TWI274745B - Closed cassette and method for heat treating glass sheets - Google Patents

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TWI274745B TW094106373A TW94106373A TWI274745B TW I274745 B TWI274745 B TW I274745B TW 094106373 A TW094106373 A TW 094106373A TW 94106373 A TW94106373 A TW 94106373A TW I274745 B TWI274745 B TW I274745B
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Description

1274745 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於密閉匣盒以及使用密閉匣盒以均勻的方 式以及在乾淨環境中加熱處理(密實)一片或多片玻璃片。 【先前技#f】 製造玻璃片（例如液晶顯示器玻璃片）通常對玻璃片熱 處理將玻璃片預先收縮使得玻璃片在其客戶進行處理時並 不會使玻璃片收縮或非常小地收縮。目前存在數種製造商 使用來熱處理玻璃片之系統/處理過程。三種該系統^處理 過程=及相關問題將參考圖1-3簡單地說明於底下。 第一，製造商能夠使用圖1所顯示之再循環空氣 進行熱處理。涵環_細循 =二102於一個或多個大型鋼製蒙浮爐104四週，在本範例中 在其中顯示出兩個蒙焊爐1〇4，其中一個位於頂部支 ，位於底部支架⑽處。每―蒙_ 男於备—*加二的E金110,其中五個空的昆盒能狗看 空的，片視圖中。每-H各110¾ - 士二片玻璃片112,在本範例中其中每一空的 玻璃片112。使用蒙浮爐1咖空· 該系轉里過;:主。關於 破M如圖2所示直接對流供箱200對 高效率顆粒(ΗΕϊί^ίΐΐ^箱200循環由一個或多個 == _。切3_:=其在二=空直=4 1274745 。直接斜、、六扭-:°看見於底部支架210上，其顯示於圖2中 卻ifίίΐ使用猶過空氣202以均勾地加熱及冷 過遽謂侧在於_ 熱至高達靴; ϋ:==:2辦 而，、wf理過程目前可以或無法使用於業界。 $ 二處 個空盒3〇2四週，聰盒支撐多片玻^ m多 片，叫在該範例中巍^ 的匣益302,其中只有五個空的匠各3 工 支架猶中，編· 302能夠被看見於底部支竿3〇8中工、I 烘箱無法使料力祕熱&===線 玻3綱。關於該系統/處 片謝。人彳玻璃 ，，該：二來程 處理過程的絲，其触纳财細及 j地熱處理多片玻翻達成。該需求以及1 由本發明觸流她轉盒，方法及_提#猎 1274745 【發明内容】 人本發明包含與對流相匹配密閉匣盒以及一種使用密閉 £盒以均勻的方式及在乾淨環境中熱處理-片或多片i璃 =^方法。在優先實施例中，密閉匣盒包含多個密閉區段， 八猎由按裝結構物支撐，其中存在敞開通道於每一對支， ^區段間的主要表面之間。以及，每一密閉區段設計為 古疋及支撐多片玻璃片，其中在每一對支撐玻璃片的主要 表面之間存在-個空間。在操作時，密閉匣盒放置於烘箱 内(例如整批紐)使得熱的/冷的空氣能夠流過每一區段 之主要表面以及均勻地加熱/冷卻密閉的玻璃片。 【實施方式】 參考圖4-7,其顯示出本發明對流相匹配密閉匿盒侧 及方法700以使用窯爐5〇〇熱處理位於密閉匣盒4〇〇内之玻 ^片402。為了清楚說明，首先對® 4A-4D詳細說明密閉匣 盒4〇γ之結構以及再對圖5-7詳細說明黨爐5〇〇及方法了⑻。 芩考圖4Α至4D，其顯示出本發明密閉匣盒不同的圖 式，該密閉Ε盒使用來容納及支撐多片玻璃片4〇2。密閉g 盒棚包含按裝結構404以及多個密閉區段4〇6(顯示出四個 )。按裝結構404 &含頂部支架她及底部支架4_。頂部 支架404a能夠由單件材料(例如不編合金)製造出以及成 形為長方形。可滅變化，頂部支架她能夠由四件材料（ 例如不鏽鋼合金)製造出，其彼此連結以形成長方形。底部 支架404b之形狀與頂部支架4〇4a相同。 ^使用按裝結構以固定及支撐預先決定數目之各別密閉 ，段406(顯示出四個）。如圖所示，頂部支架4〇乜位於支撐 密閉區段406之頂部部份。以及，底部支架獅位於支稽密 ，區段406之底部部份。密閉區段4〇6由按裝結構4〇4所支 撐，其方式為存在敞開通道4〇8(其中顯示三個)位於每一對 支撐㈣區段406的主要表面412之間。人們了賴安裝結構 第7頁 (§) 1274745 404能夠具有任何型式之構造，其長度能夠固定以及支撐多 個密閉區段406,其方式為存在敞開通道408位於支撐密閉 區段406的主要表面412之間。 每一密閉區段406設計為能夠固定及支撐一片或多片 玻璃片402(通常3-5片玻璃片402)，其方式為在每一對支撑 玻璃片402的主要表面412之間存在一個空間413。在一項 實施例中，密閉區段406具有底部416,四個侧邊壁板418a， 41813,418(：及418(1，敞開頂部420(參閱圖4人及40)。敞開頂 部420由可移動蓋子421覆蓋(參閱圖4D)。四個侧邊壁板' 418a，418b，418c，及418d由底部416及敞開頂部420延伸出 以界定出一個容納玻璃片402之内部空間。
為了支撐玻璃片402,密閉區段4〇6具有可調整水平支 撐條424(T支撐條424)，其支撐玻璃片402之底部。如圖 4D所不，水平支撐條424能夠向上或向下移動於密閉區段 406内，其決定於玻璃片402之尺寸。除此，密閉區段4〇6使 用可調整垂直支撐條428(圖4D中並未顯示出）以支撐玻璃 片402之部份主要表面414。如圖4C所示垂直支樓條428能 夠在f_權内向左或向右移動，其決定於i离 Γίί?部份406以及特別是可調整支撐條424及 二】l:小的"破璃片402能夠為1500刪(寬 度)xl棚咖(鬲度)x0. 7咖(厚度)(參閱圖4C及4D) 〇 見 茶考圖5,其為闕使縣加熱及冷 、* 配密舰盒侧(㈣四片）域翻 的斷面側姻。職编雜隸 過黨爐_時將力二=: 二滾輪用任何—種方式包含輸送帶 爾輪，私動技小車或輸送車(例如)傳送通過黨爐 1274745 500。 f呆作中，密_盒棚朝向紐5〇〇以及移動通過窒 爐500之方式使得流動未過濾之空氣能夠均句地加 卻密閉區段406之线表面412，其因而均句地加敎及^ 谷納於密閉區段406狀玻璃# 402的主要表面虹4 ^ ϊίϋ玻璃片402保持於乾淨環境中，同時藉由流過密閉’ =又概之，要表面似的未過毅氣均自地加熱及冷卻。 人們了解在每-密閉區段權巾壁祕度以及在每一 區^權内玻翻搬之數目保持相當小 ‘
溫度梯度減為最小。 々Ζ門之 一在=爐500上方之範例性溫度分佈被顯示於圖5中，其 ^循環於模、组5〇2内以加熱及冷卻密閉£盒4〇〇之未過遽 工氣的不同溫度。例如，最先十個模組5〇2能夠使用來均… ，加熱移動之密閉g盒棚溫度由犹至財此。緊接八個 模組502使用來保持移動性密閉E盒400溫度為640°C。緊 接土四個模組5〇2使用來以相當緩慢速率均自地冷卻移動 =密閉E盒400由溫度6貌下降至棚。C。以及，緊接八個 极組502使用來以相當快速速率均勻地冷卻移動性密閉匣 =〇〇由溫度40(TC下降至2(TC。當然，f要許多不同的加 熱/冷卻處理循環，其能夠使用來處理玻璃片402,其決定於 不同的因例如··（1)在密閉區段406中玻璃片之數目及尺 ^，⑵在您閉區段4〇6中壁板之厚度;⑶使用來製造密閉 區段406之材料種類;（4)密閉匣盒4〇〇 速度⑹在窯爐500中模組502之數目及種類/』51](}之 如圖5_所示，窯爐500具有加熱模組502a或冷卻模组5〇2b 。圖6A顯示出能夠加从窯爐5〇〇狀範 组 之斷，細。加熱馳―包含義未過濾a， ^盾環風扇6G2a，其藉由-個或多個力0熱|| 6〇6a(顯示出兩 個)加熱以及藉由空氣分散板603a導引於密閉匣盒4〇〇四週 第9 頁 1274745 。在加熱模組502a中，熱的未過濾空氣6〇4a流過密閉匣盒 400中猎閉區段406間之敞開通道408以均勻地力口熱密閉區 段406之主要表面，其再均勻地加熱容納於密閉區段概内 之玻璃片402(參閱圖4A-4D)。再次地，玻璃片402保持於乾 淨環境中，同時其均勻地由流過密閉區段4〇6主要表面412 之熱的未過濾空氣604a加熱。 圖6B顯示出能夠使用於窯爐5〇〇中範例性模組㈤沈之 斷=侧視圖。冷卻模組5〇2b包含驅動未過濾空氣6〇4b之再 循環風扇602b，該空氣藉由一個或多個冷卻風扇6〇6b(顯示 兩個)冷卻以及由空氣分散板6〇31)導引於密閉匣盒4〇〇四週 ^如圖所示，冷卻模組502b亦具有一個或多個排氣管6〇8b( 並未顯示出），其使用來促使未過濾空氣_b再循環及再冷 卻。在冷卻模組5〇2b中，冷的未過濾空氣6〇4b流過密閉匣 盒棚中密閉區段406間之敞開通道4〇8以均勻地冷卻密閉 區段406之主要表面412,其再均勻地冷卻容納於密閉區段 406内之玻璃片402(參閱圖4A-4D)。再次地，玻璃片402保 持於乾淨環境中，同時其均勻地由流過密閉區段4〇6主要表 面412之冷的未過濾空氣⑼必加以冷卻。 參考圖7,其顯示出本發明使用密閉匣盒4〇〇以熱處理 玻璃片402之優先方法7〇〇主要步驟的流程圖。開始步驟 702為利用機裔人或人工放置一片或多片玻璃#搬於密閉 ^盒400内。同樣地，密閉匣盒400包含一個或多個密閉區 段406,其由按裝結構4〇4所支撐，其中存在敞開通道於每一 =支撐閉合區段406間之主要表面412間（參閱圖4A)。每一 密閉區，4〇6設計為固定以及支撐一片或多片玻璃片4〇2， 其中在每一對支撐玻璃片402主要表面414之間存在一個空 間參閱圖4A)。在步驟7〇4時，密閉匣盒4〇〇放置於窯爐 5〇〇(^閱圖5)中。而後在步驟706時，密閉匣盒4〇〇再移動 經過模組，在該過程中熱的/冷的未過濾空氣604a及604b流 第10 頁 1274745 過每一區段406之主要表面412以均勻地加熱/冷卻密閉的 玻璃片402(參閱圖5, 6A及6B)。如上述所說明，密閉g盒 =〇能夠使用任何一種方式包含輸送帶，驅動滚輪，移動^ 架，小車或輸送車(例如)傳送通過窯爐500。以及，密閉E 盒400朝向窯爐500以及移動通過窯爐5〇〇，其方式使得流動 熱的/冷的未過濾之空氣能夠均勻地加熱及冷卻密閉區段 406之主要表面412,其因而均勻地加熱及冷卻容納於密閉
内之玻璃片402。在該情況下，玻璃片保持於乾 淨環，中，同時藉由流過密閉區段4〇6之主要表面412未過 遽空氣均勻地加熱/冷卻。在每一密閉區段4〇6中壁板厚度 以及在每一密閉區段4〇6内玻璃片4〇2之數目保持為小的^吏 玻璃片402内之溫度梯度減為最小。 人^ 了解密閉£盒棚亦能夠在整批窯爐(並未顯示出 )、中。在该情況下，密閉g盒棚能夠放置於批次熏爐侧中 f 其巾保縣靜止的，_麵/冷的流過i閉區 丰又406之主要表面412。 下列為本發明額外的特性，優點及/或用途。 次紐外,密舰盒 -編人 各種供箱中。例如，密閉匣盒· :圖1口)、中。或々部於批次烘箱或傳統再循環空氣烘箱(參 U·所加熱模組502a及冷卻模組·具有未過濟空 耽604a及604b向下流經密閉£盒4〇 且^ ==;=向由左至右移： 玻㈣片—賴轉齡處理触觀丨，該處理過 1274745 程為製造1曰曰顯示器<XCD)中所使贼璃#之技術。融合 處理過程說明於美國第3338696及36826〇9號專利中，該專 利之說明在此加入作為參考。 、，雖然本發明一項實施例已顯示於附圖中以及說明於先 前之詳細說明中，人們了解本發明並不受限於所揭示實施 例中，然而能夠作許多再組合，改變以及替代而並不會脫離 下列申請專利範圍所揭示之本發明精神及範圍。 【圖式簡單說明】 第一圖（先前技術)為模組圖，其顯示出傳統之系統，其 φ 包含再循環空氣烘箱，蒙烊爐以及空的匣盒，其目前使用來 熱處理多片玻璃片。 ^第二圖（先前技彳标)為模組圖，其顯示出另外一個傳統 系統，其包含直接對流供箱，册PA過濾器以及空的匣盒，苴 目前使用來熱處理多片玻璃片。 〃 ’ ，二圖（先前技彳衧)為模組圖，其仍然顯示出另外一個 • 傳統系統，其包含輻射線烘箱以及空的E盒，其目前使用來 熱處理多片玻璃片。 φ 帛五圖傳統窯爐之斷面側視圖，其能夠使用爽減丨、〈
第六圖A及β為加熱模組(圖6A)及冷卻模 面侧視圖，其使用於圖5所示之傳統窯爐中。 第四圖A至D顯示出本發明對流相匹配密閉厘各 向之^示，聰盒使聽容納多片玻翻。 凰州方 組(圖6B)之斷 ‘4D所示密 第七圖為流程圖，其顯示出本發明使用圖从— 閉匣盒以熱處理玻璃片之方法。 附圖元件數字符號說明： 民106;底部 氣202;過 烘箱100，·空氣102;蒙烊爐104;頂部支架 支架108;®盒no;玻璃片112，·烘箱2〇〇;空挪 1274745 濾器203;匣盒204;玻璃片206;頂部支架208;底部支架 210;烘箱300;匣盒3〇2;玻璃片304;頂部支架306;底部 支架308;密閉匣盒4〇〇;玻璃片402;按裝結構404;頂部 支架404a;底部支架404b;密閉區段406;通道408;主要 表面412;空間413;玻璃片主要表面414;底部416;側邊 壁板418a，418b，418c，418d;敞開頂部420;水平支撐條 424;垂直支撐條428;窯爐500;模組502;加熱模組502a ;冷卻模組502b;再循環風扇602a，602b;空氣分散板 603a，603b;未過濾空氣604a，604b;加熱器606a;冷卻風 ▲ 扇 606b 〇 第13 頁

Claims (1)

1274745 十、申請專利範圍： 1· 一種密閉匣盒，其包含： 按裝結構； -組多個密閉區段，其由按裝結構所支撐，其暢在一個 敞開通道位於每-對被支撐之密閉區段的主要表面之間； 母饴閉區段设計為固定及支撐多片玻璃片，其中 一對被支樓之玻璃片主要表面之間存在一個空’間'。 1項之細，射每—密閉區段
具有可移動之盖子。 3目=康申請專利範圍第！項之密舰盒，其中每一密閉區段 多個可調整水平支撐條位於其中以支撐一組多個 玻璃片底部。 4=據申請專利細第！項之密舰盒，其中每___區段 玻整垂直支撐條位於其中以分離-組多個 5· —種對流相匹配之密閉匣盒，其包含： 按裝結構； 敞;其由按裝結構所支撐，其中存在-個 ，對被支撐之密閉區段的主—面之間； -計細定及切多以翻，其中在每 ^要表面之略在—個空間;以及 條境巾’啊當錄結觀密閉區段 ΪΪί 猎由空氣流過密閉區段之主要表面進行加熱 6.，據申請專利細第5項之對流桃配密盒豆中每 有壁板使得支撐其中玻璃片内之溫 ==最小，喔片藉由空氣移動於烘箱内進行 1274745 7·依據中明專利範圍帛5項之對流相匹配射舰各 -密閉區段支撐予頁先決定數目之玻璃片，使得支撐母 璃片内之溫度梯度減為最小，同時玻璃片藉由 烘箱内進行加献冷卻。 職 8·依據申請專利範圍帛5項之對流相匹配密醜各 > 一密閉區段具有可移動之蓋子。 凰，，、肀母 9·依據申請專利範關5項之對流相匹配密_盒 一密閉區段具有一組多個可調整水平支撐條=’中以、 撐一組多片玻璃片之底部。 ，、甲以支
10·依據申請專利範圍帛5項之對流相匹配密閉£盒 饴閉區#又具有一組多個可調整垂直支標條位於其中以八 離一組多個玻璃片之主要表面。 ’、 刀 11.依據申請專利範圍第5項之對流相匹配密閉，其 每-密閉區段利用惰性氣體清除以有助於防止每 段406内側壁板之氧化。 ^ 12·依據申請專利範圍第5項之對流相匹配密閉匣盒豆 空氣為未過濾之空氣。 13. -種對多片玻璃肢行熱處理之方法，财法包含下列 步驟. 放置玻璃片於密閉匣盒内，其中密閉匣盒包含· 按裝結構，· I ’ 一組多個密閉區段，其由按裝結構所支橡其中存在一 個敞開通道位於每一對被支撐之密閉區段的主要表面之間 ;以及 每一密閉區段設計為固定及支撐多片玻璃片，其中在 每一對被支撐之玻璃片主要表面之間存在一個空間^ 放置密閉匣盒於烘箱内；以及 操作烘相使得熱空氣流過每一密閉區段之主要表面以加 熱玻璃片。 第 15 頁 1274745 據申睛專利範圍第13項之方法，其中更進一步包 =V驟:％倾箱使得冷的空氣流過每—密駆段之 表面以冷卻玻璃片。 文 請翻細第13項之綠，其巾每―_區段呈 ΪρΓΛ的壁板使得支撐其中玻璃片内之溫度梯度減為最、 3二璃片藉由空氣移動於烘箱内進行加熱及冷卻。 利範圍第13項之方法，其中每一密閉區段支 二'二，目之玻翻，使得支撐其巾玻翻内之溫度 為取小，同時玻璃片藉由空氣移動於供箱内進行加 熱及冷名卩。 17.J1 種對多片玻璃片進行熱處理之系統，該系統包含： 供相； 對流相匹配密閉匣盒，其包含： 按裝結構； 一組多個密閉區段，其由按裝結構所支撐，其中存在_ 個敞開通道位於每一對被支撐之密閉區段的主要表面之 ;以及 —每-密閉區段設計為固定及支擇多片玻璃片，其中在 母-對被支撐的_肚要表面之間存在—個空間. 放置密閉H盒於烘箱内；以及 ’ 其中玻璃片保持於乾淨環境中，同時當按襄結構及密閉 =位於烘箱⑽触空驗過_區段之主要表面 加熱及冷卻。 J =依據申請專利範圍第17項之系統，其中每 有相^的壁板撐其中玻璃片内之溫度梯度減為最 小，同衿玻璃片耩由工祕動於烘箱内進行加熱及冷卻。 19·依據申請專利範圍第17項之车絲盆由立a叫广< 預先決趙目之玻狀贿^其;支 梯度減為最小，_麟㈣由空氣飾於烘_進行加 第16 頁 1274745 熱及冷卻。 20.依據申請專利範圍第17項之系統，其中空氣為未過濾之 空氣。
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