TWI278377B - Compliant suspension for precision polishing and grinding machine - Google Patents

Description

1278377 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於係關於一種承載裝置，尤指一種應用於 精密拋光研磨機之承載裝置，係藉由喷出流體的方式提供 拋光研磨所需的撓性支撐，其概應隸屬於拋光研磨機結構 之應用，運用於拋光研磨機之技術領域範疇。 【先前技術】 許多經由加工所得之產品，在製程中常需對於加工產 品進打拋光及平坦化等加工流程，使產品得到較佳的平坦 滑順表面以改善產品的品質，通常藉由研磨機來進行表面 的拋光研磨，加上近年來隨著科技的日新月異，對於ic 晶片及晶圓或是平面顯示器玻璃基板等的製作過程中也藉由研磨 機將其表面拋光平坦化，例如化學機械拋光（Chemicai Mechanical Polishing，CMP)即為常用的技術。，然而—般傳統的化 學機麵辆雜裝置（6 〇 ) _辆磨方式係如第四目所示， 主要係將欲拋光研磨的物件放置於載具（6丄）上並對其 施屢轉動，使物件與-迴轉的抛光研磨塾（62 )相抵靠 而進行拋光研磨，且於拋光的過程中需加入研磨漿（6 3 )， 使機械拋光研磨過程中同時進行化學腐姓作業，因此需對 抛光的壓力、速度及時間進行精密的控制以得到較佳的抛 光品質，加上一般係將物件放置於硬質的工作平台（6 4 ) 上進行拋光研磨，而容易因拋光壓力的操作不當而造成脆 性物件於拋光研磨的過程中產生破裂的情形，進而降低抛光 研磨的良率’增加加工成本’且相對提高精密拋光研磨的困難度。 Ϊ278377 ^另有一種線性化學機械拋光研磨機裝置（7 〇 )係如 第五圖所示，主要係將欲拋光研磨的被拋光物件（7 1 ) 放置於載具（7 2 )上並對其施壓轉動，使被拋光物件（7 上）與-轉動的拋光研磨墊（7 3 )相抵靠而進行拋光研 Μ作業，因此需對拋光的壓力、速度及時間進行精密的控 制以得到較佳的拋光品質，又一般會於拋光研磨墊（7 3) 的下方放置-硬質的工作平台（7 4 )，使拋光研磨塾（7 3 )能與被拋光物彳（7 i )緊密地相抵靠，以進行化學 蝕刻及機械拋光研磨作冑，但如此卻容易因拋光壓力的操 作不當而造成被拋光物彳（7 1 )於抛光研磨的過程中產 土破，的情形，進而增加被拋光物件（7工”勉光研磨所 而的4間與成本’且相對提高被拋光物件研磨製作的困難 【發明内容】 因此，本發明人有鑑於上述現有研磨機裝置於實際使 用上的不足與缺失，對於在被拋光物件的研磨操作上所造 =便無法符合一般業界的需求，特經過不斷的研究與 4驗，終於發展出—種能改進現有缺失之本發明。 本發明之主要目的係在於提供一種精密抛光研磨機之 說K载衣置’其係具撓性的研磨平台以喷出流體來支撐 =研磨f使抛光研磨墊能以，力均勾的方式緊密地貼 ？拋光物件，以有效改善被拋光物件的拋光品質及避免 被拋光物件破裂等問題，不僅可達到降低製造成本的目 的卫且犯夠改善拋光研磨的操作便利性及實用性。 1278377 於：^ J i述目白勺’本發明係提供-種#密拋光研磨機 之撓性承載裝置，其包括： 墊間； 座體I中5亥座體係裝設於拋光研磨機之抛光研磨 裒5又於座體上之承載器，該承載器為一略呈圓柱型 之中空座體，#中承載器的頂面係設有一容置槽，另於承 載器外周緣上係設有一與容置槽相連通之流體入口，並藉 由-與流體入口相連通之管路，且於管路内傳輸一流體； 以及 一與承載器相結合之墊體，其中該墊體係裝設於承载 器的環型容置槽中，而該墊體係設有數個與承載器容置槽 相通的孔洞。

It由上述技術手段’本發明可藉經由墊體各孔洞喷出 的流體以撓性支撐拋光研磨墊的方式，使拋光研磨墊壓力 均勻而確實地與被拋光物件相抵靠，不僅可使被拋光物件 進行抛光研磨還可避免被拋光物件於拋光研磨過程中產生 宝又知破裂的現象’更有效地改善被抛光物件抛光研磨的品 質’達到撓性拋光研磨及施壓均勻之目的。 【實施方式】 為能詳細瞭解本發明的技術特徵及實用功效，並可依 照說明書的内容來實施，玆進一步以圖式（如第一至三圖 所示）所示的較佳實施例，詳細說明如后： 本發明之精密拋光研磨機撓性承載裝置（1 0 )其主 要係用以取代一般硬質之工作平台，其係包含有： 1278377 一座體（2 Ο )，該座體（2 Ο )係裝設於拋光研磨 機（5 0 )之拋光研磨墊（5 1 )間； 一裝設於座體（20)上之承載器（3〇)，該承載 杰（3 0 )為一中空之座體，其中承載器（3 〇 )係設有 一容置槽（3 1 )，另於承载器（3 0 )的外周緣上係設 有一與谷置槽（3 1)相連通之流體入口（3 3)，並藉 由一與流體入口（ 3 3 )相連通之管路（3 4 )來輸送流 • 體，使流體可藉由該管路（3 4 )及流體入口（ 3 3 )而 流至容置槽（3 1 )，其中該流體可為一氣體或液體；以 及 一與承載器（3 0 )相結合之墊體（4 〇 )，其中該 墊體（4 0 )係裝設於承載器（3 〇 )的容置槽（3 1 ) 中並靠近拋光研磨墊（5 1)的一端面上，該墊體（4〇) 係設有數個與承載器（3 0 )容置槽（3 i )相通的孔洞 (4 1 )，使流體能經由管路（3 4 )、流體入口（ 3 3 ·) _及容置槽（3 1 )而透過各孔洞（4丄）噴出並與拋光研 磨墊（5 1 )相接觸，使拋光研磨墊（5 i )與被拋光物 件（5 2 )確實地接觸且保持撓性。 而本發明之作動方式係如第三圖所示，其中該流體係 藉由管路（34)而流入承載器（3〇)的流體入口（3 3 )及容置槽（3 !)，並經由墊體（4 〇 )上的各孔洞 (4 1 )喷出而與拋光研磨墊（5二）相接觸，進而使拋 ^研磨墊（5 1 )與被拋光物件（5 2 )能緊密接觸，並 藉由控制流體噴出大小以適當調整支撐拋光研磨墊 8 1278377 1 )壓力，而提供一具緩衝之撓性。 而本發明亦可於庙騁f MU ( 2 0 )上方增設有一略呈 之框體（24) 5 iii Μ ίΟ A \ 内部周緣上係設有流 、相連通之數個吸孔（2 1 )，且於框體（2 4 )的外邻 設有-與流道相通之數個管接頭（23)，其中各管接頭 (23)亚與-接管（22)連通，且有—管接頭（^) ㈣一抽吸裝置（2 5 )相連接，此抽吸裝置（2 5 )係 藉由，孔（2 1 )、接管（2 2 )及管接頭（2 3 )而將 承載器（3 ◦)噴出之流體迅速抽吸，以保持承载器（3 〇)之乾淨清潔。 17 上述的所使用的撓性承载裝置（10)，係具有下列 的優點： 1 ·撓性拋光··藉由喷出流體的撓性來支撐拋光研磨墊 的方式，使研磨時不僅可調整研磨壓力，亦可藉由撓性的 作動方式使被拋光物件（5 2)於研磨不會毁損破裂。 2 .壓力分布均勻：本發明係可經由墊體（4 〇 )各孔 洞（4 1 )喷出之的流體來支撐拋光研磨墊（5 1 )，使 拋光研磨5 1 )以壓力均勾分布的方式確實地與被拋 光物件（5 2 )相接觸，可使被拋光物件（5 2 )進行拋 光研磨時研磨更加均勻，而獲得更佳之研磨品質。 【圖式簡單說明] 第一圖係具有本發明撓性承載裝置之拋光研磨機之外 觀立體圖。 第二圖係本發明之撓性承載裝置之立體分解圖。 1278377 第三 圖 第四圖係現有拋光研磨機之立體示意圖。 第五圖係現有線性拋光研磨機之立體示意圖 【主要元件符號說明】 (2 2 )接管 (2 4 )框體 (1 0 )流體承載裝置 (2 0 )座體 (21)吸孔 (2 3 )管接頭 (2 5 )抽吸裝置 (3 0 )承載器 (31)容置槽 (3 3 )流體入口 (4 0 )墊體 (4 1 )孔洞 (5 0 )拋光研磨機 (5 1 )拋光研磨墊 (6 0 )研磨機裝置 (61)載具 (6 3 )研磨漿 (7 0 )研磨機裝置 (7 1 )被拋光物件 (7 3 )拋光研磨墊 (3 4 )管路 (5 2 )被抛光物件 (6 2 )拋光研磨墊 (6 4 )平台 (7 2 )載具 (7 4 )平台 10

Claims (1)

1. I278377 十、申請專利範圍： 1 · 一種精密拋光研磨機撓性承载裝 -座體； 、罝，其主要係有： —裝設於座體上之承載器，該承 ft，甘；7 為一中空之座 “中承载器係設有一容置槽，另_ 係执士 t ^乃表承载器的外周緣上 ’、叹有一鉍容置槽相連通之流體入口， 口相造、1 — + 亚糟由一與流體入 相連通之管路來輸送流體；以及 :與承載器相結合之墊體中該塾體係裝設於承載 :置乜中’该墊體係設有數個與承載器容置槽相通的 十L»洞。 2 ^ ^ :月專利範圍第1項所述之精密拋光研磨機撓 性承載裝置，其中該座髀卜大私π古 丄to上方如故有一框體，該框體内部 周緣上係設有流道相連通之數個吸孔，且於框體的外部設 有與流逞相通之數個管接頭，其中各管接頭並與一接管 連通，且有-管接頭係與一抽吸裝置相連接。 十一、圖式： 如次頁 11