TWI291041B - Anti-glare film, method of producing the same, and display equipped with the same - Google Patents

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1291041 五、發明說明⑴ 【發明所屬之技術領域】 和安裝該防腺膜 本：明是關於防眩膜及其製造方法 J顯不裝置等。 【先前技術】 器等 低顯 视、 機， 傳統 這種 多層 表面 行暈 須形 題； 型個 液晶顯 影像顯 示效果 個人電 以及靠 上設有 薄膜層 膜產生 形成微 映的防 成均勻 後一種 人電腦 示器及電漿 示裝置，如 。為了防止 腦、在外光 反射光來顯 防止光線射 大體可分為 干涉的無反 細的凹凸狀 眩處理。其 的光學膜厚 防眩膜因為 及監視器等 果外部 這種外 很強的 示的手 入到影 兩種膜 射處理 對射入 中，前 的多層 能比較 領域。 、CRT顯示器、有機EL顯系 光線照射其表面，會明顯降 光的照射’在重視晝質的電 室外使用的攝影機、數位相 機專的影像顯示裝置上面’ 像顯不裝置表面的薄膜廣。 ，一種是對其實施利用光# ，另一種是對其實施藉由在 光進行散射，達到對影像進 一種無反射薄膜存在著因必 膜而導致的成本增加的問 便宜的製造，廣泛應用在大 以前，比如，借助於在基材片上塗抹分散填充劑的溶 刮’調整塗布的薄膜厚度，使得填充劑露出塗布膜表面， 在片上形成無規則的凹凸形狀，從而製造這種防眩膜。 但是，這種方法製作的防眩膜，因為溶劑中填充劑 分散狀態及塗抹情況影響凹凸排列及形狀，很難得到=+ 要的凹凸形狀，存在防眩功能不充分的問題。另外，在^ 像顯示裝置的表面上設置這種傳統技術製作出的防眩腺影

1291041 五、發明說明（2) 時，由於光散射，整個顯示 糊，即容易出現所謂的線性 另一方面，液晶顯示器 凹凸形狀的透鏡一般呈規則 〜2 1 903號公報（專利文獻1) 鄰的微透鏡之間不相互接觸 是’即使是這種凹凸呈規則 映相同凹凸距離分佈的光的 花，降低了顯示面的視覺效 【發明目的】 本發明考慮到了這種傳 提供具有良好防眩功能、有 來導致的顯示器顯示效果下 時提供使用該防眩膜的顯示 解決上述課題的方法 本發明人為了實現上述 終完成了本發明專利。表面 狀呈不規則，但必須滿足特 防眩膜的入射光向正反射方 射光之向從正反射方向往膜 反射率和上述正反射率之比 提高了防眩膜的防眩功能， 及因光的衍射而導致的視覺 明。 面會發白，影像顯示變得模 失真現象。 等所使用的微透鏡陣列板，其 排列。日本早期公開發明平9 中介紹的微透鏡陣列板中，相 ’呈交互反覆分佈狀態。但 分佈的防眩膜，也會出現因反 衍射現象，薄膜看上去比較 果。 統技術所面臨的課題，目的是 效防止線性失真及因光的衍射 降的防眩膜及其製造方法，同 設備。 目的’經過多次刻苦鑽研，最 為凹凸狀的防眩膜，其凹凸形 定的條件。對從一定角度射向 向的正反射率、及對於上述入 側傾斜一定角度以上之方向的 在特定的範圍之内，這樣，就 而且’還能有效防止線性失真 效果下降，從而完成了本發

1291041 五、發明說明（3) 即’本發明防眩膜是一種表面為凹凸狀的防眩膜。與 防眩膜法線方向夾角為5〜3〇度的角度入射的光向正反射 方向的正反射率為R(〇)，對於入射光之向從正反射方向往 防眩膜側傾斜30度以上角度的反射率為趴3〇以上），那 麼，R(0)為1%以下，而且，R(3〇以上）/R(〇)的值為 〇· 〇〇1。只要滿足了上述條件，就能製造出防眩功能優 良、可有效防止出現線性失真及因光的衍射而導致的視覺 效果下降的防眩膜。 另外，本發明的防眩膜，其6 〇反射可見度最好在 2 0 0 /G以下。如果能滿足該條件，其防眩功能會更好。 而且，本發明介紹的防眩膜，其表面有多個凹凸的單 位晶體（unit cell)與其他單位晶體上的凹凸呈相互並進 :上述單位晶體中，#凹凸頂點之間的最短距離的 千句值為ml，取最短距離的標準偏差為σ】，那麼，j 的值最好能滿足如下公式：〇· 〇5 ‘ j 3。為 A^ 错由在防眩膜上形成凹凸狀，就能夠 出現線性失直m 常好的防眩功能’有效防止 見、、裏『生失真及在反映凹凸距離分 視覺效果下降的現象。 印扪尤扪仃射而導致的 本發明介紹的防眩膜制^ ^ 曝光步驟(先在美方法的特徵包括如下步驟·· 如 土材上形成光阻，之後，進行灰 藉由顯影處理，在朵 又曝光’ 上電矯金屬，之：凹凸。）、電铸步驟(在光阻 製作轉寫該凹凸形狀金屬從光阻上剝離下來，來 凸形狀的金屬板。）和轉寫步驟（使用上面製

1291041 五、發明說明（4) 作的金屬板，將凹凸形狀轉寫到薄臈上）。利用這一製造 I法，就能夠很容易地製造出具有上述凹凸分佈形狀，具 有上述反射特性的本發明防眩膜。 而且，本發明介紹的防眩膜的製造方法的特徵最好還 J括如下步驟：曝光步驟（先在基材上使用光阻，之後， ^行灰度曝光，藉由顯影處理，在光阻上形成凹凸。）、 :=(在，光阻上電鑄金屬，之後，將電鑄的金屬從光 二=離下來，*製作轉寫該凹凸形狀的金屬&。）、軋 凹=::(厂將上述金屬板纏繞到軋輥表面，製作表面有 ^ ^ ^ ^ , 1 )及轉寫步驟（使用上述壓紋軋輥， f该凹凸形狀連續轉寫到薄膜上。）利用這一製造方法， 就能夠很容易地製造出具有上述、 β工4凹凸分佈形狀，具有上述 反射特性的本發明防眩膜。 而且，於前述曝光步驟中，具有多數凹凸 位透鏡中的凹凸具有平移對稱性，而 且’在别述早位透鏡中，前述凹 平均值A m 1 ，俞、+、具 的頂2間的最短距離的 :二為，丨月“最短距離的標準偏差為“時，最好滿 0.05^ σΙ/ml ^0.3 的形成岫述薄膜的表面的凹凸。依此，呈 發明的防眩膜，具有^ 〃、有上述特性之本 二有肊夠谷易且確實製造的傾向。 ^ ,，述曝光步驟中的灰度曝光，對於光μ，座# 由至乂二灰度的光罩來完成近接式曝，μ精 之間的距離為L ( // m )，氺罢μ、未 假°又先罩和光阻 )先罩的透過部的外形尺寸為D( 12873pif.ptd 第9頁 1291041 五、發明說明（5) _—____ 的話，那麼，近接式曝井 S2.8，或者對於光阻至少滿^足如下公式：1.3SL/D2 對於光阻至少應根據工作尸9夕灰度的光罩實施，威表， 源光強度的空間光調整开:—的不同，藉由能改變曝光光 灰度曝光，形成了上述：：佑这樣，藉由進行此種= 上述反射特性的本發明介紹：；：膜就更容易製造出具有 另外，本發明介切_ 的顯示裝備。這種顯；“：：：明J安裝了上述防眩： ，作用下，能夠得到非常好的視的防眩膜的防 【實施方式】 見议果。 =面，將參考附加圖式對本發明 誶細說明。另外，在對圖式進行說明時， 同符號’對於重複的說明不再進行^。相“件使用 圖1表不光按入射方向牙口斤細士 防眩膜的模式圖。本發明防g ° 、入本發明介紹、 :的任肖度θ射入的入射光4向正反射方向的反射 =的广反射率為R⑷時，_)為1%以下非常重要，最好 在 以下。防眩膜的正反射率R(〇)超過1%時，就不能得 到好的防眩功能，視覺效果也會下降。 “二表示相對防眩膜1的法線2，按角度0射入的入射 ^的反射光5與反射方向的防眩膜法線的傾斜角度和l〇g 反射率之間關係的曲線圖。如該曲線圖所示，正反 趴〇)—般指按角度β射入的入射光4的最大反射率，入 角度偏離正反射方向越Α，反射率越小。本發明的防眩 1291041 五、發明說明（6) 膜，在包括法線2及入射光4的平面3内，對於入射光4之向 從正反射方向往膜面傾斜3〇度以上的反射率為r(3〇以上） 時，R(30以上）/R(0)的值應在〇·〇〇ΐ以下，最好在〇00〇5 以下，0· 00 0 1以下更好。如果r(3〇以上）/R(〇)的值大於〇. 0 0 1，那麼，防眩膜會出現線性失真及光的衍射現象，降 低了顯示效果。比如，在顯示裝置的最前面安裝防眩膜， 即使顯示面顯示的是黑色，在四周光線的作用下，整個顯 不面會變白，出現線性失真現象。另外，圖1及圖2中的 R( 30)表示在包括法線2及入射光4的平面3内，對於入射光 4之向從正反射方向往防眩膜傾斜3〇度的反射光6的反射 率。 在測定本發明防眩膜反射率時，反射率需要精確到〇 · 1 %以下’而且，需要動態範圍較廣的探測器。這種探測 器’比如’可使用市場上銷售的光功率計等，在該光功率 计的採測器岫面設置小孔，使用觀測防眩膜角度為2度的 變角光度計進行測定。另外，入射光可採用38〇〜78〇nm的 可見光，光源可以採用鹵素燈等。另外，背面光滑透明的 防眩膜，在測定時會受到從防眩膜背面反射的影響，所 以，使用黏貼材料或者丙三醇等液體，將防眩膜黏貼到黑 色的丙稀板上，最好是只對防眩膜最表面的反射率進行測， 另外本發明防眩膜需要在表面形成凹凸狀。該凹凸 ，凸部及/或者凹部組成，防眩膜表面的凹凸部分和平坦 部分之間的面積比及凹凸形狀等只要滿足上述防眩膜反射

1291041 五、發明說明（7) 率：條件’並沒有什麼特殊限制。但是，肖眩膜表 旦部分所占的面積比越小越好。從正面看，坦八从 積占整個防眩膜表面的比例最好在3〇%以下，“％以^、面 好。如果平坦部分的面積超過3〇%，那 ° 更 會變強，防眩功能會出現下降。另外、、分就 凹凸外形，於其凹凸高度的平均值由與： ：： = 化、多角形（矩形、三角形、六角形等） 概圓 ί:ί:Γ見則形狀等，最好是圓形、橢圓形 m成的不規則形狀。這些凹凸外形尺寸的平均值最 d二1n，5〜2”m更好。另外，凹凸的外形尺寸的 千均值與凹凸高度差的平均值之比（高度差/外形尺的 外形尺寸，如果外形為圓形，則是指其直徑，如果外形β 橢圓形及多角形，則是指重心位置到外周之間的平均距= 的2倍。另外，本發明的防眩膜並不要求凹凸形狀全部相 同，允許這些凹凸在外形及尺寸等方面有差異。 另外，本發明的防眩膜的60。反射可見度最好在2〇〇%以 上，180%以下效果更好。如果60它可見度大於2〇〇%，就不 能得到很好的防眩效果，視覺效果也會下降。 另外，本發明防眩膜的6 0。反射可見度可根據j丨s κ 7 1 0 5中介紹的反射法測定影像可見度的方法進行測量。 但是，上述測定方法規定的入射光的入射角度為6〇。，分 別使用寬2mm、1mm、0· 5mm、0· 125mm共4種光學柵格進行

12873pif.ptd 第12頁 1291041 五、發明說明（8) 測定得出的影像可見度之和（最大為400%)即為本發明 膜的6 0 °反射可見度。 下面，對本發明防眩膜上的凹凸分佈進行說明。 本發明防眩膜在其表面上，設有與其他單位晶體中的 凹凸呈相，平移對稱性分佈的具有多個凹凸狀的單位晶 體、。上述單位晶體中，取凹凸頂點之間的最短距離的平均 值為ml，取最短距離的標準偏差為σ1， 值優選滿足如下公式·· " σι/ml的 0. 05 ^σΐ/m 1^〇#3 〇 這晨所講的具有多個凹凸的單位晶體，是指上述防眩 凹凸的特定輯。在本發明防眩膜上，設有 體:、=:?:的凹凸呈相互平移對稱性分佈的單位晶 性，且有_ Γ平移對稱性分佈，就能獲得上述反射特 光的行射Ϊ i :的防眩效果’還能防止出現線性失真及因 製造也更衮总二見政果下降的現象。另外，防眩膜的 k也更4易。而1’本發明防

是呈比平移對稱性更高級的對稱性分佈早位曰曰體也了M 求得另I: i m中的σ i/mi的值可藉由如下方式 點座標，在相鄰的t:::眩f表面凸部或者凹部頂 接著，測量點之間的最短距離。 義的最短距離，叶::：體中的所有凸部及凹部的依此定 就計算出了 們的平均值ml和標準偏差小 12873pif.ptd 第13頁 1291041 五、發明說明（9) < σ lt:K〇防Γ臈的σ i/ml值最好能滿足如τ公式：〇. 05 ，3。該的最低值最好是0.05，如果是 曰：:"ΐ果會更好。另一方面，最高值最好是^ 〇ΐ 難t ，效果會更好。如果a】/mi的值小於〇. 防眩η:述反射特性，就會出現光的衍射現象， 的值花，顯示效果下降。另外，如果 果合不豹理/那麼’也很難得到上述反射特性，防眩效 ^不夠理想’出現防眩膜線性失真等現象，影響顯示效 上述單位晶體中的凹凸頂點之間的最短距離的平均值 在2〇”m以下，在1〇〇㈣以下效果會更好。如果以 ' # m，凹凸的間隔會過大，平坦部分面積會增多， 正反射成分增加，就不能得到理想的反射特性，也不能得 到非常好的防眩功能。 由於凹凸頂點間的最短距離的分佈為統計出來的資 料，因此，希望總數上達到某種程度的量。本發明防眩膜 中單位晶體中的凹凸數量最好是2〇個以上，5〇個以上效果 會更好。凹凸數如果不足2〇個，上述單位晶體的周期會變 短，就會出現反映該單位晶體周期的光的衍射，防眩膜會 看起來很花，視覺效果下降。 本發明防眩膜中的單位晶體在防眩膜表面呈平移對稱 性分佈，該立晶體的平移對稱性周期最好是所使用光的 可干涉距離以上的周期。另冰 ^ ^ , J 丁 "此雕 ^另外，為了避免顯示裝置出現雲 紋，單位晶體的平移對稱性周期最好大於顯示Η的晝素 12873pif.ptd 第14頁

1291041 五、發明說明（10) 距，並且，不是畫素距的整倍數。另外，如果周其、 凹凸的製作及設計成本會增加，所以，比軔 二j過大’ 在滿足上述條件的範圍之内：50〜1 0 0 0 0 ，彳ηΛ ^疋月b ^ 111 1UU 〜 // m更好。如果周期滿足了上述條件，就能夠有效 現因光的衍射及雲紋等導致的顯示面可視效果下^降止出 本發明防眩膜的單位晶體呈平移對稱性分佈。其 可藉由如下方法進行確認，比如，使用顯微鏡觀察防眩膜 表面’將來自相干的雷射等光源的光放大成平移對稱性周 期以上的聚束光，照射到防眩膜上，來觀察凹凸分佈出現 的射圖。 另外，本發明防眩膜的上述單位晶體之間分界線處的 凹凸最好是呈適度不規則分佈。即，對於相鄰兩個單位晶 體中的凹凸，在獲取其凹凸頂點之間的最短距離的平均^ m2及上述最短距離的標準偏差σ 2，計算σ 2/m2的值時， 該σ2/ιη2值最好是滿足以下公式：〇〇5$σ1/ιη1$〇·3。 藉由計异相鄰兩個單位晶體中的σ 2 / m 2值，能夠確認相鄰 單位晶體之間的分界處的凹凸分佈是否呈適度不規則分 佈。另外，該σ2/πι2的最低值為〇〇5，但最好是0·07。而 最高值一般為〇·3，但最好是〇·25。如果cr2/m2值小於 〇 · 0 5，就很難獲得上述反射特性，特別是會出現光的衍射 現象’防眩膜上看起來很花，視覺效果會下降。另一方 面，如果σ 2/m2值大於0· 3，那麼，也同樣很難得到上述 反射特性，也不能得出很好的防眩功能，防眩膜會出現線 性失真，視覺效果會下降。

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五、發明說明（Π) 下面’介紹本發明防眩膜的製造方法。 本發明防眩膜的製造方法，包括具有如下特徵的幾項 步驟：曝光步驟（先在基材上使用光阻，之後，進行灰度 曝光，藉由顯影處理，在光阻上形成凹凸。）、電鑄步^ (在光阻上電鑄金屬，之後，將電鑄的金屬從光阻上^離 下來，來製作轉寫該凹凸形狀的金屬板。）和轉寫步驟（使 用上面製作的金屬板，將凹凸形狀轉寫到薄膜上）。 在本發明防眩膜的製造方法中的曝光步驟中，首先， ϊίΐΐ'ΐ光阻’製作具有光阻的基材。這裏，-般不對 =為基材使用的材料進行限制。比如’可以 等無機透明基材及銅、不銹鋼等金屬基材。另 比如ΐΐ二、要是具有感光性的材料，-般沒有限制， 和丙烯酸的共聚合物、羥基袈Γ ^ : ?曰樹月曰、本乙烯 酚、肀"一带：a： 7二甘 本乙細的聚合物、聚乙烯基苯 二疊li基的化：物溶；=溶性樹脂和含有苯 及色素的感光性樹脂溶解二機生劑、、含有交聯劑 型光阻組成物等。 、治^片]中後形成的傳統的負 關於基材上塗層光阻的膜 表面的凹凸厚度及形狀等谁」，，可根據本發明防眩膜 想的凹凸厚度相同或者稍微=j二调整即可，最好是與理 比想要得到的凹凸厚度要， ”、、έ。膜厚的具體範圍是， 下。 予’但應在凹凸厚度的+ 5//m以

1291041 五、發明說明（12) 一 ^ 在基材上塗層光阻的方法也沒有特別的限制。比如， 旋轉塗膜法、浸潰塗膜法、滾輪塗膜法等。另外，塗層 後，可以使用加熱板及烘箱等在攝氏6〇〜12〇度的範圍 内’進行5〜1 〇分鐘左右的預烘焙，將光阻中含有的溶劑 除去。上述預烘培的溫度及時間，可根據光阻的種類及光 阻中的感度，進行適當調整。 以藉由以上步驟製造出來的基材上形成的光阻進行灰 度曝光。灰度曝光可採用傳統的灰度曝光方法。對於光 阻’至少應藉由二灰度的光罩進行近接式曝光的方法、至 少藉由多灰度的光罩進行灰度曝光的方法或者至少藉由可 調整曝光光源的光強度的空間調變元件來進行灰度曝光的 方法中任一種方法來進行。下面，分另）介紹利用上述方法 進行灰度曝光的情況。 首先，介紹藉由二灰度的光罩進行近接式曝光的方 法。所謂的二灰度光罩是指相對於曝光光源，在透明的玻 璃等基板上透過來自曝光光源的光線的部分，透過率為 100%或者接近於1〇〇%的透過部分和將曝光光源來的光進行 遮擋的部分，其透過率為0%或者接近於〇%的遮光部分組 成。具體來講，比如，對於曝光光源，在透明的基材上使 用C r等金屬製作成遮光部分的金屬罩幕及使用乳劑等進行❶ 感光後形成的遮光部分的感光乳劑罩幕等。 使用二灰度的光罩，將其與光阻表面間隔配置，進行 近接式曝光，這樣，在光罩的罩幕圖案的邊緣部會出現光 的衍射，光罩的影像會變模糊，產生從光罩的透過部到遮

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五、發明說明（13) Γ二分佈。：於會因應進行近接式曝光的光 使得光阻玲眩ΐ 因因應光阻進行顯影的照射光量 ΊΜ象及A #旦文化，並且在顯影後的光阻表面會因應罩幕 形成凹凸形狀。另外，在上述曝光步驟中， ;且=:=述作用的範圍内，就可以在曝光光源和光 件等。、、兄系統等光學系統及罩幕對準系統等機械部 取本使用上述二灰度光罩進行近接式曝光時，如果 ίiL 之間的距離為L(，），取光軍的透過部外形 、為（# m)，那麼，近接式曝光應該滿足如下公式：i. ^ 2· 8。其理由如下：即，藉由微細開口藉由的光 、 可使用Fresnel衍射及Fraunhofer衍射來說明。藉 由開口的光的像的擴散會根據開口和螢幕之間的距離9 (L)、開/部尺寸（D)及光的波長λ構成的指標（L/D2 · Λ ) 而卷生變化。當開口和螢幕的距離較短時，螢幕上出現開 口的形狀。隨著開口和螢幕之間的距離越來越遠，會逐 $成以光軸為中心的擴散光。所以，L/D2的值小於1· 3 日守’ f光阻上形成的曝光像反映的是光罩上的開口部影 像’能量分佈也會隨著開口部形狀而迅速發生變化，所 以二容易在光阻上形成貫通孔，獲得的防眩膜的光的發散 功能會下降。另一方面，如果L/D2的值大於2· 8，在光罩 作用下發生衍射的光會擴散，就不容易在光阻表面形成影 像。即’當L / D 2的值在1 · 3以上，2 · 8以下的範圍内時，本 發明防眩臈能夠形成合適的曝光像。

1291041 五、發明說明（14) 下面，介紹使用多灰唐伞$ m k卩。& 法 。這裏所使用的多灰度；方 的光罩。這種多灰度光罩，：匕;過:;=或t連續變化 具有高解析度的光罩掃描裝置 ：：等 :短之大小的遮光部和透過部，通過！光；；=:= 積比作為顯不灰度的灰度罩幕的方法、在以 帝 =能光束下進行感光透過率發生變化 ^外’還有在透明的基材上形成一種像乳劑那。 =光=照射光的量，光學濃度發生變化的物質？= ΐ罩感光’根據不同地點，來改變光學濃“灰 藉由使用多灰度的光罩進行灰产暖 灰度相應的光對光阻進行感光，：‘ ^光罩的 上述曝光步财，尸、要在不會對上述作；H料，在 2蓋也可以在曝光光源和★阻之間安裝透丨乾圍 單幕對準IKMask A1 ignraent)系統等機械部件^干糸統及 間光變曝光光源強度的空 4.衣态不對先阻進仃灰度曝光的方法。這塞 & 二 對：地點能改變曝光光源強度的空間光調變考 、透過上述元件的光或者被上述元件反射回來的光= 第19頁 12873pif.ptci 1291041 五、發明說明（15) 度此夠空間的進行變化的元件。如，液晶元件和由數位微 鏡裝置（DMD)等多個晝素構成的光調變器等。當上述液晶 元件用於空間光調變器時，可對多個晝素組成的液晶元件 的每個晝素設置透過率，藉由使來自曝光光源的空間相同 強度分佈的光透過液晶元件，就能夠得到與液晶元件的晝 素透過率相應的曝光光源強度分佈，從而產生了入射到光 阻上的曝光光線的空間強度分佈。即，對光阻進行顯影 後’根據被曝光的曝光光線強度，光阻的膜厚度會發生變 化，所以，就能夠在光阻的表面形成凹凸狀。另外，當上 述DMD用於空間光調變器時，具有利用微鏡的傾斜角使光 線反射到光阻方向；以及反射到光阻以外的方向兩種情 況。根據每晝素的改變光線向光阻方向反射光線的時間， 就能夠每個晝素的改變每單位時間内的實際反射率。即， 藉由D M D來反射來自曝光光源的空間相同強度分佈的光 線’就能夠得到與傾斜微鏡時間相應的曝光光線的強度分 佈’也就實現了射向光阻的曝光光線的空間強度分佈。 即’對光阻進行顯影後，根據曝光光線強度，光阻的膜厚 會發生變化’就在光阻的表面形成了凹凸狀。本發明的曝 光步驟中使用的能夠根據不同地點改變曝光光源光線強度 的空間光調變器並不局限於上述液晶元件及])〇。此外， 還可以使用其他可以製造來自曝光光源的光的空間強度分 佈的空間光調變器，並可以基於上述原理製造出向光阻的 曝光光線的強度分佈，由於可以改變光阻顯影時的膜厚分 佈，從而在光阻的表面形成凹凸狀。

12873pif.ptd 第20頁 1291041 五、發明說明（16) 本發明的防眩膜制士、、+ & # 罩的近接式曝光法：利用多灰度 用上述：二度光 成凹凸狀，將表面為二1=2法等’在光阻上形 該凹凸狀轉寫到塗膜上，就版，最後連續將 的防眩膜。所以，為了製作 =要的具有凹凸形狀 計罩幕圖案。該罩幕圖；產2的光罩’需要設 必要的凹凸狀分佈。設計 篡^肊在防眩膜上製作出 所以，需要付出艱辛的:;罩==慮整個光罩， J，所以，罩幕描㈣的；擔：=:圖2資= 在的電腦的處理能力，理論 二力所以’考慮到現 定能夠實現。另外，在製作、 ，在現實中不一 行灰度曝光時，4 了使n : ’使用空間光調變器進 理想的空間分佈，也需；；變γ變的光線達到 面產生圖案的勞力亦很大。 、"為了使曝光區域全 在本發明的防眩膜的樂j作古 不便的情況，設計了與具；多個凹：的；避免=現此種 罩幕圖案，並使之呈平移對稱性分佈的配 少了整個光罩的掩模圖案設計的時間，提 1 ’就減 罩幕圖案的平移对稱性可舉出如下例子二率。 座標為正方點陣狀、直方點陣 2曰曰體3重心 狀等。 訂乃w |單狀、六方點陣 使用的曝光光源，並不局限 ，也可使用如高壓水銀燈、 本發明介紹的曝光步驟中 於能夠對光阻進行感光的光源

1291041 五、發明說明（17) 超局壓水銀燈等光源發出的g線、h線、i線等波長的紫外 線、可見光、及接近水銀輝線（明線）波長，並具有振蕩波 長的雷射等光源來實施曝光步驟。另外，曝光的光^ Z兮 根據想要得到的凹凸形狀及光阻的種類等來決定，所i广 很難進行說明。一般是50〜2000mJ/cm2。另外，曝光時間 可根據曝光光源及需要的光量進行適當調整。 =發明的曝光㈣中，f子光阻進行；度曝光後，進 :：fit，就在光阻的表面形成了凹凸形狀。顯影處理 ^ ’比如’可將在基板上形成的♦光後^阻浸潰到相應 的』影液内，纟使用正型光阻時是將曝光部去除，以在^ 阻上开> 成凹凸’在負型光阻時二 阻上形成凹凸。而1，上诚非曝先部去除’以在光 選擇普通使用的顯影液。而且U 3所使用的光阻來 光阻進行漂洗。也可以用Λ勒在顯衫後，可用純水等對 加熱板等加熱0. 5〜30分梦/士到攝氏100〜20〇度的烘箱及 能將光阻中的溶劑和/ m這樣’就 後烘焙的溫度及時間可 s回了與基板的黏附性。 防眩膜的製作# $ 乂 ，阻的種類進行適當調整。 步驟，即在光阻上電鑄 、匕上述曝光步驟後，是電鑄 下來，來製作具有二二’然後將該金屬從光阻上剝離 制 金 度 上述電鑄步驟中使 屬：板、: 可以使用傳統上使用的全:又有什麼特別的限 鐵一鎳合金、路、鉻合全J板二°，錄、鏢—填合 並沒有特別的卩卩別 孟寺。在光阻上電鑄金屬的厚 限制，如果從耐用性考慮，取0.05〜

1291041 五、發明說明（18) '' " 3mm左右的厚度比較合適。 在光阻上直接進行電鑄，在進行電鏵前，需要對光阻 進行導電，可採用如下傳統的導電處理：如’對於厚度在 l#m以下的金屬膜可採用蒸鍍或者濺鍍等方法，或者使用 無電解鍍（化學鍍）的方法來使之導電。 如果不想在光阻上直接電鑄，也可以先將光阻的形狀 轉寫到樹脂上，然後對樹脂進行上述導電化處理及實施電 鑄。這樣，在光阻上進行電鑄後，將電鑄金屬從光阻上剝 離下來，就製造出了具有凹凸狀的金屬板。 —下面是防眩膜製造方法中的轉寫步驟，藉由以上程度 實靶電鑄步驟後，將製造出的金屬板將凹凸形狀轉到塗 膜上。 ’ 上述轉寫步驟中所使用的塗膜，可以是由單一材料製 成的膜，也可以是由多種材料製成的多層膜。其中，多層 膜效果更好。下面，就由多種材料製成的多層膜進行說曰

由多種材料構成的多層膜’如在熱可塑性樹脂及無機 物構成的基材薄片上製成薄膜的樹脂層，在該樹脂廣上轉 寫凹凸形狀，進行轉寫步驟。用於基材的薄片有，將如下 熱可塑性樹脂製成薄片狀者，聚乙烯對苯二甲酸酽、聚乙 烯酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚芳基酯、曰2醋酸 纖維素、3醋酸纖維素、乙烯乙烯基醇共聚合物、 片 烯—乙烯共聚合物（三井石油化學（株）製造、商品 APEL等）、含降冰片烯的樹脂（日本合成橡膠（株）°製造、商

1291041 五、發明說明（19) «名稱· ART0N等）、非晶形的聚烯烴（日本ZE〇N(株）製 ^商印名稱· ZE〇NEX等）、光學聚酯樹脂（鍾紡（株）製 造^商品名稱：0—PET)、丙烯基—丁二烯一酿共聚合物 (東麗（株）製造、商品名稱：T〇y〇iac透明GRADE等）等等。 用於基材的薄膜還有將玻璃、金屬等無機物製成薄片狀 者。 s 另一方面，在基材薄片上形成的薄膜的樹脂層，可以 疋由熱可塑性樹脂及放射線固化型樹脂組成物等構成的塗 層。上面提到的用於基材材料的熱可塑性樹脂也可以用於 樹脂層。上面提到的放射線固化型樹脂，可以是用於條碼 等各種編碼用放射線固化型樹脂組成物及uv油墨、Eb油墨 等放射線固化型樹脂組成物。這種放射線固化型樹脂組& 物的配合原料可混合單官能或者多官能的各種（曱基）内歸 酸ί旨等。必要時，可添加光聚合引發劑、增感劑、氧化防 止劑專添加劑。另外，除使用上述（曱基）丙稀酸酯組成物 外’還可以使用環氧、氧雜二環辛烷（〇xetane)化合物和 光陽離子聚合引發劑的組成物。 上述單官能（甲基）丙烯酸酯玎以包括如下，異冰片内 烯酸醋、四氫呋喃丙烯酸酯、2 一羥基一 3 —苯氧基丙基内 稀酸酷、丁氧基乙基丙烯酸酯、月桂基丙烯酸酯、硬脂基 丙烯酸酯、T基丙稀酸賴、己基乙二醇丙烯酸酯、2〜輕 基乙基丙細酸g旨、2〜乙基己基丙稀酸酯、環己基丙稀 酸、苯氧基乙基丙烯酸g旨、二環戊二烯丙烯酸酯、聚乙二 醇丙烯酸酯、聚丙二醇丙烯酸酯、壬基苯氧基乙基乙二醇

12873pif.ptd 第24頁 1291041 五、發明說明（20) 乙醚丙烯酸酯等；多官能（曱基）丙烯酸酯有，聚乙二醇二 丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三丙稀酸 酉旨、季戊四醇丙烯酸酯等多官能（甲基）丙烯酸酯、及低氨 基甲酸乙酯（曱基）丙浠酸S旨、低自旨（甲基）丙歸酸等多官能 (甲基）丙烯酸低聚物等。上述單官能及多官能（甲基）丙稀 酸酯可以單獨或者2種以上進行組合使用。 另外，因應需要的光聚合引發劑包括如下，二苯甲 酮、苯乙酮、二苯乙醇酮、二苯乙醇酮丁醚、二笨乙醇酮 丙醚、二苯乙醇酮乙醚、4, 4’ 一雙（二曱基氨基）二苯甲 酮、T基二曱基縮酮、2 —氯噻吨酮、24 —二甲基噻吨 嗣、2，2 — ^一異丙基嚷吨綱、1 一經基J衣己基笨基酮、2 — 曱基一1—〔4一（曱硫基）苯基〕—2 —嗎啉代丙烷_ι_ 酮、2, 4, 6 —三曱基苯曱醯苯基二磷化氫氧化物等。上述 產品可單獨或者兩個以上組合使用。 另外，上述放射線固化型樹脂組成物，出於調整黏度 及改進塗佈性能的目的，可根據需要用各種溶劑稀釋後進 行使用。可以使用普通的溶劑，包括，甲醇、乙醇、1 一 丙醇、2 —丙醇等醇類系列化合物、丙酮、甲基乙基酮等 酮類化合物、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯等酯類化合 物及甲苯、二甲苯等芳香族化合物等。上述物質可單獨使 用’也可2種以上組合使用。 本發明防眩膜的製造方法所採用的轉寫步驟，是指將 金屬板上形成的凹凸轉寫到上述薄膜上的方法。可以使用 W通的轉寫方法，如，將上述放射線固化型樹脂組成物等

12873pif.ptd 第25頁 1291041 五、發明說明（21) 澆鑄到金屬板上的凹凸處，用紫外線及電子束進杆昭^ ” 射， 使樹脂組成物固化，在樹脂組成物的表面轉寫凹凸形 方法，或者將上述熱可塑性樹脂加熱到樹脂的Tg及軟彳'的 以上的溫度，然後按壓到金屬板表面上，將凹凸开彡d匕點 丨少月尺率考 到樹脂的表面。當金屬板表面的凹凸的尺寸及平均距 … 小時，最好是使用比熱可塑性樹脂的黏度較小的放射2較 化型樹脂組成物。藉由傳統的方法可以完成轉寫步驟《固 發明防眩膜的製造方法中’在進行轉寫步驟前”，'最好给 施軋輥製造步驟，即將表面形成凹凸狀的金屬板纏婊f 輥的表面，製造有凹凸狀的壓紋軋輥。然後再用ς 將凹凸形狀連續轉寫到薄膜上。使用上述方法’以 高效地將凹凸形狀轉寫到面積較大的薄膜上’提 效率。 ° j王座 本f明防眩膜的製造方法包括了上面 驟、電鑄步驟及轉寫步驟 製造出具有上述凹凸分佈、以及卜H車又谷易而且確實地 防眩膜。 返反射特性的本發明的 矛J用本發明製造出來的防眩膜 曰 漿顯示器、CRT s貞干哭e t , 、用於液日日顯示器、電 Φ ”、、負不器及有機EL顯示器等顯干驻嬰从史 面。設置的方法右 π攸， d寻_不裝置的表 裝置的表面，如果e ^曰發明f防眩膜直接黏貼到顯示 板上，然後再黏貼示器：情況，可先黏貼到偏光 膜的顯示裝置，在^ ^、置的表面。黏貼有本發明防眩 在防眩膜表面凹凸的作田 進行扭曲，模糊A M ^ Λ ^的作用下，可將入射光 入射光造成的影響，提高了視覺效果。

12873pif.ptd 第26頁 1291041 五、發明說明（22) 實驗例 下面，基於實施例和比較例，對本發明進行更具體的 說明。需要說明的是，本發明並不僅僅局限於以下^驗 例。 實驗例1 首先，在127//mx 127//m之四邊形的範圍内，設置75 個直徑為9 // m ( = D)的圓形開口部，各開口部的中心座標 之間的最短距離的平均值m 1為1 4 · 7 // m、最短距離的標準

偏差σ為1.049。將上述單位晶體在80mmx 8〇mm的整^範 圍内，按127//m周期進行設置，製作出6英寸角的二灰产 光罩。 又 接著，在玻璃基板上旋轉塗佈約hi Am厚度的正型光 阻（東京應化社製造、商品名稱：PR1 3)。將覆蓋有正型光 阻的玻璃基板放置在加熱到丨10度的加熱板上6〇秒以進行 後烘焙。在光阻上保持上述光罩為曝光間隙丨8 〇 # m (= L)，曝光光源使用超高壓水銀燈的g、h、i的多線的光， 換算成h線為150m J/cm2，進行照射，實施近接式曝光。此 時的L/D2值為2. 22。

將曝光後的玻璃基板浸潰到攝氏23度的〇 · 5%的氫氧化 鉀水洛液内8 0秒鐘，等顯影後，再用純水進行沖洗。然後 再在加熱到攝氏2 〇 〇度的烘箱内加熱丨8分鐘，就得到了表 面形成凹凸狀的光阻。 利用洛鑛法在上述步驟中製造出的光阻上製造鎳膜，

1291041 五、發明說明（23) 對光阻進行導電化處理。接著，藉由電鑄，在該光阻上製 造厚度約為0· 3mm的鎳膜，然後，對該鎳膜背面進行研 磨，使鎳膜厚度達到0. 2mm。將研磨後的鎳膜從光阻上剝 離下來，就得到了表面有凹凸狀的金屬板。 將UF80 0 1 (商品名稱、共榮社化學社製造、低氨基甲 酸乙酯丙烯酸酯）5 0重量份、I BX A (商品名稱、共榮社化學 社製造、異冰片基丙烯酸酯）50重量份、IRGACURE184(商 品名稱、CIBA SPECIALT Y CHEM I C ALS公司製造）2重量 份進行混合以製造出紫外線固化型樹脂組成物（下面簡稱 為UV樹脂），以作為用於製造膜的材料。 將上述步驟中得到的UV樹脂澆注到上述金屬板上，厚 度約為7 //m。在上面用厚度為80//m的PET薄膜進行覆蓋。 然後用光量為200m J/cm2的高壓水銀燈的光進行照射，使 樹脂固化’將P E T薄膜連同U V樹脂從金屬板上剝離下來， 就製造出了表面呈凹凸狀的UV樹脂和PET薄膜的堆疊體構 成的透明防眩膜。 ' ^ 用波長為643· 5nm的He —Ne雷射照射製造出的防眩 膜’觀察衍射圖案。計异從0次光的光點到1次光的光點 間的角度所對應的周期’防眩膜表面的凸部頂點之間的

短距離的平均值ml為14· 7 //m，與所用的光罩的% ^ 最短距離的平均值一致。另外，標進值兰 歼 ^ ’ 知+偏差σ 1為1 〇49， 所用的光罩的開口部的最短距離的；)：#進& 丨不千1场差一致。仿此 行計算所得的σ 1 /ml為0· 07。而且，麻祕 又依 很據正方點陵妝ήί 衍射光點的角度計算對應周期，為丨？ 7 ,, t # ’ 句以（//111，與所用的光

1291041 五、發明說明（24) ~ ---- 的單位晶體的周期一致。 比較例 準備AG6薄膜（住友化學工業社製造）用於防眩膜。AG6 薄膜表面的凹凸在整個薄膜表面呈不規則分佈，凸部頂點 之間的最短距離的平均值ml為8. 8以肌，標準偏差σ i為 2· 87，ml/ σ 1 的值為〇, 326。 〔反射率的測定〕

藉由如下方法對實施例子丨及比較例子丨中的防眩膜的 反射率曲線進行測定。即，檢測器使用光功率計（Anritsu 生產、OPTICAL POWER METER ML9 0 0 1 )，在該檢測 器前面設置光孔，使用變角光度計，使觀察樣本的角度為 2度，進行測量。測定反射率時，光源使用^素燈（中央精 機社製造、SPH — 100)，使用焦點距離300mm的集光光學系 統’藉由集光光學系統的出口，對1 5mm Φ的光進行集光成 2· 5mm φ，使之照射到300mm距離的樣本上。在樣本位置不 放任何裝置’用光功率計測定藉由距離樣本1 6 5 m m處配置 的5mm φ光孔的光量，取此時測定的光量作為反射率基準 1 〇 〇。然後’將實施例和比較例中的防眩膜作為樣本進行 安裝’將照射防眩膜的光源的入射光角度設置為丨5度，在 防眩膜周圍旋轉安裝了光孔的檢測器時，對光量進行測 定，測定反射率的角度依賴度，得到反射率曲線。此時的 反射率曲線見圖3。另外，利用相同的測定方法對照射到 防眩膜的光源的入射光角度設置為30度時的反射率曲線進 行測定。這裏的反射率曲線見圖4。

12873pif.ptd 第29頁 1291041 * 五、發明說明（25) 從以上測定結果可以看出，將光源射向防眩膜的入射 光的角度設置為1 5度時，實施例子1中的防眩膜對入射光 的向正反射方向的正反射率R(0)為0.42%，向從正反射方 向往防眩膜傾斜30度的方向的反射率R(30)為〇 ， R(30)/R(0)的值為0.00031。另外’比較例1中的防眩膜， 對於入射光的向正反射方向時的正反射率R(〇)為〇 23%， 向從正反射方向往薄膜側傾斜3 0度的方向的反射率r ( 3 〇 ) 為0.0 0 048%，R(30)/R(0)的值為0.00 6 9。而且，實施例子 和比較例子中的防眩膜，對於入射光之向從正反射方向往 薄膜側傾斜30度以上的方向的反射率R( 30以上）如圖3所 示，為反射率R(30)以下。 另外，將光源向防眩膜發出的入射光的角度設置為3 0 度時的反射率，在實施例1中的防眩膜的情況下，對入射 光之向正反射方向的正反射率R(〇)為〇·48%，向從正反射 方向往薄膜側傾斜30度的方向的反射率R( 30)為〇. 0 0 0 1 %以 下，在檢測界限以下，R ( 3 0 ) / R ( 〇 )的值為〇 · 〇 〇 〇 2以下。另 外，在比較例1中的防眩膜的情況下，對入射光向正反射 方向的正反射率R(0)為0.25%，向從正反射方向往薄膜側 傾斜30度的方向的反射率1?(30)為0.00212%，1^(30)/1^(0) 的值為0 · 0 0 8 5。而且，在實施例1和比較例1中的防眩膜， 對於入射光之向從正反射方向往薄膜側傾斜3 0度以上方向 的反射率R(30以上）如圖4所示，為反射率R(30)以下。 〔6 0 °C反射可見度的測定〕 在防眩膜的背面黏貼黑色乙烯絕緣帶，對從背面產生

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的反射進行抑制的狀態下，用SUGA試驗機 1DP對實施，子!及比較㈣ 則定…則定的結果是’實施例子1中的防眩膜 的60C反射可見度為114.3%，比較例子1中的防眩膜的6〇 C反射可見度為24.0%。 〔全光線透過率及濁度的測定〕 —使用HAZECOMPUTER(SUGA試驗機社製造、HGM_2DP)對 實施例1及比較例}中的防眩膜全光線透過率及濁度（haze) 進行測定。其結果是’實施例子1中的防眩膜的全光線透 過率為82. 1%，濁度為17.7% ;比較例1中的防眩膜的全光 線透過率為88· 3%，濁度為24. 9%。 、 〔防眩功能的評價〕 將貫施例1及比較例丨中製造的防眩膜用黏著材料黏貼 到黑色的丙烯板上，用管狀螢光燈（大塚電子社製造、 MODEL ENV —B型）進行照射，用設置在薄膜法線方向的輝 度計（T0PC0N公司生產、BM7、2度可見）測定來自防眩膜的 反f光的輝度。另外，在測定輝度時，可調整管狀螢光燈 的南度將射向管狀螢光燈的入射角設置為10度、15度、20 度、3 0度’對各種入射角時光線的反射光的輝度進行測 定。測定結果是，實施例1的防眩膜，對於各個入射角的 反射光輝度分別是，6i.4cd/m2、15.6cd/m2、7.9cd/m2、 7· 3cd/m2。比較例1的防眩膜對各種入射角的反射光的輝 度分別是，74.2cd/m2、6(Klcd/m2、47.2cd/m2、 33· 2cd/m2。從以上結果可以確認，對各種角度的入射

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五、發明說明（27) 光，實施例1的防眩膜的反射光輝度要比比較例1的防眩 的反射光輝度要低，其防眩功能要好。另外，在實施例模 中，光的入射角越大，反射光輝度下降就越快，與比較 1的防眩膜的反射光輝度之間的差就越大。由此可以確’^ 認，實施例1的防眩膜與比較例1的防眩膜相比，可減少 發散光導致的線性失真現象。以下將藉由肉眼觀察來^ = 性失真現象進行進一步確認。 Ί 〔對線性失真、光的衍射進行評價〕 將實施例1及比較例1中的防眩膜用黏著劑黏貼到黑 的丙烯酸板上，在明亮的室内（40W型直管榮光燈2個為“'一 組’按每3M間隔進行配置），將其中一組的螢光&燈的光、= 入射角調整為3 0度，參與試驗的人從防眩膜的、去線方白、 行肉眼觀察’在實施例1的防眩膜’比周圍的黑色丙稀°板$ 有稍微的發白現象。比較例1的防眩膜與周圍的w、色丙稀 板相比，發白並且模糊。從該肉眼觀察結果來看，實施例 1的防眩膜與比較例1中的防眩膜相比，線性失真現1卩=’ 低，視覺效果要好。 ❿ 用同樣的肉眼觀察方法，對光線衍射導致的視覺效果 進行觀察，結果發現，實施例1的防眩膜在光線衍射下僅 出現細微的發花現象，沒有發現視覺效果的下降，而比較 例1的防眩膜能明顯觀察到光線衍射導致的花色現象，視 覺效果明顯下降。 〔將防眩膜黏貼到顯示裝置時的視覺效果評價〕 將實施例1及比較例1中的防眩膜黏貼到偏光板上，再

1291041 五、發明說明（28) 黏貼到液晶顯示器表面，就製作出了貼有本防眩膜的顯示 裝置。在該顯示裝置上顯示同一畫面，放在明亮的室内 (40W型直管螢光燈2根為一組，相隔3M進行配置的辦公室 環境）’將一組的螢光燈光線入射角調整為3 〇度，從顯示 裝置的法線用肉眼來進行觀察，對其防眩功能進行確認。 得到的結果是，安裝了實施例1中的防眩膜的顯示裝置沒 有發現顯示晝面的視覺效果下降現象，說明防眩效果非常 好。而安裝了比較例1的防眩膜的顯示裝置出現了模糊現 象，顯示晝面的視覺效果明顯下降。 藉由上述結果可以發現，本發明防眩膜（實施例丨）與 比較例1的防眩膜相比，具有良好的防眩效果，可有效防 止線性失真及雜散光導致的顯示模糊、視覺效果降規 象。 發明的效果 能 如上所述，本發明專利可提供製造具有良好防眩功 防止出現線性失真及光線衍射等而導致視覺效果下降 的防眩膜及其生產方法，以及能夠製造出安^ j膜的 顯示裝置等。 °

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1291041 · 圖式簡單說明 【圖式簡單說明】 圖1表示入射到本發明防眩膜的光線的入射方向和反 射方向的模式圖。 圖2表示相對防眩膜法線以0角入射的入射光的反射 光距離反射方向的防眩膜法線的傾斜角和LOG反射率之間 的關係的曲線圖。 圖3表示以1 5度的角度入射到實施例1和比較例1中的 防眩膜的光線的反射率曲線結果。 圖4表示以3 0度的角度入射到實施例1和比較例1中的 防眩膜的光線的反射率曲線結果。 【圖式標示說明】 1 :防眩膜 2 ··防眩膜的法線 3 :包含法線及入射光的面 4 :入射光 5 :射向正反射方向的反射光 6 :向從正反射方向往薄膜30度的方向的反射光

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Claims (1)

1291041 六、申請專利範圍 1 · 一種防眩膜，是表面有凹凸形狀的防眩膜，其特徵 在於： 對與防眩膜法線夾5〜3 0度的任一角度入射的入射光 的正反射方向的正反射率為R(〇); 對於上述入射光之向從上述正反射方向往防眩膜傾斜 3〇度以上角度的上述反射率為R(3〇以上）時， R(〇)為1%以下，而且，r(30以上）/R(〇)的值為0.001 以下。 2·如申請專利範圍第1項所述的防眩膜，其特徵在 於’60°的反射可見度在2〇〇%以下。 3 ·如申請專利範圍第1項或是第2項所述的防眩膜，其 ，彳玫在於’在防眩膜表面，有多個凹凸的單位晶體與其他 單位晶體中的凹凸呈相互並列對稱狀， 上述單位晶體中，上述凹凸頂點之間的最短距離的平 均值為ml，上述最短距離的標準偏差為口丨時，al/mi的 值還滿足如下公式： 0.05$ σΐ/ml $〇·3。 4. 一種防眩膜的製造方法，其特徵在於，包括以下步 理

形成的光阻上進行灰度曝光後，藉由顯影處 在光阻上形成凹凸的曝光步驟； 上電鑄金屬後’將電鑄的金屬從上述光® 來，來製作轉寫上述凹凸形狀的金屬板的電禱;

1291041 六、申請專利範圍 寫步称吏用上述金以，將上述凹凸形狀轉寫到薄旗上的轉 鄉:5.一種防眩膜的製造方法’其特徵在於，包括以下步 在基材上使用光阻進行灰度曝光之後 理，在光阻上形成凹凸的曝光步驟； ㈢由颍衫處 在上述光阻上電鑄金屬之後，將 阻上剝離下來，來製作#寫上述凹㈣=⑼上述光 步驟； ^狀的金屬板的電鑄 將上述金屬板纏繞到軋輥表面，製作 形狀的壓紋軋輥的軋輥製作步驟；以及 有上述凹凸 使用上述壓紋軋輥，# ;凹凸形狀 的轉寫步驟。 轉冩到溥膜上 6 ·如申凊專利範圍第$頊或吾望 造方法，直蛀w 士固乐貝次疋弟5項所述的防眩膜的製 仏方法，、特欲在於在上述轉寫步驟中，在上、+、餐越沾# 的凹凸呈相石*以 曰曰體與其他單位晶體中 、、 並列對稱狀的配置，而且上述單位a許中， 上述凹凸頂點之間的最短距離的平均值為ml，上^最短距 離的標準偏差為叫時，痛…值還滿足如下上公这式取短距 0.05S σΐ/πα $0.3。 下 Α 式 4 ^如=請專利範圍第4項或是第5項所述的防眩膜的製 = = =，/、特徵在於：在上述曝光步驟中的灰度曝光對於 述光阻、’至少藉由二灰度的光罩來完成近接式曝光； 上述光罩和上述光阻之間的距離為L( #m)，上述光罩 12873pif.ptd 第36頁 1291041 六、申請專利範圍 的透過部的外來 下公式·· ’ 寸為D( #m)時，上述近接式曝光滿足如 1· 3 f/D2 $2· 8。 造方法如申請專利範圍第4項或是第5項所述的防眩膜的製 於上述井其特徵在於上述曝光步驟中的上述灰度曝光’對 g “阻，至少藉由多灰度的光罩來進行。 制 造方法如申請專利範圍第4項或是第5項所述的防眩膜的製 =斜’卜、L其特徵在於，上述曝光步驟中的上述灰度曝光π 光強度=光阻，至少應藉由能如不同情況來改變曝光光Λ、 的空間光調變器來進行。 防眩‘：種顯示裝置，使用了申請專利範園第1頊所述的

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