TWI280968B - Solvent composition and use thereof - Google Patents

Description

1280968 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術，內容、實施方式及圖式簡單說明） 【發明戶斤屬之技術領域3 本發明係有關一種用於製造光學記錄媒體之方法之新 穎溶劑組成物。更特別地，本發明之溶劑組成物能製造一 種單一記錄層型式之光學記錄媒體，其能使用可購得之光 5 碟記錄器及播放器記錄及播放大量資訊及於驚人之廣範圍 趨動速率具優異性能。 【先前技術3 作為光學記錄媒體，具有已知之唯讀媒體（其間資訊係 事先已被記錄且僅可重現（reproduction))、可寫式媒體（其 10 間資訊可被記錄及重現），及可重複書寫式媒體（其間資訊 可被記錄，且因而記錄之資訊可被重現、刪除或覆寫 (overwritten)。其中，相較於可重複書寫之媒體，可書寫式 (一次書寫）之媒體一般係不昂貴且於耐用性係優異。因此 ，可書寫式媒體被廣泛用於記錄及儲存大量資料，例如， 15 音樂及影像。 光學書寫式媒體具有位於基材上之記錄層，其一般係 由諸如Te或Bi之金屬、菁或酞菁染料等所組成。相較於 菁染料，酞菁染料一般具有較優異之對光、熱及濕氣之安 定性。資訊可藉由以激光束照射以於層内造成物理性或化 20 學性之變化（凹痕形成）而被記錄於記錄層。凹痕係以具有 比記錄所用者更低能量之激光束讀出，因此，資訊可被重 現。 於光學書寫式媒體中，已發展出稱為CD-R，可藉由 所謂之CD-R及CD-RW記錄器記錄，包含音頻記錄器，及 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 1280968 發明說明_胃 玖、發明說明 能藉由此等記錄器及藉由唯讀電腦裝置及藉由可購得之光 碟（CD)播放器讀出之媒體。 5 10 可藉由CD播放器讀出之可書寫式媒體係，例如，描 述於光學資料儲存（Optical Data Storage)l，989，科技文摘 系列（Technical Digest Series)第 1 冊，45 (1989)，ΕΡ-Α-0 3 53 393及EP-A 0 410 879。此媒體係單一記錄層型式，包 含具凹槽結構之基材、由有機染料組成之記錄層、金屬反 射層及保護層。 本發明目的係提供一種製造方法及一種記錄媒體，其 具有改良之反射性、訊號調整及廣範圍記錄速率之功率範 圍。 上述媒體之染料一般係被旋轉塗覆，其係因為此方法 之良好之均勻性及經濟性之故。為了欲被旋轉塗覆之染料 ，染料需可以適當濃度溶於有機溶劑。此染料溶液需能均 15 勻地塗覆基材整個區域，及提供基材内凹槽之適當填充， 導致凹槽區域與陸地區域（land area)間之所需反射性差異， 以便獲得高品質之媒體。但是溶劑不應或僅最小地損害典 型上係聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯之基材之凹槽。但是 ，發現對染料之高助溶力及對基材之低損害間之折衷係非 20 常困難。 非極性有機溶劑已被提議用於聚酞菁染料，例如，脂 族烴，諸如，甲基環己烷、二曱基環己烷、乙基環己烷， 或醚，例如，二正丁基醚。共催化劑可與此等非極性主要 溶劑摻合，且包含，例如，醇（諸如，丙醇、丁醇、戊醇、 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 1280968 發明說明 玖、發明說明 己醇、辛醇）、醚（諸如，四氫呋喃）、酮（諸如，甲基異丁基 酮、二異丁基酮、環己酮）、芳族烴（諸如，曱苯、乙基苯 、二甲苯及三甲基苯）及最近之酯（諸如，乳酸甲酯（CH 20002 829/02) 〇 5 ΕΡ-Α-0 373 643號案揭示使用二丁基醚、正辛烷、環 己烷、甲基環己烷、甲苯及二甲苯作為使酞菁染料塗覆於 聚碳酸酯光碟上之溶劑。 US-4,943,681號案揭示使用環己烯作為使酞菁染料旋 轉塗覆於聚碳酸酯光碟上之溶劑。 10 ΕΡ-Α-0 511 598號案揭示具有180°C或更少之沸點及 8.5或更少之希爾德布蘭特（Hildebrand)溶解度參數之溶劑 及溶劑系統。此等”非極性”溶劑系統較佳被應用至非極性 可溶性之酞菁染料，其具有附接至酞菁發色團之烧基、烧 氧基、烷基硫基及三烷基矽烷基-取代基。具低溶解度參數 15 之溶劑（其間正辛烷及甲基環己烷被再次揭示）可與具較高 溶解度參數之溶劑（其間，如乙基苯）呈混合物使用。乾燥 後於層内保持低含量之溶劑被認為改良感應性及敏應性。 TW-A-448440 號案教示 Ciba IRGAPHOR⑧ Supergreen OS(l巴酜菁染料，由 Ciba Specialty Chemicals Inc·製造）較 20 佳係藉由溶解而應用至作為主要溶劑之較低之醇、醚或環 脂族烴（例如，甲基環己烷），其後混合選自庚醇、辛醇、 壬醇、2,6-二甲基-4-庚酮、二丙酮醇、四氫咬喃及乙腈之 次要溶劑。 US-6,348,250號案揭示一種90體積％之甲基環己烷或 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 1280968 發明說明續頁 玖、發明說明 二丁基醚及10體積％之1-丙醇之混合物。WO 00/09522號 案揭示一種98體積％之曱基環己烷或二正丁基醚及2體積 %之2,6-二甲基-4-庚酮之混合物。 5 10 15 US-6,452,899號案揭示一種具0.2至0.4之凹槽填充指 數之DVD-R幾何形狀，其對應於凹槽及陸地區附近之高厚 度染料。 因此，多種之溶劑及溶劑混合物於此技藝中被提出。 但是，以染料之優異溶解度、溶液安定性、塗覆物及乾燥 性質與基材凹槽之高凹槽填充而言，至今已知溶液無一係 完全令人滿意。 雖然已知溶劑系統之旋轉塗覆可溶有機溶劑之非極性 方菁染料之已知方法導致適於較低記錄速率及有限多速率 範圍之記錄媒體，此等方法係不再令今日之較廣泛速率範 圍之記錄速率（從2x或甚至lx至最高達非常高速率之今曰 記錄器（48x，52x及超過）所完全令人滿意。 【發明内容】 一種溶劑組成物現已被產生，其對於旋轉塗覆酞菁染 料具有驚人之較佳整體性質。此新穎溶劑組成物可大量增 加凹槽填充（即，凹槽内之染料對陸地區上之染料之厚度比 例）高於且超過現今使用之任何已知溶劑系統者。其於凹槽 具有較多染料而於陸地區具有較少染料。增加之凹槽填充 造成被記錄反射性及訊號調整之增加，及對具相似層厚度 之碟片之較廣功率範圍。 此增加之凹槽填充亦使基材之凹槽深度增加，進一步 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 20 1280968 發明說明_頁 玖、發明說明 ，同時維持被記錄反射性，其係隨 錄反射性，其係隨深度下降

以至今已知之溶劑系統，凹 改良訊號調整， 。若要的話’凹槽寬度可同時被減少。 系統’凹#深度之可能增加得、極度受低

对性下降所限制，其係由於染料之不充 因凋整係於格外高及低之記錄速率時之 性，此可能性促進形成媒體之多重速率 分凹槽填充之故。a調整係於格外高及低之記錄速率時之 主要限制參數特性，此可能性促進形成媒體之多重速率 舌己錄能力。 對仿特定凹槽深度，改良之凹槽填充亦能導致每一碟 片之降低含量之染體，且因而改良工業碟片製造之經濟性 再者，當與空氣及光線接觸及於升高溫度一段長時間 牯之氧化物形成係被完全避免或減少至可接受之低程度， 即使未添加抗氧化劑及/或基清除劑。 因此，本發明係有關於一種液體組成物，其包含〇. J 15至20重量％之於300至8〇〇 nm之光譜區域具固態吸收帶 最大值之染料，0.5至99.9重量％之

化學式（I)心R2 . 之化合物，其中，心至1係Η、CH3或C2H5，但附帶條件 係K至R8内之碳原子總數係〇、1或2，及選擇性之0至 20 99·4重量％之一或多種進一步之組份，所有係以溶液重量 為基準計。 化學式（I)之化合物係，例如’異丙基苯、鄰-曱基異丙 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 1280968 發明說明續Μ 玖、發明說明 基苯、間-甲基異丙基笨、對-甲基異丙基苯、^^ 、第三丁基苯、2-戊基苯、異戊·2_基苯或第三戊基笨，或 其混合物，例如’同系物、位置異構物及/或可應用之對應 體之混合物。化學式⑴之化合物於大氣壓下較佳具有150 至180t：之彿點。最佳係第二丁基苯，且特別是第三丁基 苯。K至内之碳原子總數較佳係i或2，更佳係i。 土 ▲於300至800 11111光譜區域具固態吸收帶最大值之染料 較佳係酞菁，最佳係非極性酞菁。 10 15 選擇性之進一步組份可為任何此項技藝已知者，但較 佳包含其間染料可於25t時溶解之液體，此液體進一步最 適口係具有低於化學式⑴化合物之沸點。進一步液態介質 之含量較録至少20重量％，其仙組成物重量為基準計 。較佳之進—步液體係線性、分支及/或環狀之非芳族烴， 其可為飽和或選擇性地具有！至3個雙鍵。最佳係脂環狀 烴，特別是以一或多個CrC4烷基取代及/或具有$17〇艺沸 點之環烧’特別是甲基環己烧、基環己烧或乙基 環己烷。 作為液體組成物，需瞭解係一種溶液，其可為澄清之 溶液，或亦包含懸浮顆粒（其尺寸係細至足以通過 20之過濾^^佳係低於約10# g之顆粒（相對應於圓形顆粒 之低於約54 nm尺寸））之溶液。 進一步較佳係於有闕於本發明其它方面中揭露。 進步包含非極性溶劑之組成物亦係新穎。因此，本 赉明如有闕於一種液體組成物，其包含〇·】至2〇重量％之 %買认頁（發明翻頁;^:敷使用時，請註記並使用續頁） 1280968 發明說__ 玖、發明說明 之染料， 於300至800 nm光譜區域且 飞具固恶吸收帶最大值 0.5至79.9重量％之

r3 r2 化學式⑴ 之化合物，其中，R!至Η、广τ 乐H CH3或C2H5，但附帶條件 5係K至h内之碳原子總數係〇、i或2，2〇至99·4重量％ 之線性、分支及/或壤狀之非芳族煙，及選擇性之〇至乃4 重量％之-或多種進-步之組份，所有係以溶液重量為基 準計。 a 依據本發明，提供一種製造光學記錄媒體之方法，此 10媒體包含具凹槽側之基材、於凹槽側覆蓋基材之記錄層、 覆蓋記錄層之反射層，及覆蓋反射層之保護層，其中，記 錄層係藉由塗极一種液體組成物而製得，此組成物包含0.1 至20重量％之於300至800 nm之光譜區域具固態吸收帶 最大值之染料’ 〇·5至99.9重量％之 r5

r3 R2 15 化學式⑴ 之化合物，其中，R1至係Η、CH3或C2H5，但附帶條件 係&至R8内之碳原子總數係0、1或2，及選擇性之0至 99.4重量％之^或多種進一步之組份，所有係以溶液重量 為基準計。 0續次頁（發明說明貢不敷使用時’請註記並使用續頁） 12 1280968 玖、發明說明 發明說明續頁 用於記錄層之染料溶液較佳亦包含2〇至99.4重量％之 線性、分支及/或環狀之非芳族烴，特別是脂環狀烴，其與 化學式⑴之化合物之較佳重量比例係4:1至99:1，最佳係 17:1至76:1。此光學記錄媒體較佳具有單一記錄層。 5 本發明之光學記錄媒體之結構係適當地使能藉由吸收 /放光束形成凹痕之g己錄層係設於具凹槽之透明基材上，且 反射層係設於記錄層頂部上以促進反射性，且再者保護層 係於反射層上形成以便保護記錄層及反射層。 作為基材之材料，可使用任何能傳送激例如78〇、635 1〇 、658或405 nm之光束且可用於光學記錄媒體之材料。適 當基材材料之例子包含聚合物，諸如，聚碳酸酯樹脂、丙 烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氣乙烯樹脂、環氧樹脂、聚酯 樹脂、非結晶型聚烯烴樹脂，及無機材料，諸如，玻璃。 此等材料係藉由射出成型或藉由使用光聚合物之方法形成 15具凹槽之基材。最有用基材係聚碳酸酯或丙烯樹脂等。依 據本發明之溶劑系統不使此等基材材料溶解或膨脹，因而 不會損及凹槽且提供凹槽較佳之染料填充。 作為本發明記錄層之染料，非極性之溶劑可溶解之已 取代酞青染料對於可記錄式CD(CD-R)係較佳，因為其光 2〇學性質與普遍之半導體激光波長（其典型係780 nm)具良好 配合度，及其於嚴，苛條件下之較佳光安定性及耐濕度性及 耐熱性。 作為非極性溶劑可溶之已取代酞菁染料，可被述及者 係」例如，自上述已取代酞菁衍生之烷基取代之酞菁、烷 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 13 1280968 玖、發明說明 發明說明續頁 氧基取代之酞菁、烷基硫基取代之酞菁、三烷基矽烷基取 代之酞菁、鹵化之酞菁及具附接至酞菁之發色團之茂金屬 基之酞菁。其間，自此等已取代酞菁衍生之烷氧基取代之 酖青、烧基硫基取代之酞菁、鹵化之g太菁及二茂鐵基取代 5之酞菁係較佳。最佳地，此等酞菁具有4至10個相同或相 異之取代基。 更特別地，此等已取代酞菁染料係描述於，例如，Ep_ A-0 337 209、ΕΡ-Α-0 373 643、US-6,399,768、ΕΡ-Α-0 600 427、US-5,693,396及ΕΡ-0 519 419。已取代酞菁可單獨或 10混合使用，特別是以異構物及/或同系物之混合物。較佳係 金屬酞菁’最佳係銅醜菁或妃酜菁。 本發明液體組成物中之染料濃度一般係〇·5至5重量％ ，更佳係1至3重量％，且最佳係丨至2重量％，其係以組 成物為基準計。只要本發明功效不被不利地影響，其可進 15 一步添加，例如，已知芳族或不飽和脂族之二胺型金屬錯 合物、芳族或不飽和之脂族二醇型金屬錯合物、茂金屬型 化合物（如，苯醯基二茂鐵、乙醯基二茂鐵、丙基二茂鐵等 )、聚甲川染料、偶氮染料、其它型式之酞菁染料及偶氮金 屬之錯合物、記錄層著色用之染料、聚合物黏著劑、濕化 20劑等，其含量較佳係0至30重量％，更佳係〇至2〇重量％ 〇 上述組份藉由係藉由旋轉塗覆於基材之凹槽側上形成 4的規則層以形成記錄層。於形成記錄層時，其厚度係 藉由改變塗覆參數而調整，以便於形成反射層後獲得充分 曜次頁（翻_雇不驗觸，請註記酿用續頁） 14 1280968 發明說明If胃 玖、發明說明 5 反射性。本組成物具有低黏度及快速蒸發速率，如此，係 非常適於基材之快速塗覆，此係現今製造所必需。特別是 當使用非極性染料時，其一般係提供令人滿意之基材濕化 及適當均勻染料分佈，熟習此項技藝者可藉由改變塗覆條 件而依慣例地進一步達最佳。 第1圖係凹槽區段之透視圖，其顯示空凹槽之深度d 基材，凹槽内之染料層厚度d凹槽，於碟片陸地區上之染料 層厚度d陸地區，及凹槽内之染料層表面與碟片陸地區上之 染料層表面間之深度差d吸收劑。凹槽填充值（GFV)及凹槽填 10 充等級（GFg)可個別定義成 qp _ d凹槽-d陸地區 =d基材_ d及收劑 v OPD-lnm OPD-1nm 反 GFC=

dfe地區 dug推 •100 因GFV係無尺寸，d基材及d吸收劑需皆以nm表示。例如依 據本發明之典型範圍係，例如，對d基材係200至225，對 d吸收劑係100至125nm，且對OPD係0.21至0.27(對包含 15 酞菁染料之CD-R媒體之最佳值）。 於比其間記錄媒體係適於被記錄且可以例如Biref 126™掃瞄器（Dr· Schenk)獲得之波長低110 nm之波長處， 記錄媒體之平均光學密度（OPD)係記錄媒體上（包含自凹槽 端緣最高達l//m之距離内之凹槽及圍繞凹槽之陸地區）之 20 平均值。 光學密度係經由以染料塗覆之基材傳送之光線之被檢 測量之-log1()，且可藉由分光光度術直接測量。亦高度所欲 者係決定染料層之凹槽填充。對於特定凹槽幾何形狀，凹 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 15 1280968 發明說明_頁 玖、發明說明 5 10 槽填充決定凹槽内染料厚度（d凹槽）對陸地區上染料厚度（d 陸地區）之比例。此特性實際上係難以正確測量，習慣上係以 諸如凹槽深度（d基材）、染料層之光學密度OPD ·及藉由吸收 劑維持之凹槽深度（d吸收劑）等參數定義其關係。D吸收劑係染 料沈積後凹槽内維持深度之值，且可以已知方式自繞射光 束之第0及第1級之強度計算。 於現今之操作光學密度範圍及對特定凹槽幾何形狀及 溶劑系統，染料層光學密度與d吸收齊|間之關係約略呈現性 。d吸收#丨係隨吸收率增加時減少。d吸收齊I與〇PD間之關係 係於第2圖中例示二本發明及一比較之溶劑系統。三角形（ ▲)係甲基環己烷/第三丁基苯98:2(1.5% IRGAPHOR⑧ Ultragreen MX)，矩形（)係甲環己烷/第三丁基苯99··1 (1.5% IRGAPHOR® Ultragreen MX)，且交叉記號（X)係二 正 丁基醚/2,6_二曱基-4-庚酮 93:7 (3.0% IRGAPHOR® 15 Ultragreen MX)。 不同溶劑系統具有不同凹槽填充能力，且以不同比例 使染料沈積於凹槽内及陸地區上。當對於特定光學密度於 凹槽具較多染料時，d吸收劑係較低且凹槽填充被增加，反 之亦然。以相同溶劑塗覆及光學密度但不同凹槽深度之基 20 材導致不同之d吸收劑值。 本發明有利地導致具360至600(較佳係380至500)之 凹槽填充值或其中凹槽填充等級GFg係85至100(較佳係 90至100，最佳係95至100)之改良式光學記錄媒體。此 等媒體迄今係尚未能及。 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 16 1280968 發明說明_胃 玖、發明說明 因此，本發明亦係有關一種光學記錄媒體，其包含具 凹槽側之基材、於凹槽側覆蓋基材之記錄層、覆蓋記錄層 之反射層，及覆蓋反射層之保護層，特徵在於其具有360 至600之凹槽填充值GFV。此光學記錄媒體之記錄層較佳 包含S太菁染料或g太菁染料混合物。較佳地，其係由至少5 0 重量％(最佳係至少80重量％)之酞菁染料或酞菁染料混合 物所組成。 於本發明之進一步實施例’上述方法導致一種包含具 凹槽之基材及記錄層之光學記錄媒體，其特徵在於凹槽填 10 充等級CFg係85至100，較佳係90至100，最佳係95至 100。較佳地，此等媒體亦包含反射層及/或保護層，例如 ，以如上之配置，但亦可以另外或相反配置為之，可於 300至700 nm (較佳係約405或約658 nm)之激光波長使用 之DVD-R，TMBlu-Ray或™Blue激光記錄媒體所慣用者。 15 於本發明較佳實施例中，上述方法進一步特徵在於基 材之凹槽（d基材）係200至225 nm深，且於一半深度處580 至700 nm(較佳係620至680 nm)寬，染料膜平均光學密度 係0.21至0.27(較佳係0.21至0.25)，且染料層之深度（d吸 收劑）位於100至125 nm範圍（平均光學密度及d吸收劑可以 20 Dr· Schenk之Biref 126™掃目語器於670 nm測量）。個別地 或特別係與上述凹槽幾何形狀結合，染料膜於λ最A值時具 有0.37至0·57之平均吸收率，於Perkin Elmer Lambda 2 分光光度計適當測量。對於包含酞菁染料且於780 nm操作 之CD-R系統，一般而言，λ最大值係約730 nm且OPD係 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 17 1280968 玖、發明說明 發明說明，續頁 於670 nm測量。 當然，此方法及凹槽幾何形狀可對於其它波長（諸如， 658或405 nm)可測量之光學媒體達最佳，其包含其它記錄 層及其它凹槽幾何形狀。以較高凹槽填充改良反射性及訊 5 號調整對於DVD-R係如同其對CD-R般有效。 於旋轉塗覆記錄層後，被塗覆基材選擇性地被乾燥。 廣範圍之乾燥條件可被應用’只要基材或記錄層不受損。 一般，聯線（in-line)之乾燥係於產業製造線上施行，但離線 (off-line)之批式乾燥可被應用以移除剩餘溶劑。乾燥條件 1〇可為50°C至ll〇°C及5分鐘與數小時間之乾燥時間，其僅 係舉例而言，但不限於此。 然後’反射層被塗覆或沈積於記錄層上。典型上，反 射層係薄金屬層，較佳係Au、Ag、Pt、Cu、A1。此金屬 可為含有一或更多種此等金屬之合合。最佳係Ag及Ag合 15金，與Au& Au合金。再者，除上述金屬外，其它金屬（ 諸如’ Ci*、Ni、Si、Ge、Pb、Pd、Sn、Sb)亦可作為辅助組 份。 對於形成金屬層，一般係應用真空沈積，諸如，噴濺 。反射層厚度一般係約20至200 nm。 20 最後，保護層被塗覆於反射層頂面上。保護層可為任 何種類之保護層，只要其能保護反射層及記錄層。例如， 保護層可由聚合物材料（諸如，聚碳酸酯、丙烯樹脂、聚笨 乙烯、聚氯乙烯、環氧樹脂、聚酯樹脂）或無機塗覆物所組 成。保護層可藉由黏著劑之助膠黏至反射層上，或可被層 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 18… 1280968 發明說明_頁 物情況-以蒸 玖、發明說明 合、旋轉塗覆及以紫外線固化或-於無機塗覆 氣沈積。紫外線固化之丙烯樹脂係較佳。一或更多個保護 層可被結合。保護層厚度一般係2至50/zm。最後，標籤 或任何所欲圖案可於保護塗覆物上印製。 5 選擇性地’可具有任何數量之額外層，例如，諸如此 項技藝所知之中間層。 I：實施方式】 下列範例係非限制性地例示本發明。除非不同指定外 ，所有份數及百分率係以重量計。可購得之酞菁染料 10 (IRGAPHOR® Ultragreen MX，Ciba Specialty Chemicals， Inc.)係以適當濃度溶於如下所示之溶劑系統，且以如下更 詳細描述般塗覆於聚碳酸酯基材上，以獲得平均光學密度 係0.234與0.251間之染料層（又最大值之吸收率=0.45-0.51) ，表示基材上相同平均染料厚度。 15 範例1 :供以具1.5 // m軌距（trackpitch)、200 nm凹槽深度 及於1/2深度處680 nm凹槽寬度之螺旋凹槽之120 mm直 徑及1.2 mm厚之聚碳酸酯基材（AFM)係以1.9份 IRGAPHOR⑧ Ultragreen MX、93.7 份甲基環己烧（MCH)及 4.4份第三丁基苯（TBB)之溶液塗覆，以提供可記錄層。染 20 料層之OPD係0.237且凹槽填充值係400。已乾燥之記錄 層係於CDI900喷錢塗覆器上以85 nm之Ag喷錢，且以紫 外線固化之底漆650-030(DSM)保護。 碟片係以商業上之記錄器以2x至48x範圍之速率記錄 ，且結果於 CDCATS SA3(可購自 Audio Development)上讀 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 19 1280968 玖、發明說明 發明說明，續頁 取。反射性R頂部（=R〇 X I頂部，如〇range Book，Part II: CDR/Vohime 2所定義）及訊號調整Iu/I頂部係對2x及48x 之記錄速率測量。反射性及訊號調整之高數值係所欲的。 於CDD 3610上之2χ及於LTr 48125W上之48x之結 5果（即，記錄之反射性及最長記錄標記之訊號振幅（In)，即 ’未被記錄凹槽之反射性與被記錄記號之反射性間之差異 (111，陸地區-111，凹痕））係表列於第1表。CDCATS無法讀取於 Yamaha CRW6416上以1χ記錄之資料。 對於功率範圍，碟片係以62.4公尺/秒之線速率（其係 10 相對應於52χ之記錄速率）於ddU1000(日本之Pulstec公司 製造）上以變化之激光電力記錄，且資料係於CDCATS SA3 上讀取。激光功率範圍可為定義成不對稱率〇至不對稱率- 10之陸地區3T抖動(jitter)之增加。最小增加係較佳。高 於10 ns之抖動增加係非所欲的。 15 光學岔度、及48x之反射性、2x及48x之I"及 52x功率範圍之結果亦示於第1表。凹槽填充等級（GFg)# 常良好。不對稱率與陸地區3T或凹痕3T間之趨勢係個別 例示於第3及4圖。數值對於範例1係以三角形（▲)表示 ，對於範例2係以矩形（)表示，對於範例3係以鑽石形（ 20 ♦)表示，對於範例4係以圓形（鲁）表示，對於比較例2係 以星號（*)表示，且對於比較例3係以交叉記號（X)表示。 不對稱率（以％表示）係對Iu與13中間量間之關係測量，且 係以普利普參考測量方法說明書指導網領1.0版/1999年5 月（Philips Reference measuring methods Specification 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 20 1280968 發明說明If Μ 玖、發明說明

Guidelines version 1.0/May 1999)定義如下： ASYM [%] - 陸地區 +|;,凹3 - Αν9〇1Ί 陸地區+ h9 x 5〇 - Avg(l”) "~ 範例2 ：光學媒體依據範例1製造，但95.9份甲基環己烷 及2.2份第三丁基苯被使用。染料層OPD係0.234，凹槽 5 填充值（CFV)係400，且凹槽填充等級（GFg)非常良好。依照 範例1之記錄實驗之結構係表列於第1表。 範例3 ：光學媒體依據範例1製造，但97.0份甲基環己烷 及1.1份第三丁基苯被使用。染料層OPD係0_247，凹槽 填充值（CFV)係370，且凹槽填充等級（GFg)更令人滿意。依 10 照範例1之記錄實驗之結構係表列於第1表。 範例4 :光學媒體依據範例2製造，但基材具有220 nm之 凹槽深度，且1/2深度處之凹槽寬度係660 nm (AFM)。染 料層OPD係0.251，凹槽填充值（CFV)係430，且凹槽填充 等級（GFg)係優異（陸地區上具可忽略含量之染料）。Yamaha 15 CRW6416上以lx速率記錄之資料於CDCATS成功讀取。

In係0·56 V，Ih/I頂部係0·61，且反射性係72.4%。依照範 例1之記錄實驗之結構係表列於第1表。 比較例1 :基材以IRGAPHOR⑧Ultragreen MX染料溶液且 以相似於範例1所述之方式塗覆，但98.1份曱基環己烷被 20 使用，但無第三丁基苯作為共溶劑。染料層OPD係0.282 ，凹槽填充值（CFV)係230，且凹槽填充等級（GFg)非常低。 太厚之染料塗覆物被獲得，其係以太高染料層吸收性表示 。因此，有意義之比較性碟片評估係不可能。 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 21 1280968 玖、發明說明 發明說明®頁 5 10 比較例2 :光學媒體依據範例1製造，但3.7份染料、89.2 份二正丁基醚（DBE)及7.0份2,6-二曱基-4-庚酮（DMH，一 般之溶劑混合物）被使用。染料層OPD係0.250，凹槽填充 值（CFV)係350，且凹槽填充等級（GFg)不令人滿意。依照範 例1之記錄實驗之結構係表列於第1表。 比較例3 :光學媒體依據範例1製造，但3.7份染料、93.2 份二正丁基醚及3.0份2,6-二曱基-4-庚酮（一般之溶劑混合 物）被使用。染料層OPD係0.250，凹槽填充值（CFV)係330 ，且凹槽填充等級（GFg)不令人滿意。依照範例1之記錄實 驗之結構係表列於第1表。 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 22 1280968 發明說明Μ頁 玖、發明說明 11 to cn R Θ 〇 δ ο r-H g O © O 1—Η ν〇 s ο s 〇 5〇 o 9! C> o I I 另 〇〇 s ίδ o o 艺 o -S !〇 s o 3 o r*H s 夺 o «. C^o1 ^ 1 r-^ 3 s 55 Q ig i—H $ s S ΛΙΙ All All All _ 豸 cn § S o o 1 i-H S O O o φ4 侧丄) 硤 Ό 〇〇 S a oo 霧 τ-Η CO 爸 S5 § (N f PQ 田 PQ 田 1 PQ f 目 B s Ξ τ-Η 1 1 s § 3 s _ s s ω g w g S I 2 2 2 O) 2 S 1—Η CN m 寸 I r—H CN cn Ιϊιδ 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 23 1280968 玖、發明說明 發明說明續頁 範例1至3具有改良之記錄反射性及訊號調整Iu/；[頂部 ’特別是於低速（2x)記錄。激光功率範圍於範例1及2亦 顯著增大。特別顯著係以lx、2x及48x記錄速率獲得之優 異結果，其係由於範例4之改良凹槽幾何形狀之故。 5 本發明優點亦於第3及4圖中例示，其個別描述以不 對稱率為函數之L3T抖動（52x功率範圍）及P3T之變化。 範例2及4結果之比較指示較大之22〇 nm凹槽深度及於 1/2深度時之些微降低之凹槽寬度造成比較淺凹槽深度（其 係微見）更佳之訊號調整（Ii丨/1頂部）。因此，最佳化之凹槽幾 10 何形狀（寬度及深度）與具360-600範圍之GFV值之高凹槽 填充之結合導致顯著改良之全多重速率媒體性能。 範例 5-8 :以極相似於範例 1-4進行，但差別係 IRGAPHOR® Supergreen OS (Ciba Specialty Chemicals Inc·) 被使用，以替代IRGAPHOR⑧Ultragreen MX。結果係令人 15 滿意。 範例9-12 ：以極相似於範例1-4進行，但差別係HR 250™ (Mitsui Chem.)被使用，以替代 IRGAPHOR® Ultragreen MX 〇 範例13-16 :以極相似於範例1-4進行，但差別係 20 OPTLION® ΟΡΜ 298 (Toyo Ink Manufacturing Co.)被使用 ’以替代 IRGAPHOR® Ultragreen MX。 範例17-20:以極相似於範例1-4進行，但差別係MY 317™ (Mitsui Chem·)被使用，以替代 IRGAPHOR® 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 24 1280968 發明說明_頁 玖、發明說明

Ultragreen MX 〇 範例21-24 :以極相似於範例1-4進行，但差別係紅色染料 HRS 340™ (Mitsui Chem.)被使用，以替代 IRGAPHOR®

Ultragreen MX 〇 5 範例25-28 ：以極相似於範例1-4進行，但差別係依據丑卩-1，104,431 號案範例 15之染料被使用，以替代 IRGAPHOR ⑧ Ultragreen MX。結果令人滿意。 範例29-32 ：以極相似於範例25-28進行，但差別係依據 WO-02/083796號案範例3之染料被使用，以替代依據ΕΡΙΟ 1，104,431號案範例15之染料。結果係優異。 範例33 ：於100克之乙基環己烷及第三丁基苯（32··3，以重 量計）之二元混合物内之3.0克DVD-R染料HRS 340™(Mitsui Chem·)之溶液被旋轉塗覆於具172 nm凹槽深 度之基材上，導致具76-79 nm之d吸收劑及於λ最大值時 15 0.79-0.84之光學密度之染料膜（d吸收劑係藉由ARGUS/Aeco

Ltd.，Powys，UK測量，且吸收率係藉由分光光度術測量）。 凹槽填充等級（GFg)係良好。 比較例4 ：以極相似於範例33進行，但差異係習知技藝之 乙基環己烷及環辛烷（11:1，以重量計）之二元混合物被作為 20 旋轉塗覆之溶劑。d吸收劑於λ最大值時係78-91。凹槽填充等 級（GFg)係不令人滿意。 範例34(凹槽損害）：1毫升之溶劑混合物（由98體積份之曱 基環己烷及5體積份之所示芳族共溶劑所組成）係以相同時 間旋轉塗覆於具預形成於其上之凹槽之聚碳酸酯碟片上。 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁） 25 1280968 發明說明 玖、發明說明 四個半徑處之凹槽深度係於溶劑清洗之前及之後測量，且 凹槽深度差係收集整理於第2表。 第2表： 主要溶劑 次要溶劑 體積比 凹槽深度差 [nm] 甲基環己烷 - 100/- 0.5 甲基環己烷 鄰-二甲苯 95/5 45.5 甲基環己烷 乙基苯 95/5 12.7 甲基環己烷 異丙基苯 95/5 13.7 甲基環己烷 正丁基苯 95/5 10.3 甲基環己烧 異丁基苯 95/5 0.7 甲基環己烷 第二丁基苯 95/5 0.5 甲基環己烷 第三丁基苯 95/5 0.5 乙基環己烷 - 100/- 0.2 乙基壞己烧 第二丁基苯 95/5 0.4 乙基環己烷 第三丁基苯 95/5 0.3 5 雖然相似之希爾德布蘭特溶解度參數（以方括弧），本 發明化學式（I)化合物第二丁基苯（8.4)及第三丁基苯（8.4)與 脂環狀化合物結合驚人地提供比正丁基苯（8.5)更佳之對聚 碳酸酯樹脂之惰性。 0續次頁（發明說明頁不敷使用時，請註記並使用續頁) 1280968 玖、發明說明 I：圖式簡單說明3 第1圖係凹槽區段之透視圖； 第2圖描述光學密度及d吸收劑間之關係； 第3圖描述以不對稱率為函數之L3T抖動（52x功率範 圍）之變化；及 第4圖描述以不對稱率為函數之P3T之變化。

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Claims (1)

1280968 拾、申請專利範圍 第92102026號專利申請案申請專利範圍修正本95_lu 2〇 1. 一種液體組成物，包含·· 0.1至20重量％之於300至80·0 nm光譜區域具固態吸 收帶最大值之染料； 5 0_5至79.9重量％之

之化合物，其中，心至心係H、CH3或C#5，但心至心内 之碳原子總數係1或2 ; 10 20至99·4重量％之線性、分支及/或環狀之非芳族烴； 及， 選擇性之0至79.4重量％之一或多種進一步之組份； 所有組成係以該溶液重量為基準計算，且該烴對該化學 式⑴之化合物的重量比值係為4: 1至99: 1。 2，如申請專利範圍第1項所述之組成物，其中，化學式 (I)*之化合物係第二子奢苯、第三丁基苯1、戊基苯、異 戊-2-基苯或第三戊基苯，或其混合物。 3. 如申請專利範圍第2項所述之組成物，其中化學式⑴ 之化合物係第二丁基苯或第三丁基苯。 4. 如申凊專利範圍第3項所述之組成物，其中化學式⑴ 之化合物係第三丁基苯。 5. 如申請專利範圍第1項所述之組成物，其中，該烴係 脂環狀’且該烴對該化學式（I)之化合物之重量比例係 0續次頁（申請專利範圍頁不敷使觸，請註記並麵顯) 28 1280968 拾、申請專利範圍 |申請專利範圍續頁 17:1 至 76:1。 6·如申請專利範圍第5項所述之組成物，其中，該烴係 選自以一或更多個Cl_C4烷基取代及/或具有$l7(rc沸 點之環烷。 5 7·如申請專利範圍第6項所述之組成物，其中，該烴係 甲基環己烷、1，2-二甲基環己烷或乙基環己烷。 8·如申请專利範圍第1、2、3、4、5、6或7項所述之組 成物，其中該染料係酞菁。 9 ·種製^光學記錄媒體之方法，該媒體包含具凹槽側 10 之基材、於該凹槽側覆蓋該基材之記錄層、覆蓋該記錄 層之反射層、及覆蓋該反射層之保護層，其中，該記錄 層係藉由塗覆如申請專利範圍第1、2、3、4、5、6或7 項之液體組成物而製成者。 10. 如申請專利範圍$ 9項所述之方法，其中該記錄媒體 15 係塗覆如申請專利範圍第8項之液體組成物而製成者。 11. 一種光學記錄媒體，包含具凹槽側之基材、於該凹槽側 ， 覆蓋該基材之記錄澹、覆蓋該記錄層之反射層，及覆蓋、 該反射層之保護層，其特徵在於其具有36〇至6〇〇之凹 槽填充值GFV 20 rTF', = 區一 d基材劑 OPD lnm - OPDlnm /、中d基材係二凹槽之深度，d凹#係凹槽内之染料層厚度 ,d陸地^係於碟片陸地區上之染料層厚度，及d吸收劑係凹 槽内之染料層表面與碟片陸地區上之染料層表面間之深 0續次頁（申請專利範釀不敷使用時，請註記並使用賴） 1280968 拾、申請專利範圍^ ^ 申請專利範圍末頁 度差。 I2·如申凊專利範圍第11項所述之光學記錄媒體，其中， 5亥基材之凹槽（d基材）係200至225 nm深，並且在一半深 度處係580至700 nm寬，該染料膜平均光學密度係 5 〇·21至〇·27 ’且染料層之深度d吸收劑位於100至125 nm 之範圍。 13. 如申請專利範圍第12項所述之光學記錄媒體，其中， 该基材之凹槽（d*材）在一半深度處係620至680 nm寬， 且該染料膜平均光學密度係0.21至0.25。 14. 一種光學記錄媒體，包含具凹槽之基材及記錄層，其 特徵在於該凹槽填充等級GFg係％至1〇〇 ,

1-^4.100 d凹槽J 其中d陸地區係於碟片陸地區上之染料層厚度，d係凹 槽内之染料層厚度。 U·如申請專利範圍第14項所述之光學記錄媒體，其中， °亥凹槽填充等級GFg係90至100，。 16·如申請專利範圍第15項所述之光學記錄媒體，其中， °亥凹槽填充等級GFg係95至100。