TWI298821B - Resist composition - Google Patents

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修正日期：93年2月6日 129883ipifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 玖、發明說明： 發明領域 本發明是有關於一種用於半導體精細加工製程的光阻 組成物。 發明背景 微影製程經常用於積體電路和液晶顯示器元件的製作 中。在這種製程中所使用的光阻，其組成較佳是含有酚醛 淸漆樹脂和一種具有醌二疊氮基之阻溶劑（dissolution inhibiting agent)，而且具有這種組成之光阻係廣泛地應用 於g線（g line)和i線(i line)等的微影製程中。然而，爲 了得到精細圖案，就必須要提高這些光阻在濕蝕刻製程中 的緊密吸附性及在電漿飩刻製程中的耐熱性。 最近，隨著元件往高集積度的發展，而迫切需要能夠 形成次微米級的精細圖案。由於激態原子鐳射微影製程能 夠用於製作64M到1G的DRAM，因此激態原子鐳射微影 製程已經受到廣泛的注意。而適用於這種激態原子鐳射微 影製程之光阻係傾向於使用一種化學增強型光阻，此種所 謂的化學增強型光阻係藉由酸催化而具有化學放大效果。 對於這種化學增強型光阻而言，光酸產生劑受到輻射之部 分會產生酸，而且受到輻射部分在鹼性顯影劑（developer) 的溶解性也會在使用這種酸作爲催化劑的反應中產生改 變’在某些情況下需要後續加熱（曝光後烘烤，這裏簡寫 作PEB)。這樣，就形成了正圖案和負圖案。 修正日期：93年2月6日 12988〇^lpifi.d〇c/〇i2 爲第91119486號說明書無劃線修正本 通常，這些光阻組成物在曝光波長具有較高的透明 度，因而需要較高的解析度。例如，用於KrF激態原子鐳 射微影製程的光阻通常是選用以聚對羥苯乙烯（P-hydroxystyrene)爲基礎之樹脂，其中邰分的酣經基藉由 酸反應的基團解離而受到保護。但是，當對這種化學增強 型的光阻進行濕蝕刻或者類似的處理時’由於光阻和基底 在介面部分結合得不夠緊密’因此當蝕刻溶液的浸入或者 類似的影響產生時，就會造成已經形成的圖案從邊緣部位 脫落下來。 發明槪沭 有鑑於此，本發明之一目的爲提供一種光阻組成物， 特別是一種正光阻組成物，它能夠提高光阻和基底在介面 部分結合的緊密性、改善濕蝕刻處理時遇到的問題、且具 有良好的敏感度、解析度和耐熱性。 申請人進行了深入的硏究，結果發現藉由使光阻組成 物含有一種特殊成分，而可以提高光阻和基底在介面部分 結合的緊密性，並且能夠改善濕飩刻處理時遇到的問題。 在這一發現以及大量的深入硏究的基礎上，完成了本發 明。 換句話說，本發明是有關於Π] —種光阻組成物，此光 阻組成物是由結構式（I)所描述的化合物所構成。 1298821 y许//月修(果)正替換頁

其中，R1和R2分別表示一個氫原子或者一個烷基；R3則表 示一個氫原子、烷基、芳基、芳烷基、鏈烯基、烷羰基、 芳羰基或芳烷羰基；所提供之烷基、芳基、芳烷基、鏈烯 基/烷羰基、芳羰基和芳烷羰基能夠選擇性地替換一個羧 基、氧化羰基、羥基、烷氧基或者烷基；n表示1到40之 間的一個整數，m表示1到5之間的一個整數，1表示1到 5之間的一個整數。 而且’本發明是有關於[2]—種正光阻組成物，此正光 阻組成物包括一種鹼溶性樹脂、一種阻溶劑和結構式（I) 所表示的化合物。 此外’本發明是有關於[3]—種化學增強型的正光阻組 成物’此化學增強型的正光阻組成物包括一種自身在鹼性 水溶液中不溶或微溶，但是可以藉由與酸發生反應而變得 可溶於鹼性水溶液的樹脂、一光酸產生劑和上述結構式（I) 所表示的化合物。 爲讓本發明之上述目的、特徵、優點能更明顯易懂， 下文特舉一較佳實施例作詳細說明如下： 1298821 p———-——— 年//月f修(f !Έ替換頁 較佳實施例之詳細說明 本發明的光阻組成物的特徵在於其含有上述結構式 (I)所表示的化合物。結構式（I)所表示的化合物可以單 獨使用，也可以兩種或者多種結合使用。 在結構式（I)中，R1和R2分別表示一個氫原子或者 一個烷基，R1和R2較佳爲氫原子或者含有1到4個碳原子 的烷基，R1和R2更佳爲氫原子或者甲基。 R3表示一個氫原子、烷基、芳基、芳烷基、鏈烯基、 烷羰基、芳羰基或者芳烷羰基，R3較佳是氫原子、含有1 到10個碳原子的烷基、含有6到15個碳原子的芳基、含 有7到15個碳原子的芳烷基、含有2到10個碳原子的鏈 烯基、含有2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個碳 原子的芳羰基和含有7到15個碳原子的芳烷羰基。R3更佳 是氫原子、含有2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15 個碳原子的芳羰基和含有7到15個碳原子的芳烷羰基。 烷基、芳基、芳烷基、鏈烯基、烷羰基、芳羰基和芳 烷羰基能夠選擇性地替換一個羧基、氧化羰基、羥基、烷 氧基或者院基。 烷基、鹵代烯烴包括直鏈、支鏈和環狀的基團。 對於R3而言，以下面的結構式（Π)所表示基團最爲 合適。 修正曰期：93年2月6日 129882slpifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 H0 (II) η表示1到40之間的整數，較佳爲1到20。m表示1到5 之間的整數，且1表示1到5之間的整數。 結構式（I)所表示的化合物的末端是氫原子。 結構式（I)所表示的化合物以凝膠滲透色層分析（Gel Permeation Chromatography，GPC)法所測得的分子量範 圍較佳是500到20000左右。 結構式（I)所表示的化合物的具體例子也包括下面 的化合物。

HO

CH3 (Ilia) 修正日期：93年2月6日 12988)2slpin .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本

HO ο——ch2—CH—ch2—o—c—ch=ch2 ——ch2- (Illb) 9—CH「cH 喝

h3c (IIIc) 當結構式（i)所表示的化合物中的R3代表氫原子時， 則形成例如是結構式（IIIc)所表示的化合物，此化合物 是根據習知的方法，藉由於酚醛淸漆環氧樹脂（比如甲酚 酚醛淸漆環氧樹脂、苯酚酚醛淸漆環氧樹脂或者其他）中 添加一個不飽和一元羧酸（比如丙烯酸、甲基丙烯酸或者 12 修正日期：93年2月6日 12988〇^ipifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 其他）而得到之。而且，根據習知的方法，藉由影響羥基 的加成反應（酯化反應），可以得到結構式〇)所表示的 化合物，其中R3代表不同的基團。舉例來說，四氫化酞 酸酐與酚醛淸漆環氧樹脂反應，可以得到結構式（Ilia) 和結構式（Illb)所表示的化合物。 結構式（I)所表示的化合物也可以藉由商業途徑而 獲得之，一個例子就是Showa Kobunshi Κ·Κ·所生產的樹 脂（商品名爲PR-310)，以及其他類似的產品。 就本發明而言，光阻組成物所使用的鹼溶性樹脂（組 成物[2])並沒有特別的限制，而可以使用習知此技術者所 周知的鹼溶性樹脂，其較佳是使用酚醛淸漆樹脂。酚醛淸 漆樹脂通常是由苯酚類化合物和醛在酸催化劑的作用下聚 縮合而生成的。在生產酚醛淸漆樹脂時所使用的苯酚類化 合物的例子包括：苯酚，鄰位、間位或者對位甲酚，2,3_、 2,5-、3,4-或3,5-二甲苯酚，2,3,5三甲基苯酚，2-、3-或4_ 特丁基苯酚，2-特丁基-4_或5-甲基苯酚，2-、4-或5-甲基 間-苯二酚，2-、3-、或4-甲氧基苯酚，2,3-、2,5·或3,5- 二甲氧基苯酚，2-甲氧基間-苯二酚，4-特丁基兒茶酚，2_、 3-或4-乙基苯酚，2,5-或3,5-二乙基苯酚，2,3,5-三乙基苯 酚，2-萘酚，1，3-、1，5-或1，7-二羥基萘。聚羥基三苯基甲 烷類的化合物，以及其他類似物可藉由二甲基苯酚和經基 苯甲醛聚縮合而得到之。這些苯酚類化合物可以單獨使 用，也可以兩種或者多種結合使用。 用於製造酚醛淸漆樹脂的醛類包括脂肪族醛（如甲 13 1298SSsllpifl .doc/012 修正日期：93年2月6曰 爲第91119486號說明書無劃線修正本 醛、乙醛、丙醛、正-丁醛、異-丁醛、丙烯醛或巴豆醛）、 脂環族醛（如環己醛、環戊醛、糠醛或呋喃基丙烯醛）、 芳香族醛（如苯甲醛，鄰位、間位或者對位甲基苯甲醛， 對位乙基苯甲醒’ 2,4-、2,5-、3,4-、3,5-二甲基苯甲酸， 對位、間位或者鄰位羥基苯甲醛）、芳香族脂肪醛（苯乙 醛、肉桂醛）及其他醛。這些醛類化合物可以單獨使用， 也可以在必要時兩種或者多種結合使用。在這些酸類化合 物中’甲醛優先使用’因爲其比較容易從工廠獲得。 用於催化苯酚類化合物和醛聚縮合的酸催化劑的例子 包括無機酸（如鹽酸、硫酸、過氯酸或磷酸）、有機酸（如 甲酸、乙酸、草酸、三氯乙酸或對甲苯磺酸）、二價金屬 鹽（如醋酸鋅、氯化鋅、醋酸鎂）。這些酸催化劑可以單 獨使用，也可以在必要時兩種或者多種結合使用。聚縮合 反應可以利用習知的方法來實現，舉例來說，在60〜120°C 的溫度範圍內處理2到30小時。 就由聚縮合反應得到的酚醛淸漆樹脂而言，較佳是經 過分餾等操作除去小分子量的成分，以縮小分子量分佈之 範圍，從而使所得到的酚醛淸漆樹脂主要含有大分子量的 組成。特別是，使用以聚苯乙烯作爲標準物的凝膠滲透色 層分析（GPC)測定酚醛淸漆樹脂之分子量時，除了未反 應的單體以外，其分子量小於1000的成分的面積比較佳 是佔總圖案面積之25%或者更小，更佳則是佔總圖案面積 之20%或者更小。 本發明的阻溶劑於鹼溶性樹脂中之作用係爲抑制溶解 1298^〇c/〇i2 爲第91119486號說明書無劃線修正本修正日期：93年2月6日 速度。就阻溶劑而言，通常是使用醌二疊氮基化合物，特 別是含有酚羥基之化合物的鄰-醌二疊氮基磺酸酯，其較 佳爲至少具有三個酚羥基之聚羥基化合物的1，2_萘醌二疊 氮基-5-磺酸酯、1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯或者1，2-苯醌 二疊氮基-4-礅酸酯等。這些醌二疊氮基化合物可以單獨使 用，也可以兩種或者多種結合使用。就可被醌二疊氮基磺 酸化之含有的酚羥基之化合物而言，舉例來說，其包括3-、 4-、5-羥基苯甲酮；多核酚醛淸漆化合物，如三核體、四 核體、五核體和六核體等，其中的兩個或者多個苯酚核被 選擇性的替換爲烷基，特別是苯酚核、甲酚核、二甲苯酣 核及其他核可藉由亞甲基而鍵結在任何級次。 在例如是三乙胺等之鹼存在的條件下，藉由將上述具 有酚羥基的化合物與對醌二疊氮基磺醯鹵化物在合適的溶 劑中進行反應，而可以製備出醌二疊氮基磺酸酯。在反應 之後，可以藉由合適的後處理而得到醌二疊氮基磺酸酯。 上述後處理之方法，舉例來說，其中之一種方法爲將反應 物與水混合在一起，以沈澱出目的成分，然後進行過濾、 乾燥以得到粉末狀的酯。另一種方法係將2-庚酮等光阻溶 劑也加入到反應物中，並將得到的混合物用水進行洗滌和 分離，然後利用蒸餾和平衡閃蒸餾來除去反應溶劑，以得 到光阻溶液形式的酯。這裏所提到的平衡閃蒸餾是一種連 續蒸餾操作和蒸餾方法’其中液體混合物中的一部分被汽 化，產生的氣相與液相充分接觸，當達到平衡時就會使部 分氣體從液體中分離出來。這種方法係適合於當蒸發效率 15 爲第91119486號說明書無劃線修正本 修正日期：93年2月6日 非常高時，用以濃縮熱不穩定的物質，由於蒸發作用幾乎 在瞬間完成，氣液兩相很快的達到平衡條件，因此即使氣 液兩相很快又分離也仍然能夠充分地達成濃縮，並且能夠 縮短加熱時間。 另外，本發明的這種化學增強型的正光阻組成物（組 成[3])的特徵在於其含有一種自身在鹼性水溶液中不溶或 微溶，但是可以藉由與酸發生反應而變得可溶於鹼性水溶 液的樹脂、一種光酸產生劑和上述結構式（I)所表示的 化合物。在本發明中，就自身在鹼性水溶液中不溶或微溶， 但是可以藉由與酸發生反應而變得可溶於鹼性水溶液之樹 脂而言，此種樹脂需至少含有一個保護基團，且此保護基 團能夠在與上述酸產生反應時分離。 在這種化學增強型的正光阻中，酸是由光酸產生劑局 部受到輻射後產生，在後續的加熱（後烘烤）時發生擴散。 這樣，樹脂的保護基團就會產生分離從而產生酸，於是受 到輻射的部分也就會具有鹼可溶性。 這種具有能夠在與酸反應時發生分離的保護基團之樹 脂’其自身在鹼性水溶液中不溶或微溶，但是可以藉由與 酸發生反應使上述保護基團發生分離而變得可溶於鹼性水 溶液，而那些可以藉由引入與酸發生反應引起分離的保護 基團而變爲鹼可溶性樹脂的物質如下列所述。對於鹼可溶 个生樹脂而言，舉例來說包括了具有苯酚骨架的樹脂、具有 (甲基）丙烯酸骨架的樹脂（如聚乙烯基苯酚樹脂、聚異 丙烯基苯酚樹脂）、藉由使聚乙烯基苯酚樹脂或者聚異丙 修正日期：93年2月6曰 I2988Slpifl •doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 烯基苯酚樹脂中之羥基烷醚化而得到的樹脂、藉由使乙嫌 基苯酚或者異丙烯基苯酚與其他可聚合的不飽和物質進行 聚合而得到的共聚合樹脂。 對於這些對鹼性水溶液具有溶液阻止能力、但是對酸 又不穩定的基團，舉例來說包括了將四個碳原子結合到一 個氧原子上的基團（如特丁基、特丁氧基羰基、特丁氧基 羰甲基）、縮醛類基團（如四氫-2-吡喃基、四氫-2-呋喃基、 1-乙氧基乙基、1- (2-甲基丙氧基）乙基、1- (2-甲氧基乙 氧基）乙基、1-(2-乙醯氧基乙氧基）乙基、H2-(卜金 剛院氧基）乙氧基]乙基、1-[2- ( 1-金剛院幾氧基）乙氣基] 乙基）、非芳香族環狀化合物殘基（如3-氧環己基、從甲 羥戊酸內酯衍生出來的4-甲基四氫-2-吡喃酮-4-基（4-methyltetrahydro-2-pyron-4_yl) ' 2-甲基-2-金剛院基、乙 基-2-金剛院基）和其他基團。 這些基團能夠取代酚羥基上的氫原子或者羧基上的氫 原子。 根據一般的酯化反應而進行保護基團導入反應，使這 些保護基團可以導入至具有酚羥基或者羧基的鹼溶性樹脂 中。上述樹脂也可以藉由使用具有這種基團的不飽和化合 物作爲單體進行共聚合而製得。 本發明之組成中的光酸產生劑包括能夠藉由照射放射 線而自身產酸之不同化合物，或者是含有放射性物質的光 阻組成物。對於光酸產生劑而言，舉例來說包括鐵鹽（Onium salt)、鹵化烷基三嗪類化合物、二楓類化合物、具有重氮 17 1298臉 |lpin.doc/012 違|^91119486號說明書無劃線修正本 修正日期·· 93年2月6日 甲基楓骨架的化合物、磺酸酯類化合物和其他。這種光酸 產生劑的具體例子包括下列化合物： 二苯碘鏺三氟甲烷磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯碘鎗六氟 銻酸鹽、4-甲氧基苯基苯碘鍚三氟甲烷磺酸鹽、二(4-特丁 基苯基）碘鎗四氟硼酸鹽、二（4-特丁基苯基)碘鎗六氟磷酸 鹽、二（4-特丁基苯基)碘鐵六氟銻酸鹽、二(4-特丁基苯基) 碘鍚三氟甲烷磺酸鹽、三苯基鏑六氟磷酸鹽、三苯基锍六 氟銻酸鹽、三苯基毓三氟甲烷磺酸鹽、4-甲氧基苯基二苯 基毓六氟銻酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基鏑三氟甲烷磺酸 酯、對-甲苯基二苯基毓三氟甲烷磺酸鹽、對-甲苯基二苯 基锍全氟丁院磺酸鹽、對-甲苯基二苯基毓全氟辛烷磺酸 鹽、2,4,6-三甲基苯基二苯基毓三氟甲烷磺酸鹽、4-特丁基 苯基二苯基毓三氟甲烷磺酸鹽、4-苯基硫代苯基二苯基毓 六氟磷酸鹽、4-苯基硫代苯基二苯基毓六氟鍊酸鹽、丨_ ( 2-萘酚基甲基）硫醇（thiolanium)六氟銻酸鹽、1- (2-萘酚基 甲基）硫醇(thiolanium)三氟甲院磺酸鹽、4-經基-1-萘基二 甲基毓六氟銻酸鹽、4_羥基-1·萘基二甲基锍三氟甲烷磺酸 鹽、環己基甲基（2-氧環己基）毓三氟甲烷磺酸鹽、環己 基甲基（2-氧環己基）毓全氟丁烷磺酸鹽、環己基甲基（2-氧環己基）锍全氟辛烷磺酸鹽、2_甲基_4，心二（三氯甲基） -1，3,5-三.嗪、2,4,6-三（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2-苯基-4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (4-氯苯基）-4,6-二（三 氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (4-甲氧苯基）-4,6-二（三氯甲 基）-1，3,5-三嗪、2- (4-甲氧基-1-萘基）-4,6-二（三氯甲 18 12988〇^^1ρίΠ .doc/012 修正日期：93年2月6曰 爲第91119486號說明書無劃線修正本 基）-1，3,5-三嗪、2-(苯並[1，3]二氧戊-5-基）-4,6-二（三 氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (4-甲氧基苯乙烯棊）-4,6-二（三 氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (3,4,5-三甲氧基苯乙烯基）-4,6- 二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (3,4-二甲氧基苯乙烯基） -4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- ( 2,4-二甲氧基苯乙 烯基）-4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (2-甲氧基苯 乙烯基）-4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、2- (4-丁氧基 苯乙烯基）-4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗦、2- (4-苯氧 基苯乙烯基）-4,6-二（三氯甲基）-1，3,5-三嗪、二苯基二 楓、二-對-甲苯基二楓、二（苯磺醯）重氮甲烷、二（4-氯苯 磺醯）重氮甲烷、二（對-甲苯基磺醯）重氮甲烷、二（4-特丁 基苯磺醯)重氮甲烷、二（2，心二甲苯基磺醯)重氮甲烷、二(環 己基磺醯）重氮甲烷、（苯甲醯）(苯磺醯）重氮甲烷、1-苯甲 醯-1-苯甲基-對-甲苯磺酸鹽（一般稱作苯甲醯苯甲醇(安息 香）的甲苯磺酸鹽）、2-苯甲醯-2-羥基-2-苯乙基-對-甲苯磺 酸鹽（一般稱作α-羥甲基苯甲醯苯甲醇的甲苯磺酸鹽）、 1，2,3-苯甲苯基三甲基磺酸鹽、2,6-二硝基苯對-甲苯磺酸 鹽、2-硝基苯對-甲苯磺酸鹽、4-硝基苯對-甲苯磺酸鹽、 Ν-(苯磺醯氧基）琥珀醯亞胺、Ν-(三氟甲基磺醯氧基）琥 珀醯亞胺、Ν-(三氟甲基磺醯氧基）酞醯亞胺、Ν-(三氟 甲基磺醯氧基）-5-原冰片烯-2,3-二羰基醯亞胺、Ν-(三氟 甲基磺醯氧基）萘二甲醯亞胺、Ν-( 10-樟腦磺醯氧基） 萘二甲醯亞胺等。 本發明中的化學增強型的正光阻組成物[3]可以提高退 修正曰期·· 93年2月6曰 129882sllpifl .doc/012 爲第9111舛86號說明書無劃線修正本 化(Deterioration)能力，因爲它能在曝光以後藉由加入胺等 含基本氮的有機化合物淬火劑來降低酸的活性。舉例來 說，上述之用於作爲淬火劑的含基本氮的有機化合物包括 下述結構式所描述的化合物：

R5 认4 R5

20 修正日期：93年2月6曰 1298SiQsllpifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 在上面的結構式中，R4、R5和R1()分別表示氫原子、 烷基、環烷基或者芳基。烷基、環烷基或者芳基可以分別 被含有1到6個碳原子的羥基、胺基或者烷氧基替代。此 胺基可以被含有1到4個碳原子的烷基替代。烷基較佳是 含有1到6個碳原子，環烷基較佳是含有5到10個碳原 子，芳基較佳是含有6到10個碳原子。 R6、R7和R8分別表示氫原子、烷基、環烷基、芳基 或者烷氧基。烷基、環烷基、芳基或者烷氧基可以分別被 含有1到6個碳原子的羥基、胺基或者烷氧基替代。此氨 基可以被含有1到4個碳原子的烷基替代。烷基較佳是含 有1到6個碳原子，環烷基較佳是含有5到10個碳原子， 芳基較佳是含有6到10個碳原子，烷氧基較佳是含有1 到6個碳原子。 R9表示烷基或者烷氧基。烷基或者環烷基可以分別被 含有1到6個碳原子的羥基、胺基或者烷氧基替代。此胺 氨基可以被含有1到4個碳原子的烷基替代。烷基較佳是 含有1到6個碳原子，環烷基較佳是含有5到10個碳原 子。 A表示烯基、羰基、亞胺基、硫化物或者二硫化物。 這種烯基較佳是含有2到6個碳原子。 R4到R1()可以含有能夠具有的任意線狀結構和分支結 構。 舉例來說，上述化合物包括：己胺、庚胺、辛胺、壬 胺、癸胺、苯胺、2-、3-或4-甲基苯胺、4-硝基苯胺、1- 21 修正日期·· 93年2月6日 129882^11 pifl d〇c/〇i2 爲第91119486號說明書無劃線修正本 或2-萘胺、乙二胺、四亞甲基二胺、己二胺、4,4’-二胺基 -1，2-二苯乙烷、4,4、二胺基-3,3’-二甲基二苯基甲烷、4,4’- 二胺基-3,3’-二乙基二苯基甲烷、二丁基胺、二戊基胺、 二己基胺、二庚基胺、二辛基胺、二壬基胺、二癸基胺、 N-甲基苯胺、六氫吡啶、二苯胺、三乙胺、三甲胺、三丙 胺~三丁胺λ三戊胺 '三3胺' 三庚胺 '三辛胺λ三壬胺Λ 三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二 環己胺、甲基二庚胺、甲基二辛胺、甲基二壬胺、甲基二 癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚 胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二環己基甲 胺、三[2-(2-甲氧基乙氧基）乙基]胺、三異丙醇胺、Ν，Ν’-二甲基苯胺、2,6-異丙基苯胺、咪唑、吡啶、4-甲基吡啶、 4-甲基咪唑、二吡啶、2,2’-二吡啶胺、二-2-吡啶酮、1，2-二（2-吼啶基）乙烷、1，2-二（4-吼啶基）乙烷、1，3-二（4-吡啶 基）丙烷、1，2-二（2-吡啶基）乙烯、1，2-二（4-吡啶基）乙烯、 1,2-二（4-吡啶基氧）乙烷、4,4’-二吡啶基硫化物、4,4’-二吡 啶基二硫化物、1，2-二(4-吡啶基）乙烯、2,2’-二吡啶甲基胺、 3,3’-二吡啶甲基胺、四甲基銨氫氧化物、四異丙基銨氫氧 化物、四丁基銨氫氧化物等。 在本發明中的化學增強型的正光阻組成物中，對於自 身在鹼性水溶液中不溶或微溶、但是可以藉由與酸發生反 應而變得可溶於鹼性水溶液的樹脂1〇〇重量份而言，光酸 產生劑之含量爲0.3〜30重量份，結構式[I]所表示的化合 物之含量爲0.2〜50重量份，較佳爲0.5〜20重量份。 22 129882sllpin .doc/012 修正日期：93年2月6日 爲第91119486號說明書無劃線修正本 本發明之組成物較佳爲包括一種作爲淬火劑之基本化 合物，在本發明之上述正光阻組成物中，對於上述樹脂1〇〇 重量份而言，其含量爲0.001〜5重量份，較佳爲o.oiq重 量份。 本發明之組成也可以視實際需要而含有少量的各種不 同之添加劑，如感光劑、溶液抑制劑、其他樹脂、表面活 性劑、穩定劑、染料等。 本發明之光阻組成物通常是溶解於溶劑中而形成含上 述化合物之溶液來使用之，並且利用旋轉塗佈等常見原 理，而將液體供給至基底（如矽晶圓等）上。 任何能夠溶解每一種成分、具有合適的乾燥速度以及 在蒸發後能夠形成均一光滑薄膜的溶劑都可以在這裏使 用。在本領域中使用的溶劑一般都可以在這裏用作溶劑。 舉例來說，其包括乙二醇乙醚酯類（如乙基纖維素溶劑醋 酸酯、甲基纖維素溶劑醋酸酯、丙烯乙二醇單乙基乙醚醋 酸酯）、酯類（如乳酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯或者丙 酮酸乙酯）、酮類（如丙酮、甲基異丁酮、2-庚酮、環己 酮）和環酯類（如T-丁內酯）等。這些溶劑可以單獨使 用，也可以兩種或者多種結合使用。 將光阻薄膜應用到基板上並經過乾燥、曝光處理以形 成圖案。.接著進行加熱處理來增進保護性基團發生脫離的 反應。然後，使用鹼展開劑來展開光阻薄膜。這裏使用的 鹼展開劑可以選自本領域所使用的不同鹼水溶液，一般而 言，常用的鹼展開劑包括四甲基銨氫氧化物和（2-羥乙基） 23 12988^ipifl.doc/012 修正日期：93年2月6日 爲第91119486號說明書無劃線修正本 三甲基銨氫氧化物。 下面的例子將對本發明作進一步的解釋，但是本發明 並不僅僅限於此。在例子中，除特殊說明外，％或份表示 以重量計的含量或使用量，平均分子量（Mw)和聚合度 分散性（Mw/Mn)是利用以聚苯乙烯作爲標準物的凝膠滲 透色層分析來測量的。 實施例1 :酚醛淸漆樹脂（1 )的合成 244.3g的2,5-二甲苯酚、39〇.8g的甲醇、9.5g的對-甲苯磺酸、48.8g鄰-羥基苯醛組成的混合物在8〇t之溫度 下加熱攪拌4小時。反應完全後，於得到的混合物中加入 652.6g之甲基異丁基酮，然後將混合物進行蒸餾直到內部 溫度達到85°C，以去除系統中的甲醇。然後，加入97.3g 間-甲酚、118.9g對-甲酚並且滴入227.3g 37%的甲醛水溶 液超過40分鐘。在加入完畢後，使其反應15小時。然後， 用水洗滌混合物並脫水，以得到酚醛淸漆樹脂的甲基異丁 基酮溶液。此酚醛淸漆樹脂的甲基異丁基酮溶液以聚苯乙 烯作爲標準的凝膠滲透色層分析所測得之平均分子量爲 4100。於一個3L的底部排料型分液漏斗中加入300g這種 酚醛淸漆樹脂（樹脂含量38.5%)，並加入299g甲基異丁 基酮和4.08g η-庚烷，將混合物在60°c攪拌30分鐘，然後 靜置分離之。於分離得到的下層產物加入300g 2-庚醇， 然後用蒸發器蒸餾除去甲基異丁基酮和n_庚烷，以得到酚 醛淸漆樹脂的2-庚酮溶液。此酚醛淸漆樹脂的2-庚酮溶液 24 修正日期：93年2月6曰 I2988(2slipin •doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 以聚苯乙烯作爲標準的凝膠滲透色層分析所測得其平均分 子量爲7200。此樹脂命名爲A1。 實施例2 :酚醛淸漆樹脂（2)的合成 在實施例2中，除了沒有加入對-甲酸、並且使間甲 酚的加入量變爲216.3g、甲醛水溶液的加入量變爲259·7§ 以外，其他操作都按照實施例1所提供的方法進行。將得 到的甲基異丁基酮溶液中的酚醛淸漆樹脂經過水洗和脫水 以後，以聚苯乙烯作爲標準的凝膠層析測得其平均分子量 爲4300。於300g這種酚醛淸漆樹脂（樹脂含量37.3%) 中加入366g甲基異丁基酮和484g n-庚烷，其他的操作按 照實施例1所提供的方法進行，得到酚醛淸漆樹脂的2-庚 酮溶液。此酚醛淸漆樹脂的2-庚酮溶液以聚苯乙烯作爲標 準的凝膠滲透色層分析所測得之平均分子量爲6700。此樹 脂命名爲A2。 實施例3 :聚（對-1-乙氧基乙氧基苯乙烯/對_羥基苯乙烯） 的合成 於燒瓶中加入l〇8.3g之聚對-羥基苯乙烯溶液（平均 分子量約15200，聚合度分散度h20 (gpc方法：聚苯乙 烯），聚對-羥基苯乙烯重量30.〇g)、0.005g之對_甲苯磺酸 單水合物、l〇2g之甲基異丁基酮，然後將上述混合物一起 攪拌。利用滴定管於此種樹脂溶液中滴加8.7g乙基乙稀基 醚（0.12m〇l，對於聚對-羥基苯乙烯之羥基的當量爲〇 48)。 25 1298&3ipi n.doc/012 修正日期：93年2月6日 爲第91119486號說明書無劃線修正本 此混合物在25°C之溫度下攪拌3小時後，加入15g甲基異 丁基嗣和57g離子交換水，然後分離此溶液。再用57g離 子交換水洗滌所得到的有機層並進行分離，重覆4次。 從有機層中蒸飽除去溶劑後，加入306g丙烯乙二醇 單甲基醚醋酸酯’並且進一步蒸餾除去溶劑以進行溶劑替 換’之後可得到125g之丙烯乙二醇單甲基醚醋酸酯樹脂 溶液。此樹脂溶液中的固相成分的濃度使用熱質量損失的 方法進行計算，其結果爲30.1%。而且，聚對-羥基苯乙烯 中的1-乙氧乙基化的羥基基團在總羥基中的比率，利用核 磁共振分光計測得爲35.7%。此樹脂命名爲A3。 實施例4 在實施例4中，除了乙基乙烯基醚的用量發生改變以 外，其他操作都按照實施例3所提供的方法進行。樹脂溶 液中的固相成分的濃度結果爲30.2%。聚對-羥基苯乙烯中 的1-乙氧乙基化的羥基基團在總羥基中的比率爲28.7%。 此樹脂命名爲A4。 實施例5 : 2-乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基 苯乙烯共聚物（ 20:80)的合成 於燒瓶中加入39.7g (0.16m〇l)的2-乙基-2-金剛烷基 甲基丙烯酸酯、1〇3·8 g( 0.64mol)的對-乙醯氧苯乙烯、265g 異丙醇，接著將上述混合物在氮氣環境下加熱到75°C之溫 度。預先將 ll.〇5g (〇.〇48mol)二甲基-2,2’-偶氮二（2-甲 26 129882δ1ΐ pifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 修正日期：93年2月6曰 基丙酸酯）溶於22.llg異丙醇溶液後滴入上述混和物中。 此混合物在75°c之溫度下放置0.3小時，並維持回流12 小時後，以丙酮稀釋之。然後，將反應溶液傾倒入大量甲 醇中以使聚合物沈澱，然後過濾分離沈澱物。所得到的2-乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基苯乙烯共聚物 的量爲250g (含有甲醇的濕餅的重量）。 實施例6 2-乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-羥基苯乙烯 共聚物（ 20:80)的合成 於燒瓶中加入250g實施例5所得到的2-乙基-2-金剛 烷基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基苯乙烯共聚物、10.3 g ( 0.084mol) 4-二甲基胺基吡啶、202g甲醇，然後使混合 物維持回流20小時。經冷卻後，此溶液用7.6g( 0.126mol) 丙醋酸中和，並倒入大量水中以形成沈澱。將形成的聚合 物沈澱過濾出來，並溶解到丙酮中。然後，再將得到的溶 液倒入大量水中以形成沈澱。此操作步驟一共重覆3次， 以有效的進行純化。所得到的2-乙基-2-金剛烷基甲基丙 烯酸酯/對-羥基苯乙烯共聚物的量爲95.9g。平均分子量爲 8600，聚合度分散度爲ι·65 (GPC方法：聚苯乙烯），利 用核磁共振（nC-NMR)所測得之共聚合比率爲20:80。 此樹脂命名爲A6。 實施例7 2·•乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基苯 乙烯共聚物（30:70)的合成 27 129883δ1ΐρίπ .d〇c/〇i2 修正日期：93年2月6曰 爲第91119486號說明書無劃線修正本 於燒瓶中加入59.6g (0.24mol)的2-乙基-2-金剛烷基 甲基丙烯酸酯、90.8 g (0.56mol)的對-乙醯氧基苯乙烯、 279g異丙醇，然後將上述混合物在氮氣環境下加熱到75 °C之溫度。預先將11.05g ( 0.048mol)二甲基-2,2’-偶氮二 -2-甲基丙酸酯溶於22.llg異丙醇溶液並滴入上述混合溶 液中。此混合物在75°C之溫度下放置0.3小時，維持回流 12小時後，使用丙酮稀釋之。然後，將此反應溶液倒入大 量甲醇中形成聚合物沈澱，並過濾分離沈澱物。所得到的 2-乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基苯乙烯共聚 物的量爲250g (含有甲醇的濕餅的重量）。 實施例8 2_乙基-2-金剛烷基甲基丙烯酸酯/對-羥基苯乙烯 共聚物（30:70)的合成 燒瓶中加入250g實施例7所得到的2-乙基-2-金剛烷 基甲基丙烯酸酯/對-乙醯氧基苯乙烯共聚物、10.8 g ( 0.088mol) 4-二甲基胺基吡啶與239g甲醇，然後使上述 混合物維持回流20小時。經冷卻後的溶液以8.0g (〇.133mol)丙醋酸中和，並倒入大量水中以形成沈澱。 將形成的聚合物沈澱過濾出來，並溶解到丙酮中。然後再 將得到的溶液倒入大量水中形成沈澱。此操作步驟一共重 覆3次.，以有效的純化。所得到的2-乙基-2-金剛烷基甲 基丙烯酸酯/對-羥基苯乙烯共聚物的量爲l〇2.8g。平均分 子量爲8200,聚合度分散度1.68( GPC方法··聚苯乙烯）， 利用核磁共振（nC-NMR)所測得之共聚合比率爲30:70。 28 修正日期·· 93年2月6曰 1298&2δ1ΐρίπ .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 此樹脂命名爲A8。 實施例1到7，比較例1 將下列化合物混合並溶解後，利用孔徑爲的氟 樹脂過濾器進行過濾以製備樹脂溶液。 樹脂：種類和數量列在表1中 阻溶劑：種類和數量列在表1中 低分子量鹼溶性成分：4,4’- (2-羥基亞苄基）二-2,6-二甲基苯酚，數量列在表1中 添加劑：種類和數量列在表1中 鹼分離成分：N- (2-氧莰烷-10-基磺醯氧基）琥珀酸 醯亞胺，數量列在表1中 溶劑：2-庚酮 57份* 乳酸乙酯 3.0份 *2-庚酮的含量包括從樹脂溶液中帶進來的部分。 29 1298SSlpin .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 修正日期：93年2月6曰 表1 實施例編 號 添加成 分及其 數量 樹脂種類 和數量 阻溶劑種 類和數量 低分子量 鹼溶性成 分種類和 數量 鹼分離成 分種類和 數量 實施例1 C1/3.0 份 A1/3.5 份 A2/4.93 份 B1/1.5 份 B2/1.2 份 B3/2.5 份 3.6份 〇·3份 實施例2 C1/2.3 份 A1/3.2 份 A2/5.23 份 B1/1.5 份 B2/1.2 份 B3/2.5 份 3.6份 0.2份 實施例3 C1/2.0 份 A1/2.43 份 A2/8.0 份 B1/3.5 份 B2/1.5 份 3.2份 〇·35 份 實施例4 C1/1.5 份 A1/5.55 份 A2/4.88 份 B1/3.5 份 B2/1.0 份 B3/1.5 份 3.9份 Μ 實施例5 C1/0.5 份 A1/5.35 份 A2/5.08 份 B1/4.0 份 B2/1.0 份 B3/1.0 份 3·9份 Μ y vw 實施例6 C1/3.5 份 A1/3.5 份 A2/4.93 份 B1/1.5 份 B2/1.5 份 B3/2.2 份 3.5份 無 j\\\ 實施例7 C1/5.0 份 A1/3.5 份 A2/4.93 份 B1/1.5 份 B2/1.2 份 B3/2.5 份 3.5份 0.3份 比較例1 Μ j\\\ A1/5.35 份 A2/5.08 份 B1/5.0 份 B2/1.0 份 3.9份 姐 j \\\ 30 修正日期：93年2月6曰 1298&2δ1ΐρίΩ .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 阻溶劑欄中的符號表示下面的成分： B1 : 4,4’-亞甲基二[2- (4-羥基苯甲基）-3,6-二甲基苯 酚]和1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酸基氯以1:2的莫耳比進行反 應得到的聚縮合物，它具有如下的結構式：

B2 : 4-[1’，2’，3’，4’，4’八，9’八-六氫-6’-羥基螺旋[環己烷-1，9’-氧雜蒽]-4’A-基]間-苯二酚與1，2-萘醌二疊氮基-5-磺 酸基氯以1:3的莫耳比進行反應得到的聚縮合物，它具有 如下的結構式：

B3 : 4,4’-亞甲基二[2- (2-羥基-5-甲基苯甲基）-3,6- 二甲基苯酚]和1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酸基氯以1:2的莫耳 比進行反應得到的聚縮合物，它具有如下的結構式： 31 129883sl pifl .doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本

修正曰期·· 93年2月6日 表1中「添加成分欄」中的符號表示下面的成分：

Cl : SC-6100 (Miwon 生產） 此化合物的主要成分具有結構式（Ilia )和結構式 (IIIc)所表示的結構單元，目錄値/固體含量：70%，酸 度値（固體成分酸價）·· 85-95mg KOH/g。 根據一般的方法，每一種光阻溶液都利用旋轉塗佈於 矽晶圓上，然後以90°C左右的加熱板預烤60秒，以形成 厚度爲1.07um的光阻薄膜。使用i線步進機（NSR illD Nikon Corp.公司生產），藉由不同形狀和尺寸的模具對形 成有光阻薄膜之晶圓進行曝光。然後，進行曝光後烘烤(PEB) 在ll〇°C的熱板上處理60秒。接著，使用濃度爲2.38%的 四甲基銨氫氧化物溶液進行攪動顯影處理60秒。進行處 理以後，可以用掃描電子顯微鏡觀察到圖案區域，敏感度 和解析度使用下面描述的方法進行檢查，結果如表2所示。 而且，在顯影以後，繼續在13〇°C熱板上烘烤120秒 以進行後烘烤處理’然後利用掃描電子顯微鏡進行圖案區 域之觀察，並使用下面的方法驗證其耐熱性，結果如表2 所示。 而且’對帶有lum厚氧化矽層之矽晶圓進行同樣的處 理，並在顯影以後用烘箱烘烤3〇分鐘。然後，將它們浸 32 I2988)2slpifl •doc/012 修正曰期·· 93年2月6日 爲第91119486號說明書無劃線修正本 入緩衝氧化砂餓刻劑（Bufferd Oxide Etchant，BOE)中7 分鐘’以對氧化矽層部分進行蝕刻。然後，用掃描電子顯 微鏡就可以觀察到圖案部分，緊密粘著度可使用下面的方 法進行檢查，結果如表2所示。 有效靈敏度：以〇·4ιπη線寬與空格圖案爲1:1的曝光 量表示。 解析度：以有效靈敏度的曝光量除以線寬和空格圖案 的最小尺寸表示。 緊密粘著性：觀察圖案區域，以沿晶片氧化矽層縱向 方向的蝕刻量記爲Υ，沿晶片氧化矽層橫向方向的蝕刻量 記爲X，則以Χ/Υ的比値表示。Χ/Υ的比値越小，緊密粘 著性越好。 耐熱性：觀察圖案區域，小的形狀改變標記爲◎，由 於流動而形成的圓形標記爲X ，中間的形狀標記爲〇，△ 表示與沒有經過後續烘烤相比較好的。 表2

實施例編號 有效靈敏度 (米秒） 解析度 (um) 緊密粘著性 耐熱性 實施例1 185 0.35 1.4 〇 實施例2 220 0.35 1.6 〇 實施例3 200 0.375 1.9 Δ 實施例4_ 350 0.375 2.4 Δ 實施例5 350 0.40 2.7 X 實施例6 200 0.375 1.7 ◎ 實施例7 190 0.40 2.4 ◎ 比較例1 420 0.40 3.2 X 33 12988>2δ1ρίΠ .doc/012 修正日期：93年2月6曰 爲第91119486號說明書無劃線修正本 實施例8到10，比較例2 將下列化合物混合並溶解後，利用孔徑爲0.2um的氟 樹脂過濾器進行過濾以製備樹脂溶液。 樹脂： 樹脂A3 (固相成分） 18.57份 樹脂A4 (固相成分） 51.43份 光酸產生劑： 一（ί哀己基礦酿基）二重氮甲院 2.96份 三苯基锍2,4,6-三異丙基苯磺酸酯 〇·37份 淬火劑： 二環己甲胺 0.15份 三[2-(2-甲氧基乙氧基）乙基]胺 0.15份 添加劑：種類和數量列在表2中 溶劑= 丙烯乙二醇單甲基醚醋酸酯 555.56份* *溶劑量包括從樹脂溶液中帶進來的部分。 在表3中「添加劑」欄中的符號表示下面的成分·· C2 ·月日興 PR〇3l〇 ( showa Kobunshi Κ· K·公司生產）， 它的主成分具有結構式（IIIa)和結構式（IIIc)所表示的 糸吉構單元；’分析値/固相成分（非揮發成分）爲質量比 64.1% ’酸價（固相成分酸價）爲57.3 mg KOH/g。 除了預烤溫度改變爲10(rc以外，其他步驟與實施例 1相同’而形成厚度爲0.70um的光阻薄膜。然後，使用KrF 激態原子步進機（NSR2205EX12B Nikon Corp.公司生產， 34 修正日期·· 93年2月6曰 1298SSipifl doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 ΝΑ=0.55，σ =0.8，普通照明曝光）藉由不同形狀和尺寸 的模具對形成有光阻薄膜的晶圓進行曝光。然後，曝光後 烘烤（ΡΕΒ)和顯影按照實施例1所述的方法進行處理，並 使用掃描電子顯微鏡觀察圖案部分，靈敏度係使用下面的 方法進行檢測，解析度的檢查方法與實施例1相同，結果 如表3所示。 而且，使用形成有厚度爲lum氧化矽層的矽晶圓，經 由同樣的步驟和95°C預烤後，形成〇.87um厚的光阻薄膜 和105°C的PEB溫度，進行後烘烤步驟都按照實施例1所 述的方法。然後，將它們浸入濃度爲17.1%的單氫二氟銨 水溶液中4分鐘，以繼續蝕刻氧化矽層。然後，按照實施 例1所述的方法檢查緊密粘著性，結果如表3所示。 有效靈敏度··以〇.25um線、空格圖案是1:1的曝光 量表示。 表3 實施例編號 添加成分及 其用量 有效靈敏度 (nij/cm2 ) 解析度 (um) 緊密粘著性 實施例8 C2/0.675 份 30 0.20 1.9 實施例9 C2/0.135 份 29 0.20 1.9 實施例10 C2/1.35 份 30 0.21 2.5 比較例2' 無 30 0.20 X * *由於圖案發生剝離，不能進行測量。 實施例11，比較例3 將下列化合物混合並溶解後，利用孔徑爲〇.2um的氟 35 129882δ11 pi fl. doc/012 爲第91119486號說明書無劃線修正本 修正日期：93年2月6日 樹脂過濾器進行過濾以製備樹脂溶、液 樹脂： 樹脂A5 (固相成分） 樹脂A6 (固相成分） 光酸產生劑： 二（特丁基磺醯基)重氯甲院 三苯基锍2,4,6-三異苯磺酸酯 淬火劑： 2,6-二異丙基苯胺 添加劑··種類和數量列在表3中 溶劑： 丙烯乙二醇單甲醚醋酸酯 50.00 份 50.00 份 3·33 份 3.33 份 〇·22 份 585.19 份** **溶劑量包括從樹脂溶液中帶進來的部分。 溶液： 緊密粘著性使用實施例8中的方法進行測量，只是其 中的光阻薄膜厚度變爲0.42um。結果如表4所示。 表4 實施例編號 添加組分及其 有效靈敏度 緊密粘著性 用量 (mJ/cm2 ) 實施例11 C2/1.35 份 20 2.4 比較例'3 j \ \\ 20 3.7 本發明中的光阻組成物顯示出了優良的基底和光阻介 面的緊密粘著性，解決了濕蝕刻中的問題，而具有優良的 敏感度和解析度，並且也具有優良的光阻性能，比如適用 36 1298SSlpifi .doc/012 修正日期：93年2月6曰 爲第91119486號說明書無劃線修正本 性、薄膜維持比例、耐熱性等。因此，這種組成適用於g 線曝光、I線、KrF激態原子鐳射等。如此，即可以形成 精細的光阻圖案。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非用 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精 神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 37

Claims (1)

1. 91119486號申請專利範圍無劃線修正本 修正曰期：93年11月24日

   十、申請專利範圍： 1.一種光阻組成物，包括： 下面通用結構式（I)所表示的化合物：

   其中，R1和R2分別表示一個氫原子或者一個含有1到4個 碳原子的烷基；R3則表示一個氫原子、含有1到1〇個碳原 子的烷基、含有6到15個碳原子的芳基、含有7到15個 碳原子的芳烷基、含有2到10個碳原子的鏈烯基、含有2 到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個碳原子的芳羰基 和含有7到15個碳原子的芳烷羰基或者結構式（II)所表 7K的某團 HO

   (II) ，所提供之含有1到4個碳原子的烷基、含有1到10個碳 38 1298821 原子的烷基、含有6到15個碳原子的芳基、含有7到15 個碳原子的芳烷基、含有2到10個碳原子的鏈烯基、含有 2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個碳原子的芳羰基 和含有7到15個碳原子的芳烷羰基能夠選擇性地替換一個 羧基、氧化羰基、羥基、烷氧基或者烷基；η表示1到40 之間的一個整數，m表示1到5之間的一個整數，1表示1 到5之間的一個整數； 一鹼溶性樹脂；以及 一阻溶劑， 其中對於該鹼溶性樹脂1〇〇重量份而言，該結構式（I) 所表示的化合物爲4.8〜60重量份，且該阻溶劑所表示的化 合物爲47〜62重量份。 2. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其特徵 在於該鹼溶性樹脂包括酚醛清漆樹脂，該阻溶劑包括鄰萘 醌二疊氮基化合物。 3. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其特徵 在於R1和R2分別表示一個氫原子或者甲基，R3表示一個 氫原子、含有2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個 碳原子的芳羰基或含有7到15個碳原子的芳烷羰基。 4. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其特徵 在於R3表示一個氫原子。 5. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其特徵 在於R3的一部分或者全部爲結構式（II)所表示的基團。 39 1298821

   6. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物’其特徵 在於結構式（I)所表示的化合物用聚苯乙稀作爲標準物的 凝膠滲透色層分析（GPC)法測定的分子量爲500到20000。 7. —種光阻組成物，包括： 下面通用結構式（1)所表示的化合物：

   其中，R1和R2分別表示一個氫原子或者一個含有1到4個 碳原子的院基，R則表不一^個氣原子、含有1到1〇個碳原 子的烷基、含有6到15個碳原子的芳基、含有7到15個 碳原子的芳烷基、含有2到10個碳原子的鏈烯基、含有2 到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個碳原子的芳羰基 和含有7到15個碳原子的芳烷羰基或者結構式（II)所表 1298821 示的基團 HO (Π) ，所提供之含有1到4個碳原子的烷基、含有1到10個碳 原子的烷基、含有6到15個碳原子的芳基、含有7到15 個碳原子的芳烷基、含有2到1〇個碳原子的鏈烯基、含有 2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個碳原子的芳羰基 和含有7到15個碳原子的芳烷羰基能夠選擇性地替換一個 羧基、氧化羰基、羥基、烷氧基或者烷基；η表示1到40 之間的一個整數，m表示1到5之間的一個整數，1表示1 到5之間的一個整數； 一自身在鹼性水溶液中不溶或微溶，但是可以藉由與 酸發生反應而變得可溶於鹼性水溶液的樹脂；以及 一光酸產生劑， 其中對於自身在鹼性水溶液中不溶或微溶，但是可以 藉由與酸發生反應而變得可溶於鹼性水溶液的樹脂100重 量份而言，該光酸產生劑爲0.3〜30重量份，結構式（I)所 表示的化合物爲〇·2〜50重量份。 8·如申請專利範圍第7項所述之光阻組成物，其特徵 在於R1和R2分別表示一個氫原子或者甲基，R3表示一個 41 1298821 氫原子、含有2到10個碳原子的烷羰基、含有7到15個 碳原子的芳羰基或含有7到15個碳原子的芳烷羰基。 9·如申請專利範圍第7項所述之光阻組成物，其特徵 在於R3表示一個氫原子。 1〇·如申請專利範圍第7項所述之光阻組成物，其特 徵在於R3的一部分或者全部爲結構式（II)所表示的基團。 HO (Π) 11·如申請專利範圍第7項所述之光阻組成物，其特 徵在於結構式（I)所表示的化合物用聚苯乙烯作爲標準物 的凝膠滲透色層分析（GPC)法測定的分子量爲500到 20000 〇 12·如申請專利範圍第7項所述之光阻組成物，其特 徵在於該光阻組成物更包括一基本含氮有機化合物。 42