパッタリングによって形成される
が、この際に、保護層パターン周辺部とガラス基板面と
の段差の側面が垂直になっていると、この段差でＩＴＯ
電極膜にクラックが発生する。この故障を防止するため
には、実開平３−８０４１３、特開平３−２４８１２
４、特開平４−５１２０４、特開平５−９３８０９で開
示されているように、保護層の周辺部の膜厚がなだらか
に減少するようなスロープ形状にすることが望ましい。
このスロープパターンの傾斜は、水平方向の距離／垂直
方向の距離で表せば、約２０／１〜４０／１が一般的に
好適であると言われている。

【０００９】パターン周辺部をスロープ形状にする方法
は、特開平３−２４８１２４に開示されているように、
保護層の形成段階で面積を順次小さくして塗布する方
法、また感光性保護層材料を用いた場合は、特開平３−
１５０２５に開示されているように、裏面露光によって
パターン周辺部をややぼかすようにして露光し、スロー
プ形状を得る方法、特開平４−５１２０４開示されてい
るようにプロキシミティを１００〜１０００μｍにして
露光する方法等がある。

【００１０】しかし、塗布面積を順次小さくして塗布す
るには、所望の形状を得るための塗布条件の選定が難し
く、また塗布工程を複数回行うため、工程数が多くな
り、異物等による欠陥が発生する可能性も大きく得率が
悪い。

【００１１】感光性の保護層材料を用いた方法では、裏
面露光では基板の厚みが決まっているので所望の形状の
スロープが得られにくい。

【００１２】プロキシミティ量を大きくとって露光する
方法では、スロープパターン形成部に光の干渉縞ができ
て階段状になりやすい。更に通常のアライナー等の露光
機ではプロキシミティは大きくても２００μｍ程度まで
しかとれず、通常アライナーの露光光は平行光であるの
で、この程度のプロキシミティではスロープ形状は得ら
れにくい。

【００１３】マスクのパタンエッジ部を段階的なグラデ
ーションパターンにする方法もあるが、コストが高い
上、所望のスロープパターンを得るためには、感材の感
度特性に合わせたグラデーションパターンを設計しなけ
ればならず制御が難しい。

【００１４】感光性樹脂材料を用いたこのようなスロー
プ形状を作製する方法として、特開平４−１４３７０４
にあるようにマスクと感光性樹脂層との間に光透過性の
透明板を置く方法がある。この方法では適当な材料の透
明板を置くことによって、露光の際に該透明板内で光が
散乱し、パターン周辺部がややぼかされることによっ
て、スロープ形状をつくることができる。しかし、この
方法では透明板によってスロープ形状がほぼ限定される
ので所望の形状を与えるような透明板の選択が必要とな
る。また露光の際、感光性樹脂層表面と透明板が密着さ
れるので、感光性樹脂層表面が損傷しやすく、また透明
板も汚れやすい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解決するために、通常の露光機を用いた場合で
も、より簡便にしかも所望のスロープパターンを作製で
きる方法と、この方法により作製された、透明電極の剥
がれ、クラックのない信頼性の高いカラーフィルター基
板を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、透明基
板上に設けられた、赤，緑及び青の画素からなるストラ
イプ状またはモザイク状のパターン上に、感光性透明樹
脂層を形成後露光、現像及び／又は加熱して保護層を形
成する保護層形成方法において、該感光性透明樹脂層を
散乱光により露光することを特徴とする保護層形成方
法、及びこの方法により形成された保護層を有するカラ
ーフイルターにより達成された。以下、本発明を詳細に
説明する。

【００１７】感光性透明樹脂層の露光に散乱光を用いる
ことにより、マスクパターンのエッジ部がグラデーショ
ンのハーフトーン光となり、この部分の感光層は完全に
は硬化せず、連続的に硬化の度合いが異なった領域がで
きる。現像により該領域は、部分的に溶解されるため、
スロープパターンとなる。

【００１８】散乱光を作製する方法としては、通常のア
ライナー等の露光機の光は平行光であるが、マスクと感
光性樹脂層の間、あるいはマスクに対して感光性樹脂層
の反対側に光を散乱させるフィルター類を置くことによ
って容易に散乱光を得ることができる。

【００１９】本発明に使用される散乱光は、感光性樹脂
層を露光することができる放射線あるいは電子線等の活
性線で、露光領域において該活性線が放射方向に対し平
行でない成分を含むものである。即ち、アライナー等の
露光光である平行光を凹レンズで拡散するようにしたも
のや、半透明の擦りガラス等で非平行成分の光を発生さ
せたものを含む。本発明における露光光としては、完全
な平行光以外のものであればよい。例えば上記凹レンズ
等を用いて拡散光にしたものでも良いが、この場合、露
光面の領域によって露光光の角度が異なるので、作製さ
れるスロープパターンの傾斜角が領域で異なる。露光領
域の任意の領域で均一の傾斜角を持つスロープパターン
を作製するには、任意の露光領域で均一に様々な角度の
成分を持った光で露光するのが好ましい。この様な光を
作製するには光散乱フィルターの使用で達成できるが、
好適には、均一な粗さを持った擦りガラスや、あるいは
ガラス等の透明基板表面に微小な球形粒子を均一に散布
したもの、表面をマット加工したベース等が用いられ
る。

【００２０】本発明で用いられる散乱フィルターの性能
は、一般に活性線の露光に用いられる波長の光が、フィ
ルターへの入射角に対して５度以上の散乱角を持つもの
が好ましい。５度以下の散乱角では、通常のアライナー
のプロキシミティ量内で、十分なスロープパターンを作
製させるグラデーション領域を感光性樹脂層上に作るこ
とが難しい。特に好ましくは１０度以上である。

【００２１】更に、本発明で用いられる散乱フィルター
の性能は、一般に活性線の露光に用いられる波長の光
が、フィルターへの入射角に対して、該活性線の透過光
の８０％の強度の範囲が、５度以上の散乱角を持つもの
が好ましい。５度以下の散乱角では、通常のアライナー
のプロキシミティ量内で、十分なロープパターンを作製
させるグラデーション領域を感光性樹脂層上に作ること
が難しい。特に好ましくは、フィルターへの入射角に対
して、該活性線の透過光の８０％の強度の範囲が、１０
度以上である。

【００２２】本発明で用いられる感光性透明樹脂は、公
知の光重合性の感光材料の中から適宜選択して用いるこ
とができる。特に好適なものとしては、主成分として、
少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性
モノマー、重合開始剤、必要に応じてバインダーを含有
するネガ型感光性の透明樹脂材料である。

【００２３】次に該散乱露光光を用いた保護層形成方法
について説明する。保護層前駆体である感光性透明樹脂
層は、着色画素が設けられた基板上に、塗布または印刷
によって形成できる。また特公昭５６−４０８２４およ
び特開平４−２０８９４０に記載された保護層形成法の
ように、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリエチレン
テレフタレート等の仮支持体上に該感光透明樹脂層を塗
布形成し、着色画素層上に転写後仮支持体を剥離除去し
て、着色画素が設けられた基板上に感光性透明樹脂層を
形成することもできる。これらの場合に、該感光性透明
樹脂層の厚みは特に限定されるものではないが、着色画
素層より薄すぎると画素間の段差を反映して平坦性が悪
くなる。一方、厚すぎると透過率が低下し液晶表示装置
として使用したときの表示性能が悪くなるので、膜厚は
１〜１０μｍ程度が好ましい。

【００２４】着色画素層の作製方法には限定は無く、染
色法、印刷法、電着法、特開平１−１５２４４９号公報
に開示された顔料分散法、特開平４−２０８９４０号公
報に記載された層転写法等の、公知のいずれの方法で形
成されたものであつても良い。

【００２５】感光性透明樹脂を基板上に塗布する方法と
しては、例えば、スピンコート法、スプレー法、ディッ
プ法、はけ塗り法、ローラー塗装法、フローコーター
法、カーテンコート法、スクリーン印刷法、ディスペン
サー塗布法、バーコーター法等が挙げられる。特に着色
画素基板に塗布する場合や、ポリエチレン，ポリプロピ
レン，ポリエチレンテレフタレート等の仮支持体等に塗
布するには、スピンコート法、バーコーター法、ローラ
ー塗装法、カーテンコート法、スクリーン印刷法、ディ
スペンサー塗布法等が好ましい。加熱乾燥には、熱風循
環式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉などの装置を用いることが
出来る。

【００２６】特公昭５６−４０８２４および特開平４−
２０８９４０に記載された保護層形成法のように、仮支
持体上に該光硬化性樹脂層を形成し、着色画素基板上に
転写によって該感光性透明樹脂層を設ける場合には、基
板との密着性を上げるため、基板に密着促進剤の下塗り
処理を行っても良い。この場合使用される密着促進剤と
しては、公知のシランカップリング剤、チタネートカッ
プリング剤、アルミニウムカップリング剤、ジルコニウ
ムカップリング剤等が好適に用いられる。特に好ましく
は、信越化学（株）のＫＢＭ−６０２，ＫＢＭ−６０
３，ＫＢＭ−９０２，ＫＢＭ−９０３，ＫＢＥ−９０
２，ＫＢＥ−９０３等が用いられる。

【００２７】露光を行う際には、用いられる感光性透明
樹脂層の感度特性にもよるが、一般に露光時の感度を上
げるため露光前に該感光性透明樹脂層上にポリビニルア
ルコール等を主成分とする酸素遮断膜を設けておくのが
好ましい。転写による透明樹脂層形成の場合には、転写
後仮支持体を剥さず、透明仮支持体上から露光すること
で該酸素遮断膜を省略することもできる。

【００２８】露光光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプおよびレーザー光線等が挙げられる
が、３００ｎｍ〜４００ｎｍ付近の紫外線を放射する高
圧水銀灯、超高圧水銀灯またはメタルハライドランプを
光源とした露光装置を用いことが好ましい。

【００２９】露光量は、用いられる感光性透明樹脂の感
度特性によるが、一般に該感光性透明樹脂層に照射され
る活性線強度は、露光後の現像処理によって該感光性透
明樹脂の表面が侵されない、即ちベタ画像が得られる最
低露光量以上で選ぶことができるが、この場合一般に露
光量によってスロープパターンを調節することができ
る。即ち、露光量が多ければ傾斜部が広いものが、露光
量が少なければ傾斜部が狭いスロープパターンが得られ
るので、所望のスロープパターンは露光量を調節するこ
とによって得ることができる。

【００３０】本発明の保護層形成方法によるスロープパ
ターンは、露光の際のプロキシミティによっても調節す
ることができる。即ち、プロキシミティ量が多ければ傾
斜部が広いものが、プロキシミティ量が少なければ傾斜
部が狭いスロープパターンが得られる。

【００３１】スロープパターンの傾斜の長さは、一般に
スロープパターンの底辺と該保護層の膜厚の比が２０対
１から４０対１が最も好適であり、これよりも傾斜の長
さが長いとスロープパターン端部の膜強度が弱いために
膜剥がれが起こり易く、これよりも傾斜の長さが短いと
ＩＴＯ透明電極膜の形成時にクラックが起きやすくな
る。本発明の保護層形成方法では、露光量およびプロキ
シミティ量を調節することによって最も好適なスロープ
パターンを得ることができる。

【００３２】現像は、現像液或いは現像方法によって、
得られるスロープパターンの形状に影響する。過現像に
なると、スロープパターン先端に剥がれ等の故障が起こ
りやすくなり、現像が不十分だと現像残膜が残りやす
い。好適な現像条件は、用いられる感光政党名樹脂材料
によるが、一般には最短現像時間の１〜２倍程度の間で
選ばれるのが好ましい。

【００３３】現像液としては、公知のアルカリ性現像液
が使用できる。例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸リチウム、アンモニア等の０．１〜１０重量％の水溶
液を用いることができるが、場合によっては、アミン
類、例えばブチルアミン、ヘキシルアミン、ベンジルア
ミン、アリルアミン等の１級アミン、ジエチルアミン、
ベンジルエチルアミン等の２級アミン、トリエチルアミ
ン等の３級アミン、エタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、２−アミノ−１，３−プ
ロパンジオール等ヒドロキシルアミン、モルホリン、ピ
リジン、ピペラジン、ピペリジン等の環状アミン、ヒド
ラジン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等
のポリアミン、前記アミンの硫酸塩、炭酸塩、重炭酸
塩、アルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸塩等の塩基性
塩、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等
の４級アンモニウム塩ヒドロキシド等を使用することも
できる。

【００３４】現像方法としては、現像液中への浸漬、あ
るいは現像液の噴霧等を用いることができる。また光硬
化性樹脂層の未露光部分を現像液中で回転ブラシで擦る
か湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることも
できる。現像液の液温度は通常室温付近から４０℃が好
ましい。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能で
ある。

【００３５】以下、実施例により本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３６】

【実施例】

実施例１ カラーフィルターの材料として、以下に示した着色感光
性樹脂材料を用いた。 ・赤：カラ−モザイクＣＲ−２０００ （富士ハントエレクトロ
ニクステクノロシ゛ー製） ・緑：カラ−モザイクＣＧ−２０００ （富士ハントエレクトロ
ニクステクノロシ゛ー製） ・青：カラ−モザイクＣＢ−２０００ （富士ハントエレクトロ
ニクステクノロシ゛ー製） ・黒：カラ−モザイクＣＫ−２０００ （富士ハントエレクトロ
ニクステクノロシ゛ー製） ・透明：カラ−モザイクＣＴ （富士ハントエレクトロ
ニクステクノロシ゛ー製）

【００３７】先ず、厚さ１．１ｍｍの透明基板に黒色レ
ジスト（ＣＫ−２０００）を表１に示した条件でスピン
ナーで塗布し、オーブンで９０℃、２分のプリベークを
行い、次いでポリビニルアルコール塗布液（ＣＰ：富士
ハントエレクトロニクステクノロシ゛ー製）を同じくスピンナーにより２０
０ｒｐｍで塗布し、９０℃、２分のプリベークの後所定
のパターンのフォトマスクを介して露光し、３０℃の１
重量％炭酸ソーダ水溶液に１分間浸漬して現像を行い不
要部を除去し、２００℃、３０分ポストベークして黒色
パターンを得た。

【００３８】次に、黒色パターンが形成されたガラス基
板上に赤色レジスト（ＣＲ−２０００）を塗布し、上記
と同様に露光、現像、ベーキングを行い、赤色パターン
を得た。緑、青についても同様の工程を繰り返し、透明
ガラス基板上に黒、赤、緑、青の画素を設けた。

【００３９】この様にして形成した画素上に、感光性透
明樹脂（ＣＴ：フジハントエレクトロニクステクノロジ
ー製）をスピンナーで４５０rpmで塗布し９０℃で２分
間プリベークして、乾燥膜厚２μｍの感光性透明樹脂層
を設け、更にポリビニルアルコール塗布液（ＣＰ：富士
ハントエレクトロニクステクノロシ゛ー製）を同じくスピンナーにより２０
０ｒｐｍで塗布し、９０℃、２分間プリベークして酸素
遮断層を得た。

【００４０】次に保護層用フォトマスクの上（露光光源
側）に、大日本スクリーン社製大型アライナーＫＰ−３
０４用減光フィルター800を取り付け、露光量１００m
J、プロキシミティ量１００μｍで露光した。次いで３
０℃の１重量％炭酸ソーダ水溶液に１分間浸漬して現像
を行い不要部を除去し、２００℃、６０分加熱して平坦
な透明樹脂層を設け、カラーフィルター基板を得た。

【００４１】 表１：塗布及び露光条件 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ スヒ゜ン回転数 膜厚 露光量 rpm μｍ mJ/cm² ───────────────────── 黒 1800 １ 200 赤 700 ２ 50 緑 800 ２ 100 青 800 ２ 50 透明 800 ２ 50 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００４２】得られた保護層パターンの端部形状を触針
式表面粗さ計ＴＥＮＫＯＲ社製Ｐ−１を用いて測定した
処、図１に示したように、スロープが形成されていた。

【００４３】こうして得られたカラーフィルター上に日
電アネルバ社製高周波スパッタリング装置を用い、イン
ジウムスズ酸化物（スズ酸化物含有率６重量％）を電圧
２ＫＶ、電流１３５ｍＡ、出力２７０Ｗ、アルゴン圧力
５×１０−４Tｏｒｒの条件で２分間蒸着した。得られ
た透明電極膜の透明度は８８％、表面抵抗は５００Ω／
□、膜厚８００オングストロームであった。得られた透
明電極膜は剥がれやクラックもなく、またテープ剥離に
よる密着テストを行ったが、密着性も良好で液晶セル組
立工程に十分耐え得るものであった。

【００４４】実施例２ ２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、ポリビニルアルコール塗布液（ＣＰ：富士ハントエ
レクトロテクノロジー製）を乾燥膜厚１．５μｍになる
ように塗布乾燥し、その上に感光性透明樹脂を実施例１
と同じ条件で塗布乾燥して感光性透明樹脂の転写シート
を得た。

【００４５】実施例１と同様の方法で作製した黒、赤、
緑、青の画素を持つガラス基板上に、上記の方法で得た
感光性透明樹脂転写シートを膜面が画素と接するように
重ね合わせ、ラミネーター（大成ラミネータ（株）製Ｖ
Ｐ−ＩＩ）を用いて加圧（０．８ｋｇ／ｃｍ²）、加熱
（１３０℃）して貼り合わせ、続いて所定のフォトマス
クを介して露光し、次いでポリエチレンテレフタレー
トフィルムを剥離して除去した。次に１％炭酸ナトリウ
ム水溶液で現像して不要部を除去し、ガラス基板上に
黒、赤、緑、青の画素と感光性透明樹脂層を形成した。

【００４６】次に保護層用フォトマスクの上（露光光源
側）に、マット化ベースフィルム（帝人社製マットフィ
ルムＰＳ１００）を取り付け、露光量２００mJ、プロキ
シミティ量５０μｍで露光した。

【００４７】次いで３０℃の１重量％炭酸ソーダ水溶液
に１分間浸漬して現像を行い不要部を除去し、２００
℃、６０分加熱して平坦な透明樹脂層を設け、カラーフ
ィルター基板を得た。得られた保護層パターンの端部形
状を触針式表面粗さ計ＴＥＮＫＯＲ社製Ｐ−１を用いて
測定した。形状は図２に示したような、スロープが作製
されていた。

【００４８】こうして得られたカラーフィルター上に実
施例１と同様透明電極膜のスパッタをおこなった。得ら
れた透明電極膜は剥がれやクラックもなく、またテープ
剥離による密着テストでも密着性も良好であり、液晶セ
ル組立工程に十分耐え得るものであった。

【００４９】比較例１ 実施例１で得られた黒、赤、緑、青の画素を持つガラス
基板上に、感光性透明樹脂（ＣＴ：フジハントエレクト
ロニクステクノロジー製）をスピンナーで４５０rpmで
塗布し９０℃で２分間プリベークして、膜厚２μｍの感
光性透明樹脂層を設け、更にポリビニルアルコール塗布
液（ＣＰ：富士ハントエレクトロニクステクノロシ゛ー製）を同じくスピン
ナーにより２００ｒｐｍで塗布し、９０℃、２分間プリ
ベークして酸素遮断層を得た。

【００５０】次に保護層用フォトマスクを介して、露光
量１００mJ、プロキシミティ量１００μｍで露光した。
次いで３０℃の１重量％炭酸ソーダ水溶液に１分間浸漬
して現像を行い不要部を除去し、２００℃、６０分加熱
して平坦な透明樹脂層を設け、カラーフィルター基板を
得た。

【００５１】得られた保護層パターンの端部形状を触針
式表面粗さ計ＴＥＮＫＯＲ社製Ｐ−１を用いて測定し
た。形状は図３に示したように、スロープとはならず、
保護層パターンとガラス基板に段差が作製されていた。

【００５２】こうして得られたカラーフィルター上に実
施例１と同様透明導電膜のスパッタをおこなった。得ら
れた透明導電膜にはクラックが発生し、またテープ剥離
による密着テストを行ったところ、透明電極はテープに
より剥離された。

【００５３】

【発明の効果】本発明のカラーフィルター用保護層形成
方法により、透明電極との密着に優れ、またスパッタ時
に発生しやすいＩＴＯ透明電極膜のシワ、クラックの発
生を防止し、信頼性の高いカラーフィルターを提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

図１〜３において、縦軸は保護層の膜厚方向、横軸はこ
れに直角な方向の測定値であり、単位はいずれもμｍで
ある。

【図１】 図１は、実施例１の方法により作成した保護
層の端面の断面形状を表す。

【図２】 図２は、実施例２の方法により作成した保護
層の端面の断面形状を表す。

【図３】 図３は、比較例１の方法により作成した保護
層の端面の断面形状を表す。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に設けられた、赤，緑及び青
   の画素からなるストライプ状またはモザイク状のパター
   ン上に、感光性透明樹脂層を形成後露光、現像及び／又
   は加熱して保護層を形成する保護層形成方法において、
   該感光性透明樹脂層を散乱光により露光することを特徴
   とする保護層形成方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、該露光を散乱光フィ
   ルターを用いて行うことを特徴とする保護層形成方法。
3. 【請求項３】 請求項２において、該散乱光フィルター
   が５度以上の散乱角を有していることを特徴とする保護
   層形成方法。
4. 【請求項４】 請求項３において、更にマスクと基板の
   間にプロキシミティがとられていることを特徴とする保
   護層形成方法。
5. 【請求項５】 請求項４において、保護層の周辺部の厚
   みがスロープ状になだらかに変化しており、スロープの
   底辺と該保護層の膜厚の比が２０対１から４０対１とな
   っていることを特徴とする保護層形成方法。
6. 【請求項６】 請求項１〜請求項５のいずれかの方法に
   より形成された保護層を有するカラーフィルター。