TWI278082B - Positioning table for substrate, positioning apparatus for substrate, and method for positioning substrate - Google Patents

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TWI278082B
TWI278082B TW094110689A TW94110689A TWI278082B TW I278082 B TWI278082 B TW I278082B TW 094110689 A TW094110689 A TW 094110689A TW 94110689 A TW94110689 A TW 94110689A TW I278082 B TWI278082 B TW I278082B
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Kaoru Iguchi
Takurou Uchida
Hideki Nishinomiya
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Iguchi Kiko Co Ltd
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Description

1278082 ，九、發明說明： ，【發明所屬之技術領域】 本發明係關於用以將顯示器用玻璃基板、矽基板（晶圓） 等基板精密定位之基板用定位平台、基板用定位設備及基 - 板定位方法。 裊 . 本案係針對2004年4月5日所申請之日本專利第 2004-1 1 〇896號主張優先權，並在本說明書中援用該内容。 【先前技術】 • 在進行採用PDP(piasma DiSpiay panei，電浆顯示器） 及液晶顯示器等顯示器之玻璃基板（Mother G丄咖）的鑛膜 等設備中，於進行成膜、光阻塗佈、曝光、蝕刻等處理之 ，數個處理室（Chamber)以專用的自動裝置（R〇b〇t)(移送 裝置）進仃基板的搬入及搬出，但有鑑於搬入處理室内之玻 钿基板的定位精密度之確保極為重要，將進行鍍膜 之玻璃基板搬入處理室之前’裝載於設置在往處理室之基 •板的搬入路徑途中(例如於另外設置之處理室a〇ad
Chamber，承載室）内’前述處理室等設置之真空裝置的入 附K大氣中）等）之定位平台上，進行定位之後，前述自 動裝置將從定位平台取出的玻璃基板搬入處理室’藉此使 處理室内的玻璃基板的位置在容許誤差範圍内。 以往，關於前述定位平台，有壓抵裝載於該定位平台 上之玻璃基板，於定位規進行定位之構成者（例如專利文獻 )及私動定位規而壓抵於定位平台上的玻璃基板的端面 進行定位者等。 316953 5 1278082 % 此外，往定位平台之玻璃基板的搬入係從搬入玻璃基 f 板之搬入台（cassette)取出玻璃基板，並藉由裝載於定位 平台上之專用的移載自動裝置進行。關於此移載自動裝 置，如第5圖所示，於複數隻可動手臂ι〇1上裝載玻璃基 :板1〇2而搬運者（移載自動裝置1〇3)，以及如第6圖所示， ；以連接於真空裝置之吸盤形狀的吸附頭104，吸附固定玻 璃基板102的複數個部位而搬運者（移載自動裝置ι〇5) 等。此移載自動裝置係降下搬運於定位平台1〇6上之玻璃 鲁基板102，而裝載於定位平台1〇6上。此外，亦具備於鍍 膜等製程結束之後，從定位平台1 〇6取出從處理室返回定 位平台106之玻璃基板1〇2，而搬運至搬出位置之功能。 定位平台1 06係具備：橫向移動由移載自動裝置裝載 的玻璃基板102之橫向移送裝置（圖示省略），及藉由壓抵 由此棱向移运裝置所橫向移送之玻璃基板丨〇2的外周部的 端面，使玻璃基板1〇2定位之定位規1〇7，並以橫向移送 ❿裝置移動由移載自動裝置所搬入的玻璃基板1〇2，而抵接 於定位規107，藉此可精密的進行玻璃基板1〇2的定位。 此外，關於定位平台1 〇6，係藉由設置於平台主體丨〇8上 之多數的自由滾珠轴承1〇9，可自由橫向移動支撐玻璃基 板102 ’而可以極輕的力量實現玻璃基板丨〇2的橫向移動。 [專利文獻1]日本特開平Q6—183556號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之課題） r、、i 士上述之疋位平台，由於從裝載玻璃基板到抵 316953 6 1278082 妾至定位規之作業結束為止極為費時，成為產品的製造效 ，率降低之原因而造成不滿。此外，橫向移動玻璃基板，於 土板的端面壓抵疋位規而進行定位之構成，容易對玻 .璃f板造成些微的撓曲等變形，也有影響玻璃基板的平坦 i度:θ尺寸精密度之問題。再者’由於需具備橫向移送裝置 二用於移動定位規之裝置），因此除了成本提高之外， ^農置亦成為齡（partiele)的產线，而產 染破璃基板之問題。 上述課題而研創者，目的在提供可於極 間内@單進行玻璃基板等基板的定位，並且幾乎不 形’粒子的產生亦極少之低成本的基板用 十口，基板用定位設備，基板定位方法。 為解决上述課題，本發明提供以下構成。 之承提供—種基㈣定位平台，㈣裝載有基板 ㈣:;二台的外周部之複數部位， 的外μ載於前述承載台上之基板 進行=rb於設定在前述承載台上之基板定位區域内 具一體，及…旋：支= ==滾珠而構成’並且，前述滚珠的中心配置於 載於前撐前述基板的切面的延伸面上，或是在裝 面上=之基㈣厚度尺寸的範圍内，較前述支樓 前述置’亚错由刖述*珠的旋轉，而可將抵接於從 衰珠的前述滚珠支撑體所突出的部分之基板引導至由 316953 7 1278082 二個自由浪珠轴承的滚珠所包圍之内側的前述基板定位區 此基板用定位平台亦可揼 由滾珠轴承的滾珠，至少構成’亦即’前述自 :地用通電部。 #支撐-§又置與耵述滾珠接觸之接 前、fH，此基板用定位平台最好為採m構成，亦即， 台具備容許農载於該承载台的基板沿著前述支撐 =方:位移而支撐之基板支揮手段。關於前述二 手焱，例如可採用自由滾珠軸承。 且備m發明係提供—種基㈣定位設備，其特徵為 二及從^^人台；上述本發明之基板較位平台； 述搬入台取出基板並裝載於前述基板用定位平台 的承載台之基板移送裝置。 此外，树明係提供一種基板定位方法，其特徵為. 在此配置於雨述承載台的外周部的複數個部位之自由滾珠 軸承之侧邊自由軸承的滾珠上方，從 、 應為確保僅由各個側邊自由轴承的滾珠 ::=之基板接收區域的上方降下，將裝載於上述 μ月之基板収位平台的前述承載台上的基板，該置入 則述基板接收區域之後，引導此基板於各個側邊自由轴承 的滾珠並且使其降下，以配置於前述基板定位區域。 (發明之效果） 根據本發明，係從配置於承載台的外周部之各個自由 316953 8 1278082 滾珠軸承(以下亦稱為側邊自由轴承)的滚珠上方降下基 板，而使基板進入由各個側邊自由軸承所包圍之内側（從滾 ，的滾珠支撐體最為突出的的部分所包圍的内側）的基板 二位區域’而裂載於承載台上的支撐面，僅藉 可以期望的精密度進行定位。由於以基板定位 板係由各個側邊自由軸承的滾珠而定位，因此，基板進入 基板定位區域的同時，可完成基板的定位。因此，可於極 短時間内定位。 、 此外，從基板接收區域降下基板而進入基板定位區域 =二：基板的外周部抵接於從前述滾珠的前述滾珠支 犬出的部分’由於側邊自由轴承係構成為可藉由前 旋轉’而平順地引導抵接於從前述滾珠的前述滾 珠支撐體所突出的部分之上的基板於基以位區域，因 此基板進入基板定位區域的同時，可完成基板的定位。 並且，相較於橫向移動裝載於定位平台上的基板，並 倾而進行定位之構成，本發明不易對基板造成 二刀^曲寺變形’而可得到能夠穩定地維持基板的尺寸精 雄度之優良效果。再者’由於不須於定位平台設置橫向移 达裝置等複雜的機構’因此可大幅降低微粒的產生源，並 可達到低成本。 【實施方式】 =下麥照第1圖至第4圖說明本發明的實施型態。， 第、〗圖、第2圖係顯示本發明的基板用定位平台1 (以 下亦稱為定位平台)之圖，第1圖為俯視圖，第2圖為第1 316953 9 1278082 ”的A-Λ線剖視圖。第3圖係顯示設置於定位平台}之自 ，浪珠軸承（之後所述的側邊自由轴承及承載自由轴承）的 =位置關係之擴大圖，第4圖係顯示具備本發明的基板 用疋位設備2(以下亦稱為定位設備)之製 :概略圖。 丁囬 .·另外，此實施型態中，係說明採用顯示器用的玻璃基 =(母玻璃基板’以下亦稱為玻璃基板）來做為基板4之例 ’但疋相於本發明的基板4並不限定於玻璃基板，例 =採时基板、陶i基板、金屬基板等進行精密加工的 :種基板。此外，基板4在此為長方形的板狀，但並不限 疋於此’此基板4的形狀亦可例如為圓形或是擔圓形等。 本貫施型態中，本發明的定位平台U設置於設置在 構成第4圖所示之製程設備3之真空裝置3ι的承載室μ 内0 第4圖中’真空裝置31係具備前述承載室u，及傳 It ^ (Transfer Chamber)33 ^ ^ 1 ^ ^ 3 4 ^ t (Chamber) ^、3扑、34〇而構成。符號—係設置於承載室32之大 氣I從真空裝置31㈣部往承載室32搬人基板4之際， 以及攸承載至32往真空裝置31的外部搬出基板4之際， 進行開閉。此外，符號35b係用於開閉承載室&及傳輸室 一之間的閘’ 35c、35d、35e係用於開閉第！至第3處理 室34a、34b、34c及傳輸室33之間的閘。於傳輸室％内 設置有用以移動基板4之自動裝置36(基板移送裝置，以 下亦稱為Μ自動裝置）’承載室32内的定位平台】與處 316953 10 1278082 至34a 34b 34c之間之基板4的移送，係藉由此真空 5 f動裝置36進行。此外，隨著鑛膜等製程的進行，從處理 j取出的基板4搬入至其他處理室(或是搬入原先的處理 f)時，從處理室當中取出的基板4,係於定位平台j進行 •疋位之後，再進入其他處理室。 • 製耘设備3係具備設置於真空裝置31的外部之運送匣 37和自動裝置38(基板移送裝置，以下亦稱為大氣自動裝 > 以^上述真空裝置31而構成。從真空裝置31的外部 動iH32内的定位平台1之基板4的搬入係藉由大氣自 =38將從細37取出的基板4經由大氣間咖襄 戟於疋·位平台1上而進行。大氧 pw 〇Ί ❾丁 A虱自動裝置38亦進行往真空 裝置31的外部搬出定位平台1上的基板*之作業。 =，大氣自動裝置38係與參照第5圖所說明之移送 自動裒置103相同，於χγΖ方向可 日召筮9固、 乃门』私動之可動手臂38a(參 :此：載基板4的狀態下搬運之構成，但並不限定 |於此，亦可採用各種構成。 疋 此外，運送E 37係具備將施加處 入台的功能。 、里的基板4搬入之搬 運送S 37及定位平台i及大氣自動 發明之基板定位設備。 38如構成本 美板圖、第2圖所示，定位平台1係具備:裝載有 基板4之承載台n，以及配置於此承载 衣戰有 獅位’並藉由抵接於裝載在前述承栽台心：部, 的端面41，而於前述承載台丨j上土反 4i位置進行前述基 316953 11 1278082 1板4的疋位之自由滾珠軸7氧12(以下亦稱為側邊自由舢 ；而構成。 π則迻自由軸承） 上述承載台n係具備平台主體13，以及以突 • 14(°/下=的上面心之方❹設多數之自由滚珠轴承 ，、稱為承載自由轴承），並藉由前述多數的承載自 ^ 14將|載於該承載台u的基板4支撐於水平或是 i手為水平之支撐面F(虛擬面）上。此外，於平台主 =外周部，係以突出於平台主體13上的方式而設置用二裝 。又側邊自由軸承12的裝設台15，而1、十，？讲ώ 、 ]在0又。15而刖述承載自由軸承14 ^又置為可自由旋轉的滾珠⑽突出於位於包圍前述裳設 口 15的内側之平台主體上面13&上’並裝設於平台主體 13 〇 此外，圖示之承載台n的平台主體13從平面來看為 長方形（參照第！圖），但是本發明並不限定於此，亦可採 用例如從平面來看為圓形或是橢圓形等。 _加前述側邊自由軸承12係具備滾珠支撐體12a(固定支 木），以及可自由旋轉地支撐於此滾珠支撐體12a之滾珠 亚將耵述滾珠支撐體12a固定於承載台u的外周部 的衣°又〇 15而裝設。此側邊自由軸承12係裝設於平台主 版13的裝設台15的内面15a側（面對由裝設台丨5所包圍 的内側空間S之側），而從前述滾珠i2b的滾珠支撐體i2a 所突出的部分係位於較裝設台内面15a為内側之空間s 侧。此外，如第3圖所示，此侧邊自由軸承12係配置於滾 珠12b的中心，成為前述承載台n支撐前述基板4的支撐 12 316953 1278082 V面F的延長面上之位置。因此，側邊自由軸承12的滾珠 r 12t>係以從滾珠12b的滾珠支撐體12a之突出量的最大部 分與支撐面F —致之方式而定位。 此定位平台1中，由各個側邊自由轴承12的滾珠12b •(洋細而言為從滾珠12b的滾珠支撐體12a之突出量的最大 •斗刀）所包圍的内側區域為配置有裝載於該定位平台1的 承載台11上之基板4之基板定位區域Μ，裝載於承載台u 之基板4係配置於基板定位區域M，藉此，可藉由此定位 平台1的各個側邊自由軸承12的滾珠12b以期望的精密度 對定位平台1進行定位。 山又
如第2圖、第3圖所示，基板定位區域M的尺寸L(具 體而言為XY尺寸。帛2圖的尺寸L係顯示γ方向尺寸）係 比基板4的尺寸t(具體而言為縱橫尺寸。第2圖的尺寸七 係顯示長方形板狀的基板4的縱向（短邊）的尺寸）稍大，藉 由基板定位區域Μ的尺寸l與基板4的尺寸t的差（L—t)曰， 而決定配置於基板定位區域M的基板4之對定位平台1的 定位精密度。此定位精密度係根據配置於基板定位區域Μ 的基板4 ’在沿著以基板定位區域Μ之目標位置（以下 基準位置，誤差為0)為基準之支撐面F的方向之基板斗的 位置偏移容許範圍（第2圖所示之尺寸小⑶而設定。此 外’第2圖所示之尺寸cl &尺寸c2係均為配置於基準位 置之基板4的端面41，及配置於與該端面41面對的位置 之側邊自由軸承12的滾珠12b(從滾珠⑽的滾珠支標雕 12a(之後詳述）所突出的最大部分（點））之間的距離。月旦 316953 13 1278082 1 對定位平台1之基板4的定位精密度例如可設定為土 ：〇· 1至0· 7mm，但亦可設定為比此更小的程度。 側邊自由軸承12係具備：藉由前述滾珠丨2b的旋轉而 引導抵接於從前述滾珠12b的前述滾珠支撐體l2a所突出 ‘的部分之上的基板4於基板定位區域M之功能。因此，一 :旦從承載台11的上方降下基板4而進入基板定位區域M， 於降下途中即使基板4的端部抵接於側邊自由軸承12的滾 丨珠12b，基板4亦可藉由滾珠12b的旋轉，平順地被引導 至基板定位區域M而配置於基板定位區域M。 ，藉由大氣自動農置38(參照第4圖）而將基板4搬入定 位平。1而疋位之動作（基板的定位方法）係從運送匣37 取出基板4，移動用於裝載此基板4之可動手臂咖，而如 第2圖所不，將基板4配置於定位平台工的基板定位區域 Μ的上方，接著降下可動手臂咖使基板4置入基板定位 區域Μ。
心者從定位平台！的上方降下可動手臂38a，亦使裝 載可動手臂38a上之基板4降下，但基板4係在抵接於承 載口 11的承載自由轴承14的滾珠⑽之際（係指到達支撐 面F)而停止降下。基板4係置人於基板定位區域Μ，並藉 :基板定位區域Μ的周圍的各個側邊自由軸承i2(詳細而 。為滚珠12b)以期望的精密度進行定位（沿著支稽面F的 了？之定位)。另一方面，可動手臂38a於基板4的降下停 =亦㈣降下，而在進人形成於平台主體I 納溝m之處停止降下。藉此，使可動手臂咖不會接觸 316953 14 1278082 1支撐在承載自由軸承14上的基板4,使可動手臂38a不會 '對在承載自由軸承14上的基板4之定位造成影響。 —此外，如上所述，即使於降下途中基板4的端部從基 板定位區域Μ偏離而抵接於側邊自由軸承12的滾珠i2b， •由於基板4可藉由滾珠12b的旋轉而被引導至基板定位區 :域Μ，因此可平順地進行往基板定位區域M之基板4的配 置。 此外，關於大氣自動裝置38係採用進行從承載台u 的上方使基板4進入基板定位區域M之動作之際，不限制 可動手# 38a上之基板4的橫向移動，且不會造成因與側 邊自由軸承12的滾珠12b接觸而導致對基板4的定位之不 良影響者。關於大氣自動裝置38,亦可採用以可動手臂3如 之外的搬運構件搬運基板4之構成，但需採用不會造成因 與側邊自由軸承12的滚珠12b接觸而導致對基板4的 之不良影響者。 • 根據此定位平台卜使從該定位平台1的上方降下之 基板4置入基板定位區域，的同時，亦藉由基板定位區域 ^的周圍的各個側邊自由轴承12(詳細而言為滾珠卫㈨而 完成基板4的定位，因此可大幅縮短基板4的定位 的 時間:並大幅提昇定位效率。此外，由於不需習知採用之 用以橫向移動基板之橫向移送裝置等裝置，而可以極為 單的構成來實現基板4的定位，因此可大幅減少定位平二 1之定位製程中之粒子的產生，亦具有可安定的維持心 有定位平台1之處理室（承载室32)内的高潔淨度之停點。 316953 15 1278082 . 4匕外，本發明係採用由導電性樹脂材料所 :滾珠m’並採用具有與前述滾珠12b接觸之:二為 部之構成的前述側邊自由轴承12 基板4與滾珠12b接觸時，亦可防止因在使 :電而造成火花(Spark)的產生。 -反“电的靜 :及二3戶 =’側邊自由轴承12係在由筒狀框體⑶ 广 所、，且成之滾珠支撐冑12a的内部收 的滾珠12b，此外，於滾珠支樓體12a内，收响1/1 一+ 接觸之可自由轉動的多數小球12ί而射I内與滾珠咖 軸承12的構成元件，採用士 +成。關於側邊自由 、“ 木用例如由導電性樹脂材料所开… 滾珠12b，及由不銹鋼等導電 所 7成之 外，亦；P田i 丁奴力 、’萄所也成之小球12f，此 卜亦採用由不錄鋼等導電性金屬所 =等形成之通電電路（包含與小球f接觸^由 ^的接觸部）所構成者做為筒狀框趙 :12:及筒狀框體—成之接地用通電=由： 預$連接接地用通電部與側邊自由軸承12的外部· 地用電路，而可於基板4 、 的產生。 衰珠12b接觸之際’防止火花 由於火化的產生為基板4損壞之原因，因此藉由 上，構成_邊自由轴承12，可防止起因於火花^基板4 的相壞，而實現產品良率的提升等。 土 此外，關於形成滾珠12b之導 於基礎樹脂分散.、曰人^… 曰材科，可採用 川月曰刀月“合導電性金屬填充物者，或於基礎樹脂 虽中^加防止帶電的聚合物者等，藉由上述的材料而具備 316953 16 1278082 1 ι〇3至χ i〇1QQ/□的表面電阻率。關於基礎樹脂，可採用 5 PAKPolyamideimide，聚醯胺醯亞胺）、ρβΐ
(Polybenzimidazole，聚笨咪）、PCTFE (Polychlortrifluoroethylene，聚三氟氣乙烯）、聚醚醚 酮（Polyetheretherketone)、PEI(P〇lyetherimide，聚醚 亞醯胺）、PI(Polyimide，聚亞醯胺）'ppS(polyphenylene Sul f ide，苯硫）、二聚氰胺（Me 1 amine)樹脂、芳香族聚 醯胺樹脂（芳香族聚醯胺（Aram id)樹脂）等。此外，亦可使 用 LCP(液晶聚合物，Liquid Crystal Polymer)、PBT (Polybutylene Terephthalate，聚丁烯對苯二曱酸酯）、 PES(P〇lyether Sulfone，聚醚碾）及其他樹脂。就對於真
工装置内的環境之特性安定性等而言，較理想為VESpEL (芳香私聚醯胺樹脂之美國杜邦公司之註冊商標）及PM。 此外’本發明亦具備可緩和大氣自動裝置38所要求之 定位精在度（依據大氣自動裝置38之基板4的搬運精密度） 之優點' 片亦即’只要為上述構成之定位平台卜藉由大氣自動 政置38的可動手臂38a之移動，而從較各個側邊自由軸承 12的滾ί朱12b上方降下基板4之際，若可裝載於基板4的 外=部從側邊自由軸承12的滾珠m的滾珠支㈣心 所突出的部分上，則可藉由滾珠12b的旋轉，而引導基板 =基板^位區域M’因此’並不需要使降下至側邊自由轴 、袞珠12b的附近為止之基板4的位置納入於基板定 ㈣域Μ的範圍内。大氣自動裝㈣係將從此各個侧邊自 316953 17 1278082 〜由轴承12之滾珠12b上方降下之基板4從各個側邊自由軸 x承12的滾珠12b的滾珠支撐體12a突出部分（突出尺寸p 納入僅比前述基板定位區域M)更廣的範圍（基板接收區域 U)而進行定位的狀態下，只要降下至基板定位區域㈣ :可，因此，相較於保持基板4的定位精密度移動基板居納 :入基板定位區域Μ的範圍的情況，可緩和搬運精密度。 第2圖中，上述基板接收區域υ係為由承載台^上的 各個側邊自由軸承12的滾珠支撐體心（詳細而言為面對 各個滾珠支樓體12 a的基板定位區域M之側的端面】2 c。 更詳細而言為滾珠支撐體12a的蓋體…的端面）所包圍之 内側區域’且位於較各個側邊自由軸承12的滾珠⑽上 方。此外’換言之，此基板接收區域U係由從各個侧邊自 由軸承12的滾珠12b的滚珠支樓體12&(收納大約一半的 滚珠12 b)突出的部分的最上部（點）所包圍之内側區域。 於藉由大氣自動裝置38而從較各個側邊自由軸承12 的滾珠⑽上方降下基板4之際，只要確保基板4確實納 〇於基板接收區域_範圍内之定位精密度（搬運精密 ^ ’則不心側邊自由軸承12的滾珠支樓體m等接觸 而可降下至基板定位區域M為止，而基板4則具 備對定位平台1之期望的定位精 7月1X1度而配置於基板定位 (he 域 Μ 0 (具體例） 基板定：區域Μ之基板4的水平方向之定位精密度為 ±0·5_(弟2圖的cl及C2為〇·_，側邊自由軸承12 316953 18 1278082 、的滾珠1仏的犬出尺寸p為2· 5_時，藉由大氣自動裝置 ' 38而搬入基板接收區域ϋ之際之基板4的水平方向位置的 合弁决差範圍為± 3· 〇mm。換言之，以控制基板4的水平方 向位置於士 3· 0咖的方式，藉由大氣自動裝置38而將基板 :4搬入基板接收區域u之後，降下基板4，則可以土 〇· _ :的定位精密度，來對於定位平台丨進行基板4的定位。 近年來，逐漸進行顯示器用的母玻璃基板等玻璃基板 4之大型化。最近幾年，較為廣泛採用之母玻璃基板的尺 寸係用於液晶顯示器，15〇〇_χ 18〇〇_，厚度為〇·3至 〇. 7mm左右’並且有愈往大型化發展之趨勢。 如上所述，於以自動裝置搬運較薄之大型化的玻璃基 板4 ’而於定位平台進行定位的情況，有必要思考玻璃基 板4的撓曲對策。例如，如第2圖所示，本實施型態之大 氣自動裝置38為在插入於玻璃基板4的下方之可動手臂 38a裝載玻璃基板4搬運之構成，但即使可充分確保自動 鲁裝置本身的搬運精密度，仍難以消除起因於玻璃基板*的 挠曲而產生之定位誤差。此外，如第5圖所示，藉由對定 位=之壓抵而進行玻璃基板定位之構成的定位平台，由於 對疋位規之壓抵力道，可能於玻璃基板上產生部分撓曲， 因而衫響玻璃基板的平坦度。 一相對於此，本發明係構成為從基板接收區域U，一邊 藉由各個側邊自由軸承12的滾珠12b引導從較承載台U 的周圍之各個側邊自由軸承丨2的滾珠12b上方降下之基板 适進入基板疋位區域Μ，僅藉由裝載於承載台11的 316953 19 1278082 '支=面F，而可以期望的精密度進行對承載台ιι(亦即定位 台上）之定位，因此，可吸收起因於玻璃基板的挽曲之精 搶度誤差’而可簡單地實現高精密度的定位。只要於上述 基板接收區域U的範圍内對降下至基板定位區域M的基板 .4進仃（位’則可藉由降下而簡單地實現高精密度的定位 之構成gp使起因於玻璃基板的挽曲之精密度誤差存在， ，可簡單且確實地實現高精密度的定位。此外，僅需一邊 _藉由各個側邊自由軸承12的滾珠12b引導基板4, 一邊落 入基板定位區域Μ，則可完成定位之構成，因此，可消除 口對於疋位規之壓抵力道而於玻璃基板產生部分撓曲之問 題，而可穩定維持玻璃基板的平坦度。 本蚤明之疋位平台1係藉由承載自由軸承14而支撐穿 ，於承載台丨丨的支撐面F上之玻璃基板4，即使在可動手^ j 38a上的玻璃基板4於撓曲的狀態被降下至支撑面ρ的 十月形，藉由-邊旋轉承載自由軸承14的滾珠⑽一邊 I玻璃基板4的撓曲，並裳載玻璃基板4於支撐面卩上，最 後^幾乎消除撓曲的狀態而裝載於支撐面F。藉此，於基 板定位區域Μ的定位完成時，可確保玻璃基板4於括 ^此外’並不會在裝載於支撐W的玻璃基板4施加用 輪向移送之外力等’因此可穩定维持玻璃基板的平坦度。 在此，承載自由軸承14係具備容許裝載於承 的玻璃基板4 儿荽a卞士 n ρ 1 支…的方向位移而支撐之基板 ^又J犯。然而，基板支撐手段並不限定於承载自 八14，例如可採用以藉由從在承載台上面開口之空氣 316953 20 1278082 :吹，口所吹出的空氣而形成於基板4及承載台上面之間的 ，空風層（僅較大氣壓稱高的壓力）支揮裝載於突出設置在承 載台亡之複數支柱(stay)(包含承載自由軸承)上之基板4 2負何的-部分’藉此，而設定為不限制支撐於支柱上的 :基^的橫向移動（藉由複數個支柱而沿著支樓基板*的面 '之支撐面F(虛擬面）的方向的移動）之構造等。 於真空裝置31内的鑛膜等製程，將從處理室當中取出 鲁:基板4裝載，於設置在承載室32(參照第4圖）内之定位 平台而重新進行定位之後，在搬入進行下-製程之處理室 =，亦可藉由本發明的定位平台i而於短時間内簡單 後侍向精密度的定位，並可維持基板4的平坦产。 此外：關於適用於本發明的基板，並不限；液晶顯示 :的玻㈣基板（母玻璃基板），亦可採用例如㈣用的玻 螭基板、矽基板、陶瓷基板、金屬基板等。 本發明之定位平台的設置位置並不限定於承載室内， _可因應基板定位的必要性而適#的設置，並無特別限定。 ! ^亦可 < 置於錢理室之基板的搬人路徑或是搬出路徑 例如於前述真空裝置31的外部（大氣中）往真空裝置 基板搬入口（大氣閘）附近等），或處理室内部等。此 外，本發明之定位平台例如可利用於朝大氣中的加工裝置 a入之基板的定位，以及往搬運用運送ϋ之基板收納前的 疋位等。 一以上係說明本發明之較佳實施型態，但是本發明並不 限定於這些實施例。在不脫離本發明的主旨之範圍内，可 316953 21 1278082 進行構成的附加、省略、置拖 定其他變更。本發明不限 疋於刖迭之沉明，而僅由附加 _ ^ 田’的申凊專利範圍所限定。 (產業上之可利用性） 根據本發明之基板較位平台，基㈣定位設備，基 方法，可於短時間内精密且簡單地進行顯示器用母 玻璃基板、矽基板（晶圓）等基板的定位。 【圖式簡單說明】 —第1圖係顯示本發明的基板用定位平台（以下亦稱為 疋位平台）之俯視圖。
第2圖係顯示第1圖之定 .„ t m ^ A 剖視圖。 m圖的A-A線 τ第3圖係顯示設置於第1圖的定位平台之側邊自由軸 承及：載自由軸承的裝設位置關係之擴大圖。 第4圖係顯不具備本發明的基板用定位設備之製程設 備之平面概略圖。 • f 5圖係顯示習知例之移送自動裝置（R〇b〇t)之圖。 第6圖係顯示習知例之移送自動裝置的其他例之圖。 【主要元件符號說明】 卜⑽基板用定位平台2基板用定位設備 3 製程設備 4、102基板 11 承載台 Z 自由滾珠軸承（側邊自由軸承） 12a 14a滾珠支撐體（接地用通電部） 12b、14b 滾珠 12c、41端面 316953 1278082 \ 12d 筒狀框體 12e 蓋體 ,12f 小球（接地用通電部） 13、 108平台主體 13a 平台主體上面 13b 手臂收納溝 14 自由滾珠轴承（承載自由軸承） • 15 裝設台 15a 裝設台内面 -31 真空裝置 32 承載室 33 傳輸室 34a 第1處理室 34b 第2處理室 34c 第3處理室 • 35 a 大氣閘 35b至35e閘 36 真空自動裝置 37 運送匣 38 大氣自動裝置 38a 、101可動手臂 103 、105移載自動裝置 104 吸附頭 107 定位規 109 自由滾珠軸承 cl、 c2、L、t尺寸 F 支撐面 M 基板定位區域 S 内側空間 _ U 基板接收區域 23 316953

Claims (1)

1278082 + 申晴專利範圍： ，L —種基板用定位平台’係呈 供裝載基板; μ ：丨w載於前述 的外周部’而於設定在前 二1反 進行料餘料位之自由料㈣“位區域内 前述自由滾珠軸承係具備 :以及可自由旋轉而支撐於此滾珠支撐 ς 述基板的支撐面的延長面上=於月^承載台支撐前 夕或疋在裝载於前述承載a 基板的厚5尺寸的範圍内，較上述支撐面上方的位。 猎由前述滾珠的旋轉’而可將抵接於從前述滾珠 :由=支撐體所突出的部分之基板引導至由二 域。浪珠軸承的滾珠所包圍之内側的前述基板定位區 2· 利範圍第1項之基板用定位平台，其中，前述 /、珠轴承的前述滾珠係至少表面由導電性材料所 ^成、’亚於則述自由滾珠轴承的前述滾珠支撐體設置與 珂述滾珠接觸之接地用通電部。 /、 3. 如申請專利範圍第】項之基板用定位平台，其中，前述 承載台具備容許裝載於該承載台的基板以沿著前述支 撐面的方向位移的方式支撐之基板支撐手段。 4. 如申請專利範圍第3項之基板用定位平台，其中，前述 316953 24 1278082 1 基板支撐手段為自由滾珠軸承。 ，5.—種基板用定位設備，其特徵為具備·· 搬入基板之搬入台； 申明專利範圍第1項之基板用定位平台；以及 仗刚述搬入台取出基板並裝載於前述基板用定位 平台的承載台上之基板移送裝置。 •種基板疋位方法，其特徵為··在比配置於前述承載台 的外周部的複數個部位之自由滾珠軸承式侧邊自由軸 承的滾珠上方，從比前述基板定位區域更確保有由各個 側邊自由軸承的滾珠的滾珠支撐體之突出量的擴大區 域而作為基板接收區域的上方降下，將裝載於申請專利 範圍第1項之基板用定位平台的前述承載台上的基 板，置入前述基板接收區域之後，令此基板引導至各個 側邊自由軸承的滾珠，並且使其降下，以配置於前述美 板定位區域。
316953 25
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