1269354 九、發明說明： 【發明所屬^技術領域】 相互參考之相關申請案 此本申凊案係依據並請求先前之曰本專利No. 2004-221030 申請案之優先權，申請於西元200恃7月29日，該案之全部内 谷睛併入蒼考。 本叙明係有一種用以形成例如數個凸肋之一凸起圖案 在一具有數個凸肋（擋體）且用於例如一電漿顯示面板(pDp) 10 之基板上之技術。 L· mr 以需要用到具有一凸起圖案之一基板之一 PDp作為實 例來說明。PDP係一種自發光顯示面板，其設有一對基板(一 般為玻璃基板)相互面對，並在兩基板之間具有一小空間， 15並藉由將该專基板周圍密封而產生一放電空間。 通常於一 PDP内，會以重新加工之方式在一基板上形 成有具有150-150/zm高度之凸肋（凸體）而可分隔該放電空 間。例如，在藉由一燐光劑而顯示以適合表現彩色之一種表 面注入PDP之前提下，具有當該pDp直接被觀視時可被視 20為條紋圖案之數個凸肋係會形成在基板上，使沿多數地址電 極線之間具有相同空間。藉由此等凸肋，可避免注入干擾與 色彩之相互干擾。 就像製造具有上述構造之一 PDP基板之一般製程，該 地址電極圖案係會被形成於該基板上，且該等凸肋係對齊該 1269354 等電極圖案而成型。已經有被建議且用在形成該等凸肋上之 數種方L典型之方法❹騎财法、切方法、敌 入方法、顯影方法及轉寫方法，其中，該 ^ 最低的成本且具有高期望值。 '”、、可此具有 寫方法利用可形成該等凸肋之具有數個凹槽之轉 寫用凹刻版，係—種形成該等凸肋之方法或—種依序在一基 板上形成數個凸肋與_介界層之方法。即—製程 真人該轉寫肋刻版之表面，接著所填人之固化後模 ，材料係被轉寫至該基板上，以形成該等凸肋與該介電層。 ^如:日本專利N0.33则(專利範圍）、日本專利申請案 ^么告Η8·273537(專利範圍）、日本專射請案暫緩公告 Νο·2001191345(專利範圍)）。 C ;务明内3 合而將將模製材料填入該凹刻版之一問題為多數氣泡乃 二進去轉寫用凹職上絲供簡製材料填人之該等凹槽 雜製材料無法填人部分凹槽内，而使轉寫完成 。等凸肋(未充滿部位)上產生缺陷。此種問題係由於該 馬製材料被填人該等凹槽内時，氣泡進入而產生。 15 ^假使轉寫肋刻版之凹案為直線狀，且該模製材料 =在注入方向上延伸，或者，假使該等氣泡之脫離方向係預 =為單-方向’例如：進行擠壓時，接著，藉由相繼填入該 衣材料而將〇亥等氣泡相繼由轉寫用凹刻版邊緣推出，藉以 ^留氣泡之可能性降低、然而，在該該等凹槽相互垂直之 ⑴k下’即為-種格狀圖案之前提下，已進人之該等氣泡則 20 1269354 在交又處無法麟，且會經常氣泡缺陷而停滞。一種可 能方法係藉由數次反覆擠壓來將氣泡擠出，㈣=效率。再 者除非該轉寫用凹刻版可輕易地變形，例如—種雜樹脂， 否則該轉寫用凹刻版在本身擠壓時將會損壞。 5 在此前提下，在將該模製材料填人轉寫用凹刻版之後’ $常係使用一種透過將周圍空氣排除而用以釋放氣泡的真 空抽取之方式。然而此種方法是很沒效率的。 -種用來將該模製材料填人用以轉寫之該凹刻版，且利 用該模製材料之毛細作用而可不包括内含之氣泡的方法，即 10 -種不使用真空抽取的方式之方法，已經被提出（見於τ丄 Chang ”Society f〇r Inf〇rmati〇n Dispia//，〇3 usa，資訊顯 示協會發行，则，第1011頁）。此種方法利用以該模製材料 將該轉寫用凹刻版之凹槽之壁面弄濕之縣，但對此而言， 必須考慮的是，供應給轉寫用凹刻版之模製材料必需特別 15小，且在王業水平上尚未發展來用來控制前者之-種方法。 同％在此方法巾’填人該模製材料使該模製材料會夹設 在該基^與轉寫用凹刻版之間，如此在PDP所需之該介電 層Μ«亥等凸肋會依序被形成的前提下將使準確控制該介電 層之薄膜厚度成為特別困難。 Μ S之目的係提供一種用來解決以上問題之新穎及 q可及製造_種具有凸起随之基板。本發明 之另目的與優點將會藉由以下之說明内容而明瞭。 依據本無明之部分内容，將提供一種模製材料之轉寫方 法/、匕3將板製材料糊體填入一填入用凹刻版之該等凹部 1269354 内’將轉寫用凹刻版部分地接觸形成在一填入用凹刻版上之各 凹才曰之預疋圖案；將該模製材料填入轉寫用凹刻版之該等凹槽 内，及，將該模製材料由該轉寫用凹刻板轉寫至一基板而成為凸 體。 較佳為藉由熱量在轉寫用凹刻版上之模製材料上進行固化 例如uv (I外線）射線或將熱量與UV (紫外線）射線 、、、。合’在该模製材料被填入轉寫用凹刻版之該等凹槽内之後，假 f需要，附著在轉凹槽以外部位之難材料將會被移除，且接 者該模製材料之-預定厚度係會被實施至轉寫用凹刻版之表面 上填入用凹刻版係板狀或者壓印滾筒，且該轉寫用凹刻版為壓 P浪筒之外型或者為可_曲；該填人用凹刻版之凹部之圖案與轉 寫用凹刻版之該等凹槽之圖案具有彼此對應配合之位置關係；沿 該轉寫用凹刻版之凹槽寬度方向上，該填入用凹刻版之凹部長度 ，大於該轉寫用_版之凹槽寬度，或者，該轉寫用凹刻版之該 15等凹槽之洙度係比填入用凹刻版之凹部之深度更深，或者，沿該 轉寫用凹刻版之凹槽寬度方向上，該填人用凹刻版之凹部長度係 大於轉寫用凹刻版之凹槽寬度，及該轉寫用凹刻版之該等凹槽之 深度係大於填寫用凹刻版之凹部之深度；填入用凹刻版之凹部之 圖案係由多數凸點所組成；轉寫用凹刻版之該等凹槽圖案為條紋 2〇圖案；該轉寫用凹刻版之凹槽圖案係一種波浪狀條紋圖案；轉寫 用凹刻版之凹部之圖案為—種格狀圖案；該凸起圖案係與一均勾 平面部位連接；該&部之高度係在150至25G，之範圍且凸部 之寬度則是在50至120_之範圍；該均勻平面之厚度係在1〇 至30//772之範圍。 8 1269354 依據本發明之其他態樣，提供一種以藉由以上製造方法所 製造之基板’與使用此種具有數凸肋之基板作為基板之一平面顯 示面板及一平面顯示裝置。 依據發明上述態樣，提供一種用以製造一具有凸起圖案之 5基板之新穎及高度可靠的技術。該起因於在製造該凸起圖案的過 程中含有該等氣泡之結構性影響可被相當地除去，且可改善該產 品與該產品產量。當該離線步驟，例如真空抽取，為非必要時， 該製造效率將會被改善且該製造步驟可以簡化。 依據本發明之還有其他態樣，提供一種模製材料轉寫裝 10置，包含一或多個壓印滾筒(或一印刷滾筒）、一填入用凹刻版、 一轉寫用凹刻版、一用以使該填入用凹刻版與該轉寫用凹刻版部 分地接觸之轉寫用凹刻版接觸機構、一模製材料固化單元，且假 使需要，更包含一針對在轉寫用凹刻版表面之模製材料膜厚控制 機構，以及提供一種基板製造裝置，包含一或多個壓印滾筒(或 15 一印刷滾筒）、-填入用凹刻版、一基板、一用以使該填入用凹 刻版與該轉寫用凹刻版部分地接觸之轉寫用凹刻版接觸機構、一 用以使该轉寫用凹刻版與該基板接觸之基板接觸機構、一模製材 料固化單兀，且假使需要，更包含一針對在轉寫用凹刻版表面之 模製材料膜厚控制機構。 0 依據本發明以上之恶樣，提供一種適合實施以上之模製材 料轉寫方法與基板製造方法之裝置。 依據本發明，提供一種新穎且高度可靠之用以製造該具有 凸起圖案之基板的技術。除此之外，利用本發明具有一效果，即 是可在沒有被允許之材料可以配合除了填入用凹刻版之凹部或 1269354 轉寫用凹刻版之凹部外轉寫之下，可轉寫一材料。 圖式簡單說明 第1圖係說明一 DPD之實例之一示意分解圖； 第2圖係說明一 DPD之實例之一示意側剖面視圖； 5 第3圖係在該背板上依序形成數個位址電極、一介電層、 數凸肋、與一峨光層之一流程圖； 第4圖係說明依據本發明之該圖案之一實例之一示意圖； 第5圖係說明依據本發明之該圖案之另一實例之一示意圖； 第6圖係說明依據本發明之該圖案之再一實例之一示意圖； 10 第7圖係一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋圖 案與一轉寫用凹刻版之該等凹槽之條紋圖案重疊時之一狀態； 弟8圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與一轉寫用凹刻版之該等凹槽之條紋圖案重疊時之一狀態； 第9圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 15圖案與一轉寫用凹刻版之該等凹槽之條紋圖案重疊時之一狀態； 弟10圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與一轉寫用凹刻版之該等凹槽之條紋圖案重疊時之一狀態； 弟11圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與一轉寫用凹刻版之該等凹槽之條紋圖案重疊時之一狀態； 20 第12圖係說明填入用凹刻版之凹部之一示意平面圖； 第13圖係第12圖之側剖面視圖； 第14圖係說明轉寫用凹刻版之該等凹槽之一示意平面圖； 第15圖係第14圖之側剖面視圖； 第16圖係一示意側剖面視圖，說明使轉寫用凹刻版之各凹 1269354 槽與填入用凹刻版之凹部相配合之狀態； 第17圖係一示意圖說明一模製材料係被注入該填入用凹刻 版之凹部之一狀態； 第18圖係一示意圖，說明當該模製材料係被填入轉寫用凹 5刻版之該等凹槽内，一模製材料流入之一狀態，· 第19圖係一示意圖，說明將在一壓印滾筒之外觀之一轉寫 用凹刻版係與一壓印滾筒結合且一填入用凹刻版係被設置於一 平台上之一狀態； 第20圖係一示意圖，說明轉寫用凹刻版係被彎曲成一圓柱 10形之表面係被與一壓印滾筒結合之一狀態； 第21圖係一示意圖，說明一模製材料係被由一轉寫用凹刻 版轉寫至一基板上之一狀態； 第22圖係一流程圖，說明依據本發明來注入與轉寫該模製 材料； 15 第23A圖係一示意圖，說明將該模製材料注入該填入用凹 刻版之狀態； 第23B圖係一示意圖，說明該轉寫用凹刻版被設置面對用 以填入之一凹平面； 第23C圖係一示意圖，說明一模製材料係由填入用一凹刻 20 版之凹部被轉移至一轉寫用凹刻版之狀態，； 第23D圖係一示意圖，說明一基板面對該轉寫用凹刻版設 置之狀態； 第23E圖係一示意圖，說明說明一模製材料係被由一一轉 寫用凹刻版轉寫至一基板上之狀態； 1269354 第24圖係一示意圖，說明用以填入191本身之一凹刻版係 圓柱形之一實施例； 第25圖係一不意圖，說明一轉寫用凹刻版係被彼覆滾軸彼 覆之狀態； 5 10 、第26圖係一示意圖，說明與形成於一基板上之一均句平面 連接之-凸起_之側視剖面圖；及 第27圖係一不意圖，說明未與形成於一基板上之一均句平 面連接之-凸域案之側視剖面圖。
H 方包】 、^發明實施例將使駿個圖式、範例...等來說明。該等圖 式^例配σ㈣係為了表示本發明之各態樣 ，且不應使本發 ^月 制。毋須另行說明，本發明範圍内之其他實施例， 才：::發明之基本特徵。在該等圖式中，該等相同元件係被以 相同茶考職或目絲絲。 掖人 15 貝丨一不思分解圖，且繁, 說明一 PDP之實例之_ — 土 "
—、 不思側剖面視圖。在第1圖與第2圖 I 2盘二著箭頭符號顯示所觀察。該PDP1具有相面對之_ 板3 ::广結構。在此實例中，該面板2内侧㈤ 20 之保護層6係依序層置J;包曰一用以保護該介’ 數個位址電極7及-介^ 3面對該面板之—相 層Κ)係形成於其上。如^ 砂且該凸肋9軸 的供輸椒⑼伽：顯示電極$ 必要。 祕的w提下，該介電層8亦為 12 1269354 在被該介電層5、數個凸肋9與該燐光層1()圍繞之放電空 間11内，係、充人有用來發射uv射線之氣體，例如：氖氣或者 氙氣。讀PDP1係藉由在兩顯示電極之間提供電壓來產生放電， 以刺激用來發射UV射線之氣體以形成電漿狀態，且利用當該電 5漿狀態回復至初始狀_所產生之該uv射絲發射該鱗光層 之燐光，而可進行顯示可絲。在該PDp中鱗設有—彩色渡 光片、電磁波保護片及自反射膜…等等。藉由一具有一電源供應 單元之介面與-選台單元絲於pDp上，即可產出—平面顯示 裝置，例如一大型電視(電漿電視)裝置。 1〇 對於該PDP之基板而言，舉例來說，係使用蘇打-石灰玻璃 與咼應力點玻璃。對於該等位址電極而言，即可使用任何具有導 私性之金屬。對於此種PDP而言，係使用低電阻質之金屬且甚 難與該介電層反應之金屬，例如：銀、銅或鋁。對於該介電層而 言，則是使用一玻璃板與一低熔點玻璃…等。該等凸肋9係以一 15低熔點玻璃製成。舉例來說，該背板3内側、該位址電極7、介 電層8、數凸肋9與磷光層1〇係依據以下次序製成。首先，來 考第3圖，如步驟S31所示，一均勻金屬層係形成於該背板3 上。接著，如步驟S32所示，將不需要之部位移除且形成具有 特定圖案之位址電極7。接著，如步驟S33所示，形成該介電層 20 8。接著，如步驟S34所示，形成一均勻低熔點玻璃層。接著， 如步驟S35所示，藉由切割該低熔點玻璃而形成該等凸肋，以 及’接著，如步驟S36所示，加入該填光劑。 本發明可被適當地實施而形成多數在用做平面顯示器與以 PDP為代表之平面顯示裝置之一基板上之凸肋，例如多數凸體。 13 1269354 無論如何，本發明亦可被適宜地實施，而不限制於此等射，亦 可實施於在-餘上生翁凸起_之料。尤其是當該凸起圖 案之寬度被縮減時並且其高度變高時，該可靠度則相對會變高。 具體而言，本發明係被適合在15〇至25〇_之厚度範圍與％ 5至！20_之寬度範圍内實施。該等凸體之間距並非關鍵，然而 取佳為i50至250㈣之間。前述尺寸均是當該等凸體被形成於 -基板上所測得。鱗凸體之立體外觀可為任何雜，且該形狀 亦不為損及本發明之基本特徵，然而在一咖基板之前提下如 第i圖所示之矩形平面六面體為較佳。部分部位之角度可較為尖 10細以便於轉寫至該基板上。 一丞板並非侷限於該做電子設備之美 板，例如卿，而是可為任何其他平板，假使該平板為平_ 15 可。該基板之材料可為任何材料，除非會損及本發明之基本特徵。 —在本《明之中，在該凸起圖案、凹槽圖案、凹部之圖案... =之、案種形狀，可細成具有_特__ =察該目標表蝴如：基板表面、轉寫_刻版表面 =:τ在轉寫用凹刻版之凹槽圖案與在該基板上 了2 ，尤其是，#該目標表面直接被看見時， W ®所示之重覆條紋外觀、如第5圖所示之重覆 ==_^6_^_罐錄顿。她圖^ θ杯考編號41係標示一凸起圖案，且 在該凸起圖案之外的一基部（目標表面）。考嫩係 該等條紋與格子之高度係等高，而可 在填入用_版之該凹部夕數不同南度。 /凹敎圖案的滅之下，除了以 20 4 1269354 亦可使用非矩形随。亦可包括_、橢_、梯形、方形 或其他多邊形、或雜形凹部。為了將·材料確實地填入轉寫 用凹刻版内，該填入用凹刻版之該凹部之圖案係較 第K)圖所示。至於該填人用凹刻版之凹部，亦可彻沒有圖宰° 5 之該凹刻版。 水 以下說明-模製材料轉寫方法與依據本發明之具有—凸起 圖案一基板之製造方法。 依據本發明之技術内容，有別於將模製材料直接注入轉寫 用凹刻板之表面上，該難材料係錢注人填塌㈣版之啊 · 1〇内，接著，—形成有特定凹槽圖案之—轉寫用凹刻版，係部分地 與填入用凹刻版連接，且該模製材料係被填入該轉寫用凹刻版的 各凹槽内’因此，該模製材料係直接填人該轉寫用凹刻版表面。 透過此等動作，該模製材料係被轉寫且可製出具有凸起圖案之一 基板。 15 藉此，利用例如藉由擠壓方式，注入該填入用凹刻版之凹 部内之模製材料補，制錄氣泡毅，該歡用_版齡 m 部分地與該填入用凹刻板連接以轉寫該模製材料，使得該模製材 攀 料可利用毛細現象而相繼被填入該轉寫用凹刻版之凹槽内。當該 模製材料藉由部分地連接該轉寫用關版與填人用凹刻版，由該 〃入用凹刻版轉移至該轉寫用凹刻版後，注意該毛細現象係已經 發生。 ， ，就填入用凹刻版來說，除了藉由以機械、雷射加工及侧 等類似技術將金屬加工成一模具之外，以侧玻璃製成之一玻璃 U可被使用。撕料而言，較料具有高硬度，當該模製材 15 1269354 料以一金屬片或一陶片被注入該填入用凹刻版時，可避免磨損。 假使使用例如玻璃或者抗磨損而不會輕易變形t金屬的一種材 料，由於擠壓造成之磨損或變形則可被忽略，因此，可容易地將 -模製材料填人’直到氣泡消失。再者，如稍後所述，填入用凹 5刻版之凹部可被設置成比轉寫用凹刻版來得更窄或更寬，其會使 將模製材料糊體填入時變得容易，直到氣泡消失。 另一方面，對於該轉寫用凹刻版而言，較佳為可被輕易釋 放之-種軟性材料，在轉寫過程中，使該模製材料之外觀不至於 受損。一個例子即是一種矽膠。 1〇 提供給該轉寫用酬版上之凹槽的多數模製材料之數量係 决疋於形成在填入用凹刻版上之小的凹部的空間。因此，每一次 ^供非常少量之模製材料，其中，可避免在#該難材料係被 超讀供時發生包含該等氣泡，轉寫用凹刻版之凹槽壁面完全 變濕潤之前，藉由毛細現象使該等模製材料被填入該轉寫用凹刻 U版之該等凹槽内。因此，毛細現象可被利用，具有良好的再生能 力，且可省或轉寫用凹刻版的真空抽取步驟。藉此，可以避免材 料附著在填入用凹刻版之凹槽與轉寫用凹刻版之凹槽外的區域。 、-旦減泡填滿之轉寫用凹刻版之凹槽的部位可輕易濕 ，，且甚至此後該模製材料係同時填人，則甚少的氣泡會進入該 等凹槽内。因此，甚至在第一次填入有足夠之填入量，該模製材 2可利用具有模㈣料之填塌_版_祕增加。無論各種 情況均可進行數次填人。假使該填人量過量，附著在該等凹槽之 外區域之該模製材料在需要時可被移除。 曰 其亦可能以使用一滾動覆蓋方法、旋轉覆蓋方法··等等， 16 1269354 施加-預定厚度之該模製材料在轉寫用凹刻版之表面上，且藉 此’需要與-均勻平面部位連結之一凸起圖案。假使該凸體係被 用來當作凸肋’而該均勻平面部位被視為介電層，即是，就一 PDP基板而言時形成減合之該等凸肋與該介電層。 5 此方法由於該均勻平面部位之厚度係可隨意調整而成為較 佳者。為了方便調整該均勻平面部位之厚度，較佳為將該模製材 料填入轉寫用凹刻版之該等凹槽内，移除附著在該等凹槽以外之 區域之該㈣機，且接著在需要時將鱗㈣隨後注入。 就該PDP基板而言’形成於該基板上之均特面部位的厚度較 10 佳為10至30 // m之範圍内。 第26圖係-示意側視剖面圖，說明與形成於該基板上之一 面部位261連結之—凸起圖案4卜另一方面，第27圖係 一示意側視剖面圖，說明形成於該基板上，未具有—均勻平面部 位之一凸起圖案41。 15〜賴製㈣依據本發明可依據為了在該基板上形成凸起的 實際需要而由已知材料中隨意選擇。對於在用於一咖之基板 j成數凸肋之目的而言，較佳為使用包含低熔點粉末、黏結劑 等等之未加ji材料補。—阻熱氧化物及議物亦可被增加為遽 材。為了易於加工，該原料糊體之黏滯度較佳係在室溫下為5〇 20至100P(P〇ise)。該黏著劑可包含一種有機樹脂、溶劑或兩者。 舉-種有機樹脂的實例即為丙烯酸樹脂。對於該有機樹脂而言， 較佳為可被熱或以例如爪射線之主動能量射線固化。亦可提供 -種反應起始劑。假使在被填人該轉寫用凹刻板之該等凹槽後， 固化該模製材料，將使令該模製材料由該轉寫用凹刻板之該等凹 17 1269354 槽内脫離(亦稱之為脫模)更加容纽聚合之外型係會改盖，藉 此，癥如損壞該模製材料及部分模製材料殘留在轉寫用凹刻板二 該等凹槽内(或部分模製材料)之問題即可避免。假使最大程度之 固化加工與黏著程度，以及，再者，模製材料對於基版凹槽之附 5著力，均有可能性導致㈣動作之可紐下料，難為加以量 測以確保非完全固化，維持該材料處於—未充分固化或固化不足 之狀態。在該模製材料被轉寫在該基版上之後亦可將該模製材料 完全固化。該溶狀實例可為松輯、BCA(:甘醇丁醚醋酸 M...專Θ外型之I合可II由將溶劑蒸發來改善，舉例來說， 1〇係藉由對位於該轉寫用凹刻板上之模製材料加熱。此步驟亦可更 與固化該模製材料結合。 由於该填入用凹刻板為一平面或一壓印滾筒之型態，以及 该轉寫用凹刻版係一種壓印滾筒或為可彎曲之型態之事實，如此 亦可使該轉寫用凹刻版與填入用凹刻版部分地接觸。另一方面， 15倘若該填入用凹刻版係平面狀且該填入用凹刻版係一壓印滾 筒，藉由該轉寫用凹刻版與填入用凹刻版的結合可進行部分地接 觸。倘若填入用凹刻版係平面而該填入用凹刻版為一種可彎曲 狀’可藉由將該轉寫用凹刻版與填入用凹刻版拉近而彼此靠近來 進行部分地接觸，接著，再將兩者或部分轉寫用凹刻版彎曲。倘 2〇若该填入用凹刻版係一種壓印滾筒之型態且該轉寫用凹刻版係 一種壓印滾筒之型態，可藉由該轉寫用凹刻版與填入用凹刻版的 結合來進行部分地接觸。倘若該填入用凹刻版係一種壓印滾筒之 型態且該轉寫用凹刻版係一種可彎曲之型態，可藉由該轉寫用凹 刻版與填入用凹刻版的結合進行部分地接觸。 18 1269354 部分地接觸係僅足夠在假使該模製材料可被由該填入用凹 刻版轉移至該轉寫用凹刻版上之情形下，且一般係無須在該填入 用凹刻版與該轉寫用凹刻版之間供給過多的壓力。 當依據本發明之基板係平面狀時，在該轉寫用凹刻版及基 5板部分接觸之後’通常需要供給部分壓力超過該該轉寫用 凹刻版 或基板。為了達到此目的，較佳為該轉寫用凹刻版係壓印滾筒或 者可f曲的型態。所施加之壓力係顧及轉寫之狀態以隨意地中 止。 為了將模製材料由該填入用凹刻版轉移至該轉寫用凹刻 1〇版，較佳為該填入用凹刻版之凹槽部位之圖案與該轉寫用凹刻版 之凹槽圖案具有彼此對應之位置關係。、'該填入用凹刻版之凹槽 部位之圖案與該轉寫用凹刻版之凹槽圖案具有彼此對應之位置 關係係札填入用凹刻版之凹槽部位之圖案適合地覆蓋於該轉寫 用凹刻版之凹槽圖案上，或反之亦然，當該填入用凹刻版與轉寫 5用凹刻版係重疊。更具體而言，較佳為9_錢多之該轉寫用 凹刻版之该等凹槽之圖案覆蓋於該填入用凹刻版之凹部之圖 案，或反之亦然。 第7圖係該填入用凹刻版之凹部之該等條紋圖案71，與該 轉寫用凹刻版之凹槽之該等條紋圖案72重疊之狀態。此覆蓋之 20中心無須與第7圖所示者相配合，亦可移動成如第8圖所示。如 第9圖所示，多數轉寫用凹刻版之凹槽亦可配合填入用凹刻版之 凹部之一條紋。依此方式，僅部分該等圖案重疊處之情形係落在 本發明之範疇内。假使該填入用凹刻版之凹部之圖案具有連續凹 部，例如點狀，該凹部可為圓形、橢圓形、三角形、正方形、其 19 1269354 他夕g鱗正絲’且該等形狀之設計可被視為條形圖案， 接著’被視為條紋圖案之此等形狀之設計與轉寫用凹刻版之凹槽 圖案重疊的情形亦是在於本發明之_之内。第！〇_示絲 為條紋圖案之以點狀構成的填入用凹刻版之凹部與轉寫用凹刻 5版之凹槽之條紋圖案重疊之狀態。 較佳為在填入用凹刻版與轉寫用凹刻版之全部表面上產生 重疊，而未重疊雜亦被包含在社所述之内容内。因此，倘若 圓形、橢圓形、三角形、正方形、其他多邊形及/或非正方形生 成在該填人肋難之全部表面上時，接著包含未與轉寫用凹刻 10版之凹槽之献_重疊之多數凹__，且填人肋刻版之 凹部之條紋數量係遠多於轉寫用_版之凹槽之數量，使得許多 包含在轉寫用凹刻版之凹槽的條紋圖案未重疊處之凹部亦是在 於本發明之範疇之内。 假使預期對齊該轉寫用關版與該填人用凹刻版之相對位 15置困難，與填入用凹刻版之圖案無相對關係之一凹版印刷版，亦 可被用來當作—種為了填人肋刻版之_。-鳴_版係-種用以凹版印刷之平板，且亦係一種金屬板，係被排列為兄到 數百，之正方形或圓形凹部。另可替代為，一具有5 _之具有50到數百，厚度之方形開口之細筛，其係被設置 在-基板或-滾軸之表面上，亦可被用來當作填入用凹刻版。 就填入用凹刻版之該凹部之立體外觀而言，較佳為填入用 d版之凹的長度在沿著該轉寫用凹刻版之凹槽寬度的方 向上，係寬於該轉寫用凹刻版之凹槽寬度。藉此，填入用凹刻版 之凹部可輕易地與轉寫用凹刻版之該等凹槽接觸，且藉由毛係現 20 1269354 象使填入該模製材料變得平順。該填入用凹刻版之凹部的長度， 在轉舄用凹刻版之该等凹槽寬度方向上，在第7圖至第以圖中 係標示為L。如第11圖所示，在一組數個外觀之前提下，可分 辨出個別凹部111。 5 亦較佳為該轉寫用凹刻版之該等凹槽之深度係比填入用凹 刻版之凹部之深度更深。將會使藉由毛細現練填人模製材料變 得平順。較佳為同時滿足以上所述的兩種狀態。此等狀況並非設 置於轉寫用凹刻版與填入用凹刻版的全部表面，而一般其係較佳 地增加前述設置狀況之該等部位。 1〇 依據以上所述之模製材料的轉寫方法與基板製造方法，可 提供-種用以製造-種具有凸起圖案基板，例如_ pDp之基板 的新穎具有高可靠度技術。該模製材料可確實地被填入該轉寫用 凹刻版之該等凹射，且在該凸起圖案的成型過程巾，改善且相 當地降低該等氣泡所導致之結構性效應。因此，該產品的可靠度 15與該等產品之產量可被改善，其改善該生產效率且簡化該製造步 驟。尤其較佳者，提供此基板給氣體流動面板與氣體流動面板裝 置，使用具有凸肋之基板。 用以實施以上技術之裝置的較佳實施例係一模製材料轉寫 裝置，包含：一壓印滾筒、一填入用凹刻版、一轉寫用凹刻版、 一填入用凹刻版、一部分地與轉寫用凹刻版及填入用凹刻版接觸 轉寫凹刻版連接裝置、—模製材湘化單元，及—針對轉寫用凹 刻版上之模製材料之膜厚調整機構，假使需要，一基板製造裝置 更包括一壓印滾筒、一填入用凹刻版、 一轉寫用凹刻版、一基板、 一部分地與轉寫用凹刻版及填入用凹刻版接觸轉寫凹刻版連接 21 1269354 震置、-用以使該轉寫用凹刻版與基板接觸之基板接觸機構、— 模製材料固化單元，且假使需要，包括一針對轉寫用凹刻版之模 製材料上之膜厚調整機構。倘若使用此種裝置，該模製材料藉由 將模製材料糊體注入該填入用之凹刻版之凹部，及與形成預定圖 5案之轉寫用之凹刻版部分地接觸，可被輕易地填入該轉寫用凹刻 版^凹槽内’至填人用之_版。亦者，藉由使轉寫狀凹刻版 與該基板接觸’該模製材料可被輕易地轉寫成為一凸起圖案，由 轉寫用之凹刻版至該基板。 丄對於將該模製材料由填入用凹刻版填入轉寫用凹刻版❿ · 10吕’-壓印滾筒可共同使用，且對於將該模製材料由該轉寫用凹 刻版轉寫至-基板上以成為—凸起圖案而言，或者可使用不同之 壓印滾筒。_寫_職可觀在賴印滾肚，但無法被使 用當作稍後所提及者。 加雜衣材料固化單元係具有一固化該模製材料的功能之一 單7L且可使用任何已知設備，例如可用㈣化該模製材料之一 熱吹氣機與一 UV-射線輻射裝置。 針對該模製材料之該膜厚調整機構，係一種用以執行與一 · 均钟面部位連結之一凸起圖案之裝置，且可使用任何可覆蓋一 預定厚度之該膜製材料在該轉寫用凹刻版上之已知裝置。 針對雜寫用凹刻版與該填入用凹刻版部分地接觸之該轉 寫用凹刻版之接觸機構，假使該轉寫用凹刻版與該填入用凹刻版 · 係以上述之觀念而部分地接觸，則可為任何已知設備。在該轉寫 用凹刻版與該填入用凹刻版均設置於壓印滾筒上或該轉寫用凹 刻版被，又置在壓印滾筒上，或該填入用凹刻版係被設置一平台上 22 1269354 之月ό提下’假m備可以移動—或兩壓印滾筒，或者一或兩麼 印滾筒與該平台係已足夠。在該轉寫用凹刻版可以部分地被移除 之前提下，假使該設備可以移除部分地#寫用凹刻版係已足夠。 針對該用以接觸該轉寫用之凹刻版與該基板之基板接觸機 5構而言’假使轉寫用凹刻版與該基板可以上述情形部分地地接 觸’即可使用任何設備。在轉寫用凹刻版係被設置於一塵印滾筒 上的月丨』提下’假使s亥設備可以移動一或兩麼印滾筒與設置於該基 板上之該平台係已賴。在該轉寫用之凹刻版可被部分地移除的 前提下’假使該設備可移除部分轉寫用凹刻版便已足夠。 10 實例 本赍明之數貫例將會被詳細地描述。在以下的實例中，填 入用凹刻版之凹人圖案與凹槽圖案形成在轉寫用之凹刻版係格 狀圖案且具有-剖Φ ’其係具有斜軸度之矩卵卩是獅）。在 此前提下，該填人用凹刻版之凹部可被稱為凹槽，即類似該轉寫 I5用凹刻版’因此在該等實例中該填入用凹刻版之凹部可被稱為凹 槽。 實例1 在此貫例中，藉由參考第12圖至第16圖將會說明本發明 之原則。第12圖係說明該填入用凹刻版之該等凹部lu之一示 20意平面圖、第13圖係第12圖之一示意側視剖面圖、第14圖係 說明該轉寫用凹刻版之該等凹槽141的—示意平面圖、第15圖 係第14圖之—示意側視剖面圖，且第16圖係說明該填入用凹刻 版之该等凹部11與該轉寫用凹刻版之凹槽141相符合之一狀態 的一示意側視剖面圖。在第12至16圖中，形成於該填入用凹刻 23 1269354 版與該轉寫用凹刻版上之該凹槽圖案均係、格狀，且當該填 刻版與該轉寫用_版重疊時，形狀均係相重疊。第=凹 尺寸與第14圖中的尺寸為丨：1的關係，且當比較第12_: Η圖之後，填人用關版之寬度係切轉寫用關版寬声了 13圖與第15 W的尺寸亦為1 : 1 _、，且第16 _示, 寫用凹刻版之凹槽寬度係大於填人_版之深度。職即= 述内容。 上 依據該模紐料之轉寫綠，—婦㈣糊體係首先被殖 入該填入用凹刻版。具體而言，該模製材料糊體係使用-種例如 K)金屬片體而被注入該填入用之凹刻版。假使需要該模製材料係 會被填入數次。第17圖係—示意圖說明該模製材料ΐ7ι係被注 入ό亥填入用凹刻版之一凹槽内之狀態。 ， 接著部分轉寫用凹刻版上所形成之預定凹槽圖案係慢慢地 與填入用凹酿接觸。藉此，毛細現㈣會發生，且該模製材料 15係如第18圖之箭頭方向流動，且係會填入轉寫用凹刻版。當該 毛細現象隨著將轉寫用凹刻版之側壁弄濕而進行時，可預防^隨 產生氣泡。f毛細現象進行時，存在於第18圖之ΐ4ι的氣體= 移動至第18圖之前側或後側，即是該模製材料尚未填滿之^ 域’使氣體無法殘留成氣體。 2〇 實例2 在此實例中，-模製材料轉寫裝置與—基板製造裝置乃為 該填入用凹刻版為平面狀且該轉寫肋刻版係f曲成壓印滾 筒，且如何使用此裝置將在以下說明。 第19圖頦示一模製材料係由設在一平台194上之一填入用 24 1269354 凹刻版191填入安裝於為壓印滾筒狀之一壓印滾筒192上之該轉 寫用凹刻版193的狀態。在該填入用凹刻版191之各凹槽内，可 預先填入該模製材料。當該壓印滾筒脱沿著箭頭方向旋轉時， 該轉寫用凹刻版193與該填入用凹刻版191會部分地接觸，該模 5製材料則藉由毛細現象而由該填入用凹刻版191之各凹槽轉移 至該轉寫用凹刻版193之各凹槽，且轉寫用酬板193之該等凹 槽會填有該模製材料。該參考編號1%乃顯示該填入用凹刻板 191與该轉寫用凹刻板193部分地接觸之部位。而用以使該填入 用凹刻版191與該轉寫用凹刻版193部分地接觸之該轉寫用凹刻 10版接觸設備並未顯示。事實上，該填入用凹刻版m與該轉寫用 凹刻版193之接觸部位196係非常微小，且當如第19圖所述之 内谷日Η父佳為該接觸部位係一種線性接觸，係幾乎一種點狀接 觸0 第20圖顯示該轉寫用凹刻版193與該填入用凹刻版191， 15係安衣在-壓印滾筒195上及一模製材料係以來自-υν射線輻 射單兀201之邊uv身子線輻射固化之狀態。該υν射線輻射單元 2〇1係會配合依據本發明之賴製材料固化單元。與第β圖相 同的設備亦可在此步驟中被用來當作主要設備，例如壓印滾筒 195。該模製材料尚未完全被轉寫至該基板观上。 20 第21圖喊不一板製材料係被由該轉寫用凹刻版193轉寫至 基板198之狀悲。亚未顯示用以使該填入用凹刻版ι9ΐ與該轉 寫用凹刻版193部分地接觸之該轉寫用凹刻版接觸設備。 實例3 在此貫例中，-模製材料轉寫裝置與一基板製造裝置乃為 25 1269354 一填入用凹刻版係平面狀且一轉寫用凹刻版為可彎曲，且將會說 明如何使用該等裝置。 曰 首先依據在第22圖中之步驟S221，一模製材料係藉由如第 23A圖的擠壓方式被填入該填入用凹刻版19ι。 5 接著，依據第22圖中之步驟S222，該轉寫用凹刻版193 係朝向如第23A圖所示之填入用凹刻版19ι設置。 繼續，依據第22圖中之步驟S223，該轉寫用凹刻版193 係利用第23C圖所示之-滾軸231所彎曲，藉以使該填入用凹 刻版191與該轉寫用凹刻版193部分地接觸，且該模製材料藉由 1〇毛細現象由該填入用凹刻版191轉移至該轉寫用凹刻版193上。 該滾軸231係會配合該轉寫用凹刻版接觸機構。 再者，依據第22圖中之步驟S224，如第23D圖所示之一 基板198係被没置來取代在第23B圖中的該填入用凹刻版191， 且依據在第22圖中之步驟S225，該轉寫用凹刻版丨93係利用如 15第231E圖所不之滾軸231而彎曲，使得該轉寫用凹刻版193與 該填入用凹刻版191會部分地接觸，且該模製材料係藉由施加輕 微壓力而由該填入用凹刻版191轉移至該轉寫用凹刻版193上。 在此丽提下，該滾軸231係會配合該轉寫用凹刻版接觸機構。一 熱吹氣機或UV射線輻射步驟亦可被插置於在第22圖中步驟 20 S223與步驟S225之間。 實例4 在此實例中，一模製材料轉寫裝置與一基板製造裝置乃為 一填入用凹刻版係壓印滾筒之外觀且一轉寫用凹刻版係可彎曲 成一壓印滾筒，同時將會說明如何使用此等裝置。第24圖顯示 26 1269354 5 15 20 -填入用凹刻版19ι本身為-滾筒外觀’且被彎曲成—壓印 之一轉寫用凹刻版193係被安裳於-壓印滾筒上之-狀態。在殖 入用凹刻版m上，設有-用以刮除多餘模製材料之刮刀糾。 就填入用凹刻版而言，其係亦可利用遍 耒上大$使用之一凹 版印刷滾軸。此種結合方式可时轉移及轉寫频製材料，㊃ 填入用凹刻版至該轉寫用凹刻版。例如，此種結合方式可用 代實例2與實例3之填入該模製材料之步驟。 實例5 在此實例中，-模製材料轉寫裳置與—基板製造裝置 由毛細現象後而將模製材料由填人用凹刻版填人轉寫用凹麻 上之後，職-預定厚度之婦材料，且料卿如何使用 裝置。第μ圖顯示根據該滾軸覆蓋方法藉由使披覆滾轴⑸上 之-模製材料與該轉寫用關版193相接觸，使—預定厚 製材料被施加於-轉寫用凹刻版上之—狀態。該披覆滾ς ^ 係會配合麟賴歸料之膜厚調整機構。除了該滾軸披覆方法 之外，亦可使用-種狹縫塗覆法，其是讓該模製材料由各細縫逸 出。以此種方法，該模製材料之厚度可輕易調整。 【圖式簡專*說^明】 々第1圖係·-DPD之實例之—示意分解圖； =2圖係說明—DPD之實例之-示意側剖面視圖； 弟3圖係在該背板上依序形成數個位址電極、一介電 凸肋、與一磷光層之一流程圖丨 9 第4圖係說明依據本發明之該圖案之-實例之-示意圖. 第5圖係說明依據本發明之該圖案之另-實例之-示^圖；
27 1269354 第6圖係說明依據本發明之該圖案之再一實例之一示意圖； 第7圖係一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋圖 案與用以轉寫重疊之—凹刻版之該等凹槽之條紋圖案之-狀態； 第8圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 5圖术舁用以轉寫重疊之一凹刻版之該等凹槽之條紋圖案之一狀 態； 第9圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與用以轉寫重疊之一凹刻版之該等凹槽之條紋圖案之一狀 態； _ ίο 第10圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與用以轉寫重疊之一凹刻版之該等凹槽之條紋圖案之一狀 態； 第η圖係另一示意圖，說明一填入用凹刻版之凹部之條紋 圖案與用以轉寫重疊之一凹刻版之該等凹槽之條紋圖案之一狀 15 態； 第12圖係說明填入用凹刻版之凹部之一示意平面圖； 第13圖係帛12圖之側剖面視圖； ® 第14圖係說明轉寫用凹刻版該等凹槽之一示意平面圖； 第15圖係第14圖之側剖面視圖； 2〇 第16圖係一示意側剖面視圖，說明使轉寫用凹刻版之各凹 槽與填入用凹刻版之凹部相配合之狀態； 第17圖係一示意圖說明一模製材料係被注入該填入用凹亥j 版之凹部之一狀態； 第18圖係一示意圖，說明當該模製材料係被填入轉寫用凹 28 1269354 刻版之該等凹槽内，_模製材料流人之一狀態； 第19圖係一示意圖，說明將在一壓印滾筒之外觀之一轉寫 凹d版係與—壓印滾筒結合且一填入用凹刻版係被設置於一 平台上之一狀態； 5 第2〇圖係—示意圖，說明轉寫用凹刻版係被彎曲成一圓柱 形之表面係被與一壓印滾筒結合之一狀態； 第21圖係一示意圖，說明一模製材料係被由一轉寫用凹刻 版轉寫至一基板上之一狀態； 第22圖係一流程圖，說明依據本發明來注入與轉寫該模製 10材料； ^ 第23A圖係一示意圖，說明注入該模製材料進入該填入用 凹刻版之狀態； 第23B圖係一示意圖，說明該轉寫用凹刻版被設置面對用 以填入之一凹平面； 15 第23C圖係一示意圖，說明一模製材料係由填入用一凹刻 版之凹部被轉移至一轉寫用凹刻版之狀態，； 弟23D圖係一示意圖，說明一基板設置面對該轉寫用凹刻 版之狀態； 第23E圖係一示意圖，說明一模製材料係被由——轉寫用 2〇 凹刻版轉寫至一基板上之狀態； 第24圖係一示意圖，說明用以填入19ι本身之一凹刻版係 圓柱形之一實施例； 第25圖係一示意圖，說明一轉寫用凹刻版係被披覆滾軸彼 覆之狀態； 29 1269354 第26圖係一示意圖，說明與形成於一基板上之一均勻平面 連接之一突凸起圖案之側視剖面圖；及 第27圖係一示意圖，說明未與形成於一基板上之一均勻平 面連接之一突凸起圖案之側視剖面圖。 5 【主要元件符號說明】 2.......... ......©板 191… .........凹刻版 3.......... ......为板 192… .........壓印滾筒 4.......... ......顯不電極 193… .........凹刻版 42........ ……基部 194… .........一平台 41........ ......凸起圖案 195… .........壓印滾筒 5.......... ……介電層 196… .........接觸部位 6.......... ……保護層 198… .........基板 7.......... .……位址電極 201… .........UV射線輻射 71........ …·…條紋圖案 XJX3 一 早兀 8.......... .......介電層 231… .........ί袞軸 9.......... .......凸肋 241… .........刮刀 10........ ……·燐光層 11........ ……·放電空間 251… .........彼覆滾軸 11........ ……凹部 S221〜S225步驟 141 …·· ……凹槽 S31〜 S36··步驟 171 …·· •……模製材料 30