KR20200049379A - 얼라인먼트 장치, 성막장치, 얼라인먼트 방법, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 얼라인먼트 장치는, 기판을 지지하기 위한 기판 지지 유닛과, 마스크를 지지하기 위한 마스크 지지 유닛과, 상기 기판 및 상기 기판을 사이에 두고 상기 마스크를 흡착하기 위한 정전척을 포함하며, 상기 기판 지지 유닛과 상기 마스크 지지 유닛은, 상기 정전척에 대하여, 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전가능한 것을 특징으로 한다.

Description

얼라인먼트 장치, 성막장치, 얼라인먼트 방법, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법{ALIGNMENT APPARATUS, FILM FORMING APPARATUS, ALIGNMENT METHOD, FILM FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE}
본 발명은 얼라인먼트 장치, 성막장치, 얼라인먼트 방법, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법에 관한 것이다.
유기EL 표시장치(유기 EL 디스플레이)의 제조에 있어서는, 유기 EL 표시장치를 구성하는 유기 발광소자(유기 EL 소자; OLED)를 형성할 때에, 성막장치의 증착원으로부터 증발한 증착재료를 화소 패턴이 형성된 마스크를 통해 기판에 증착시킴으로써, 유기물층이나 금속층을 형성한다.
상향증착방식(Depo-up)의 성막장치에 있어서, 증착원은 성막장치의 진공용기의 하부에 설치되고, 기판은 진공용기의 상부에 배치되며, 기판의 하면에 증착이 이루어진다. 이러한 상향 증착 방식의 성막장치의 진공용기내에서, 기판은 그 하면의 주연부만이 기판홀더에 의해 보유 및 지지되기 때문에, 기판이 그 자중에 의해 처지며, 이것이 증착정밀도를 떨어뜨리는 하나의 요인이 되고 있다. 상향증착방식 이외의 방식의 성막장치에 있어서도, 기판의 자중에 의한 처짐은 발생할 가능성이 있다.
기판의 자중에 의한 처짐을 저감하기 위한 방법으로서 정전척을 사용하는 기술이 검토되고 있다. 즉, 기판의 상면을 그 전체에 걸쳐 정전척으로 흡착함으로써 기판의 처짐을 저감할 수 있다.
특허문헌 1(국내특허공개공보 2017-0061230호)에는, 정전척으로 기판 및 마스크를 흡착하는 기술이 개시되어 있으며, 정전척을 수평방향(XYθ방향)으로 이동시키기 위한 구성이 개시되어 있다.
국내특허공개공보 2017-0061230호
반송로봇에 의한 기판의 반송오차 등으로 인해 정전척과 기판의 상대적 위치가 수평방향(XYθ방향)으로 어긋난 상태에서 기판을 정전척에 흡착시킬 경우, 기판이 정전척에 제대로 밀착되지 않게 된다. 이러한 상태에서 기판의 마스크에 대한 얼라인먼트 공정을 행하면, 기판의 마스크에 대한 상대적 위치조정의 정밀도가 떨어진다.
또한, 반송로봇에 의한 마스크의 반송오차 등으로 인해 정전척과 마스크간의 상대적 위치가 어긋난 상태에서, 정전척에 마스크의 흡착을 위한 전압을 인가할 경우, 정전척으로부터의 흡착력이 마스크에 제대로 작용하지 못하여, 기판과 마스크간의 밀착정밀도가 떨어진다.
본 발명은, 정전척과 기판간 및/또는 정전척과 마스크간에 수평방향(XYθ방향)으로 상대적인 위치 어긋남이 발생한 경우에도 이들 간의 상대적인 위치조정을 행할 수 있는 얼라인먼트 장치, 성막장치, 얼라인먼트 방법, 성막방법, 전자디바이스 제조방법을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
본 발명의 제1 양태에 따른 얼라인먼트 장치는, 기판을 지지하기 위한 기판 지지 유닛과, 마스크를 지지하기 위한 마스크 지지 유닛과, 상기 기판 및 상기 기판을 사이에 두고 상기 마스크를 흡착하기 위한 정전척을 포함하며, 상기 기판 지지 유닛과 상기 마스크 지지 유닛은, 상기 정전척에 대하여, 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전가능한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제2 양태에 따른 성막장치는, 마스크를 통하여 기판에 증착재료를 성막하기 위한 성막장치로서, 본 발명의 제1 양태에 따른 얼라인먼트 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제3 양태에 따른 얼라인먼트 방법은, 기판을 기판 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와, 마스크를 마스크 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와, 상기 기판과 상기 마스크 중 적어도 하나를 정전척에 대하여 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 프리얼라인먼트 단계와, 상기 기판과 상기 마스크의 상대적인 위치를 조정하는 얼라인먼트 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제4 양태에 따른 성막방법은, 마스크를 통하여 기판에 증착재료를 성막하기 위한 성막방법으로서, 마스크를 마스크 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와, 기판을 기판 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판을 정전척에 대해 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 프리얼라인먼트 단계와, 위치조정된 상기 기판을 상기 정전척에 흡착시키는 단계와, 상기 마스크 지지 유닛에 지지된 상기 마스크를 상기 정전척에 흡착된 상기 기판에 대하여 위치조정하는 얼라인먼트 단계와, 위치조정된 상기 마스크를 상기 정전척에 상기 기판을 사이에 두고 흡착시키는 단계와, 상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 증착재료를 성막하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제5 양태에 따른 전자 디바이스 제조방법은, 본 발명의 제4 양태에 따른 성막방법을 사용하여 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 정전척과 기판간 및/또는 정전척과 마스크간에 수평방향(XYθ 방향)으로 상대적인 위치 어긋남이 발생한 경우에 정전척과 기판간의 상대적인 위치 및/또는 정전척과 마스크간의 상대적인 위치를 조정할 수 있다. 이에 의해, 정전척과 기판간의 흡착정밀도 및/또는 정전척과 마스크간의 흡착정밀도를 향상시켜 얼라인먼트 공정의 정밀도를 향상시킬 수 있으며, 그 결과, 성막정밀도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 유기 EL 표시 장치의 제조 라인의 일부의 모식도이다.
도 2는 성막장치의 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인먼트 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인먼트 방법을 설명하기 위한 모식도이다
도 5는 유기 EL 표시장치의 전체도 및 유기 EL 소자의 단면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태 및 실시예를 설명한다. 다만, 이하의 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것일 뿐이며, 본 발명의 범위는 이들 구성에 한정되지 않는다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 흐름, 제조조건, 크기, 재질, 형상 등은, 특히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이것으로 한정하려는 취지인 것은 아니다.
본 발명은, 기판의 표면에 각종 재료를 퇴적시켜 성막을 행하는 장치에 적용할 수 있으며, 진공 증착에 의해 소망하는 패턴의 박막(재료층)을 형성하는 장치에 바람직하게 적용할 수 있다. 기판의 재료로는 유리, 고분자재료의 필름, 금속 등의 임의의 재료를 선택할 수 있고, 예컨대, 기판은 유리기판상에 폴리이미드 등의 필름이 적층된 기판이어도 된다. 또한 증착 재료로서도 유기 재료, 금속성 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다. 이하의 설명에서 설명하는 진공증착장치 이외에도, 스퍼터 장치나 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 포함하는 성막장치에도, 본 발명을 적용할 수 있다. 본 발명의 기술은, 구체적으로는, 유기 전자 디바이스(예를 들면, 유기 EL 소자, 박막 태양 전지), 광학 부재 등의 제조 장치에 적용 가능하다. 그 중에서도, 증착재료를 증발시켜 마스크를 통해 기판에 증착시킴으로써 유기 EL 소자를 형성하는 유기 EL 소자의 제조장치는, 본 발명의 바람직한 적용예의 하나이다.
<전자 디바이스 제조 장치>
도 1은 전자 디바이스의 제조 장치의 일부의 구성을 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 1의 제조 장치는, 예를 들면 스마트폰 용의 유기 EL 표시장치의 표시 패널의 제조에 이용된다. 스마트폰 용의 표시 패널의 경우, 예를 들면, 4.5세대의 기판(약 700 ㎜ × 약 900 ㎜)이나 6세대의 풀사이즈(약 1500 ㎜ × 약 1850 ㎜) 또는 하프컷 사이즈(약 1500 ㎜ × 약 925 ㎜)의 기판에 유기 EL 소자의 형성을 위한 성막을 행한 후, 해당 기판을 잘라 내어 복수의 작은 사이즈의 패널로 제작한다.
전자 디바이스 제조 장치는, 일반적으로 복수의 클러스터 장치(1)와, 클러스터 장치(1) 사이를 연결하는 중계장치를 포함한다.
클러스터 장치(1)는, 기판(S)에 대한 처리(예컨대, 성막)를 행하는 복수의 성막장치(11)와, 사용전후의 마스크(M)를 수납하는 복수의 마스크 스톡 장치(12)와, 그 중앙에 배치되는 반송실(13)을 구비한다. 반송실(13)은 도 1에 도시한 바와 같이, 복수의 성막장치(11) 및 마스크 스톡 장치(12) 각각과 접속된다.
반송실(13) 내에는, 기판 및 마스크를 반송하는 반송 로봇(14)이 배치된다. 반송로봇(14)은, 상류측에 배치된 중계장치의 패스실(15)로부터 성막장치(11)에 기판(S)을 반송한다. 또한, 반송로봇(14)은 성막장치(11)와 마스크 스톡 장치(12)간에 마스크(M)를 반송한다. 반송 로봇(14)은, 예를 들면, 다관절 아암에, 기판(S) 또는 마스크(M)를 보유지지하는 로봇 핸드가 장착된 구조를 갖는 로봇일 수 있다.
성막장치(11)(증착 장치라고도 부름)에서는, 증착원에 수납된 증착재료가 히터에 의해 가열되어 증발하고, 마스크를 통해 기판상에 증착된다. 반송 로봇(14)과의 기판(S)의 주고받음, 기판(S)과 마스크(M)의 상대 위치의 조정(얼라인먼트), 마스크(M) 상으로의 기판(S)의 고정, 성막(증착) 등의 일련의 성막 프로세스는, 성막 장치(11)에 의해 행해진다.
마스크 스톡 장치(12)에는 성막장치(11)에서의 성막 공정에 사용될 새로운 마스크 및 사용이 끝난 마스크가 두 개의 카세트에 나뉘어져 수납된다. 반송 로봇(14)은, 사용이 끝난 마스크를 성막장치(11)로부터 마스크 스톡 장치(12)의 카세트로 반송하며, 마스크 스톡 장치(12)의 다른 카세트에 수납된 새로운 마스크를 성막장치(11)로 반송한다.
클러스터 장치(1)에는 기판(S)의 흐름방향으로 상류측으로부터의 기판(S)을 해당 클러스터 장치(1)로 전달하는 패스실(15)과, 해당 클러스터 장치(1)에서 성막처리가 완료된 기판(S)을 하류측의 다른 클러스터 장치로 전달하기 위한 버퍼실(16)이 연결된다. 반송실(13)의 반송 로봇(14)은 상류측의 패스실(15)로부터 기판(S)을 받아서, 해당 클러스터 장치(1)내의 성막장치(11)중 하나(예컨대, 성막장치(11a))로 반송한다. 또한, 반송 로봇(14)은 해당 클러스터 장치(1)에서의 성막처리가 완료된 기판(S)을 복수의 성막장치(11) 중 하나(예컨대, 성막장치(11b))로부터 받아서, 하류측에 연결된 버퍼실(16)로 반송한다.
버퍼실(16)과 패스실(15) 사이에는 기판의 방향을 바꾸어 주는 선회실(17)이 설치된다. 선회실(17)에는 버퍼실(16)로부터 기판(S)을 받아 기판(S)을 180도 회전시켜 패스실(15)로 반송하기 위한 반송 로봇(18)이 설치된다. 이를 통해, 상류측 클러스터 장치와 하류측 클러스터 장치에서 기판(S)의 방향이 동일하게 되어 기판 처리가 용이해진다.
패스실(15), 버퍼실(16), 선회실(17)은 클러스터 장치 사이를 연결하는 소위 중계장치로서, 클러스터 장치의 상류측 및/또는 하류측에 설치된 중계장치는, 패스실, 버퍼실, 선회실 중 적어도 하나를 포함한다.
성막장치(11), 마스크 스톡 장치(12), 반송실(13), 버퍼실(16), 선회실(17) 등은 유기발광 소자의 제조과정에서, 고진공상태로 유지된다. 패스실(15)은, 통상 저진공상태로 유지되나, 필요에 따라 고진공상태로 유지될 수도 있다.
본 실시예에서는, 도 1을 참조하여, 전자 디바이스 제조 장치의 구성에 대해서 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 종류의 장치나 챔버를 가질 수도 있으며, 이들 장치나 챔버간의 배치가 달라질 수도 있다.
예컨대, 본 발명은, 기판(S)과 마스크(M)를 성막장치(11)에서가 아니라, 별도의 장치 또는 챔버에서 합착시킨 후 이를 캐리어에 태우고, 일렬로 나열된 성막장치를 통해 반송시키면서 성막공정을 행하는 인라인 타입의 제조장치에도 적용될 수 있다.
<성막 장치>
도 2는 성막장치(11)의 구성을 나타낸 모식도이다. 이하의 설명에 있어서는, 연직 방향을 Z 방향(제3 방향)으로 하는 XYZ 직교 좌표계를 사용한다. 성막 시에 기판(S)이 수평면(XY 평면)과 평행하게 고정될 경우, 기판(S)의 단변방향(단변에 평행한 방향)을 X 방향(제1 방향), 장변방향(장변에 평행한 방향)을 Y 방향(제2 방향)으로 한다. 또 Z 축 주위의 회전각을 θ(회전 방향)로 표시한다.
성막장치(11)는, 진공 분위기 또는 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기로 유지되는 진공 용기(21)와, 진공 용기(21)내에 설치되는 기판 지지 유닛(22)과, 마스크 지지 유닛(23)과, 정전척(24)과, 증착원(25)을 포함한다. 본 실시예의 성막장치(11)는 진공 용기(21)에 고정되도록 설치되는 프레임 형상의 마스크 대(26)를 더 포함할 수 있다.
기판 지지 유닛(22)은 반송실(13)에 설치된 반송 로봇(14)이 반송하여 온 기판(S)을 수취하여, 보유 지지하는 수단으로서, 기판 홀더라고도 부른다.
기판 지지 유닛(22)의 아래에는 마스크 지지 유닛(23)이 설치된다. 마스크 지지 유닛(23)은, 반송실(13)에 설치된 반송로봇(14)이 반송하여 온 마스크(M)를 수취하여, 보유 지지하는 수단으로서, 마스크 홀더라고도 부른다.
마스크(M)는, 기판(S) 상에 형성될 박막 패턴에 대응하는 개구 패턴을 가지며, 마스크 지지 유닛(23)에 지지된다. 특히, 스마트폰용 유기 EL 소자를 제조하는데 사용되는 마스크는 미세한 개구패턴이 형성된 금속제 마스크로서, FMM(Fine Metal Mask)이라고도 부른다.
성막 장치(11)가 마스크 대(26)를 포함하는 실시예에 있어서, 마스크(M)는 마스크 지지 유닛(23)으로부터 마스크 대(26)로 전달되어 성막공정 동안 마스크 대(26)상에 재치된다.
기판 지지 유닛(22)의 상방에는 기판을 정전 인력에 의해 흡착하여 고정하기 위한 정전척(24)이 설치된다. 정전척(24)은 유전체(예컨대, 세라믹재질) 매트릭스내에 금속전극 등의 전기회로가 매설된 구조를 갖는다. 정전척(24)은, 쿨롱력 타입의 정전척이어도 되고, 존슨-라벡력 타입의 정전척이어도 되며, 그래디언트력 타입의 정전척이어도 된다. 정전척(24)은, 그래디언트력 타입의 정전척인 것이 바람직하다. 정전척(24)을 그래디언트력 타입의 정전척으로 함으로써, 기판(S)이 절연성 기판인 경우라도, 정전척(24)에 의해 양호하게 흡착될 수 있다. 정전척(24)이 쿨롱력 타입의 정전척인 경우에는, 금속전극에 플러스(+) 및 마이너스(-)의 전압이 인가되면, 유전체 매트릭스를 통해 기판(S)과 같은 피흡착체에 금속 전극과 반대극성의 분극전하가 유도되며, 이들간의 정전 인력에 의해 기판(S)이 정전척(24)에 흡착 고정된다.
정전척(24)은 하나의 플레이트로 형성되어도 되고, 복수의 서브플레이트를 가지도록 형성되어도 된다. 또한, 하나의 플레이트로 형성되는 경우에도 그 내부에 복수의 전기회로를 포함하여, 하나의 플레이트내에서 위치에 따라 정전인력이 다르도록 제어할 수도 있다.
도 2에 도시한 바와 같이, 정전척(24)의 흡착면과는 반대측에 기판(S)의 온도 상승을 억제하는 냉각기구로서, 예컨대, 냉각판(27)을 설치하여도 된다. 이에 의해, 기판(S)상에 퇴적된 유기재료의 변질이나 열화를 억제할 수 있다.
증착원(25)은 기판에 성막될 증착 재료가 수납되는 도가니(미도시), 도가니를 가열하기 위한 히터(미도시), 증착원으로부터의 증발 레이트가 일정해질 때까지 증착재료가 기판으로 비산하는 것을 막는 셔터(미도시) 등을 포함한다. 증착원(25)은 점(point) 증착원이나 선형(linear) 증착원 등, 용도에 따라 다양한 구성을 가질 수 있다.
도 2에 도시하지 않았으나, 성막장치(11)는 기판에 증착된 막두께를 측정하기 위한 막두께 모니터(미도시) 및 막두께 산출 유닛(미도시)를 포함한다.
성막장치(11)의 진공용기(21)의 외부(대기측) 상면에는, 기판 지지 유닛(22), 마스크 지지 유닛(23), 정전척(24) 등을 연직방향(Z방향, 제3방향)으로 승강시키기 위한 승강구동기구, 및 정전척(24)과 기판(S)간 또는 정전척(24)과 마스크(M)간의 상대적인 위치조정을 행하는 프리얼라인먼트(pre-alignment)와, 기판(S)과 마스크(M)간의 상대적인 위치조정을 행하는 얼라인먼트를 위해, 수평면에 평행하게(X방향, Y방향, θ방향 중 적어도 하나의 방향으로) 기판 지지 유닛(22) 및/또는 마스크 지지 유닛(23)을 정전척(24)에 대해 이동 또는 회전시키기 위한 수평구동기구(얼라인먼트 스테이지) 등이 설치된다.
본 발명에서는, 도 3을 참조하여 후술하는 바와 같이, 수평방향(XYθ방향)에 있어서, 정전척(24)에 대한 기판(S)의 위치조정 및/또는 정전척(24)에 대한 마스크(M)의 위치조정을 위해, 정전척(24)을 승강시키기 위한 정전척 승강구동기구를 진공용기(21)에 고정되도록 설치하고, 기판 지지 유닛(22)의 승강구동기구 및 마스크 지지 유닛(23)의 승강구동기구는 얼라인먼트 스테이지 상에 탑재되도록 설치한다.
진공용기(21)의 외측상면에는, 전술한 승강구동기구 및 수평구동기구 이외에, 진공 용기(21)의 상면에 설치된 투명창(도시하지 않음)을 통해 기판(S) 및 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 얼라인먼트용 카메라(미도시)를 설치하여도 된다.
성막장치(11)는 제어부(28)를 구비한다. 제어부(28)는 기판(S)/마스크(M)의 반송, 프리얼라인먼트 및 얼라인먼트, 증착원(25)의 제어, 성막의 제어 등의 기능을 갖는다. 제어부(28)는 예를 들면, 프로세서, 메모리, 스토리지, I/O 등을 갖는 컴퓨터에 의해 구성 가능하다. 이 경우, 제어부(28)의 기능은 메모리 또는 스토리지에 기억된 프로그램을 프로세서가 실행함으로써 실현된다. 컴퓨터로서는 범용의 퍼스널 컴퓨터를 사용하여도 되고, 임베디드형의 컴퓨터 또는 PLC(programmable　logic　controller)를 사용하여도 좋다. 또는, 제어부(28)의 기능의 일부 또는 전부를 ASIC나 FPGA와 같은 회로로 구성하여도 좋다. 또한, 성막 장치별로 제어부가 설치되어도 되고, 하나의 제어부가 복수의 성막 장치를 제어하는 것으로 구성하여도 된다.
<얼라인먼트 장치>
이하, 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인먼트 장치의 구성을 설명한다. 도 3에 도시한 실시예는 얼라인먼트 장치를 성막장치(11)의 일부로서 구현하는 예이나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 성막 공정이 행해지지 않는 장치로서 구현되어도 된다. 예컨대, 성막공정이 행해지기 전에, 성막장치(11)와 별도로 설치된 얼라인먼트 장치에서 정전척(24)과 기판(S) 또는 마스크(M)간의 프리 얼라인먼트 및 기판(S)과 마스크(M)간의 얼라인먼트 공정이 행해져도 된다.
본 실시예의 얼라인먼트 장치는, 진공용기(21), 기판 지지 유닛(22), 마스크 지지 유닛(23), 정전척(24), 및 얼라인먼트 스테이지(30)를 포함한다.
진공 용기(21)의 외부 상면에는, 정전척(24)에 대한 기판(S) 및/또는 마스크(M)의 수평방향(XYθ 방향)에 있어서의 상대적인 위치조정(프리얼라인먼트) 및 기판(S)과 마스크(M)간의 수평방향(XYθ 방향)에 있어서의 상대적인 위치조정(얼라인먼트)을 위해 기판 지지 유닛(22) 및 마스크 지지 유닛(23)을 수평방향(XYθ 방향)으로 이동시키는 얼라인먼트 스테이지(30)와, 기판 지지 유닛(22)을 Z축 방향으로 승강시키기 위한 기판 지지 유닛 승강구동기구(31)와, 정전척(24)을 Z축 방향으로 승강시키기 위한 정전척 승강구동기구(32)와, 마스크 지지 유닛(23)를 Z축 방향으로 승강시키기 위한 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)가 설치된다.
얼라인먼트 스테이지(30)는 진공 용기(21)의 외부 상면에 고정된 얼라인먼트 스테이지 구동용 모터(301)로부터 리니어 가이드를 통해 수평방향(XYθ 방향)으로의 구동력을 받는다. 즉, 진공 용기(21)의 외측 상면에 가이드 레일(미도시)이 고정되어 설치되고, 가이드 레일상에 리니어 블록이 이동가능하게 설치된다. 리니어 블록상에 얼라인먼트 스테이지 베이스판(302)이 탑재된다. 진공 용기(21)의 외측 상면에 고정된 얼라인먼트 스테이지 구동용 모터(301)로부터의 구동력에 의해 리니어 블록을 수평방향(XYθ방향)으로 이동시킴으로써, 리니어 블록위에 탑재된 얼라인먼트 스테이지 베이스판(302)을, 따라서, 얼라인먼트 스테이지(30) 전체를 수평방향(XYθ방향)으로 이동시킬 수 있다.
기판 지지 유닛 승강구동기구(31) 및 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)는 후술하는 바와 같이 얼라인먼트 스테이지(30)에 탑재된다. 따라서, 기판 지지 유닛(22) 및 마스크 지지 유닛(23)은, 얼라인먼트 스테이지가 수평(XYθ) 방향으로 이동함에 따라, 이들 각각에 지지된 기판(S) 및 마스크(M)와 함께 수평방향(XYθ 방향)으로 이동한다.
기판 지지 유닛 승강구동기구(31)는 기판 지지 유닛(22)을 Z축 방향으로 승강시키는 기구로서, 얼라인먼트 스테이지 베이스판(302)상에 설치된다. 진공용기(21)내의 기판 지지 유닛(22)은 진공 용기(21)의 외부상면을 통해 기판 지지 유닛 승강구동기구(31)에 연결된다. 기판 지지 유닛 승강구동기구(31)는 기판 지지 유닛 승강 구동용 모터(311)와, 기판 지지 유닛 승강 구동용 모터(311)의 구동력을 기판 지지 유닛(22)에 전달하기 위한 기판 지지 유닛 승강 구동력 전달기구로서의 리니어 가이드(312)를 포함한다. 본 실시 형태에서는 기판 지지 유닛 승강 구동력 전달 기구로서 리니어 가이드(312)를 사용하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 볼나사 등을 사용할 수도 있다.
정전척 승강구동기구(32)는, 정전척(24)을 Z 방향으로 구동시키기 위한 정전척 승강 구동용 모터(321) 및 정전척 승강 구동력 전달 기구로서의 볼나사(322)를 포함하며, 진공 용기(21)의 외부상면에 고정된 정전척 승강구동기구 베이스판(323) 상에 설치된다. 본 실시 형태에서는 정전척 승강 구동력 전달 기구로서 볼나사(322)를 사용하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 리니어 가이드 등을 사용할 수도 있다.
이렇듯, 본 실시예에서는 정전척 승강구동기구(32)가 종래와 같이 얼라인먼트 스테이지 베이스판(302)에 설치되는 것이 아니라 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 분리/독립되어 진공 용기(21)의 외부상면에 고정된 정전척 승강구동기구 베이스판(323)에 설치되기 때문에, 얼라인먼트 스테이지(30)가 수평방향(XYθ 방향)으로 이동하더라도, 정전척 승강구동기구(32)는 수평방향(XYθ 방향)으로는 이동하지 않으며 수평방향(XYθ 방향)으로는 고정된다.
본 명세서에 있어서, 정전척 승강구동기구(32)가 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 분리되어 독립적으로 설치된다는 것은, 넓은 의미로는, 정전척 승강구동기구(32)가 얼라인먼트 스테이지(30)상에 탑재되지 않아 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 수평 방향(XYθ 방향)으로의 이동을 위한 구동력을 받지 않는다는 의미이며, 좁은 의미로는, 정전척 승강구동기구(32)가 얼라인먼트 스테이지(30)상에 설치되지 않고 수평 방향(XYθ 방향)으로 진공 용기(21)의 외부상면에 고정되도록 설치된다(즉, 수평방향(XYθ 방향)으로는 이동 내지 회전하지 않고 고정된다)는 의미이다.
마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)는 마스크 지지 유닛(23)을 Z축 방향으로 승강시키기 위한 기구로서, 얼라인먼트 스테이지(30)에 탑재된다. 진공 용기(21)내의 마스크 지지 유닛(23)은 진공 용기(21)의 외부상면을 통해 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)에 연결된다. 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)는 마스크 지지 유닛 승강 구동용 모터(331)와 볼나사(332)를 포함하며, 마스크 지지 유닛(23)을 승강시키는 기능을 수행한다.
이렇듯, 본 실시예에서는 기판 지지 유닛 승강구동기구(31) 및 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)가 얼라인먼트 스테이지(30)의 베이스판(302)상에 설치되고, 정전척 승강구동기구(32)는 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 분리되어 독립적으로 설치되기 때문에, 얼라인먼트 스테이지(30)가 수평방향(XYθ 방향)으로 이동함에 따라, 기판 지지 유닛 승강구동기구(31) 및 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)가(따라서, 기판(S)과 마스크(M)가) 정전척 승강구동기구(32)에 대하여 수평방향(XYθ 방향)으로 이동 또는 회전한다.
그 결과 후술하는 바와 같이, 기판 지지 유닛(22)에 지지된 기판(S)이 정전척(24)에 대해 수평방향(XYθ 방향)으로 상대적으로 위치가 어긋난 경우에도 이들간의 수평방향(XYθ 방향)에 있어서의 상대적 위치를 조정할 수 있으며, 마찬가지로, 마스크 지지 유닛(23)에 지지된 마스크(M)가 정전척(24)에 대해 상대적으로 어긋난 위치에 있는 경우에도, 마스크(M)를 수평방향(XYθ 방향)으로 이동시켜 정전척(24)과의 상대적 위치를 조정할 수 있다.
<얼라인먼트 방법 및 성막방법>
도 4를 참조하여 정전척(24)에 대한 기판(S)/마스크(M)의 프리얼라인먼트, 기판(S)에 대한 마스크(M)의 얼라인먼트 공정 및 이를 포함하는 성막방법을 설명한다.
마스크 교환시기가 되면, 도 4(a)에 도시한 바와 같이, 성막장치(11)의 진공 용기(21) 내로 새로운 마스크(M)가 반입되어, 마스크 지지 유닛(23)에 지지된다.
이어서, 해당 마스크(M)를 사용하여 증착재료가 성막될 기판(S)이 진공 용기(21)내로 반입되어, 기판 지지 유닛(22)에 지지된다.
이 상태에서, 정전척(24)에 대한 기판(S)의 프리얼라인먼트 공정을 행한다. 기판(S)의 프리얼라인먼트 공정에서는, 예컨대, 직사각형 정전척(24)의 코너부와 기판(S)에 형성된 얼라인먼트 마크를 얼라인먼트용 카메라(러프 얼라인먼트용 카메라)로 촬영하여 정전척(24)에 대한 기판(S)의 상대적인 위치 어긋남량을 측정한다.
다른 실시예에서는, 정전척(24)의 코너부 대신에 정전척(24)의 코너부에 형성된 별도의 정전척 얼라인먼트 마크를 기판 얼라인먼트 마크와 함께 촬영하여, 상대적인 위치 어긋남량을 측정하여도 된다.
또한, 정전척(24)에는 정전척(24) 아래에 놓인 기판(S)의 얼라인먼트 마크가 위로부터 보이도록 개구가 형성될 수 있다.
정전척(24)과 기판(S)의 상대적인 위치가 어긋나 있는 것으로 판명된 경우, 얼라인먼트 스테이지(30)를 수평방향(XYθ 방향)으로 이동시켜, 정전척(24)과 기판(S)의 수평방향 (XYθ 방향)에 있어서의 상대적 위치를 조정한다.
본 실시예에서는, 도 3을 참조하여 설명한 바와 같이, 기판 지지 유닛(22) 및 기판 지지 유닛 승강구동기구강기구(31)는 얼라인먼트 스테이지(30)상에 탑재되고, 정전척 승강구동기구(32)는 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 분리/독립되어 설치되기 때문에, 얼라인먼트 스테이지(30)를 수평방향(XYθ 방향)으로 이동시킴으로써, 정전척(24)과 기판(S)의 상대적 위치를 조정할 수 있다. 이렇듯, 본 발명에 의하면, 정전척(24)과 기판(S)의 수평방향(XYθ 방향)의 상대적인 위치가 반송로봇(14)의 기판 반송오차로 인해 서로 어긋난 경우에도, 기판(S)을 정전척(24)에 대하여 위치조정할 수 있기 때문에, 기판(S)을 정전척(24)에 양호하게 흡착시킬 수 있다.
정전척(24)에 대한 기판(S)의 위치조정(기판 프리 얼라인먼트)이 완료되면, 도 4(d)에 도시한 바와 같이, 정전척(24)을 정전척 승강구동기구(32)에 의해 하강시키고, 정전척(24)에 소정의 전압(ΔV1)을 인가하여 기판(S)을 정전척(24)에 흡착시킨다.
이어서, 도 4(e)에 도시한 바와 같이, 정전척 승강구동기구(32)를 구동시켜, 정전척(24)에 흡착된 기판(S)을 마스크(M)상으로 하강시킨다. 이때, 기판 지지 유닛 승강구동기구(31)에 의해 기판 지지 유닛(22)을 정전척(24)의 하강에 맞춰 함께 하강시킬 수도 있다.
정전척(24)에 흡착된 기판(S)이 얼라인먼트 계측위치(예컨대, 파인 얼라인먼트 계측위치)까지 하강하면, 도 4(f)에 도시한 바와 같이, 얼라인먼트용 카메라(파인 얼라인먼트용 카메라)를 사용하여 기판(S)과 마스크(M)의 얼라인먼트 마크를 촬영하여 그 상대적인 위치 어긋남량을 측정한다. 기판(S)과 마스크(M)의 상대적인 위치 어긋남량이 임계치를 넘으면, 마스크 지지 유닛 승강구동기구(33)가 탑재된 얼라인먼트 스테이지(30)를 수평방향(XYθ 방향)으로 이동시켜 기판(S)과 마스크(M)의 상대적 위치를 조정한다.
이에 의해, 기판(S)과 마스크(M)의 상대적 위치 어긋남이 임계치내로 들어오면, 도 4(g)에 도시한 바와 같이, 정전척 승강구동기구(32)를 구동시켜 정전척(24)을 마스크(M)상으로 하강시킨다. 마스크(M)상으로 하강된 정전척(24)에 소정의 전압(ΔV2)을 인가하여 마스크(M)를 기판측으로 끌어당기며, 이에 의해 기판(S)과 마스크(M)가 밀착된다.
이어서, 증착원(25)의 셔터를 열어 증착원(25)으로부터 증발된 증착재료를 마스크를 통해 기판의 하면상에 증착한다(도 4(h)).
본 발명에 의하면, 정전척(24)에 대한 기판의 프리 얼라인먼트가 가능해지기 때문에, 정전척/기판/마스크의 적층체의 적층 정밀도가 향상되며, 그 결과 성막정밀도가 향상된다.
도 4에서는, 기판(S)의 정전척(24)에 대한 프리 얼라인먼트를 행하는 구성을 위주로 설명하였으나, 마스크(M)의 정전척(24)에 대한 프리 얼라인먼트를 행하여도 된다. 즉, 반송로봇(14)에 의해 마스크(M)가 진공 용기(21)내로 반입되어, 마스크 지지 유닛(23)에 의해 지지된 후, 기판 프리 얼라인먼트와 마찬가지 방법으로, 마스크(M)와 정전척(24)의 상대적인 위치 어긋남량을 측정하여, 상대적인 위치조정을 행하여도 된다. 이에 의해, 정전척/기판/마스크의 적층체의 적층 정밀도를 더욱 향상시킬 수 있으며, 그 결과 성막정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 도 4의 실시예에서는, 기판(S)이 정전척(24)에 흡착된 상태에서, 기판(S)과 마스크(M)간의 얼라인먼트가 행해지는 것으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 마스크(M)를 마스크 지지 유닛(23)으로부터 마스크 대(26)로 옮긴 후, 기판 지지 유닛(22)에 의해 지지된 기판(S)과 마스크 대(26)상의 마스크(M)간에 얼라인먼트를 행하여도 된다.
또한, 도 4의 실시예에서는, 기판(S)의 프리얼라인먼트 이후에, 기판(S)과 마스크(M)간의 얼라인먼트를 하나의 단계(즉, 파인 얼라인먼트)로 행하는 구성을 위주로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 프리 얼라인먼트 이후에 행해지는 얼라인먼트 공정을 두 개의 단계(러프 얼라인먼트 및 파인 얼라인먼트)로 행하여도 된다.
이상의 설명에서는, 성막장치(11)는, 기판(S)의 성막면이 연직방향 하방을 향한 상태에서 성막이 이루어지는, 소위 상향증착방식(Depo-up)의 구성으로 하였으나, 이에 한정되지 않으며, 기판(S)이 진공용기(21)의 측면측에 수직으로 세워진 상태로 배치되고, 기판(S)의 성막면이 중력방향과 평행한 상태에서 성막이 이루어지는 구성이어도 된다.
<전자디바이스의 제조방법>
다음으로, 본 실시형태의 성막 장치를 이용한 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 설명한다. 이하, 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시장치의 구성 및 제조 방법을 예시한다.
우선, 제조하는 유기 EL 표시장치에 대해 설명한다. 도 5(a)는 유기 EL 표시장치(60)의 전체도, 도 5(b)는 1 화소의 단면 구조를 나타내고 있다.
도 5(a)에 도시한 바와 같이, 유기 EL 표시장치(60)의 표시 영역(61)에는 발광소자를 복수 구비한 화소(62)가 매트릭스 형태로 복수 개 배치되어 있다. 상세 내용은 후술하지만, 발광소자의 각각은 한 쌍의 전극에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다. 또한, 여기서 말하는 화소란 표시 영역(61)에 있어서 소망의 색 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 지칭한다. 본 실시예에 관한 유기 EL 표시장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광소자(62R), 제2 발광소자(62G), 제3 발광소자(62B)의 조합에 의해 화소(62)가 구성되어 있다. 화소(62)는 적색 발광소자, 녹색 발광소자, 청색 발광소자의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 황색 발광소자, 시안 발광소자, 백색 발광소자의 조합이어도 되며, 적어도 1 색 이상이면 특히 제한되는 것은 아니다.
도 5(b)는 도 5(a)의 A－B선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(62)는 기판(63) 상에 제1 전극(양극)(64), 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67), 제2 전극(음극)(68)을 구비한 유기 EL 소자를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67)이 유기층에 해당한다. 또한, 본 실시형태에서는, 발광층(66R)은 적색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66G)는 녹색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66B)는 청색을 발하는 유기 EL 층이다. 발광층(66R, 66G, 66B)은 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광소자(유기 EL 소자라고 부르는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 제1 전극(64)은 발광소자별로 분리되어 형성되어 있다. 정공 수송층(65)과 전자 수송층(67)과 제2 전극(68)은, 복수의 발광소자(62R, 62G, 62B)와 공통으로 형성되어 있어도 좋고, 발광소자별로 형성되어 있어도 좋다. 또한, 제1 전극(64)과 제2 전극(68)이 이물에 의해 단락되는 것을 방지하기 위하여, 제1 전극(64) 사이에 절연층(69)이 설치되어 있다. 또한, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(70)이 설치되어 있다.
도 5(b)에서는 정공수송층(65)이나 전자 수송층(67)이 하나의 층으로 도시되었으나, 유기 EL 표시 소자의 구조에 따라서, 정공블록층이나 전자블록층을 포함하는 복수의 층으로 형성될 수도 있다. 또한, 제1 전극(64)과 정공수송층(65) 사이에는 제1 전극(64)으로부터 정공수송층(65)으로의 정공의 주입이 원활하게 이루어지도록 할 수 있는 에너지밴드 구조를 가지는 정공주입층을 형성할 수도 있다. 마찬가지로, 제2 전극(68)과 전자수송층(67) 사이에도 전자주입층이 형성될 수 있다.
다음으로, 유기 EL 표시장치의 제조 방법의 예에 대하여 구체적으로 설명한다.
우선, 유기 EL 표시장치를 구동하기 위한 회로(미도시) 및 제1 전극(64)이 형성된 기판(63)을 준비한다.
제1 전극(64)이 형성된 기판(63) 위에 아크릴 수지를 스핀 코트로 형성하고, 아크릴 수지를 리소그래피 법에 의해 제1 전극(64)이 형성된 부분에 개구가 형성되도록 패터닝하여 절연층(69)을 형성한다. 이 개구부가 발광소자가 실제로 발광하는 발광 영역에 상당한다.
절연층(69)이 패터닝된 기판(63)을 제1 유기재료 성막 장치에 반입하여 기판 지지 유닛(22) 및/또는 정전척(24)으로 기판을 보유지지하고, 정공 수송층(65)을 표시 영역의 제1 전극(64) 위에 공통층으로서 성막한다. 정공 수송층(65)은 진공 증착에 의해 성막된다. 실제로는 정공 수송층(65)은 표시 영역(61)보다 큰 사이즈로 형성되기 때문에, 고정밀의 마스크는 필요치 않다.
다음으로, 정공 수송층(65)까지 형성된 기판(63)을 제2 유기재료 성막 장치에 반입하고, 기판 지지 유닛(22) 및 정전척(24)으로 보유지지한다. 기판과 마스크의 얼라인먼트를 행하고, 기판을 마스크 상에 재치하여, 기판(63)의 적색을 발하는 소자를 배치하는 부분에 적색을 발하는 발광층(66R)을 성막한다.
본 발명에 의하면, 기판 지지 유닛 승강구동기구(31) 및 마스크 지지 유닛승강구동기구(33)를 얼라인먼트 스테이지(30)에 탑재하고, 정전척 승강구동기구(32)는 얼라인먼트 스테이지(30)로부터 분리하여 독립적으로 설치함으로써, 정전척(24), 기판 지지 유닛(22), 마스크 지지 유닛(23) 간의 상대적 위치를 효과적으로 조정할 수 있으며, 이에 의해 성막불량을 효과적으로 저감시킬 수 있다.
발광층(66R)의 성막과 마찬가지로, 제3 유기재료 성막 장치에 의해 녹색을 발하는 발광층(66G)을 성막하고, 나아가 제4 유기재료 성막 장치에 의해 청색을 발하는 발광층(66B)을 성막한다. 발광층(66R, 66G, 66B)의 성막이 완료된 후, 제5 유기재료 성막 장치에 의해 표시 영역(61)의 전체에 전자 수송층(67)을 성막한다. 전자 수송층(67)은 3 색의 발광층(66R, 66G, 66B)에 공통의 층으로서 형성된다.
전자 수송층(67)까지 형성된 기판을 금속성 증착재료 성막 장치로 이동시켜 제2 전극(68)을 성막한다.
그 후 플라스마 CVD 장치로 이동시켜 보호층(70)을 성막하여, 유기 EL 표시장치(60)를 완성한다.
절연층(69)이 패터닝 된 기판(63)을 성막 장치로 반입하고 나서부터 보호층(70)의 성막이 완료될 때까지는, 수분이나 산소를 포함하는 분위기에 노출되면 유기 EL 재료로 이루어진 발광층이 수분이나 산소에 의해 열화될 우려가 있다. 따라서, 본 예에 있어서, 성막 장치 간의 기판의 반입, 반출은 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기 하에서 행하여진다.
상기 실시예는 본 발명의 일 예를 나타낸 것으로, 본 발명은 상기 실시예의 구성에 한정되지 않으며, 그 기술사상의 범위내에서 적절히 변형하여도 된다.
21: 진공용기
22: 기판 지지 유닛
23: 마스크 지지 유닛
24: 정전척
30: 얼라인먼트 스테이지
31: 기판 지지 유닛 승강구동기구
32: 정전척 승강구동기구
33: 마스크 지지 유닛 승강구동기구

Claims (18)

  1. 기판을 지지하기 위한 기판 지지 유닛과,
    마스크를 지지하기 위한 마스크 지지 유닛과,
    상기 기판 및 상기 기판을 사이에 두고 상기 마스크를 흡착하기 위한 정전척을 포함하며,
    상기 기판 지지 유닛과 상기 마스크 지지 유닛은, 상기 정전척에 대하여, 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2 방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전가능한 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판 지지 유닛과 상기 마스크 지지 유닛을 상기 정전척에 대하여 상기 제1 방향, 상기 제2 방향, 및 상기 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시키기 위한 얼라인먼트 스테이지를 더 포함하며,
    상기 정전척은 상기 얼라인먼트 스테이지로부터 분리되어 독립적으로 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 정전척은 상기 제1 방향, 상기 제 2방향 및 상기 회전 방향으로 고정되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  4. 제3항에 있어서,　진공용기를 더 포함하며,
    상기 정전척은 상기 진공용기에 대하여 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 상기 회전 방향으로 고정되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 기판 지지 유닛을 상기 제3 방향으로 이동시키기 위한 기판 지지 유닛 구동기구를 더 포함하고,
    상기 기판 지지 유닛 구동기구는 상기 얼라인먼트 스테이지상에 탑재되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 마스크 지지 유닛을 상기 제3 방향으로 이동시키기 위한 마스크 지지 유닛 구동기구를 더 포함하고,
    상기 마스크 지지 유닛 구동기구는 상기 얼라인먼트 스테이지상에 탑재되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  7. 제2항에 있어서, 상기 정전척을 상기 제3 방향으로 이동시키기 위한 정전척 구동기구를 더 포함하고,
    상기 정전척 구동기구는, 상기 얼라인먼트 스테이지로부터 분리되어 독립적으로 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 정전척 구동기구는 상기 제1 방향, 상기 제2 방향, 및 상기 회전 방향으로 고정되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    진공용기를 더 포함하며,
    상기 정전척 구동기구는 상기 진공용기에 대하여 상기 제1 방향, 상기 제2 방향, 및 상기 회전 방향으로 고정되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 장치.
  10. 마스크를 통하여 기판에 증착재료를 성막하기 위한 성막장치로서,
    제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 얼라인먼트 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 성막장치.
  11. 기판을 기판 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와,
    마스크를 마스크 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와,
    상기 기판과 상기 마스크 중 적어도 하나를 정전척에 대하여 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 프리얼라인먼트 단계와,
    상기 기판과 상기 마스크의 상대적인 위치를 조정하는 얼라인먼트 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 프리얼라인먼트 단계는, 상기 기판을 상기 정전척에 대하여 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 상기 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 프리얼라인먼트 단계 이후에, 상기 기판을 상기 정전척에 흡착시키는 단계를 더 포함하고,
    상기 얼라인먼트 단계는, 상기 마스크를 상기 정전척에 흡착된 상기 기판에 대하여, 상기 제1 방향, 상기 제2 방향, 및 상기 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 프리얼라인먼트 단계는, 상기 마스크를 상기 정전척에 대하여 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 상기 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 얼라인먼트 단계는, 상기 마스크를 상기 기판에 대하여 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2 방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
  16. 마스크를 통하여 기판에 증착재료를 성막하기 위한 성막방법으로서,
    마스크를 마스크 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와,
    기판을 기판 지지 유닛에 의해 지지하는 단계와,
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 상기 기판을 정전척에 대해 제1 방향, 제1 방향과 교차하는 제2 방향, 및 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향을 축으로 한 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시킴으로써 위치조정하는 프리얼라인먼트 단계와,
    위치조정된 상기 기판을 상기 정전척에 흡착시키는 단계와,
    상기 마스크 지지 유닛에 지지된 상기 마스크를 상기 정전척에 흡착된 상기 기판에 대하여 위치조정하는 얼라인먼트 단계와,
    위치조정된 상기 마스크를 상기 정전척에 상기 기판을 사이에 두고 흡착시키는 단계와,
    상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 증착재료를 성막하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 성막방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 얼라인먼트 단계에서는, 상기 마스크 지지 유닛에 지지된 상기 마스크를 상기 정전척에 흡착된 상기 기판에 대하여 상기 1 방향, 상기 제2 방향, 및 상기 회전 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동 또는 회전시키는 것을 특징으로 하는 성막방법.
  18. 제16항 또는 제17항의 성막방법을 사용하여 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조방법.
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