JP2831736B2 - シャドウマスク用パターン焼付け版及びその製造方法 - Google Patents
シャドウマスク用パターン焼付け版及びその製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、カラーブラウン管用シャドウマスクの製造
に用いるシャドウマスク用パターン焼付け版およびその
製造方法に関する。
に用いるシャドウマスク用パターン焼付け版およびその
製造方法に関する。
（従来の技術） カラーブラウン管用シャドウマスクは、多数の開孔を
有し、電子銃から発射された赤・緑・青用の３電子ビー
ムがシャドウマスクの開孔を通過し、それぞれ対応する
蛍光体を各色に発光させるものである。
有し、電子銃から発射された赤・緑・青用の３電子ビー
ムがシャドウマスクの開孔を通過し、それぞれ対応する
蛍光体を各色に発光させるものである。
このようなシャドウマスクは、一般的に、フォトエッ
チング技術によって製造される。すなわち、まず、連続
帯状金属板からなるシャドウマスク材を洗浄した後、両
主面に目的とする膜厚の感光膜を形成する。ついで、こ
の感光膜が形成されたシャドウマスク材の表裏の両主面
にシャドウマスクパターンの焼付け版、すなわち、シャ
ドウマスク開孔部に相当する部分が不透光で他の部分は
透光な、かつ、不透光部の寸法が異なるシャドウマスク
パターンを有する一対の焼付け版を配置し、完全密着
後、紫外線によって露光する。その後、温水スプレーに
よってシャドウマスク開孔部に相当する未露光の感光膜
を溶解除去し、乾燥ベーキングを施し、開孔部以外の部
分に耐エッチング性を有する感光膜を残存させる。つい
で、塩化第二鉄エッチング液をシャドウマスク材の両面
からスプレーし、目的とする寸法の開孔を穿設後、水洗
・感光膜除去・水洗・乾燥を施すことによりシャドウマ
スクを得る。
チング技術によって製造される。すなわち、まず、連続
帯状金属板からなるシャドウマスク材を洗浄した後、両
主面に目的とする膜厚の感光膜を形成する。ついで、こ
の感光膜が形成されたシャドウマスク材の表裏の両主面
にシャドウマスクパターンの焼付け版、すなわち、シャ
ドウマスク開孔部に相当する部分が不透光で他の部分は
透光な、かつ、不透光部の寸法が異なるシャドウマスク
パターンを有する一対の焼付け版を配置し、完全密着
後、紫外線によって露光する。その後、温水スプレーに
よってシャドウマスク開孔部に相当する未露光の感光膜
を溶解除去し、乾燥ベーキングを施し、開孔部以外の部
分に耐エッチング性を有する感光膜を残存させる。つい
で、塩化第二鉄エッチング液をシャドウマスク材の両面
からスプレーし、目的とする寸法の開孔を穿設後、水洗
・感光膜除去・水洗・乾燥を施すことによりシャドウマ
スクを得る。
上記の露光工程で用いられる焼付け版は、一般に、第
２図に示すように、平板状のガラス基材１上に下引き層
２が形成され、この下引き層２の上にハロゲン化鉄とゼ
ラチンとの懸濁液である乳剤を塗布した平滑な乳剤層３
が形成され、この乳剤層３は、シャドウマスク開孔部に
相当する部分が不透光乳剤部４で、他の部分が透光乳剤
部５である。また、下引き層２は、塗布される乳剤の塗
布性および接着性を向上させる。
２図に示すように、平板状のガラス基材１上に下引き層
２が形成され、この下引き層２の上にハロゲン化鉄とゼ
ラチンとの懸濁液である乳剤を塗布した平滑な乳剤層３
が形成され、この乳剤層３は、シャドウマスク開孔部に
相当する部分が不透光乳剤部４で、他の部分が透光乳剤
部５である。また、下引き層２は、塗布される乳剤の塗
布性および接着性を向上させる。
なお、乳剤層３の不透光乳剤部４と透光乳剤部５とを
有するシャドウマスクパターンは、次のようにして形成
される。まず、原版をフォトプロッターと呼ばれるパタ
ーンジェネレータによって作成し、この原版と未感光の
ガラス感光板とを密着し、露光することにより原版が反
転したパターンを作製し、これをマスターパターンとす
る。このマスターパターンにおいて、未感光時に既に有
していたガラス感光板自体が持つ欠陥、または、密着反
転時の異物付着などによるパターン欠陥を有していた場
合は、手修整を加えて欠陥のないパターンにする。つい
で、暗室において、マスターパターンと未感光の乳剤層
３を有するガラス基材１とを真空密着後、200Wの水銀ラ
ンプを用いて数秒露光する。ついで、現像・水洗・定着
・水洗・乾燥など一般の一連の現像処理を施すことによ
り、原版と同じパターンを有する焼付け版を作製する。
この作製した焼付け版に欠陥がある場合は、マスターパ
ターンと同様に手修整する。
有するシャドウマスクパターンは、次のようにして形成
される。まず、原版をフォトプロッターと呼ばれるパタ
ーンジェネレータによって作成し、この原版と未感光の
ガラス感光板とを密着し、露光することにより原版が反
転したパターンを作製し、これをマスターパターンとす
る。このマスターパターンにおいて、未感光時に既に有
していたガラス感光板自体が持つ欠陥、または、密着反
転時の異物付着などによるパターン欠陥を有していた場
合は、手修整を加えて欠陥のないパターンにする。つい
で、暗室において、マスターパターンと未感光の乳剤層
３を有するガラス基材１とを真空密着後、200Wの水銀ラ
ンプを用いて数秒露光する。ついで、現像・水洗・定着
・水洗・乾燥など一般の一連の現像処理を施すことによ
り、原版と同じパターンを有する焼付け版を作製する。
この作製した焼付け版に欠陥がある場合は、マスターパ
ターンと同様に手修整する。
このようにして、作成された焼付け版を、たとえば特
公昭56−13298号公報に示されているような露光装置に
取り付け、感光膜７が形成されたシャドウマスク材８に
シャドウマスクパターンを焼き付けるとき、焼付けパタ
ーンの乳剤層３面を感光膜７に真空系を用いて完全密着
させる。
公昭56−13298号公報に示されているような露光装置に
取り付け、感光膜７が形成されたシャドウマスク材８に
シャドウマスクパターンを焼き付けるとき、焼付けパタ
ーンの乳剤層３面を感光膜７に真空系を用いて完全密着
させる。
（発明が解決しようとする課題） 上記のように、未露光シャドウマスク材の送り・密着
・露光・露光済シャドウマスク材の巻取りの一連の流れ
を繰り返す中で、焼付け版の支持枠のクリアランスなど
の機械的組立誤差や露光光源の熱による支持枠および焼
付け版の不均一熱膨張等により、密着時において焼付け
版がわずかに動くことは避けられず、これにより、焼付
け版と感光膜とがこすれあう。また、露光工程は防塵室
で行なわれるが、感光膜を形成したシャドウマスク材に
付着している金属ばりやレジストかす、露光装置から脱
落する塗料や金属粉または作業者が歩くことにより床か
ら舞い上るごみやほこりなどの異物が焼付け版や感光膜
に付着したり、密着時に両者の間に挟るのを完全に回避
することはできない。そして、通常、シャドウマスク材
の感光膜は、200℃程度のベーキングが施されることに
より、鉛筆硬度で5H〜6Hの硬度を有するのに対し、焼付
け版の乳剤層の膜はＢ〜1Hと軟らかい。したがって、真
空密着時に焼付け版と感光膜がこすれあったり、圧着さ
れた際、焼付け版の乳剤層面の方に傷がつきやすい。ま
た、露光は帯状のシャドウマスク材に対し連続するの
で、ある時点で焼付け版の乳剤層に傷がついた場合、パ
ターン欠陥発生によりそれ以後に焼付けられたものは全
て開孔不良となる。
・露光・露光済シャドウマスク材の巻取りの一連の流れ
を繰り返す中で、焼付け版の支持枠のクリアランスなど
の機械的組立誤差や露光光源の熱による支持枠および焼
付け版の不均一熱膨張等により、密着時において焼付け
版がわずかに動くことは避けられず、これにより、焼付
け版と感光膜とがこすれあう。また、露光工程は防塵室
で行なわれるが、感光膜を形成したシャドウマスク材に
付着している金属ばりやレジストかす、露光装置から脱
落する塗料や金属粉または作業者が歩くことにより床か
ら舞い上るごみやほこりなどの異物が焼付け版や感光膜
に付着したり、密着時に両者の間に挟るのを完全に回避
することはできない。そして、通常、シャドウマスク材
の感光膜は、200℃程度のベーキングが施されることに
より、鉛筆硬度で5H〜6Hの硬度を有するのに対し、焼付
け版の乳剤層の膜はＢ〜1Hと軟らかい。したがって、真
空密着時に焼付け版と感光膜がこすれあったり、圧着さ
れた際、焼付け版の乳剤層面の方に傷がつきやすい。ま
た、露光は帯状のシャドウマスク材に対し連続するの
で、ある時点で焼付け版の乳剤層に傷がついた場合、パ
ターン欠陥発生によりそれ以後に焼付けられたものは全
て開孔不良となる。
この問題を解決するため、たとえば、第３図に示すよ
うに、焼付け版の乳剤層３面上に、透明な焼付けアクリ
ル樹脂やアミノアルキド樹脂からなる表面膜９を形成す
ることが考えられている。
うに、焼付け版の乳剤層３面上に、透明な焼付けアクリ
ル樹脂やアミノアルキド樹脂からなる表面膜９を形成す
ることが考えられている。
しかし、感光膜と同等またはそれ以上の膜硬度を有す
ることによる傷発生防止効果およびピンホールが発生し
ない表面膜９を形成するためには、少なくとも10μｍ程
度の膜厚が必要である。そのため、第３図のように、ガ
ラス基材１上に形成された乳剤層３とシャドウマスク材
８上に形成された感光膜７との間が表面膜９の厚さ分離
れ、その間隔分、光の拡散現象によって感光膜７に焼付
けられるパターン潜像10は焼付け版のパターン寸法と異
なってしまう。特に、膜面同士の完全密着焼付けでない
ため、光源の配光分布や露光時間の変動によって、パタ
ーン潜像10の寸法はばらつきやすい。さらに、近時、カ
ラーブラウン管の大型化に伴い焼付け版上のパターン面
積も拡大し、表面膜９を目的とする膜厚で均一に形成す
るのが極めて難しく、膜厚変動を起しやすい。この結
果、最終的なシャドウマスク開孔寸法のばらつきによる
マスクむらを起し、カラーブラウン管の品位低下を生じ
る。
ることによる傷発生防止効果およびピンホールが発生し
ない表面膜９を形成するためには、少なくとも10μｍ程
度の膜厚が必要である。そのため、第３図のように、ガ
ラス基材１上に形成された乳剤層３とシャドウマスク材
８上に形成された感光膜７との間が表面膜９の厚さ分離
れ、その間隔分、光の拡散現象によって感光膜７に焼付
けられるパターン潜像10は焼付け版のパターン寸法と異
なってしまう。特に、膜面同士の完全密着焼付けでない
ため、光源の配光分布や露光時間の変動によって、パタ
ーン潜像10の寸法はばらつきやすい。さらに、近時、カ
ラーブラウン管の大型化に伴い焼付け版上のパターン面
積も拡大し、表面膜９を目的とする膜厚で均一に形成す
るのが極めて難しく、膜厚変動を起しやすい。この結
果、最終的なシャドウマスク開孔寸法のばらつきによる
マスクむらを起し、カラーブラウン管の品位低下を生じ
る。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、シャド
ウマスク材の両主面に形成された感光膜にシャドウマス
クパターンを焼付ける際、ごみやほこりなどの異物が付
着した場合でも真空密着時の圧着によってパターン欠陥
が発生せず、かつ、感光膜に焼き付けられたパターン潜
像寸法にばらつきが生じないようにするシャドウマスク
用パターン焼付け版およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
ウマスク材の両主面に形成された感光膜にシャドウマス
クパターンを焼付ける際、ごみやほこりなどの異物が付
着した場合でも真空密着時の圧着によってパターン欠陥
が発生せず、かつ、感光膜に焼き付けられたパターン潜
像寸法にばらつきが生じないようにするシャドウマスク
用パターン焼付け版およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
（課題を解決するための手段） 本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版は、シャ
ドウマスク材の両主面に形成された感光膜にシャドウマ
スクパターンを焼付ける露光工程で用いられる焼付け版
であって、ガラス基材上に形成されシャドウマスク開孔
部に相当する部分が不透光で他の部分は透光な乳剤層
と、この乳剤層上に形成されたゼラチンを有する保護膜
と、この保護膜上の表面に金属アルコラートより形成さ
れたアモルファスの透明なガラス質の膜厚1.5μｍ以下
の傷発生防止膜とを具備したものである。
ドウマスク材の両主面に形成された感光膜にシャドウマ
スクパターンを焼付ける露光工程で用いられる焼付け版
であって、ガラス基材上に形成されシャドウマスク開孔
部に相当する部分が不透光で他の部分は透光な乳剤層
と、この乳剤層上に形成されたゼラチンを有する保護膜
と、この保護膜上の表面に金属アルコラートより形成さ
れたアモルファスの透明なガラス質の膜厚1.5μｍ以下
の傷発生防止膜とを具備したものである。
また、本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版の
製造方法は、シャドウマスク開孔部に相当する部分が不
透光で他の部分は透光な乳剤層のシャドウマスクパター
ンおよびこの乳剤層上のゼラチンを有する保護膜を有す
るガラス基材に、金属アルコラートをアルコールで希釈
した液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス質
膜を形成し、このガラス質膜を加熱硬化させて上記保護
膜上の表面に傷発生防止膜を形成するものである。
製造方法は、シャドウマスク開孔部に相当する部分が不
透光で他の部分は透光な乳剤層のシャドウマスクパター
ンおよびこの乳剤層上のゼラチンを有する保護膜を有す
るガラス基材に、金属アルコラートをアルコールで希釈
した液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス質
膜を形成し、このガラス質膜を加熱硬化させて上記保護
膜上の表面に傷発生防止膜を形成するものである。
（作用） 本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版は、表面
に膜厚0.5μｍ以下の極めて薄い透明なガラス質からな
る傷発生防止膜を形成して、表面の硬度を感光膜の硬度
と同等か、それ以上に高め、耐水性および耐薬品性を向
上させることにより、露光工程で用いられた際に異物な
どが付着しても表面に傷が入らず、乳剤および傷発生防
止膜の間にゼラチンの保護層を設けたことにより傷発生
防止膜の形成時に乳剤層を形成することを防止でき、焼
付けパターン欠陥によるシャドウマスク開孔欠陥の発生
がなくなり、保留が向上する。
に膜厚0.5μｍ以下の極めて薄い透明なガラス質からな
る傷発生防止膜を形成して、表面の硬度を感光膜の硬度
と同等か、それ以上に高め、耐水性および耐薬品性を向
上させることにより、露光工程で用いられた際に異物な
どが付着しても表面に傷が入らず、乳剤および傷発生防
止膜の間にゼラチンの保護層を設けたことにより傷発生
防止膜の形成時に乳剤層を形成することを防止でき、焼
付けパターン欠陥によるシャドウマスク開孔欠陥の発生
がなくなり、保留が向上する。
また、本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版の
製造方法は、金属アルコラートをアルコールで希釈した
液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス質膜を
形成し、このガラス質膜を加熱硬化させることにより、
膜厚の薄い透明なガラス質の傷発生防止膜を形成して、
表面の硬度を感光膜の硬度と同等か、それ以上に高め、
耐水性および耐薬品性を向上させることにより、露光工
程で用いられた際に異物などが付着しても表面に傷が入
らず、乳剤層および傷発生防止膜の間にゼラチンの保護
層を設けたことにより傷発生防止膜の形成時に乳剤層を
形成することを防止でき、焼付けパターン欠陥によるシ
ャドウマスク開孔欠陥の発生がなくなり、保留が向上す
る。
製造方法は、金属アルコラートをアルコールで希釈した
液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス質膜を
形成し、このガラス質膜を加熱硬化させることにより、
膜厚の薄い透明なガラス質の傷発生防止膜を形成して、
表面の硬度を感光膜の硬度と同等か、それ以上に高め、
耐水性および耐薬品性を向上させることにより、露光工
程で用いられた際に異物などが付着しても表面に傷が入
らず、乳剤層および傷発生防止膜の間にゼラチンの保護
層を設けたことにより傷発生防止膜の形成時に乳剤層を
形成することを防止でき、焼付けパターン欠陥によるシ
ャドウマスク開孔欠陥の発生がなくなり、保留が向上す
る。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
焼付け版は、第１図に示すように、平板状のガラス基
材１上に下引き層２が形成され、この下引き層２上にハ
ロゲン化鉄とゼラチンとの懸濁液である乳剤を塗布した
平滑な厚さ５〜７μｍの乳剤層３が形成され、この乳剤
層３は、シャドウマスク開孔部に相当する部分が不透明
な不透光乳剤部４で、この不透光乳剤部４以外の他の部
分が透明な透光乳剤部５である。そして、さらに乳剤層
３の上にゼラチンに硬膜材を添加した厚さ１μｍ以下の
保護膜６が形成されている。なお、不透光乳剤部４と透
光乳剤部５とは、原版から密着反転を繰り返して作製さ
れる。
材１上に下引き層２が形成され、この下引き層２上にハ
ロゲン化鉄とゼラチンとの懸濁液である乳剤を塗布した
平滑な厚さ５〜７μｍの乳剤層３が形成され、この乳剤
層３は、シャドウマスク開孔部に相当する部分が不透明
な不透光乳剤部４で、この不透光乳剤部４以外の他の部
分が透明な透光乳剤部５である。そして、さらに乳剤層
３の上にゼラチンに硬膜材を添加した厚さ１μｍ以下の
保護膜６が形成されている。なお、不透光乳剤部４と透
光乳剤部５とは、原版から密着反転を繰り返して作製さ
れる。
そして、上記保護膜６上の表面に金属アルコラートよ
り形成されたアモルファスの透明なガラス質からなる膜
厚1.5μｍ以下の傷発生防止膜11が形成されている。こ
の傷発生防止膜11は、次のように形成する。たとえば
鉄、チタン、ジルコニアなどの金属とケイ酸（SiO2）と
の金属アルコラートをイソプロピルアルコールやｎ−ブ
チルアルコールなどのアルコール類で希釈した液に、乳
剤層３および保護膜６を形成したガラス基材１を浸漬す
る。その後、ゆっくりと引上げて室温で乾燥してアモル
ファスの透明なガラス質膜を形成する。このガラス質膜
の表面が乾燥した後、60℃〜180℃の温度範囲で15分〜6
0分加熱ベーキング処理を施す。これらの処理により、
加水分解と重縮合反応とが起り、ガラス質膜を完全に硬
化させて硬度を高め、乳剤層３上の保護膜６の表面にア
モルファスの透明なガラス質からなる傷発生防止膜11を
形成する。この傷発生防止膜11の厚さは、用いる液の濃
度または塗膜回数にもよるが、0.3μｍ〜1.5μｍで、好
ましくは0.5μｍ〜1.0μｍの極めて薄い膜である。この
場合、金属アルコラートは、一回の塗膜厚を厚くした場
合、割れまたは膜むらを生じやすく、そのため、一回の
膜厚は0.3μｍ〜0.5μｍ程がよく、そして、0.3μｍ以
下の場合にはピンホールが生じることがあり、したがっ
て、傷発生防止効果上支障のない0.3μｍ〜1.5μｍがよ
い。また、この傷発生防止膜11の硬度は、シャドウマス
ク材上の感光膜の硬度と同等か、それ以上が必要で、高
ければ高い程よく、液組成やベーキング条件によって膜
硬度が変化するが、鉛筆硬度で6H〜9H程度が望ましい。
なお、傷発生防止膜11は、浸漬以外にスプレー塗布また
はスピン塗布などで形成してもよい。
り形成されたアモルファスの透明なガラス質からなる膜
厚1.5μｍ以下の傷発生防止膜11が形成されている。こ
の傷発生防止膜11は、次のように形成する。たとえば
鉄、チタン、ジルコニアなどの金属とケイ酸（SiO2）と
の金属アルコラートをイソプロピルアルコールやｎ−ブ
チルアルコールなどのアルコール類で希釈した液に、乳
剤層３および保護膜６を形成したガラス基材１を浸漬す
る。その後、ゆっくりと引上げて室温で乾燥してアモル
ファスの透明なガラス質膜を形成する。このガラス質膜
の表面が乾燥した後、60℃〜180℃の温度範囲で15分〜6
0分加熱ベーキング処理を施す。これらの処理により、
加水分解と重縮合反応とが起り、ガラス質膜を完全に硬
化させて硬度を高め、乳剤層３上の保護膜６の表面にア
モルファスの透明なガラス質からなる傷発生防止膜11を
形成する。この傷発生防止膜11の厚さは、用いる液の濃
度または塗膜回数にもよるが、0.3μｍ〜1.5μｍで、好
ましくは0.5μｍ〜1.0μｍの極めて薄い膜である。この
場合、金属アルコラートは、一回の塗膜厚を厚くした場
合、割れまたは膜むらを生じやすく、そのため、一回の
膜厚は0.3μｍ〜0.5μｍ程がよく、そして、0.3μｍ以
下の場合にはピンホールが生じることがあり、したがっ
て、傷発生防止効果上支障のない0.3μｍ〜1.5μｍがよ
い。また、この傷発生防止膜11の硬度は、シャドウマス
ク材上の感光膜の硬度と同等か、それ以上が必要で、高
ければ高い程よく、液組成やベーキング条件によって膜
硬度が変化するが、鉛筆硬度で6H〜9H程度が望ましい。
なお、傷発生防止膜11は、浸漬以外にスプレー塗布また
はスピン塗布などで形成してもよい。
上記の焼付け版は、表面に1.5μｍ以下の透明なガラ
ス質からなる傷発生防止膜11を形成することにより、表
面の硬度を感光膜の硬度と同等か、それ以上に高めると
ともに、耐水性および耐薬品性を向上させる。これによ
り、露光工程で用いられた際に異物などが付着しても表
面に傷が入らず、焼付けパターン欠陥によるシャドウマ
スク開孔欠陥の発生がなくなり、保留が向上する。
ス質からなる傷発生防止膜11を形成することにより、表
面の硬度を感光膜の硬度と同等か、それ以上に高めると
ともに、耐水性および耐薬品性を向上させる。これによ
り、露光工程で用いられた際に異物などが付着しても表
面に傷が入らず、焼付けパターン欠陥によるシャドウマ
スク開孔欠陥の発生がなくなり、保留が向上する。
なお、第１図に示すものでは、片面に傷発生防止膜11
を形成しているが、製造時に、目的とする面の反対面に
同様の膜が形成されても何ら実用上弊害はない。
を形成しているが、製造時に、目的とする面の反対面に
同様の膜が形成されても何ら実用上弊害はない。
次に、第１図に示す実施例による焼付け版と、第２図
に示す従来ルーの焼付け版とを用い、シャドウマスク材
の両主面に形成された感光膜にシャドウマスクパターン
を焼付ける露光工程で用い、欠陥の発生を比較した結果
を次表に示す。
に示す従来ルーの焼付け版とを用い、シャドウマスク材
の両主面に形成された感光膜にシャドウマスクパターン
を焼付ける露光工程で用い、欠陥の発生を比較した結果
を次表に示す。
この結果のように、上記実施例の焼付け版では、傷発
生防止膜硬度は6H〜9Hとシャドウマスク材上の感光膜の
膜硬度と同等か、それより数段高く、欠陥を発生させず
に連続パターン焼付けが可能な枚数は大幅に増加する。
また、欠陥発生数も少なく、再修整に要する時間が少な
くてすむ。なお、上記実施例の焼付け版のパターン欠陥
が発生したものを調べたところ、焼付け版の乳剤層厚と
シャドウマスク材の感光膜厚とを足した以上の大きな固
い異物が付着した場合であった。
生防止膜硬度は6H〜9Hとシャドウマスク材上の感光膜の
膜硬度と同等か、それより数段高く、欠陥を発生させず
に連続パターン焼付けが可能な枚数は大幅に増加する。
また、欠陥発生数も少なく、再修整に要する時間が少な
くてすむ。なお、上記実施例の焼付け版のパターン欠陥
が発生したものを調べたところ、焼付け版の乳剤層厚と
シャドウマスク材の感光膜厚とを足した以上の大きな固
い異物が付着した場合であった。
本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版によれ
ば、ゼラチンの保護層の表面上に、膜厚が0.5μｍ以下
の、シャドウマスク材上の感光膜の硬度と同等か、それ
より高い硬度を有するアモルファスの透明なガラス質か
らなる傷発生防止膜を形成することにより、ごみやほこ
りなどが付着しても表面には密着露光時に傷がつかない
ため、パターン欠陥発生が少なく、パターン欠陥発生に
より生じる連続マスク不良発生を大幅に低減でき、歩留
を向上することができるとともに、シャドウマスク材上
の感光膜に焼付けられるパターン潜像寸法変動への影響
はなく、さらに、焼付け版の連続使用時間が大幅に延
び、焼付け可能な枚数を大きく増加させることができ、
焼付け版のパターン欠陥発生による交換回数が減り、シ
ャドウマスクの歩留および露光装置の稼動率を向上でき
る。
ば、ゼラチンの保護層の表面上に、膜厚が0.5μｍ以下
の、シャドウマスク材上の感光膜の硬度と同等か、それ
より高い硬度を有するアモルファスの透明なガラス質か
らなる傷発生防止膜を形成することにより、ごみやほこ
りなどが付着しても表面には密着露光時に傷がつかない
ため、パターン欠陥発生が少なく、パターン欠陥発生に
より生じる連続マスク不良発生を大幅に低減でき、歩留
を向上することができるとともに、シャドウマスク材上
の感光膜に焼付けられるパターン潜像寸法変動への影響
はなく、さらに、焼付け版の連続使用時間が大幅に延
び、焼付け可能な枚数を大きく増加させることができ、
焼付け版のパターン欠陥発生による交換回数が減り、シ
ャドウマスクの歩留および露光装置の稼動率を向上でき
る。
また、本発明のシャドウマスク用パターン焼付け版の
製造方法によれば、金属アルコラートをアルコールで希
釈した液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス
質膜を形成し、このガラス質膜を加熱硬化させて傷発生
防止膜を形成することにより、膜厚が極めて薄く、感光
膜の硬度と同等か、それより高い硬度を有する傷発生防
止膜を容易にかつ安定して形成できるとともに、乳剤層
上のゼラチンの保護層に傷発生防止膜を設けることによ
り傷発生防止膜の形成時に乳剤層を損傷することを防止
できる。
製造方法によれば、金属アルコラートをアルコールで希
釈した液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス
質膜を形成し、このガラス質膜を加熱硬化させて傷発生
防止膜を形成することにより、膜厚が極めて薄く、感光
膜の硬度と同等か、それより高い硬度を有する傷発生防
止膜を容易にかつ安定して形成できるとともに、乳剤層
上のゼラチンの保護層に傷発生防止膜を設けることによ
り傷発生防止膜の形成時に乳剤層を損傷することを防止
できる。
第１図は本発明の焼付け版の一実施例を示す断面図、第
２図および第３図は従来の焼付け版を示す断面図であ
る。 １……ガラス基材、３……乳剤層、６……保護膜、11…
…傷発生防止膜。
２図および第３図は従来の焼付け版を示す断面図であ
る。 １……ガラス基材、３……乳剤層、６……保護膜、11…
…傷発生防止膜。
Claims (2)
- 【請求項１】シャドウマスク材の両主面に形成された感
光膜にシャドウマスクパターンを焼付ける露光工程で用
いられる焼付け版であって、 ガラス基材上に形成されシャドウマスク開孔部に相当す
る部分が不透光で他の部分は透光な乳剤層と、 この乳剤層上に形成されたゼラチンを有する保護膜と、 この保護膜上の表面に金属アルコラートより形成された
アモルファスの透明なガラス質の膜厚1.5μｍ以下の傷
発生防止膜と を具備したことを特徴とするシャドウマスク用パターン
焼付け版。 - 【請求項２】シャドウマスク開孔部に相当する部分が不
透光で他の部分は透光な乳剤層のシャドウマスクパター
ンおよびこの乳剤層上のゼラチンを有する保護膜を有す
るガラス基材に、金属アルコラートをアルコールで希釈
した液を塗布後乾燥してアモルファスの透明なガラス質
膜を形成し、 このガラス質膜を加熱硬化させて上記保護膜上の表面に
傷発生防止膜を形成する ことを特徴とするシャドウマスク用パターン焼付け版の
製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26771789A JP2831736B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | シャドウマスク用パターン焼付け版及びその製造方法 |
| DE69029503T DE69029503T2 (de) | 1989-10-13 | 1990-10-10 | Aperturenmuster-Flachdruckplatte zur Herstellung einer Schattenmaske und Verfahren zur Herstellung dieser Maske |
| EP19900119421 EP0422614B1 (en) | 1989-10-13 | 1990-10-10 | Aperture pattern-printing plate for shadow mask and method for manufacturing the same |
| US07/596,013 US5134015A (en) | 1989-10-13 | 1990-10-11 | Aperture pattern-printing plate for shadow mask and method for manufacturing the same |
| KR9016360A KR930000789B1 (en) | 1989-10-13 | 1990-10-13 | Opening hole pattern print plate for shadow mask and method of the same |
| KR9224109A KR930008828B1 (en) | 1989-10-13 | 1992-12-14 | Aperture pattern-printing plate for shadow mask and method for manufacturing the same |
| KR929224108A KR930008827B1 (en) | 1989-10-13 | 1992-12-14 | Aperture pattern-printing plate for shadow mask and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26771789A JP2831736B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | シャドウマスク用パターン焼付け版及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03129347A JPH03129347A (ja) | 1991-06-03 |
| JP2831736B2 true JP2831736B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=17448578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26771789A Expired - Fee Related JP2831736B2 (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | シャドウマスク用パターン焼付け版及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2831736B2 (ja) |
-
1989
- 1989-10-13 JP JP26771789A patent/JP2831736B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03129347A (ja) | 1991-06-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |