TWI254841B - Lithographic apparatus - Google Patents

Description

1254841 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影投影裝置，該種微影投影裝置包 括： 一 一用於提供一照射投影光束之照射系統； 一 一用於支承圖案化構件之支承結構，該圖案化構件用 於根據一所需圖案來圖案化該投影光束； 用於固定一基板之基板平臺；及 一一用於將該圖案化光束投影至該基板一目標部分上的 投影系統。 【先前技術】 本文所用術語「圖案化構件」應廣義解釋爲係指可用於 賦予-入射照射光束一圖案化截面之構件，該圖案化截面 對應於一欲形成於基板之一目標部分中之圖案；在該種意 義上’亦可使用術語「光閥」。一般而言，該圖案將對應於 γ正形成於該目標部分中之元件（例如一積體電路或其他 元件（參見下文））中的一特定功能層。此等圖案化構件之實 例包括： 一一光罩。光罩概念在微影術中已衆所習知，且其包括 諸如二進制、交替移相、及衰減移相等光罩類型、及各種 混合光罩類型。根據該光罩上的圖案，將此一光罩置於照 射光束中可致使選擇性透射（偶爲_透射光罩）或反射⑽爲' -反射光罩）照射於該光罩上之照射1爲—光罩，支承結 構將通常係-光罩平臺，該光罩平臺可保證能夠將光罩固

O:\90\90041 -940914. DOC 1254841 疋於入射照射光束中的一所需位置，並且可在需要時相對 於光束移動光罩。 —一可程式化反射鏡陣列。此一元件之一實例係一具有 一黏彈性控制層及一反射表面的矩陣可定址表面。此一元 件之基本原理係（舉例而言）：該反射表面之已定址區域將入 射光反射爲衍射光，而未定址區域將人射光反射爲非衍射 光。藉由使用-適當遽光器，可自反射光束中滤出該非衍 射光’僅留下衍射光；II由此種方式，光束可根據該矩陣 可定址表面之定址圖案形成圖案。可程式化反射鏡陣列的 另一貫施例係使用一微鏡矩陣方案，可藉由施加一合適的 局部電場，或藉由使用壓電作動構件使每—微鏡各自圍繞 一軸線傾斜。同樣，該等反射鏡亦係矩陣可定址，以使已 定址反射鏡以-不同於未定址反射鏡之方向反射一入射照 射光束；#由此種方式，可根據矩陣可定址反射鏡之定址 圖案來圖案化所反射光束。可使用合適的電子構件實施所 需矩陣定址。在上述兩種情形下，圖案化構件皆可包括一 或多個可程式化反射鏡陣列。可自^與 _

4」目（舉例而言）吴國專利US 5,296,891及1^ 5,523，193、及？(：丁直4,丨*冰也 汉專利申睛案W0 98/38597 及W0 98/33096搜集關於本文所诚符铋紗咕， 4又尸；r迷反射鏡陣列之更多資訊 ’该等專利申請案皆以引用方式你 π力氕倂入本文中。倘爲一可程 式化反射鏡陣列’該支承結構可具體表現爲（舉例而言）一框 架或平臺’ S可根據需要爲固定式或可移動式。 229,872中給出此 入本文中。如上 一一可程式化LCD陣列。美國專利us 5 一構造之一實例，該專利案以引用方式倂

O:\90\90041 -940914. DOC 1254841 所述，在此種情況下，該支承結構可具體表現爲（舉例而言 )一框架或平臺，且可根據需要爲固定式或可移動式。 爲簡月（i雖然;本文剩餘部分於某些地方係具體針對 "及光罩及光單平臺之實例，然:而，應以上文所述圖案 化構件之更廣泛意義看待該等例示中所論述之一般原理。 微影投影農置可用於（舉例而言）積體電路（1C)之製造。在 此h況下圖案化構件可産生一對應於該1C之一單獨層 的電路圖案，且5亥圖案可被影像至一基板(矽晶圓)上已塗敷 -層照射感應材料(光阻劑)的一目標部分(例如包含一或多 個晶片)上。—般而言’單個晶圓將包含一整套相鄰目標部 为’ 5亥專目標部分藉由將 刀稭由扠衫糸統循序逐一接受照射。目前 使用一光罩在一朵置承#匕点 尤罩千宜上實施圖案化作業之裝置可分爲 :種不同機器類型。在其中一種類型的微影投影裝置中， 藉由人11將整個光罩圖案曝光至目標部分上來照射每一 目標部分；此一梦署合 ， 衷置通吊稱為一晶圓微影步進機。在另一 種通常稱爲步進—掃描裝置之裝置中，則藉由在投影光束 下沿一給定基準方向（「掃描」方向）進行性掃描光罩圖案且 同時平行或反平行於該方向同步掃描基板平臺來照射每— 目標部分；由於’一般而言，投影系統將具有-放大因數 二(-般<1)，因此掃描基板平臺之速度v將爲一因數M乘以 M S罩平£之速度。可自（舉例而言）US 6,046,792搜集關 於本文所述微影裝置之更多資訊，該專利案以引用方式倂 入本文中。 在一使用 微影投影裳置之製造製程中，將一圖案 (例如

0 ：\90\90041 -940914. DOC 1254841 μ㈣少部分覆蓋有一層照射感應 材料（光_)之基板上。在該成像㈣之前，該基板可經歷 各種處理程式，例如塗底劑、塗敷光阻劑、及一軟烘焙。 在曝光之後’該基板尚可經受其他處理程式，例如一曝光 後烘培（PEB)、顯影、—硬烘培及所影像結構之量測/檢視 。該一系列程式被用作圖案化—元件（例如―⑹的一單獨層 的基礎。爾後’此-圖案化層可經受各種製程，例如姓刻 、離子植入(摻雜)、金屬化、氧化、化學―機械研磨等，所 有該等製程皆旨在光製-單獨層4需要多個層，則必須 對每-新層重複該整個程式或其—變體。最終，一元件陣 列將出現於該基板（晶圓）上。爾後，藉由_種諸如切割或鑛 割之技術使該等元件相互分離，由此可將各元件安裝於一 載體上、連接至管腳等。關於該等製程之進一步資訊，可 自（舉例而言）「微晶片製造：半導體處理之實用指南 (Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Pressing)」（第三版，由 PetervanZant編著，MeGrawH⑴ 出版公司’ 1997, ISBN 0-07屬725〇_4)_書獲知，其以引 用方式倂入本文中。 爲簡明起見，以下可將投影系統稱爲「透鏡」；然而，應 將該術語廣義理解爲囊括各種類型之投影系統，舉例而言 ，包括折射光學、反射光學或折反射光學系統。照射系統 亦可包括根據該等設計類型之任一類型運作用以導向、成 形或控制照射投影光束之組件，且在下文中該等組件亦可 、、先稱或單獨稱爲一「透鏡」。進一步，微影裝置可爲一種具

0 :\90\90041 *940914. D0C 1254841 有兩個或多個基板平臺（及/或兩個或多個光罩平臺）之類型 。在該等「多級式」裝置中，可並行使用額外平臺，或者 可當一或多個平臺正用於曝光時，在一或多個其他平臺上 實施準備步驟。雙級式微影裝置闡述於（例如）US 5,969=41 及WO 98/40791中，其以引用方式倂入本文中。 ， 在上述裝置中，必須牢固固定（「夾持」）光罩及基板，以 使其可精確定位在X、γ&ζ方向上及繞χ軸、γ軸及z軸之 旋轉方位（稱作RX、Ry& Rz方向）上。z方向定義爲大致垂直 於所述光罩或基板平面（其界sXY平面）之方向。光罩及基 板之平面内可承受極大之加速度，尤其是在步進—掃描裝 置中。光罩或基板之精確定位亦要求在z方向上具有較高之 剛度。夾持結構必須夠牢固，以耐受此等加速度並同時提 供所需之剛度。 先前之夾持結構（例如剛性真空夾鉗）存在會導致光罩變 形之問題。此可能起因於光罩與真空夾鉗之一或兩者皆非 完全平整或者由於光罩與夾持器之間夾存有污染微粒。光 罩或基板變形會導致所曝光影像畸變，由此可引起覆蓋誤 差。 、 先前所做減輕變形問題之一嘗試係使用一於2方向上柔 順之膜片（例如美國專利US 5,532,903中所揭示者）來支承 光罩。然J，此一嘗試仍遇有膜片與光罩之間存在污染微 粒之問題及臈片與光罩缺乏剛性及剛度之缺陷。 爲降低對光罩或基板與支承結構或平臺（稱作夾頭）間污 染之敏感度，先前已於光罩與夾頭之間使用一凸點板。凸 O:\90\90041-940914.DOC -10- 1254841 ”占之穴知界疋支承光罩或基板 ^ ^ 十面且该#凸點之間的 二間可收納污染物而不會使来置 佶爾几…— 先罩或基板平面變形。然而’ 及：Γ 一問題:三個表面(即凸點板頂面和底面 ==板:面之基座表面)需很精確。另一種方法係將 凸’直接置於夾頭上，作 一 ^等凸”』S因清理而受到損壞， 在此種情況下會損壞整個夾 主 人頭而更換夾頭之費用甚爲昂 貝 0 【發明内容】 題。 該種微影投影裝 本發明之一目的係至少部分緩解上述問 因此，本發明提供一種微影投影裝置， 置包括： 用於提供-照射投影光束之照射系統； -一用於支承圖案化構件之支承結構，該圖案化構件用 於根據一所需圖案來圖案化該投影光束； —一用於固定一基板之基板平臺；及 至該基板一目標部分上之 一 一用於將該圖案化光束投影 投影系統， 其特徵在於進一步包括： ㈣件之至少n结構，該柔順構件可 固定-用於固定該裝置之一可移式物件的凸點板。 於。亥可和式物件（例如圖案化構件或基板）與該柔順構件 之間使用凸點板既可降低對因污染物所致變形之敏感度， 亦可同時降低對凸點板背面和夾頭表面平面度要求之嚴格 性0

O:\90\90041 -9409 ] 4. DOC -11 - 1254841 本發明之另一態樣提供一種使用一微影投影裝置製造一 儿件之方法，該微影投影裝置包括·· 用於提供一照射投影光束之照射系統，· 一用於支承圖案化構件之支承結構，該圖案化構件用 於根據一所需圖案來圖案化該投影光束； 一一用於固定一基板之基板平臺；及 一一用於將該圖案化光束投影至該基板一目標部分上之 投影系統，該方法包含如下步驟： 於该支承結構上提供一圖案化構件； 一於該基板平臺提供一具備一照射感應層之基板；及 使用經，亥圖案化構件圖案化之投影光束來照射該基板 之各目標部分， 其特徵在於如下步驟·· 提供至少一柔順構件； 於泫至少一柔順構件上固定一凸點板，·及 在該裝置運作期間於該凸點板上固用於該裝置之可 移式物件。 儘管本文會特別提及本發明裝置在ic製造中之應用， 而應：楚瞭解’此一裝置亦具有許多其他可能之應用。 例而σ其可用於製造積體光學系統、磁域記憶體之制 及偵測圖案、液晶_ + & #、锋时α 頌不面板、溥膜磁頭等。熟習此項技 者應瞭解’繁於該等1他庫用 予/、他應用，本文中所用術語「主光 」、「晶圓」或「晶片 ；& iil这-T八 曰曰片」應視舄可分別爲更通用之術語「 罩」、「基板」及「目標部分」所代替。

O:\90\90041 -940914.DOC -12- 1254841 *在本文件中，使用術語「照射」及「光束」來囊括所有 〆、之電磁知射，包括紫外線照射（例如具有3 6 5、2 4 8、19 3 1 57或126奈米波長之紫外線照射）及Euv(極遠紫外線照射 例如具有介於5-20奈米範圍波長之極遠紫外線照射），及 諸如離子束或電子束等粒子束。 【實施方式】 實施例1 ，圖1示意性展示一種根據本發明一特定實施例之微影投 影裝置。該裝置包括： •一用於提供一照射投影光束叩（例如Ευν照射）之照射 系統Ex、IL’在該特定實例中，照射系統亦包含一照射射 源LA ; •一第一目標平臺（光罩平臺）MT，其具有一用於固定一光 罩MA(例卜主光罩（retiele))之光罩托架，並連接至用於相 對於物件PL來精確定位該光罩之第一定位構件； •一第二目標平臺（基板平臺）WT，其具有一用於固定一基 板W(例如一塗敷有光阻劑之矽晶圓）之基板托架，並連接至 用於相對於物件PL來精確定位該基板之第二定位構件； •一投影系統（「透鏡」）PL(例如一反射鏡組），其用於將 光罩MA的—受照射部分成像至基板w的—目標部分c(例 如包含一或多個晶片）上。 如本文所闡釋，該裝置爲一反射型裝置（例如，具有一反 射光草）。然而’ 一般而言’其亦可爲（舉例而言卜透射型 裝置（例如’具有-透射光罩）。或者，該裝置可使用其他類 O:\90\90041 -940914. DOC -13 - 1254841 型之圖案化構件，例如一上述類型之可程式化反射鏡陣列。 射源LA(例如一雷射産生或放電電漿射源）可産生一照射 光束。该光束直接或在橫穿調節構件（舉例而言，例如一擴 束器Ex)後饋入一照明系統（照明器）丨乙内。該照明器IL可包 含用於設定光束中強度分佈之外部及/或内部徑向範圍（通 常分別稱爲σ -外部及σ _内部）之調整構件AM。此外，其將 通常包含各種其他元件，例如一積分器IN及一聚光器c〇。 藉由此種方式，可使照射於光罩馗八上之光束pB在其截面中 具有一所期望之均勻度及強度分佈。 關於圖1，應注意，射源LA可位於微影投影裝置之機殼 内（舉例而言，當射源LA係一汞燈時通常如此），但其亦可 遠離微影投影裝置，其産生的照射光束被導入裝置内（例如 ’藉助適當的導向鏡）；當射源L A係一準分子雷射時，通常 爲後一種情況。本發明及申請專利範圍兼囊括這兩種情況 〇

Ik後，光束PB穿過固定於一光罩平臺乂丁上之光罩MA。 在經光罩ΜΑ選擇性反射後，光束PB穿過透鏡？1^，該透鏡 PL使光束PB聚焦於基板W的一目標部分c上。藉助於第二 疋位構件（及干涉量測構件iF)，可精確移動基板平臺， 以便（例如）將不同之目標部分C定位於光束pB之路徑中。同 樣，亦可於（例如）自一光罩庫機械擷取光罩MA之後或在掃 描期間使用第一定位構件相對於光束PB之路徑精確定位光 罩MA。一般而言，藉助圖1中未明確展示的一長衝程模組（ 粗定位）及一短衝程模組（精定位）可達成目標平-MT、wt O:\90\9004l-940914.D0C -14- 1254841 之移動。然而，倘爲一晶圓微影步進機（與一步進-掃描裝置 相反），光罩平臺MT可僅連接至一短衝程作動器，或者可 固定。 所描述裝置可具有兩種不同使用模式： 1·在步進模式中，保持光罩平臺MT*本靜止，且將一整個 光罩影像一次性投影（亦即一單一 r閃光」）至一目標部分c 上。爾後於X及/或y方向上移動基板平臺WT，以使光束pB 可照射一不同的目標部分C。 2·在掃描模式中，除一給定目標部分C非在一單一「閃光 中曝光外，情況基本上相同。但是，光罩平臺汹丁可在一給 定方向（所謂「掃描方向」，例如y方向）上以一速度v移動， 以使投影光束PB在一光罩影像上掃描；同時，以一速度 V=Mv在同一或相反方向上同步移動基板平臺wt，其中％ 係透鏡PL之放大率（通常Μ=1/4或1/5)。藉由此種方式，毋 須犧牲解析度即可曝光一較大的目標部分c。 圖2以剖視圖形式展示本較佳實施例用於依據一平臺 固疋一主光罩10之支承及夾持結構。主光罩1〇固定於一凸 點板14上，該凸點板14可最大限度降低對因污染微粒所致 主光罩10變形之敏感度。凸點板14係由（舉例而言）超低膨脹 率玻璃或玻璃一陶瓷（例如zerodurTM，ULE)、超低膨脹率陶 曼（例如Cordierite)、或低膨脹率陶瓷（例如训⑷製成，且 通常具有介於3毫米至30毫米範圍之厚度。主光罩1〇可藉由 任何適當構件抵靠固定於凸點板14上，然而，根據本發明 之較佳實施例，爲與EUV照射配合使用，整個照射路徑處 O:\90\90041-940914.DOC -15- 1254841 於真空狀態下，因此較佳藉靜電夹持使主光罩1〇構成一個 電極，並藉靜電夹持使凸點板14構成另一電極。若於該兩 個電極之間施加一電壓1，一均勻的靜電力會使兩個電極 相互吸引。亦可於主光罩10之下循環使用冷卻氣體。 爾後，固定凸點板14於構成柔順構件之膜片j6上。膜片 16可由（舉例而言）與凸點板14相同種類之材料製成，但其厚 度通常介於0.2毫米至3毫米範圍内。在本實施例中，每I 膜片16白主一翼片形狀’該翼片之長度近似相同於凸點板 Μ之-邊緣之長度。每―膜片16之—邊緣皆藉由例如機械 式夾持或螺栓固定至平臺12上，而另一邊緣則自平臺㈣ 伸出來。然後，凸點板14之兩個邊緣接觸膜片16之懸伸部 分。同樣，在與EUV照射配合使用之較佳實施例中:係^ 用靜電夾持來將凸點板14固定至膜片16;其中凸點板_ 成一電極，而膜片16構成另一電極。本發明亦涵蓋替代實 施例，在替代實施例中’舉例而t，將膜片或各膜片機械 連接至凸點板並靜電㈣至平臺，或者可將各膜片靜電夹 持至凸點板及平臺二者，或者事實上，可將各膜片機械固 定至凸點板及平臺二者。 膜片16在Z方向上呈柔·，即撓性，因而可貝占合其所接 觸的凸點板14背面之外形，由此可降低對凸點板“背面之 平面度要求之嚴格性。凸點板具有高於膜片之剛性，因此 係膜片變形來適應凸點板外形，而非反之。凸點板之剛度 係夠大，以保證與主光罩相接觸之頂面之平面度。 膜片16在XY平面内提供 凸點板係以運動方式受到支承

O:\90\90041 -940914. DOC -16 - 1254841 所而夾持力，以界定X、Y及Rz定位並在主光罩1 〇於例如一 掃描儀中加速時固定主光罩10。可自例如Ep 搜集 關於使用Z方向柔順性膜片實施夾持之進一步資訊。 藉由使用三個呈銷18形式之支承件在2方向提供一力，而 在豎直方向上支承主光罩1〇，該等銷18設置於平臺12上以 接觸凸點板14之背面。該三個接觸點唯一地界定一平面， 並由此確定凸點板14及主光罩1〇之2、Rx&Ry定位。三個 接觸點係支承凸點板14及主光罩1〇所必需且不會因過分約 束凸點板14及主光罩1 〇而使其呈現一特定變形形狀之最少 數量。較佳地，將銷18設置於Bessell點處，此可最大限度 P中低凸點板14及主光罩1〇之下垂。視需要，亦可設置一或 多個其他支承銷18，但較佳地該等其他銷應在z方向上自由 移動但偏置，以便以一較小的力支承由支承件18承載之總 重量之一部分。較佳地，應阻尼該等其他支承件，藉以消 除主光罩10之振動。除銷18外，亦可由膜片16承載一定比 例的凸點板14及主光罩1〇之重量。 有時將凸點板14上下倒置使用，在此種情況下，需要進 一步的重力補償。可以衆多方式施加該處於Z方向上之力， 例如在整個凸點板區域範圍内或僅在鎖1 8位置處施加該力。 在較佳實施例中，使用一或多個銷1 8提供與凸點板14之 電連接’以供用於將主光罩1 〇及膜片1 6靜電夹持至凸點板 14。凸點板14亦製作得相當厚，以最大限度減小凸點板14 因支承於銷1 8上及/或夾持至膜片16而産生之變形，從而使 凸點板14之剛度可保持平面度並最大限度減小主光罩10之 O:\90\90041-940914.DOC -17- 1254841 ，形。凸點板14之剛度亦可用於抑制因主光罩ig中 最、、冬與銷1 8上之力相結合而產生之變形。 :據本發明之替代實施例，膜片16可採用除圖2所示兩個 外㈣式°舉例而言，可在凸點板下使用—整體膜 …爲it績薄片，其中銷18既可接觸該膜片，亦可穿過 ζ膜片中之孔直接接觸凸點板。然而，由於膜片會隨時間 潛變，因而整體膜片可能不佳。 、儘管上㈣明係提及-種料固定-域罩Η)之結構， 然而，應瞭解，主光罩亦可同樣係微影投影裝置中的一不 同物件’例如另一種形式之光罩或圖案化構件，或一晶圓 或基板’或該裝置中之任一光學元件，例如一反射鏡或透 鏡等等。 儘官上文所闡述係本發明之特定實施例，然而應瞭解， 本t月亦可以其他方式貫施。本說明並非意欲限定本發明。 【圖式簡單說明】 上文已參照隨附示意圖僅以舉例方式闡述本發明之實施 例，附圖中： 圖1展示一本發明實施例之微影投影裝置·， 圖2以剖視圖形式展示一根據本發明之一實施例用於支 承及夾持一光罩之結構。 在該等附圖中，對應參考編號皆表示對應部件。 【圖式代表符號說明】 10 主光罩 12 平臺 O:\90\90041 -940914. DOC -18- 1254841 14 凸點板 16 膜片 18 銷

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Claims (1)

1. r1254841 拾、申請專利範圍： — 'i Μ 9. U丨.一種微影投影裝置，包括： 一一用於提供—照射投影光束之照射系統，· 用於支承圖案化構件之支承結構，該圖案化構件用 於根據一所需圖案來圖案化該投影光束； —一用於固定一基板之基板平臺；及 —一用於將該圖案化光束投影至該基板-目標部分上之 投影系統， 其特徵在於進一步包括： 包括至少一柔順構件之至少一固定結構，該柔順構件固 定一用於固定該裝置之一可移式物件的凸點板。 2.根據申請專利範圍第丨項之微影投影裝置，其中該至少一 柔順構件包含一膜片。 3·根據申請專利範圍第丨或2項之微影投影裝置，其中該至 少一柔順構件包含一對平行翼片。 4.根據申請專利範圍第3項之微影投影裝置，其中每一翼片 皆沿其長度受到支承。 5·根據申請專利範圍第丨或2項之微影投影裝置，其中與該 至少一柔順構件相比，該凸點板大致爲剛性。 6·根據申請專利範圍第！或2項之微影投影裝置，進一步包 括用於界定物件垂直於其平面之位置的複數個支承件。 7，根據申請專利範圍第6項之微影投影裝置，其中佈置該等 支承件以於Bessel點處支承該凸點板。 8.根據申請專利範圍第}或2項之微影投影裝置，包括三個 〇.\90\90041 -940914. DOC 1254841 固定支承件。 9.根據申請專利範圍第15戈2項之微影投影裝置，其中該等 支承件中至少一支承件提供與該凸點板之電接觸。 1〇.根據申請專利範圍第1或2項之微影投影裝置，其中設置 -靜電夾持結構’用於將該凸點板夾持在如下至少一物 件上：該可移式物件；及該至少一柔順構件。 U·根據申請專利範圍第1或2項之微影投影裝置，其中該照 射投影光束包含EUV照射。 12.根射請專利範圍第…項之微影投影裝置，1中該支 承結構與該基板平臺中至少之-包含該至少-固定結構 ’且該可移式物件包含—圖案化構件與—基板之一。 13 · —種使用一微影投影奘罟制、生 p仅&表置I造一凡件之方法，該微影投 影裝置包括： 一一用於提供一照射投影光束之照射系統； --用於支承圖案化構件之支承結構，該圖案化構件用 於根據一所需圖案來圖案化該投影光束； 用於固定一基板之基板平臺；及 --用於將該圖案化光束投影至該基板—目標部分上之 投景> 系統’該方法包含如下步驟·· 一於該支承結構提供一圖案化構件； 一於該基板平臺提供一具備一照射感應層之基板；及 -使用經該圖案化構件圖案化之該投影光束來照射該基 板之各目標部分， 該方法之特徵在於如下步驟·· O:\90\90041-940914.DOC 1254841 提供至少一柔順構件； 於該至少一柔順構件上固定一凸點板；及 在該裝置運作期間，於該凸點板上固定一用於該裝置之 可移式物件。 14. 一種根據申請專利範圍第13項之方法製成之元件。 0 :\90\90041 -940914.DOC 1254841 柒、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（2 )圖。 (二) 本代表圖之元件代表符號簡單說明： 10 主 光 罩 12 平 臺 14 凸 點 板 16 膜 片 18 銷 捌、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無） O:\90\90041 -940914.D0C