JPS5868835A - 陰極線管用螢光面の形成方法 - Google Patents
陰極線管用螢光面の形成方法Info
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- JPS5868835A JPS5868835A JP16723981A JP16723981A JPS5868835A JP S5868835 A JPS5868835 A JP S5868835A JP 16723981 A JP16723981 A JP 16723981A JP 16723981 A JP16723981 A JP 16723981A JP S5868835 A JPS5868835 A JP S5868835A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2278—Application of light absorbing material, e.g. between the luminescent areas
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は陰極線管用螢光面の形成方法に関するものであ
る。
る。
陰極線管、例えばシャドウマスク形カラー受像管は外囲
器の一部を構成するパネルの内面に赤。
器の一部を構成するパネルの内面に赤。
青、緑の三色の螢光体を所定の形状、例えば点状もしく
は帯状とした螢光体絵素を規則正しく配列して螢光面を
構成しており、さらに近時においては前記螢光体絵素２
間に非発光性光吸収物質層（黒色物質）を設けることが
広く行なわれている。甘た、螢光体粒子に顔料を付着さ
せた顔料付螢光体を用いることも行なわれている。
は帯状とした螢光体絵素を規則正しく配列して螢光面を
構成しており、さらに近時においては前記螢光体絵素２
間に非発光性光吸収物質層（黒色物質）を設けることが
広く行なわれている。甘た、螢光体粒子に顔料を付着さ
せた顔料付螢光体を用いることも行なわれている。
このような螢光面の形成方法を非発光性光吸収物質層を
有する構造、すなわち通称ＢＭタイプカラー受像管と呼
称されるカラー受像管について説明する。まず、パネル
内面にフォトレジスト膜を形成し、これを乾燥したのち
シャドウマスクを介して露光後、現像して、マトリック
ス状のフォトンシスト層を形成する。次にこの状態のパ
ネル内面に黒鉛全塗布し、その後エツチングを行なって
８Ｍ膜を形成する。その後前記ＢＭ膜を含めてパネル内
面を覆うように水溶性重合体材料の薄い下塗り層を形成
する。
有する構造、すなわち通称ＢＭタイプカラー受像管と呼
称されるカラー受像管について説明する。まず、パネル
内面にフォトレジスト膜を形成し、これを乾燥したのち
シャドウマスクを介して露光後、現像して、マトリック
ス状のフォトンシスト層を形成する。次にこの状態のパ
ネル内面に黒鉛全塗布し、その後エツチングを行なって
８Ｍ膜を形成する。その後前記ＢＭ膜を含めてパネル内
面を覆うように水溶性重合体材料の薄い下塗り層を形成
する。
次に、緑、青、赤色用の各螢光体スラリーを塗布し各色
毎にシャドウマスクを介して露光したのち、温水等によ
る現像により、非露光部を溶解させ、所望の形状の螢光
体絵素を被着して螢光体層を形成する。続いて、どれら
螢光体層上に有機樹脂被膜を形成したのち、アルミニウ
ム蒸着薄膜を形成する。その後螢光面の全有機物質を熱
分解させるために、アルミニウム薄膜形成後のパネルを
焼成してカラー受像管としての螢光面を形成する。
毎にシャドウマスクを介して露光したのち、温水等によ
る現像により、非露光部を溶解させ、所望の形状の螢光
体絵素を被着して螢光体層を形成する。続いて、どれら
螢光体層上に有機樹脂被膜を形成したのち、アルミニウ
ム蒸着薄膜を形成する。その後螢光面の全有機物質を熱
分解させるために、アルミニウム薄膜形成後のパネルを
焼成してカラー受像管としての螢光面を形成する。
このような工程からなる螢光面の形成において、前記螢
光体層を形成する際、パネル内面と螢光膜との付着強度
が弱い場合、温水などによる現像工程で螢光体の落ち、
欠けなどが発生する。
光体層を形成する際、パネル内面と螢光膜との付着強度
が弱い場合、温水などによる現像工程で螢光体の落ち、
欠けなどが発生する。
逆に付着強度が強い場合、露光焼き付は位置以外の非霧
光部へ螢光体が残り、カラー受像管と１〜て色純度の低
下ｆ：１ねくという欠点があった。このようなととから
、パネル内面に螢光体層を良好に付着させるために行な
われる通常の方法は、清浄なガラスパネル内面に前述し
たように水溶性重合体材料の簿い下塗り層を形成するこ
とである。
光部へ螢光体が残り、カラー受像管と１〜て色純度の低
下ｆ：１ねくという欠点があった。このようなととから
、パネル内面に螢光体層を良好に付着させるために行な
われる通常の方法は、清浄なガラスパネル内面に前述し
たように水溶性重合体材料の簿い下塗り層を形成するこ
とである。
代表的な方法としては、パネル内面を弗化水素酸水溶液
で洗浄し、脱イオン水ですすぎ洗いを行なった後、濃度
が０２〜０５重量係程度のポリビニルアルコールの稀釈
溶液を塗布し乾燥する。この結果、パネルガラス内面に
は、非常に薄い単分子層程度と思われるポリビニルアル
コール＋７）下塗す層が形成される。
で洗浄し、脱イオン水ですすぎ洗いを行なった後、濃度
が０２〜０５重量係程度のポリビニルアルコールの稀釈
溶液を塗布し乾燥する。この結果、パネルガラス内面に
は、非常に薄い単分子層程度と思われるポリビニルアル
コール＋７）下塗す層が形成される。
この層は次に塗布される重クロム酸で感光性を付与した
ポリビニルアルコールと螢光体粒子などからなる螢光体
被膜の付着性を改善することが知られている。また、付
着性をさらに改善する方法として、前述の下塗り層と組
合わせて、あるいは単独に螢光体表面のコーティングの
改良、螢光体３− スラリー中に増感剤あるいはシリカ、シランカップリン
グ剤もしくは熟成膜性エマルジョンを添加する方法また
露光時または露光後にパネル外面より一定時間紫外線を
照射する背面露光方法などが知られている。
ポリビニルアルコールと螢光体粒子などからなる螢光体
被膜の付着性を改善することが知られている。また、付
着性をさらに改善する方法として、前述の下塗り層と組
合わせて、あるいは単独に螢光体表面のコーティングの
改良、螢光体３− スラリー中に増感剤あるいはシリカ、シランカップリン
グ剤もしくは熟成膜性エマルジョンを添加する方法また
露光時または露光後にパネル外面より一定時間紫外線を
照射する背面露光方法などが知られている。
ところが、これらの方法で螢光体の付着を強くすると、
露光後の現像工程でパネルガラス上の非露光部へ螢光体
が歿す、混色が生じて螢光面の色純度の低下をきたして
しまう。さらに非露光部のパネル有効表示区域外の部分
、たとえばパネルガラススカート内側面上にも同様に螢
光体が残存し、カラー受像管として動作させた時、電子
銃からの電子ビームの過走査および散乱等により、有効
面外に付着した螢光体が発光し、受像管としての品質に
害をおよぼすことになる。
露光後の現像工程でパネルガラス上の非露光部へ螢光体
が歿す、混色が生じて螢光面の色純度の低下をきたして
しまう。さらに非露光部のパネル有効表示区域外の部分
、たとえばパネルガラススカート内側面上にも同様に螢
光体が残存し、カラー受像管として動作させた時、電子
銃からの電子ビームの過走査および散乱等により、有効
面外に付着した螢光体が発光し、受像管としての品質に
害をおよぼすことになる。
さらにこのことは近年受像管のパネル側面の一部をテレ
ビジョンセントから露出させて使用する方式のもの、す
なわちブツシュスルータイプのものではその構造上多く
の問題を有していた。
ビジョンセントから露出させて使用する方式のもの、す
なわちブツシュスルータイプのものではその構造上多く
の問題を有していた。
このようなことから、不要な部分に残存する螢４−
光体を除去する方法として、第１に露光後の螢光膜の現
像条件たとえばスプレー圧力１時間２ｇＡ水温度などｆ
調整する方法、ｆｉｃ２に螢光体、感光性結合剤スラリ
ー中にある種の添加物を施す方法、第３にポリビニルア
ルコールなどの結合剤の濃度。
像条件たとえばスプレー圧力１時間２ｇＡ水温度などｆ
調整する方法、ｆｉｃ２に螢光体、感光性結合剤スラリ
ー中にある種の添加物を施す方法、第３にポリビニルア
ルコールなどの結合剤の濃度。
重合度を低くする方法などが提案されている。しかし、
これら上記いずれの方法でも螢光体層の落ち、欠けを発
生させずに残存する螢光体を完全に除去することは困難
であった。また、パネル有効面外の残存螢光体を除去す
る場合には、パネル内側面を手作業あるいは機械装置に
より機械的に拭き取らねばならない。しかし、これらの
方法では、パネル側面の仕上げ状態の悪さや作業能率の
低下をまねく等の種々の問題点を有していた。また、従
来技術として下塗り層として非水溶性の有機重合体粒子
を含み、かつ膜重量を００８〜０．８■／−２としたも
のを用いる螢光スクリーンの形成法が提案されている。
これら上記いずれの方法でも螢光体層の落ち、欠けを発
生させずに残存する螢光体を完全に除去することは困難
であった。また、パネル有効面外の残存螢光体を除去す
る場合には、パネル内側面を手作業あるいは機械装置に
より機械的に拭き取らねばならない。しかし、これらの
方法では、パネル側面の仕上げ状態の悪さや作業能率の
低下をまねく等の種々の問題点を有していた。また、従
来技術として下塗り層として非水溶性の有機重合体粒子
を含み、かつ膜重量を００８〜０．８■／−２としたも
のを用いる螢光スクリーンの形成法が提案されている。
この技術は、露光部の螢光体層の接着性は大幅に同士す
るという特長を持つ反面、厚い下塗り層が施されている
ため、露光時にパネルガラス内外部での露光光線の乱反
射が起こり、所望の領域外も感光されるいわゆる暗反応
に似た現象が生じ、非露光部に螢光体が残存すること及
びアルミニウム蒸着被膜形成後、すなわちメタルバック
後の焼成工程で前記アルミニウム膜に火フくれが発生す
る等種々の致命的な欠点を有することが本発明者等の実
験で確認されている。
るという特長を持つ反面、厚い下塗り層が施されている
ため、露光時にパネルガラス内外部での露光光線の乱反
射が起こり、所望の領域外も感光されるいわゆる暗反応
に似た現象が生じ、非露光部に螢光体が残存すること及
びアルミニウム蒸着被膜形成後、すなわちメタルバック
後の焼成工程で前記アルミニウム膜に火フくれが発生す
る等種々の致命的な欠点を有することが本発明者等の実
験で確認されている。
さらに、従来の下塗り層を用いた方法では、螢光体スラ
リー塗布後の乾燥時及び乾燥終了後のパネルガラス温度
や露光時の雰囲気、例えば温度。
リー塗布後の乾燥時及び乾燥終了後のパネルガラス温度
や露光時の雰囲気、例えば温度。
湿度等によっても前記暗反応が発生することもあり、前
述と同様致命的な欠点を有していた。
述と同様致命的な欠点を有していた。
したがって本発明は、前述のような欠点を解決した優れ
た螢光面の形成方法を提供することを目的としている。
た螢光面の形成方法を提供することを目的としている。
すなわち、本発明はパネルの内面に塗布するフォトレジ
スト層を巧みに利用し、螢光体層の落ち。
スト層を巧みに利用し、螢光体層の落ち。
欠けがなく、かつ非露光部への不所望な螢光体の残存が
生じない優れた螢光面の形成方法を提供するものである
。
生じない優れた螢光面の形成方法を提供するものである
。
以下図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図ないし第６図は本発明による陰極ｆ！管用螢光面
の形成方法の一例を説明する要部断面工程図である。こ
、れらの図において、まず第１図に示スヨウにパネル１
の内面に光硬化性の７オトレジストを均一に塗布し、乾
燥してフォトレジスト層２を形成する。次いで第２図に
示すようにこのフォトレジスト層２上に各色の螢光体が
発光すべき位置に光３が当るようにシャドウマスク４を
介して図示しない点状または線状の光源で所宇の位置を
露光し、該露光部のフオトレジス）＊２ａを硬化させる
。この場合、非露光部の７オトレジスト層２ｂは硬化さ
れない。引き続きこのフォトレジスト層２ａ 、 ２ｂ
を温水によるスプレー現像を行なって非露光非硬化部の
フォトレジスト層２ｂを溶解除去し、第３図に示すよう
に各色の螢光体を発光させるべき位置の露光硬化部の７
オトレジスト層２ａを形成した後、パネル１の内面全面
に重クロム酸ナトリウムなどの硬膜性のある水溶液を塗
７− 布乾燥し、これを全面露光もしくは加熱することにより
、フォトレジスト層２ａの表面だけを硬膜化して撥水性
にする。次に第４図に示すようにこのパネル１の内面全
面に非発光性光吸収物質として黒鉛懸濁液を塗布して乾
燥させ、黒鉛層５を形成する。この場合、フォトレジス
ト層２ａにｉｌ［を水処理が施されているので、このフ
ォトレジスト層２ａには黒鉛懸濁液が付着されず、フォ
トンシスト層２ａ相互間のガラスパネル１内面上のみに
付着されることになる。引き続きこのパネル１の内面′
ｆ極く低濃度の過酸化水素などの酸化剤溶液中に浸漬さ
せることによって、フォトレジスト層２ａの表面をハー
フエツチング処理し、純水によるスプレー現像を行なつ
九後、加熱もしくけ空気乾燥して第５図に示すように残
留したフォトレジスト層２ａの薄膜層からなる下塗り層
２１Ｌ′およびブラックマトリックスストライプ層５ａ
が形成される。次いで第６図に示すように薄膜状の下塗
り層２＆′上に通常のスラリー法またはダスティング法
によって緑、青、赤の各色の螢光体！８ｇ＋８ｂ＋８− ６ｒを形成し之後、これらの螢光体層６ ｇ 、６ ｂ
＋ ８ ｒ上にフィルミング層Ｔを形成し、さらにメタ
ルバック層８を蒸着形成して次のベーキング工程で下塗
シ層２龜′をフィルミング層γとともに焼成して蒸発さ
せてブランクマトリックス螢光面が形成される。
の形成方法の一例を説明する要部断面工程図である。こ
、れらの図において、まず第１図に示スヨウにパネル１
の内面に光硬化性の７オトレジストを均一に塗布し、乾
燥してフォトレジスト層２を形成する。次いで第２図に
示すようにこのフォトレジスト層２上に各色の螢光体が
発光すべき位置に光３が当るようにシャドウマスク４を
介して図示しない点状または線状の光源で所宇の位置を
露光し、該露光部のフオトレジス）＊２ａを硬化させる
。この場合、非露光部の７オトレジスト層２ｂは硬化さ
れない。引き続きこのフォトレジスト層２ａ 、 ２ｂ
を温水によるスプレー現像を行なって非露光非硬化部の
フォトレジスト層２ｂを溶解除去し、第３図に示すよう
に各色の螢光体を発光させるべき位置の露光硬化部の７
オトレジスト層２ａを形成した後、パネル１の内面全面
に重クロム酸ナトリウムなどの硬膜性のある水溶液を塗
７− 布乾燥し、これを全面露光もしくは加熱することにより
、フォトレジスト層２ａの表面だけを硬膜化して撥水性
にする。次に第４図に示すようにこのパネル１の内面全
面に非発光性光吸収物質として黒鉛懸濁液を塗布して乾
燥させ、黒鉛層５を形成する。この場合、フォトレジス
ト層２ａにｉｌ［を水処理が施されているので、このフ
ォトレジスト層２ａには黒鉛懸濁液が付着されず、フォ
トンシスト層２ａ相互間のガラスパネル１内面上のみに
付着されることになる。引き続きこのパネル１の内面′
ｆ極く低濃度の過酸化水素などの酸化剤溶液中に浸漬さ
せることによって、フォトレジスト層２ａの表面をハー
フエツチング処理し、純水によるスプレー現像を行なつ
九後、加熱もしくけ空気乾燥して第５図に示すように残
留したフォトレジスト層２ａの薄膜層からなる下塗り層
２１Ｌ′およびブラックマトリックスストライプ層５ａ
が形成される。次いで第６図に示すように薄膜状の下塗
り層２＆′上に通常のスラリー法またはダスティング法
によって緑、青、赤の各色の螢光体！８ｇ＋８ｂ＋８− ６ｒを形成し之後、これらの螢光体層６ ｇ 、６ ｂ
＋ ８ ｒ上にフィルミング層Ｔを形成し、さらにメタ
ルバック層８を蒸着形成して次のベーキング工程で下塗
シ層２龜′をフィルミング層γとともに焼成して蒸発さ
せてブランクマトリックス螢光面が形成される。
以下具体例を用いて説明する。
まず、２０形カラー受像管のパネル内面に光硬化性のフ
ォトレジスト層を形成する。この場合、このフォトレジ
スト層は後工程のベーキングで焼失するような熱分解性
を有するものであることが望ましく、例えばポリアクリ
ルアミドジアセトンアミド（ＰＡＤ）−ビスアジド系、
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）−重クロム酸ナトリウ
ム系またけポリアクリルアミド（ＦＡＡ ）−ポリビニ
ルピロリドン（ｐｖｐ ）−ビスアジド系の感光性水溶
液を回転塗布機を用いてパネル内面上に約２００ｒＰｍ
の回転数で回転塗布し、赤外線ヒータにより乾燥して厚
さ０．５〜１μｍ程度のフォトレジスト層を形成する。
ォトレジスト層を形成する。この場合、このフォトレジ
スト層は後工程のベーキングで焼失するような熱分解性
を有するものであることが望ましく、例えばポリアクリ
ルアミドジアセトンアミド（ＰＡＤ）−ビスアジド系、
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）−重クロム酸ナトリウ
ム系またけポリアクリルアミド（ＦＡＡ ）−ポリビニ
ルピロリドン（ｐｖｐ ）−ビスアジド系の感光性水溶
液を回転塗布機を用いてパネル内面上に約２００ｒＰｍ
の回転数で回転塗布し、赤外線ヒータにより乾燥して厚
さ０．５〜１μｍ程度のフォトレジスト層を形成する。
次にシャドウマスクを装着した露光台の上で露光強度約
３ Ｗ／ｍ、２で約２５秒間露光し、この露光部分のフ
ォトンシスト層のみを硬化させる。次にこのフォトレジ
スト層全面にノズル径０．５ｍのスプレーを用いて約４
０℃の温水を約２．５にν揖２の圧力で約７０秒間射出
して温水現像する。この場合、露光硬化したフォトレジ
スト層のみが残留し、非露光部は完全に除去される。引
き続き残留したこのフォトレジスト層に撥水処理液を塗
布して乾燥させ硬膜化させる。この場合、との撥水処理
液としてハ、例えば１ｗｔ係の重クロム酸アンモニウム
（ＡＤＣ） 、重クロム酸ナトリウム（ＮａＤＣ） 、
重クロム酸カリウム（ＫＤＣ）もしくはフロン系界面活
性剤の水溶液が好適である。オた乾燥はパネル温度を約
１３０℃で数分間の加熱乾燥もしくは露光台の上で露光
強度５０ Ｗ／ｍ２で約３０秒間全面露光して乾燥させ
ても良い。次いでこのパネル内面全面に５ｗｔｑｂ黒鉛
を含む黒鉛Ｍ濁液を０．３〜０７μｍの膜厚に塗布し、
赤外線ヒータで約５０℃２分間加熱乾燥させる。この場
合、露光硬化したフォトレジスト層は撥水処理されてい
るので、このフォトレジスト層上には黒鉛懸濁液は付着
されず、フォトレジスト膜相互間のパネル内面上のみに
被着形成されることになる。引き続きこのパネル内面を
酸化剤溶液中に浸漬し、フォトレジスト層の膜厚が０．
０５〜０．２μｍ程度になるまでハーフエツチングする
。
３ Ｗ／ｍ、２で約２５秒間露光し、この露光部分のフ
ォトンシスト層のみを硬化させる。次にこのフォトレジ
スト層全面にノズル径０．５ｍのスプレーを用いて約４
０℃の温水を約２．５にν揖２の圧力で約７０秒間射出
して温水現像する。この場合、露光硬化したフォトレジ
スト層のみが残留し、非露光部は完全に除去される。引
き続き残留したこのフォトレジスト層に撥水処理液を塗
布して乾燥させ硬膜化させる。この場合、との撥水処理
液としてハ、例えば１ｗｔ係の重クロム酸アンモニウム
（ＡＤＣ） 、重クロム酸ナトリウム（ＮａＤＣ） 、
重クロム酸カリウム（ＫＤＣ）もしくはフロン系界面活
性剤の水溶液が好適である。オた乾燥はパネル温度を約
１３０℃で数分間の加熱乾燥もしくは露光台の上で露光
強度５０ Ｗ／ｍ２で約３０秒間全面露光して乾燥させ
ても良い。次いでこのパネル内面全面に５ｗｔｑｂ黒鉛
を含む黒鉛Ｍ濁液を０．３〜０７μｍの膜厚に塗布し、
赤外線ヒータで約５０℃２分間加熱乾燥させる。この場
合、露光硬化したフォトレジスト層は撥水処理されてい
るので、このフォトレジスト層上には黒鉛懸濁液は付着
されず、フォトレジスト膜相互間のパネル内面上のみに
被着形成されることになる。引き続きこのパネル内面を
酸化剤溶液中に浸漬し、フォトレジスト層の膜厚が０．
０５〜０．２μｍ程度になるまでハーフエツチングする
。
この場合、この酸化剤としては０．５ｗｔ幅過酸化水素
と０．０５ｗｔ％スルファミン酸とからなる水溶液。
と０．０５ｗｔ％スルファミン酸とからなる水溶液。
１ｗｔ幅過酸化水素と残部ＰＨ−９のアンモニア水とか
らなる水溶液＋ ４ ｗ ｔ ％水酸化ナトリウム水溶
液、 ０．５ｗｔ％次亜鉛素す） １７ウム水溶液もし
くは２ｗｔ％過マンガン酸カリウム水溶液などが好適で
ある。引き続きこのパネル内面にノズル径約３醋のスプ
レーを用いて純水を約３．５ｋｌ／ｃｒｎ２の圧力で約
５０秒間射出してスプレー現像した後、上記同様の乾燥
手段もしくは空気乾燥によりパネル内面を乾燥して薄膜
状の７オトレジスト層から在る下塗り層およびブランク
マトリックスストライプ層が形成される。
らなる水溶液＋ ４ ｗ ｔ ％水酸化ナトリウム水溶
液、 ０．５ｗｔ％次亜鉛素す） １７ウム水溶液もし
くは２ｗｔ％過マンガン酸カリウム水溶液などが好適で
ある。引き続きこのパネル内面にノズル径約３醋のスプ
レーを用いて純水を約３．５ｋｌ／ｃｒｎ２の圧力で約
５０秒間射出してスプレー現像した後、上記同様の乾燥
手段もしくは空気乾燥によりパネル内面を乾燥して薄膜
状の７オトレジスト層から在る下塗り層およびブランク
マトリックスストライプ層が形成される。
このようにフォトレジスト層の薄膜層から々る下塗り層
全形成した結果、このフォトレジスト層１１− にはポリビニルアルコール、ポリアクリルアミドポリビ
ニルピロリドン等の水溶性高分子が含まれているので、
その上面に形成された螢光体層は接着性が大幅に向上し
、螢光体層の落ち、欠は等の発生がなく、シかも非露光
部（下塗り層）上の残存螢光体量も従来のものに比べて
極めて少なくすることができ、さらにスカート部への付
着も大幅に改善することができた。また、下塗り層を７
オトレジスト層で形成したことによって、洗浄、乾燥に
電気、水等のエネルギーおよび諸材料を多量に使用する
下塗り層の形成工程が不要となるので、螢光面の形成工
程が大幅に短縮でき、学童コストを低減できる。
全形成した結果、このフォトレジスト層１１− にはポリビニルアルコール、ポリアクリルアミドポリビ
ニルピロリドン等の水溶性高分子が含まれているので、
その上面に形成された螢光体層は接着性が大幅に向上し
、螢光体層の落ち、欠は等の発生がなく、シかも非露光
部（下塗り層）上の残存螢光体量も従来のものに比べて
極めて少なくすることができ、さらにスカート部への付
着も大幅に改善することができた。また、下塗り層を７
オトレジスト層で形成したことによって、洗浄、乾燥に
電気、水等のエネルギーおよび諸材料を多量に使用する
下塗り層の形成工程が不要となるので、螢光面の形成工
程が大幅に短縮でき、学童コストを低減できる。
なお、本発明は螢光面の黒色物質の有無にかかわらず、
カラー受像管の螢光面形成に適用できるし、また他の陰
極線管の螢光面の形成方法にも適用できることは勿論の
ことである。
カラー受像管の螢光面形成に適用できるし、また他の陰
極線管の螢光面の形成方法にも適用できることは勿論の
ことである。
以上説明したように本発明によれば、残留させたフォト
レジスト膜を薄膜状とした下塗り層を形成することによ
って、特に従来の工程を短縮させ１２− なから螢光面のどの部分にも欠損を生じるととなく、ま
念焼成工程の有機物熱分解時のガス放出により発生する
アルミニウム膜の火ぶくれも発生しない。さらに下塗り
層の残留物も残すことなく、色純度の良い螢光体層を形
成することができる。
レジスト膜を薄膜状とした下塗り層を形成することによ
って、特に従来の工程を短縮させ１２− なから螢光面のどの部分にも欠損を生じるととなく、ま
念焼成工程の有機物熱分解時のガス放出により発生する
アルミニウム膜の火ぶくれも発生しない。さらに下塗り
層の残留物も残すことなく、色純度の良い螢光体層を形
成することができる。
さらに膜厚が従来の方法に比べて小さいことから暗反応
的な問題は発生せず、したがって螢光体豊存も起こり難
くなり、乾燥条件等の作業上の裕叩も向上するなどの極
めて優れた〃Ｉ果が得られる。
的な問題は発生せず、したがって螢光体豊存も起こり難
くなり、乾燥条件等の作業上の裕叩も向上するなどの極
めて優れた〃Ｉ果が得られる。
第１図ないし第６図は本発明による陰極線管用螢光面の
形成方法の一例を説明する要部断面工程図である。 Ｉｌｌ・會・パネル、２・―・・フォトレジスト層、２
＠愉・・Φ露光部のフォトレジスト層２ 、／・・・・
下塗り層、２ｂ・・・・非露光部のフォトレジスト層、
３９ｅの・光、４ｓ・・◆シャドウマスク、５−１・φ
黒鉛層、５ＩＬの・・・ブラックマトリックスストライ
プ層、６ｇ、６ｂ、６ｒ拳・・・螢光体層、７・・・・
フィルミング層、８・・９・メタルバック層。 −１５−
形成方法の一例を説明する要部断面工程図である。 Ｉｌｌ・會・パネル、２・―・・フォトレジスト層、２
＠愉・・Φ露光部のフォトレジスト層２ 、／・・・・
下塗り層、２ｂ・・・・非露光部のフォトレジスト層、
３９ｅの・光、４ｓ・・◆シャドウマスク、５−１・φ
黒鉛層、５ＩＬの・・・ブラックマトリックスストライ
プ層、６ｇ、６ｂ、６ｒ拳・・・螢光体層、７・・・・
フィルミング層、８・・９・メタルバック層。 −１５−
Claims (1)
- パネルの内面に螢光体が被着形成された陰極線管用螢光
面の形成方法において、前記パネルの内面にフォトレジ
スト層を形成する工程と、前記フォトレジスト層にシャ
ドウマスクを介して螢光体絵素を形成すべき位置を露光
する工程と、前記露光の非露光部を現像除去してフォト
レジスト層の絵素を形成する工程と、前記フォトレジス
ト層の絵素を撥水処理し硬膜化する工程と、前記硬膜処
理したフォトレジスト層の絵素が形成されたパネル内面
に黒鉛被膜を形成する工程と、前記硬膜処理したフオ）
Ｉ／シスト層の絵素をハーフエツチングする工程と、前
記ハーフエツチングされたフォトレジスト層の絵素上に
螢光体を分散させた各色の螢光体層を形成する工程と、
前記螢光体層上にフィルミング層を形成する工程と、前
記フィルミング層上にメタルバンク層を形成する工程と
、前記パネル全焼成する工程とを備え、前記硬膜処理し
たフォトンシスト層をハーフエツチングすることによっ
て、パネル内面子にフオ）Ｌ／シスト層の薄膜からなる
下塗り層を形成することを特徴とした陰極線管用螢光面
の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16723981A JPS5868835A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 陰極線管用螢光面の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16723981A JPS5868835A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 陰極線管用螢光面の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5868835A true JPS5868835A (ja) | 1983-04-23 |
Family
ID=15846032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16723981A Pending JPS5868835A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 陰極線管用螢光面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5868835A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135646A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-05-24 | Nec Corp | カラー受像管蛍光膜の製造方法 |
| US5641611A (en) * | 1995-08-21 | 1997-06-24 | Motorola | Method of fabricating organic LED matrices |
-
1981
- 1981-10-21 JP JP16723981A patent/JPS5868835A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135646A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-05-24 | Nec Corp | カラー受像管蛍光膜の製造方法 |
| US5641611A (en) * | 1995-08-21 | 1997-06-24 | Motorola | Method of fabricating organic LED matrices |
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