TWI287619B - A light beam measurement device - Google Patents

Description

1287619 九、發明說明： 【發明所屬之技術區域】 本發明是關於實施作爲測定對象的光束之波面測定或該 • 光束之聚光點中之各種測定的光束測定裝置，尤其是關於 . 適合低可干涉性之光束的測定之光束測定裝置。 【先前技術】 以往，使測定之光束在CCD等之攝像面上成像爲點狀， 以形成點像，並實施此點像之形狀或大小、或強度分布（點 • 像強度分布）或重心座標等之測定（將此等總稱爲「點特性 測定」）的裝置（亦稱爲「光束總覽器（profiler)」）係爲周知 (參照下列專利文獻1)。 又，實施光束之波面測定的裝置方面，截至目前通常係 以具有馬哈真德型干涉計之光學系統配置之裝置爲習知， 但是近年來，本申請人提案具有斐索（Fizeau)型干涉計之光 學系統配置之裝置，已對專利局揭示（參照下列專利文獻 2) ° ® 在馬哈真德型之波面測定裝置中，係將自被檢光束分離 的基準光束作成用光束之一部分，藉透過針孔來波面整 形，相對於此，在斐索型之波面測定裝置中，係使用將基 準光束作成用光束之一部分，和射入方向相反的方向上反 射，來實施波面整形的光學元件（以下稱爲「反射繞射 部」）。如此的反射繞射部，亦被稱爲反射型針孔等，已知 有在玻璃基板上形成微小的反射區域者，或在針狀構件的 前端形成微小的反射區域者（參照下列專利文獻3 )，或者在 1287619 通常之針孔的背面側附近配置反射面者（參照下列專利文 獻4)等。 【專利文獻1】日本特開2004-45327號公報 【專利文獻2】日本特願2〇〇4·168965號說明書 【專利文獻3】日本特開2000_97612號公報 【專利文獻4】日本特開昭58-60590號公報 〔發明欲解決的課題〕 上述般的光束總覽器（profiler)或波面測定裝置，係使用 於例如光學拾波器裝置之輸出光的測定。在此光學拾波器 裝置之中，係使用高諧波重疊的低可干涉性之半導體雷射 先作爲照射光束’爲了貫施此種低可干涉性之光束的波面 測定’必須使被檢光束之光路長和基準光束之光路長彼此 大致爲一致。 揭示於該專利文獻2的斐索型之波面測定裝置，係被檢 光束及基準光束之各光路長設定爲彼此不同，故測定之光 束爲低可干涉性之光束的情況，有不易實施波面測定的一 面。 另一方面，馬哈真德（Mach-Zehnder)型之波面測定裝 置，係被檢光束及基準光束之各光路長可作成彼此大致相 同，故可對應低可干涉性之光束的波面測定，但是光學系 統的構件點數多，調整之部位亦頗分歧，故有光學系統的 調整相當函難之問題。並且，亦有容易受到振動的影響， 或相位移動機構之設置困難等之問題。 又，在該光學拾波器裝置中，在其製造階段，雖然有實 1287619 施照射雷射光之波面測定及點特性測定之2種測定，但是 以往此等2種測定係分別以不同的測定裝置來個別地進 行。因此，有進行2種測定很費時的問題。 本發明係鑑於此般事情而開發者，第1目的在提供一種 波面測定用之光束測定裝置，其可對應低可干涉性之光束 的波面測定，且光學系統的調整或相位移動機構之設置可 容易進行。 並且，第2目的在提供一種光束測定裝置，其可對應低 可干涉性之光束的波面測定，且亦可實施光束之點特性測 定。 【發明內容】 〔解決課題之手段〕 爲了達成上述第1目的，本發明之光束測定裝置係如以 下地構成。即，本發明之光束測定裝置，係具有：將作爲 測定對象的光束分離成被檢光束及基準光束作成用光束的 被檢/基準光束分離手段、及將該基準光束作成用光束加以 波面整形而轉換爲基準光束的波面整形手段、及將該被檢 光束及該基準光束互相合波以得出干涉光的合波手段、及 將利用所得出的該干涉光將該光束的波面資訊加以載持使 干涉條紋成像而加以拍攝的干涉條紋成像/拍攝手段之光 束測定裝置，其特徵爲： 該波面整形手段，係由具有將該基準光束作成用光束加 以收束的收束透鏡、及配置於該收束透鏡之收束點的微小 之反射繞射部所成，並將射入之該基準光束作成用光束的 1287619 . -· 一部分加以波面整形而轉換爲基準光束，將該基準光束向 該被檢/基準光束分離手段射出之反射型波面整形單元所 構成， • 該被檢/基準光束分離手段及該合波手段係藉由光束分 • 離/合波面所構成，該光束分離/合波面使和該基準光束作 成用光束分離的該被檢光束射入到反射面，同時將從該反 射面返回的該被檢光束和來自該波面整形手段的該基準光 束進行合波， ® 具備有光路長調整手段，至少在該光束爲低可干涉性之 光束的情況，使從該光束分離/合波面通過該反射面而回到 該光束分離/合波面的第1光路長、及從該光束分離/合波 面通過該反射型波面整形單元而回到該光束分離/合波面 的第2光路長，彼此大致成爲一致。 並且，爲了達成上述第2目的，本發明之光束測定裝置 最好具備有：點作成用光束分離手段，係將射入該光束分 離/合波面之前的該光束、由光束分離/合波面所分離後之 ® 該被檢光束、或波面整形前之該基準光束作成用光束之任 何一者的一部分作爲點作成用光束而加以分離；及點像成 像/拍攝手段，係將藉由該點作成用光束使該光束之點像成 像’並加以拍攝。 本發明中，可具備有解析干涉條紋以得出光束的波面測 定結果之第1解析手段。又，在具有點作成用光束分離手 段及點像成像/拍攝手段的裝置中’宜於第1解析手段之 外、具備解析點像以得出光束的點特性測定結果之第2解 -10- 1287619 -， 析手段。 上述所謂「微小的反射繞射部」係指藉由聚光（收束）於 該反射繞射部的收束光束之繞射界限來決定大小（較佳爲 比繞射界限更小的構成），而具有將該收束光束之至少一部 ， 分作爲波面整形後之球面波而反射之功能者。此種反射繞 射部方面，雖然可使用各種構成者，但是具體的形態上， 例如可爲在基板上形成微小的反射區域者、在針狀構件的 前端形成微小的反射區域者、或者在針孔之背面側附近配 ® 置反射面者等。 〔發明之效果〕 依照本發明之光束測定裝置時，藉具備有由反射型波面 整形單元所構成的波面整形手段、及由光束分離/合波面所 構成被檢/基準光束分離手段及合波手段，可採用邁可爾松 型之光學系統配置，故和習知的馬哈真德型裝置比較，可 容易進行光學系統的調整或相位移動機構之設置。 又，藉由具備光路長調整手段，可使被檢光束/基準光束 ® 之各光路長，彼此大致成爲一致，故亦可對應低可干涉性 之光束的波面測定。 又，依照具備有點作成用光束分離手段、及點像成像/拍 攝手段的形態之裝置時，可實施光束之波面測定及光束之 點特性測定之2種測定。 【實施方式】 <第1實施形態> 下面，將參照附圖來詳細地說明本發明光束測定裝置之 -11- 1287619 * - 實施形態。第1圖是本發明第1實施形態的光束 之槪略構成圖，第2圖是第1圖所示之解析裝置 成圖。 - 第1圖所示之光束測定裝置1 A，係用以實施從 < 器模組5 0輸出之光束的波面測定及點特性測定 定者’首先，將針對此光學拾波器模組5 〇加以說 第1圖所示之光學拾波器模組5 0，係具備輸出 疊的低可干涉性之半束之半導體雷射5 1、將從該 ® 射5 1作爲發散光而輸出的光束加以準直化的準 52、將從該準直器透鏡52加以準直化的光束加以 光透鏡5 3，構造上使作爲測定對象的低可干涉性 向圖中右方射出。又，此光學拾波器模組5 0，係 圖示之光學拾波裝置而使用者，並非係光束測定 之構成要件。 其次，將針對光束測定裝置1 A來說明。第1圖 束測定裝置1 A，係大致區分爲圖中一點虛線所示 ® 光軸上的各種光學構件所構成光學系統之部分、 裝置3 1爲中心而構成的測定解析系統之部分，光 部分更區分爲：將來自該光學拾波器模組5 0的光 學系統內之準直器透鏡1 1、對被導入的光束實施 之波面測定部1 0 A、及對被導入的光束實施點特 點特性測定部1 Ο B。 首先，將針對該光學系統之部分說明。該波面測

測定裝置 的槪略構 光學拾波 之雙方測 明。 高諧波重 半導體雷 直器透鏡 聚光的聚 之光束朝 搭載於未 裝置1A 所示之光 之配置於 及以解析 學系統之 束導入光 波面測定 性測定之 定部10A -12- 1287619 · • 將被導入的光束分離成波面測定用之被檢光束及基準光 束作成用光束的被檢/基準光束分離手段（15)、將該基準光 束作成用光束加以波面整形而轉換爲基準光束的波面整形 手段（2 0)、將該被檢光束及該基準光束彼此合波以得出干 涉光的合波手段（1 5 )、及利用所得出的該千涉光將光束的 波面資訊加以載持使干涉條紋成像而加以拍攝的干涉條紋 成像/拍攝手段（18，19)。 更具體地說，該波面整形手段係由反射型波面整形單元 I 2 0所形成。此反射型波面整形單元2 0具有使基準光束作 成用光束加以收束的收束透鏡2 1、及配置於該收束透鏡2 1 之收束點的微小之反射繞射部22，構造上將射入之基準光 束作成用光束的一部分加以波面整形而轉換爲基準光束， 將該基準光束向該被檢/基準光束分離手段射出。 該反射繞射部22，例如係利用蒸鑛等而形成於基板23 上之金、鋁、鉻等之金屬膜所構成，其大小係構成比作爲 收束光束之射入的光束之繞射界限更小。然後，在構成上 b 將作爲收束光束而射入的基準光束作成用光束之一部分加 以波面整形，而作爲理想的球面波加以反射。而，在和基 板2 3之收束透鏡2 1對向的面，施以對應於光束的波長之 反射防止塗膜處理，使未施以波面整形的基準光束作成用 光束不返回收束透鏡21。 又，該被檢/基準光束分離手段及該合波手段，係由光束 分離/合波面1 5所形成。此光束分離/合波面1 5構造上係 由立體稜鏡型之光束分光器或板狀之半反射鏡等所形成， 1287619 - 將和基準光束作成用光束分離的被檢光束射入反射板17 之反射面1 7a(高精度地平滑化，以可維持射入之光束的波 面），同時使自該反射面17a返回的被檢光束，和來自該反 • 射型波面整形單元20的基準光束進行合波。 , 在該反射板1 7上設置有將該反射板1 7可保持朝光軸方 向（圖中之上下方向）移動的1個軸台、及具有壓電元件等 所形成的條紋掃猫適配器（f r i n g e s c a n a d a p t e r)(圖中均省 略）。此乃構成使從光束分離/合波面15通過反射面17a而 ® 返回光束分離/合波面15的第1光路長、及從光束分離/合 波面15通過反射型波面整形單元20而返回光束分離/合波 面1 5的第2光路長作成彼此大致一致的光路長調整手段。 又，條紋掃瞄適配器係構成相位移動機構者，例如使用相 位移動法來實施子條紋測量等之時，利用壓電元件之驅 動’使反射板1 7朝光軸方向微動之構成。 又’該干涉條紋成像/拍攝手段，係由成像透鏡1 8及第1 攝影機1 9所構成。成像透鏡1 8構造上係使利用來自光束 B 分離/合波面1 5的干涉光所得出之干涉條紋，在第1攝影 機19之攝像面19a(例如CCD或CMOS等之攝影面所形成） 上成像，第1攝影機19構造上則將成像於攝像面19a上之 干涉條紋加以拍攝，並將其影像訊號輸出。 又’在該光束分離/合波面15和該反射型波面整形單元 2 〇之間的光路上配置有遮光手段丨6。此遮光手段1 6係由 可開閉的快門等所構成，構造上係如後述，利用運算求出 光束之點像強度分布之時，將光束分離/合波面1 5和反射 -14- 1287619 - 型波面整形單元2 0之間的光路加以遮斷，並在波面測定時 將該光路打開。 另一方面，上述點特性測定部1 ΟΒ具有：將射入該光束 * 分離/合波面1 5之前的光束之一部分作爲點作成用光束而 . 加以分離的點作成用光束分離手段（1 2)、及利用已分離之 點作成用光束使光束之點像加以成像並加以拍攝的點像成 像/拍攝手段（13, 14)。 更具體言之，該點作成用光束分離手段係由立體狀稜鏡 • 型之分光器或板狀之半鏡等所形成的光束分離面12來構 成，該點像成像/拍攝手段係由成像透鏡1 3及第2攝影機 1 4所構成。即，光束分離面1 2構造上使從準直透鏡1 1射 出的光束之一部分作爲點作成用光束加以分離，而導入成 像透鏡1 3中，成像透鏡1 3在構成上，係使由點作成用光 束產生的點像在第2攝影機14之攝像面14 a(CCD或CMOS 等之攝影面所形成）上成像。又，第2攝影機14在構成上 係用以拍攝在攝像面1 4a上成像的點像，並將其影像訊號 ®輸出。 其次，將針對該測定解析系統之部分加以說明。此測定 解析系統之部分具備：根據來自第1及第2攝影機1 9,1 4 之影像訊號而實施各種解析的解析裝置3 1、顯示該解析裝 置3 1之解析結果或影像的顯示裝置3 2、及鍵盤或滑鼠等 所構成的輸入裝置3 3。 該解析裝置3 1係由電腦等構成，如第2圖所示，其具備： 根據來自第1及第2攝影機1 9,1 4之影像信號，而產生干 -15- 1287619 、 涉條紋的影像資料及點像之影像資料的影像產生部3 4、解 析干涉條紋的影像資料以獲得光束之波面測定結果，而作 爲第1解析手段之條紋解析部3 5、及解析點像之影像資料 ' 以獲得光束點之形狀或大小，或點像強度分布或重心座標 - 等之點特性測定結果，而作爲第2解析手段之點像解析部 3 6° 並且，此解析裝置3 1具備：藉由運算求出光束之點像強 度分布之點像強度分布運算部3 7、及將藉由該點像強度分 ® 布運算部3 7及該點像解析部3 6分別求出之2個點像強度 分布結果加以比較解析之比較解析部3 8。此外，此等各部 3 4〜3 8在具體上係由儲存於記憶體等之處理程式或執行該 處理程式之運算電路等所構成。 該點像強度分布運算部3 7在構成上，係在第1圖所示之 遮光手段1 6將光束分離/合波面1 5和反射型波面整形單元 2 0之間的光路加以遮斷之時，根據來自第1攝影機1 9之 影像訊號，在該影像產生部34中產生顯示光束的平行波面 ® 之強度分布的影像資料，利用傅立葉轉換運算（Fourier’s transformation)，求出光束之點像強度分布。於是，已知從 光束的平行波面之強度分布求出其點像強度分布的方法 上，例如，有下列文獻（1 )、（2)中所記載者。 (1)華倫· J·史密斯：Optical Engineering, SPIE Press，

McGraw-Hill 3rd Edition (2) Max Born & Emil Wolf· Principle of 0 p t i c s , P e r gam ο n Press 6th Edition 1287619 、 在如此的光束測定裝置1 A中，光束之點像強度分布，可 藉由2個方法分別求出，即根據由點特性測定部丨〇 b及影 像產生部3 4所得出之光束的點像，在點像解析部3 6求出 點像強度分布的方法、和由波面測定部1 〇 A及影像產生部 - 3 4所得出之光束的平行波面之強度分布，在點像強度分布 運算部3 7求出點像強度分布的方法。此2種類之點像強度 分布，係由1台光束測定裝置1 A所得出者，故可容易地取 得其彼此之相關性（即使使用各別的測定裝置亦可取得2種 ^ 類之點像強度分布，亦極不易取得彼此之相關性）。從而， 藉由該比較解析部3 8所獲得的比較解析結果，可利用在光 束測定裝置1 A所獲得的波面測定結果或點特性測定結果 之精度判定，或者可利用在求出光束測定裝置1 A所具有的 收差等之系統誤差。 以下，將說明該光束測定裝置1 A之測定時之作用。 如第1圖所示，從該光學拾波器模組50朝向圖中右方射 出的低可干涉性之光束，在藉由準直器透鏡1 1轉換成平行 ® 光束之後，在光束分離面12中被分離成朝向圖中右方之波 面測定用之光束、及朝向圖中下方的光束點作成用光束。 被分離的光束點作成用光束，經由成像透鏡1 3而聚光在 第2攝影機14內之攝像面14a，在該攝像面14a上形成光 束之點像。形成後之點像藉由第2攝影機1 4加以拍攝，其 影像訊號被輸出到解析裝置3 1。根據輸出後之影像訊號， 在解析裝置3 1之影像產生部3 4中產生點像之影像資料， 此點像之影像資料在點像解析部3 6被解析’而得出光束點 1287619 〜 之點像強度分布或半値寬度、剖面形狀或亮度分散等之各 種的點特性測定結果。 另一方面，從光束分離面1 2中朝向圖中右方之波面測定 用之光束，被射入光束分離/合波面15，在該光束分離/合 ’ 波面15中被分離成朝圖中上方反射的被檢光束、及穿透該 光束分離/合波面15而朝向反射型波面整形單元2〇的基準 光束作成用光束’基準光束作成用光束通過開放狀態的遮 光手段1 6而射入收束透鏡2 1中。 * 射入此收束透鏡2 1中的基準光束作成用光束，藉由該收 束透鏡2 1而收束，而射入配置於其收束點的反射繞射部 2 2。射入此該反射繞射部2 2的基準光束作成用光束之一部 分，在該反射繞射部22中被轉換成波面整形後之球面波， 而朝向收束透鏡2 1反射。此球面波在收束透鏡2 1中轉換 成平面波’而作爲基準光束朝向光束分離/合波面15射出。 又，此基準光束之一部分，在光束分離/合波面15中朝向 圖中下方反射。 ® 另一方面，自光束分離/合波面15朝向圖中上方反射的 被檢光束，在反射板1 7之反射面1 7 a朝向反方向反射，而 返回光束分離/合波面15，其一部分穿透光束分離/合波面 15而向圖中下方射出。 此被檢光束藉由和在光束分離/合波面1 5反射後的基準 光束合波而獲得干涉光。此干涉光經由成像透鏡1 8而射入 第1攝影機19內之攝像面19a，在該攝像面19a上形成載 持光束的波面資訊之干涉條紋像。形成後之干涉條紋像利 -18- P87619 \ 用第1攝影機1 9像加以拍攝，其影像訊號被輸出到解析裝 s 3 1。根據輸出的影像訊號在解析裝置3 1之影像產生部 3 4中產生干涉條紋像之影像資料，此干涉條紋像之影像資 _ 料在條紋解析部3 5中被解析，而得出光束的波面測定結 * 果。 如上所述，依光束測定裝置1 A時，具備有波面測定部 1 Ο A及點特性測定部1 〇B，同時波面測定部1 〇 A採用具有 反射型波面整形單元20、光束分離/合波面15、反射板17、 ® 及光路長調整手段之邁可森型之光學系統配置，故可實施 低可干涉性之光束的波面測定及光束之點特性測定2種測 定，同時和以往的馬哈真德（Mach-Zehnder)型者比較，可 使光學系統之調整或相位移動機構之設置容易進行。 <第2實施形態> 其次，將針對本發明光束測定裝置之第2實施形態加以 說明。第3圖是本發明第2實施形態的光束測定裝置1 B之 槪略構成圖。而，在第3圖所示的光束測定裝置1 B中’和 ® 第1圖所示之光束測定裝置1 A共通的構成要件係使用相同 的符號，爲避免重複並省略其詳細說明，以下僅詳細說明 不同點。 第3圖所示之光束測定裝置1 B，係用以實施從光學拾波 器模組5 0輸出之光束的波面測定者’未具有點特性測定部 之點和第1圖所示之光束測定裝置1 A相異。又’由於未具 有點特性測定部，第1圖所不之遮光手段1 6、或第2圖所 示之點像解析部3 6、點像強度分布運算部3 7及比較解析 -19- 1287619 、 部3 8等亦被省略。 此外，第3圖所示之波面測定部1 0A’， 係爲具有反射 型波面整形單元20、光束分離/合波面15、及反射板17之 * 邁可森型之光學系統配置，又，反射板1 7在具有1個軸台 • 及條紋掃瞄適配器所形成的光路長調整手段之點，和前面 之第1實施形態相同。 從而，依此光束測定裝置1 B的話，可實施低可干涉性之 光束的波面測定，同時和以往的馬哈真德（Mach-Zehnder) ® 型者比較，可使光學系統之調整或相位移動機構之設置容 易進行。 <形態之變更> 以上，雖然已詳細地說明本發明之實施形態，但是本發 明並不限定於上述相關實施形態，可在形態上作各種變更。 例如，上述之實施形態，係以測定之光束的波長不變化 作爲前提，故反射型波面整形單元2 0僅1種類，但是亦可 使測定之光束爲多個，而對應地使此等之波長爲彼此相異 ® 之情況，具備分別對應於各波長之多種反射型波面整形單 元，在測定之光束的波長變化之時，使此該等相互地切換 而使用。 又，雖然在第1圖所示之形態中，係使射入光束分離/合 波面1 5 (被檢/基準光束分離手段）之前的光束之一部分，利 用光束分離面（點作成用光束分離手段）12加以分離而作爲 點作成用光束，但是亦可在光束分離/合波面1 5和反射板 1 7之間設置另外的光束分離面，使藉由光束分離/合波面 -20- 1287619 、 15分離後的被檢光束之一部分被分離而作爲點作成用光 束’或在光束分離/合波面1 5和波面整形單元2 0之間設置 另外的光束分離面，使波面整形前之基準光束作成用光束 ‘ 的一部分被分離而作爲點作成用光束。 • 又，雖然在上述形態中者，係將從光學拾波器模組5 0輸 出的光束作爲測定對象，故和通常之干涉計裝置相異，而 並未具備將光源裝置作爲構成要件，但是亦可具備可將具 有高精度的波面之基準光束輸出的基準光源裝置。具備此 ® 種基準光源裝置之情況，使來自於基準光源裝置之基準光 束’經由作爲測定對象的被檢透鏡輸出，以實施其波面測 定，藉此可測量被檢透鏡之折射率分布等。 又’關於使用波面整形手段20的反射繞射部22方面， 可使用前述之專利文獻2所揭示的各種形態中者。 【圖式簡單說明】 第1圖是本發明第1實施形態的光束測定裝置之槪略構 成圖。 B 第2圖是第1圖所示之解析裝置的槪略構成圖。 第3圖是本發明第2實施形態的光束測定裝置之槪略構 成圖。 【元件符號說明】 1 A 光束測定裝置（第1實施形態） 1 B 光束測定裝置（第2實施形態） 10A，10A’ 波面測定部 10B 點特性測定部 -21- 1287619

11,52 準直器透鏡 12 光束分離面（點作成用光束分離手段） 13,18 成像透鏡 14 第2攝影機 14a，1 9 a 攝像面 15 光束分離/合波面（被檢/基準光束分離手段） 16 遮光手段 17 反射板 17a 反射面 19 第1攝影機 20 反射型波面整形單元 2 1 收束透鏡 22 反射繞射部 23 基板 3 1 解析裝置 32 顯示裝置 33 輸入裝置 34 影像產生部 35 條紋解析部（第1解析手段） 36 點像解析部（第2解析手段） 37 點像強度分布運算部 3 8 比較解析部 50 光學拾波器模組 5 1 半導體雷射 53 聚光透鏡 -22 -

Claims (1)

1287619 十、申請專利範圍： 1 . 一種光束測定裝置，係具有：將作爲測定對象的光束分 離成被檢光束及基準光束作成用光束的被檢/基準光束 分離手段、及將該基準光束作成用光束加以波面整形而 轉換爲基準光束的波面整形手段、及將該被檢光束及該 基準光束互相合波以得出干涉光的合波手段、及利用所 得出的該干涉光將該光束的波面資訊加以載持使干涉條 紋成像而加以拍攝的干涉條紋成像/拍攝手段；此種光束 B 測定裝置之特徵爲： 該波面整形手段，係由具有將該基準光束作成用光束 加以收束的收束透鏡、及配置於該收束透鏡之收束點的 微小之反射繞射部所成，並將射入之該基準光束作成用 光束的一部分加以波面整形而轉換爲基準光束，使該基 準光束朝向該被檢/基準光束分離手段射出之反射型波 面整形單元所構成， 該被檢/基準光束分離手段及該合波手段，係由光束分 離/合波面所構成，該光束分離/合波面將和該基準光束作 成用光束分離的該被檢光束射入到反射面，同時將從該 反射面返回的該被檢光束和來自該波面整形手段的該基 準光束進行合波， 具備有光路長調整手段，至少在該光束爲低可干涉性 之光束的情況，使從該光束分離/合波面通過該反射面而 回到該光束分離/合波面的第1光路長、及從該光束分離 /合波面通過該反射型波面整形單元而回到該光束分離/ -23- 1287619 ‘ *趄 n 合波面的第2光路長，彼此大致成爲一致。 2.如申請專利範圍第1項之光束測定裝置，其中具備有： 點作成用光束分離手段，係將射入該光束分離/合波面之 • 前的該光束，由該光束分離/合波面分離後之該被檢光 . 束、或波面整形前之該基準光束作成用光束之任何一者 的一部分作爲點作成用光束而加以分離；及點像成像/拍 攝手段，係將藉由該點作成用光束使該光束之點像成 像，並加以拍攝。 ® 3 .如申請專利範圍第1項之光束測定裝置，其中具備有解 析該千涉條紋以得出該光束的波面測定結果之第1解析 手段。 4 .如申請專利範圍第2項之光束測定裝置，其中具備有解 析該千涉條紋以得出該光束的波面測定結果之第1解析 手段、及解析該點像以得出該光束的點特性測定結果之 第2解析手段。

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