TWI231380B - Reflectors for UV radiation source - Google Patents

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1231380 五、發明説明（ 發明說明 本發明主張較早申請之美國 , 60/143,608 (1999 年 7 月 η 口由心 "^ ^ 之利尹兮奸 申請，具有相同名稱 。上::::= ^0^-_之後續部分，㉟勝咖案亦併入^ 發明領娀 10 轉明係有關—種供傳遞紫外線㈣之輕射源用 之新式反射器。 發明背景 美國專利第5,786,598號揭示下述之寬廣概念：一 15種閃光燈系統可用以使容器内之微生物停止作用，該 容器包括具有一箔墊片之聚烯容器，其包含一隱形眼 鏡及一保存液。雖然該專利揭示使用閃光燈系統以消 毋於谷益之保存溶液中之隱形眼鏡的想法，但是沒有 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 界疋任何用以完成消毒之條件，也沒有提供實例顯示 20 可以實現消毒。 美國專利第5,034,235及4,871，559號揭示使用非 常強且非常短期間脈衝之光以使食品表面上之微生物 停止活動，且建議該方法可用於容器、醫學裝置及包 裝内之食品。

89353A 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（21〇><297公釐） 1231380 五、發明説明（

m使用習用反射器而於 10 15 量之輪廓圖 圖4示出使用相同之用以產生圖3輪廓之反射器 但除了該反射器表面有一漫射塗層之外，而於目標區 内之輻射能量之輪廓圖； 圖5不出使用具有圖1所示形狀之反射器及漫射 塗層：於目標區内之輻射能量之輪摩圖； 圖6不出具有一使用兩個產生圖3輪廓之反射 而形成之空穴之輻射系統之Q因數（Q FaCt〇r)之 表： 圖7不出具有一使用兩個產生圖4輪廓之反射 而形成之空穴之輻射系統之Q因數之圖表；和 圖8不出具有一使用兩個產生圖$輪廓之反射 而形成之空穴之輕射系、統之Q因數之圖表。 器 圖 器 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 本發明之説明 “紫外線輕射，，< “uv_” _詞意即輕射具有 〇至,4〇Onm之波長。如果一範圍係被指定在“紫外 線幸S射 或“ U V知j!+ ” 1 田射一硐之後，一較窄之輻射 圍意即在200 S 400um範圍内。又，被指定之範 (除非另外陳述），其乃意即輕射係具有該範圍内之 長。 範 圍 波 “寬輻射光譜”-詞意即輻射具有至少20至 11〇〇_波長的多數’其中至少輪射之-部分為UV輕

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五、發明説明（ 射 ‘導引輻射朝向目標，，一句意即將輻射經由反 及乂 = ”1^送至目標。被導引之輕射可直接

Si或非故意衰減之量而間接地到達

^ ^目私係指輻射可被導引至其上之醫學F 置、容器或表面。 又酉子衣 10 本發明提供供高能量輻射源用《反射器。可與本 發明之反射器-起使用之高能量輕射源包括分立或連 續產生性質不同之燈，如閃光燈、孤光燈、雷射（連續 j非連績）、氘燈、或連續波光源（例如氙氣體或水銀 瘵汽光源）。此UV輻射源為高能量，即，其產生之能 量大於每脈衝O.U/cm2(對閃光燈而言）或2〇瓦特/ cm2(對連續輻射源而言），較好輻射之至少百分之一為 240至280nm。目前較宜之uv輻射源為一閃光燈系 15統，其有許多燈（如1至6個燈）產生每閃光至少 IJ/cm2寬光譜輻射（i〇0-3〇〇〇nm)，其中至少每閃光之 1 OmJ/cm為UV輕射。本發明較佳應用是用於閃光燈 系統’用以消毒隱形眼鏡（目標）。併於此處參考之美 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 國序號第09/259,758號“消毒方法”，VTN-388揭示 20 消毒1¾:形眼鏡更詳細之方法。240至280nm之輕射係 消毒微生物最有效之範圍，有許多參考指出254nrn是 該範圍之高峰。 反射器包括一反射材料及一漫反射表面。反射器 反射大於50%之衝擊於其上之240至280nm的輻 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1231380 at __ ____ B7 五、發明説明（A ) 6 射，較好是大於75%，更好是9〇%。本發明之許多 反射器使用此處所描述之材料反射大於95%之240至 280nm的輻射。對一些實施例而言，反射材料反射大 於50%之衝擊於其上之25〇至27〇nm的輻射，較好 5是大於75% ’更好是大於90%。240至280nm，及 250至270nm會被視為所要之範圍，反射器可以或不 會反射該指定範圍外之額外輻射，但是至少會反射在 所要範圍内之輻射的特定百分比。被反射之輻射量可 包括被反射器所吸收且於所要範圍内在不同波長下再 10次被發射之輻射。較好反射器反射衝擊於其上之所要 輻射之所有波長之至少一部分。反射材料可能不會依 單一百分比反射在所要範圍内之所有波長，所以某種 反射材料會較它種材料更適合某些應用。可以利用反 射材料之混合物來實現改良於所要範圍内在某種或全 15 部波長下之反射。 本發明之反射器較好提供一大於1 · 7，較好大於 2，且最好大於3之品質因數（“q，。。品質因數被界定 成自所有輻射源及其構形於閉合空穴中之反射器在目 標區中所測量之所有能量，除以來自各燈及反射器、 2〇個別在目標區或一打開空穴容量中所測量之能量總 和。對包括兩個反射器及兩個燈之較佳實施例而言， Q係大於3，較好大於4，最好大於5。 為反射器之部分的反射材料反射來自一輻射源之 輻射至一目標上。此目標可以為受任何以如消毒、光 料（CNS ) Μ^1^χ2987公餐）---~—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

1231380五、發明説明（ A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 敏化表面處理、光聚合作用等為目的輻射所影響之 材料抑目^可以為如產品，特別是一醫學產品，聚合 毅Μ單體田射介質及染料。較好之目標為要消毒之 醫學^品。本發明之反射器可成形為導引所要之輻射 至目私上。較好使用本發明之一或多個反射器於包含 或夕個燈之輻射系統。較好反射器實質上包圍或至 f局部包圍輕射源。較好反射器包圍自燈中心線起至 ^ 180 。此外，反射器較好也包圍目標。較好是： 反射器較好形成-包圍目標區或容積之空穴、隨道、 中工球體或室，其形狀配合目標之大致尺寸及形狀， 使得能自-反射器經過至另一反射器或自一表面經過 另一位於目標之相對側上之反射器之表面而不會穿經 目標或為目標所吸收之輻射量能為最少。較好少於由 各輻射源所產生之總輻射之5〇%，或更好少於25 15 %，或最少於10%能經過目標而不穿經目標或為目標 所吸收。目標區或容積係位於反射器之焦點或焦平 面。反射器直接或間接（即，所要之輻射在撞擊目標前 係衝擊在一裝置，如反射器之另一表面、鏡子、光纖 或類似者）反射所要輻射朝向目標。 本發明之漫反射為傳遞均勻的輻射量，至少傳遞 所要之輪射至一目‘區或谷積。均勻的輻射量意即在^ 目標區及/或容積内之能量水準之變化係少於 8mJ/cm2，較好少於6mJ/cm2，最好少.於5 mJ/cm2。在 目標區或容積内之能量水準之變化係少於15%，較好 請 先 閲 讀 背 注 意 事 項 再 填

10 20 -9- 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 訂 4

發明説明（ 1231380 >於10%，最好少於5%。因此，對於具有相等輕射 源（其由反射器包圍以形成具有一目標區或容積之處理 空穴)之兩輻射系統而言’僅有之差異為反射器之型 式，使用漫反射器之系統通常提供至少一相等的平均 輻射量至-目標區或容積，及一更均勻之輻射量於目 標區或容積中。 ίο 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 度反射器也提供較廣角度陣列之輻射，其具有之 好處是：在較佳實施例中，微生物逃脫該輻射之機會 較小。當使用鏡面反射器，輻射之入射角度並非如此 改變而增加了微生物因其他微生物或包裝中之折射、 衍射或反射元件而不受輻射之可能性。對一具有一個 或多個鏡面反射器之系統而言，到一目標區^戈容積之 入射角是自0.5至6度。對一具有本發明之一個或多 個反射器之系統而言，入射角度包括4〇度至18〇 度。在對目標之輻射中，入射角度較大的變化對微生 物為更致命的，且提供一較大對比度（c〇ntrast rati〇)。 該對比度係在一不被干擾（空的）目標區或容積内之輻 射強度與在一被干擾的目標區或容積内之輻射強度之 比率。一被干擾的目標區或容積，係指存在一或更多 元件於目標區或容積内，而由於吸收、反射、折射、 衍射、或散射減弱了強度之處。該種元件之範例包含 透鏡、包裝、微生物、氣泡、表面幾何形狀等。使用 5兒明於Ebel等人之美國專利申請案___ (VTN-443)之 消毒系統”中的監視系統，可測量該輕射，此一申 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210χ297公釐） 1231380 五、發明説明（9 二案於此將配合參考。經由放置一感測器在包裝内， ㈣之被干擾測量。本發明之反射器在目標區 =谷積内提供小於丨.5之對比度。此可與-可提供大 ;10之對比度的-鏡面(specular)反射器相比。 5 財發明之漫反射器用之較佳反射材料包含(但不 10 訂 侷限於此所述)鹼金屬化合物(氧化物與鹵化物)、重金 f氧化物（例如鋇）、二價金屬氧化物（例如鎮）、及多 仏金屬氧化物（例如镱或鋁）。亦可依據下列公 Ma〇AHd選擇反射材料，其中，M係—單_金屬或金 屬4物’較佳為稀土金^，〇係氧，χ係例如為 硫、氮、及亞磷等等之一雜原子（heter〇at〇叫，及Η 係較佳為氟之i化物，i至2G，較佳為丨至12， b係0至20，較佳為〇至12，c係〇至2〇，較佳 至12,及d係〇至2〇,較佳為〇至12，且具有^少 15 ^^或d係至少為1之條件。這些材料必須具有充份 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 之純度，以使不純度之水平不會劣化反射器功能。較 佳的，該材料具有高於99.9%之純度，更佳的，高於 99.99%之純度。有用之反射材料之範例均列於表^。' 20 包含在表1中的係反射材料之平均百分率反射性。百 分率反射性係經由將固體材料之乾燥粉末樣本包入一 比色器（cuvette)内，且比色器被置入具有一整體球面 之分光光度計中，並測量來自樣本所反射之輻射而決 定。 “ -11- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1231380 五、發明説明（1()) A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表1.反射材料 材料 觀察到 之視覺 顏色 °/〇R 平均值 200- 400 °/〇R 標準誤 差 200- 400 °/〇R 平均值 240- 280 °/〇R 標準誤 差 240- 280 °/〇R 平均值 200- 240 %R 標準誤 差 200- 240 氧化鋁 白色 93. 39 4. 93 90. 53 0. 43 87. 24 3. 58 硫酸鋇 白色 100.09 1. 71 100. 8 0. 27 101.03 3. 53 鈦酸鋇 米黃色 18. 55 10. 11 14. 42 0. 27 21. 44 9. 04 氧化鈽 米黃色 62. 69 26. 63 55. 84 18. 08 23. 08 11. 18 氧化斜 粉紅色 62. 69 26. 63 55. 84 18. 08 23. 08 11. 18 氧化銪 白色 54. 79 34. 3 45. 1 1. 26 23. 78 10. 73 二氧化鍺 白色 84. 13 21. 32 72. 83 10. 51 50. 72 14. 64 氧化給 米黃色 32. 26 7. 49 25.83 0. 51 31. 04 9· 69 氧化鈥 粉紅色 66. 75 27. 37 67. 18 20. 46 20. 88 9. 31 氧化鑭 白色 82. 99 28. 39 88. 23 11. 97 29. 49 12. 36 氟化鎂 白色 100.44 6. 12 95. 79 0. 75 110.28 7. 2 氧化鎂 白色 92. 27 14. 21 101.44 0. 52 19· 68 24. 49 氧化镨 黑色 13. 67 5. 59 12. 13 0. 33 20. 7 9. 49 氧化彭 淡黃色 68. 84 27. 62 51. 32 23. 08 27. 58 6. 59 氧化蹄 白色 35· 95 22. 24 18. 56 0. 39 28. 1 11. 42 氧化铽 栋色 13. 11 6. 09 11. 55 0. 58 21. 15 9. 99 二氧化鈇 白色 14. 92 5. 17 13. 12 0. 28 20. 75 9. 14 氧化鏡 白色 70. 72 33. 16 45. 8 26. 02 23. 2 11. 84 氧化在乙 白色 85. 81 24. 14 89. 38 6. 51 41. 14 15. 4 氧化鋅 白色 15. 85 13. 39 10. 99 0. 35 20. 72 11. 36 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1231380 at Β7 五、發明説明（n ) 反射材料之式子中，當a為1至6且b為2至 11，及c與d為〇時，則反射材料為金屬氧化物，如 氧化鈣（CaO)及氧化铪（Hf02)，氧化鑭（La203)，氧化軾 (Tb407)，及鈦酸鋇（BaTi03)為1且d為2及1)與 5 c為0之反射材料的範例為氟化鎂（MgF2)。反射材料 另外之範例包括氧化鎂（MgO)、氧化鋁（A1203)、氧化 鋇（BaO)、鈦酸鋇（BaTi03)、氧化钬（H0203)、氧化鈣 (CaO)、氧化鑭（La203)、氧化鍺（Ge02)、氧化碲 (Te02)、氧化銪（Eu203)、氧化铒（Er2〇3)、氧化鉉 10 (Nd203)、氧化釤（Sm203)、氧化镱（Yb2〇3)、氧化釔 (丫2〇3)、氟化鎂（MgF2)、硫酸鋇（BaS04)及氧化鏑 (Dy2〇3)。其他範例包括其他稀土族之耐火氧化物，稀 土族iS化物及金屬混合氧化物。較佳之反射材料為氧 化鎂、氟化鎂、氧化鋁、硫酸鋇、氧化鑭、氧化釔及 15氧化镱，且最佳者為氧化鎂、氟化鎂、氧化鋁及硫酸 鋇。 反射器之較佳形狀為橢圓形。就單一橢圓形反射 器而言，目標區或容積及燈之位置較佳位於橢圓之焦 點。就具有一個以上之反射器的輻射系統而言，反射 2〇為較佳相交以形成空穴，目標區或容積較佳位於或涵 盍橢圓之焦點處，且一或多個燈位於橢圓之相對焦點 上。較佳之設計中，其具有二個橢圓型反射器，燈對 面之各反射為的焦點係位於目標容積内之不同位置。 較佳設計（如圖i所示）中，下面之反射器的焦點係 國家i^CNS ) 釐)~*-——— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1231380 ------—. 五、發明説明（） 12 ； H於目標容積之頂端，而上面之反射器的焦點係位於 目標容積之底部。 圖1顯示本發明供使用在例如為一閃光燈系統 iOOC可於美國專利 4,464,336; 5,034,235;及 4,871，559 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5中找出閃光燈系統之更多訊息，這些專利亦於此配合 參考）的一輻射系統1〇〇中之二漫反射器11〇與12〇。 輕射系統包括反射器110與120，及閃光燈13()與 W0 °反射器110實質上圍繞閃光燈13〇。反射器12〇 貫質上圍繞閃光燈140。個別之閃光燈130、140均位 ίο於每一反射器no、ία之一焦點處。反射器11〇與 120圍繞放置目標17〇之目標容積16〇(以虛線顯示）。 反射益110、120之第二焦距（未示於圖）均位於目標容 積内。如圖所示，反射器均被成形以提供一目標容 積，其允許最小輻射自一反射器傳送至另一反射器而 15不會通過該目標。目標17〇係含有一隱形眼鏡（未示於 圖）及溶液（未示於圖）之一隱形眼鏡容器。目標17〇係 由界定目標容積160之底部的一目標支撐件所固持於 定位。目標支撐# 150係一透明玻璃、結晶材料、石 英板或類似物。於圖1中，顯示閃光燈系統1〇〇具有 2〇 一直立組態；但是，系統可以被旋轉任何數量:角 度；但是，目標支撐件15〇也許必須修正或變化為例 如一鉤、輸送器、或中空塊，以使適應目標17〇。可 選擇的’可以有任何數量之反射器來料目標處之輕 射。較佳的，反射器均被設計以形成一密閉空穴，其 ________ -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規招210X297公董)---- 五、 13 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1231380 發明説明（ 可由一門或類似物開啟，以將目標置入空穴内，當空 穴關閉時可進行以輻射處理，且然後，空穴可被開啟 或進入’以移除處理後之目標。當空穴關閉時，空穴 係為不透光的。 5 所不之反射器具有相同尺寸與形狀；但是，如果 而要’其可為不同的。如圖所示，每一反射器110與 U0包括一反射器支撐件121、123及一反射塗層 122、124。反射塗層m、n4可由任何反射材料製 成，其提供一漫射反射層。反射塗層122、124均被 10顯示為一單層，但如果需要，塗層122、124可包括 多種反射材料之多數層。 反射塗層122、124可以為相同或不同的，且可由 塗佈、噴霧、浸潰、澆鑄、轉化塗層、凝膠塗層、蝕 刻、化學蒸汽澱積、噴鍍、電漿噴霧、雷射澱積、或 15例如由包括衰減材料之一薄膜的膠黏劑之化學或機械 黏合:被施加於反射器支樓件121、123。施 層之較佳方法係將反射材料塗佈或喷霧至反射器支撐 件121、123上。為使將之塗佈或喷霧至支撐件ΐ2ι、 123上，形成較佳的包括反射材料及黏合劑之一水的 2〇或非水的懸浮體。有用之黏合劑為聚合性的、無機的 或溶朦，較佳為無機的或溶膝，及最佳為無機的。較 佳之懸浮液包含0」i 50%重量比之黏合劑、〇1至 99.9%重量比之反射材料及〇1至9〇%重量比之載體。 載體為用以形成反射材料與黏合劑之稀釋液以塗敷淹

本紙張尺度剌t酬家) A4規格（21^^7公釐J (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

五 發明説明（15) 中之甲氧基乙氧化釤、甲苯-異丙醇中之 異丙乳化镱、2_甲氧芙7龄士 甲贫里石^ 中之2-甲氧基乙氧化镱、 異丙醇中之乙基己酸二異丙氧化纪、甲苯-異丙 二二乙基己醯單異丙氧化釔。較佳之溶膠先質為昱 =中之乙基己酿二異丙氧化铒、己烧中之2_乙基： 笨-異丙醇中之異丙氧㈣、異丙醇中之乙基 =異丙氧化鈥、甲苯_異丙醇中之異丙氧化鈥、2_ 甲乳基乙醇中之2-甲氧基乙氧化鈥、乙酸鑭、己燒中 10 之J乙基己酸鑭、異丙氧化鑭、2_甲氧基乙醇中之2_ 甲氧基乙氧化鑭、乙醇中之乙氧化鎮、甲醇中之 化鎂2甲氧基乙醇中之2•甲氧基乙氧化鎮、甲苯異 丙醇中之乙基己酿單異丙氧化彭、己烧中之2•乙基^ 酸釤、：苯-異丙醇中之異丙氧化釤、甲苯-異丙醇中 15 t異丙乳化镱、2_甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化 镱、甲笨-異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化釔、甲笨_ :、丙醇中之乙基己醯單異丙氧化記。更佳之溶膠先質 為U义鑭、己烷中之2-乙基己酸鑭、異丙氧化鑭、2_ 甲氧基$醇中之2_甲氧基乙氧化鑭、甲苯-異丙醇中 之異丙氧化镱、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化 2〇镱、甲苯-異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化釔、甲笨_ 異丙醇中之乙基己醯單異丙氧化釔。 某些黏合劑可單獨用作反射材料，特別是可如上 述應用於懸浮液中或燒結中以形成塗層或固態團塊之 反射組成物的溶膠。可單獨用作反射材料之黏合劑先 16 1231380 五、發明説明（ 質的範例包括異丙氧化鏑、異丙醇令 丙氧化鏑、己烷中之2_ 土己異 5 10 15 之異丙氧化鋼、”氧二基醇己:鋼1苯-異丙醇中 鋼、異丙醇中之乙基己：-C基乙氧化 乙基己酸铒，-異丙醇；:丙異：=己貌中之， 之乙基己醯二異丙氧化異丙醇中 鈥、2-甲氧乙醇中之2 ^本異丙醇中之異丙氧化 . · 甲氧乙氧化鈥、乙酸鑭、己俨 2二2A乙基己酸鑭、異丙氧化鑭、2·甲氧基乙醇中： 1乳基乙氧化鑭、乙醇中之乙氧_、 氧化鎂、2-甲氧基乙醇中 中之甲 醇中之田 乳基乙氧化鎂、異丙 知中之乙基己匕異丙氧化斂，己烷中之2 Γ甲：：_異丙醇中之異丙氧化斂、2_甲氧基乙；中； 2-甲氧基乙氧化敛、甲笑| $ 本異丙醇中之乙基己醯單显丙 己烧中之2-乙基己酸彭、甲苯-異丙醇中； 甲Γ異二、广甲氧基乙醇中之2-，氧基乙氧化彭、 甲異丙醇中之異丙氧化镱、2·甲氧基乙醇中之” 釔土甲f思、甲苯-異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化 、甲本-異丙醇中之乙基己酿單異丙氧化紀。 抑或上述反射塗層可包含上述任一反射材料及黏 6劑，其以膜形狀形成且爾後以化學或機械 二 以 曰 取 ^射器支撐件。或者，反射材料可以組合金屬氧二 物或粉末玻璃且被燒結以形成反射材料 用化學或機械方式接合至反射器支撐件。如上述; 佳反射材料為硫酸鋇、氧化鋁、氟化鎂及氧化鎂。 20 19 !231380 五、發明説明（ 5 10 15 射吉為防止來自1^射源之輕 、原240盘入射目標’反射阻撞元件2〇2係被置於輻射 有、一二目f 270之間。反射阻擔元件202較佳的具 、：：之幾何形式更佳的為—光學集申形式，且 射光學鏡片之整體形式。有用之形狀的範 阻幹二(示於® 2)及一半圓形。較佳的，反射 擋疋件係包括於此說明之反射材料之一漫反射考。 撞元件可包括任何於此說明之反射器組成物。 二接it件之尺寸可阻塞任何來自輕射源至目 一於此所述之所有漫反射器可包括做為在反射器上 ^塗層:或做為反射器組成物之添加劑的可選用衰 *料。衷減材料均被使用以自輻射中衰減不需要之 輪射，該_由輻射源所製造且最終會抵達目標。 农,材料及添加衰減材料至一輕射系統的方式，均揭 U明在同時地申請之KimbeI等人之美國序號 ：――的“具有用以選擇地衰減輻射之材料的UV輻射 =統”中（VTN-0462)，於此將配合參考。於該參考案 所揭不之任何衰減材料與將衰減材料結合進入一輻 者系、’先的方式’均可使用在於此所述之反射器中。事 貝上在芩考申請案中所揭示之某些衰減材料， :明有用之反射材料。因為某些反射材料可反射二 t 射且吸收其他波長之幸畐射，，.小心的選擇反射 材枓可被用以衰減不需要之輕射。為使較佳地使用本 20 1231380

^月之^射即為’在—消毒隱形眼鏡之輕射系統 ，較佳的，衰減會損壞隱形眼鏡聚合物之自100至 11111之輻射。較佳的，衰減大於30%之將抵達隱形 $ :艮鏡聚合物，輕射，更佳的大於6〇%，且最佳的：於 0/〇/亦可衰減自1〇〇至24〇nm之輻射的反射材料範 例’係為氧化鎂、氧化鑭、氧化鏡、氧化釔。 與具有才目同形狀之鏡面反射器比車交，使用具有任 何形狀之-漫反射器，可大為改良被引導至目標區或 J積之輻射的均勻性。此外，輻射之數量可因漫反射 0 =或反射态而增加，該反射器至少部份地圍繞該燈或 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 多數之燈’甚至更佳的至少實質上圍繞該燈與目標， 形成較佳為一密閉空穴之一空穴或室，於其中，由空 八之反射表面與燈將所有輻射引導朝向目標。該一或 更多之反射器可具有一圓筒形、多邊形、抛物線或擔 15圓形狀，但是，較佳形狀係一橢圓形狀。橢圓形反射 益係不於圖1與圖2中。習知技術反射器係為鏡面， 且具有導致大量損失輻射之直側邊，特別是當輻射以 小的入射角度撞擊直側邊時。較佳輻射系統包括二橢 圓形狀反射器，其具有在反射器空穴與目標之間有最 20小空隙之一目標容積，以將自一反射器通過至另一反 射器且不會撞擊目標之輻射數量減至最小。但是，任 何組態之一或更多的漫反射器可提供於此說明之益 處。 1231380 A7 -------------B7五、發明説明（21 ) 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 息例與比較蓺例 使用一光譜輻射計監視系統來測量在目標區内位 於240至280nm之所需範圍内的輻射，該輻射係由二 習知技術反射器與本發明之一反射器，個別與成對 地，使用脈衝輻射系統在目標區處被導引。監視系統 進一步的說明在Ebel等人之美國專利申請案 ------(VTN_443)之“消毒系統”中，稍早已配合參 考。Ebel等人揭示之監視系統，可測量每一閃光燈之 光譜輻射計輸出。反射器成對地裝配在相同輻射系統 内，且光瑨輪射計測量被執行。所有反射器均具有相 同抛物線形狀。幸S射系統係—purepulse PBS 1 _4系統 (由 PurePulse Technologies，Inc·，San Diego, CA 所生 產），其由串聯連接之二閃光燈組件所組成，每一閃光 燈組件由一燈構成，且一反射器部份地圍繞該燈。 PBS 1-4系統由一脈衝產生器及控制電路所構成，脈 衝產生器由於其之大電容（8〇-16〇|LlF)與高電位（大於 6kV)而可產生一大能量脈衝。二燈產生一寬輻射光 °曰，包含了紫外線、紅外線、及可視光。對使用於下 說明之反射器的此一範例所進行的三個測量中之二個 而言，來自第二燈與反射器之輻射，經由使用一鋁片 ，燈組件之間，而與來自第一燈與反射器（對其進行測 量）的輻射隔離。進行之第一測量，係使用以在自燈組 件之保護窗21mm距離之目標區内，·產生供一燈與一 反射器（一燈組件）用之每一閃光的輻射能之輪廓標繪

A7 B7 1231380 五、發明説明（ 23 之為一光片（Light Sheet)。被引導進入使用習知技術 反射器B之燈的目標區内之輻射能的輪廓標繪圖係示 於圖4中。圖7顯示測量一使用習知技術反射器b之 一燈組件於不同燈電壓下自240至280nm之總能量曲 5 線，及由使用反射器B的二燈組件所形成之一空穴内 的總能量之第二曲線。反射器B比習知技術反射器a 提供一更均勻之能量水平。 反射器c係經由塗覆BaS〇4至習知技術反射器a 而修正製成。習知技術反射器A之表面，首先以小破 10璃珠喷砂。經由混合1重量份之矽酸鈉（黏合劑），1〇 重里伤之硫酸鋇（反射材料）及1 〇重量份之水（載體）， 製備一硫酸鋇塗層組成物。20層之塗層組成物被噴霧 至鋁基質上。每一塗層在塗層之間被空氣乾燥。被引 導進入使用反射器C之燈的目標區内之輻射能的輪廓 15標繪圖係示於圖5中。圖8顯示測量一使用反射器c 之燈組件於不同燈電壓下自240至28〇nm之總能量曲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 線，及由使用反射器C的二燈組件所形成之一空穴内 的總能量之第二曲線。 與習知技術反射器A與反射器b(圖3與圖4)比 20較，反射器C(圖5)之輪廓標繪圖顯示漫反射器於目標 區域處引導之能量均勻性增加。較大之均勻性降低了 楗生物可避開消毒所需的最小劑量之機會。在輪廓標 繪圖上之圓係代表目標，即為，可移除地互相附接之 12個隱形眼鏡容器。這些可移除附接容器，共同使用 1231380 A7 ---- B7 i、發明説明（ ^---- 24 以組成隱形眼鏡容器之多數包裝。 與圖6比較，圖8顯示當本發明之較佳漫反射器 被使用以至少部份地圍繞燈與目標區或容積時（雖然更 佳為使用以形成一空穴（更佳為一密閉空穴），其中來 5自該燈之輻射可被反射及再反射且被引導於目標處）， 比使用鏡面反射器之相同室具有一較高之Q與較高能 量。 本發明已參照特別實施例加以說明；但是，對習 於本技藝者可清楚了解申請專利範圍之範_内的變 10 化0 (請先閲讀背面之注意事項再填· 頁 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X297公釐）

Claims (1)

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六、申請專利範圍 專利申請案第89113913號 放 ^ “ ROC Patent Appln. No.89113913 修正後無劃線之中文申請專利範圍替換頁—附 Amended Claims in Chinese — End (T) ’ 「民國92年11月U曰送呈） (Submitted on November {少，2003) •一種供輻射系統用之反射器，其包含一漫射反射表 面其中該反射器包含一或多個選自由氧化辦、氧化 铪、氧化鑭、氧化铽、鈦酸鋇、氟化鎂、氧化鎂、氧 化鋁、氧化鋇、氧化鈥、氧化鍺、氧化碲、氧化銪、 氧化铒、氧化鈥、氧化釤、氧化镱、氧化釔、硫酸鋇 及氧化鏑組成之群組的反射材料，該反射器反射大於 50%之240至280 nm的轄射。 2.如申請專職圍第丨項之反射n，其巾該反射器反射 大於75%之240至280 nm的輕射。 3·如申請專利範圍第！項之反射器，其中該反射器反射 大於90%之240至280 nm的輻射。 4·如申請專利範圍帛丨項之反射器，其中該反射器反射 大於90%之250至270 nm的輻射。 5. 如申請專利範圍帛i項之反射器，其中該反射器為橢 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圓形。 6. 如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器對目 標區提供輻射能，其中該能量之變異小於8毫焦耳/平 方公分。 7·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器對目標 區提供輻射能，其中該能量之變異小於15%。 -27 - 89353B-接 1 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐） 1231380 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 8·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器對目 標區提供輻射能，其中該能量之變異小於10%。 9·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器對目 標區提供輻射能，其中輻射包含40至180度之入射 5 角。 10·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器提供 小於1·5之對比度。 11·如申請專利範圍第1項之反射器，其包含一或多個純 度大於99.9%之反射材料。 10 12·如申請專利範圍第丨項之反射器，其包含一或多個選 自由稀土族、稀土族_化物及金屬混合氧化物組成之 群組的反射材料。 13.如申請專利範圍第丨項之反射器，其包含一或多個選 自由氧化鎂、氟化鎂、氧化鋁、硫酸鋇、氧化鑭、氧 15 化镱及氧化釔組成之群組的反射材料。 14·如申請專利範圍第丨項之反射器，其包含一或多個選 自由氧化鎂、氟化鎂、氧化鋁及硫酸鋇組成之群組的 反射材料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15·如申請專利範圍第丨項之反射器，其中該反射器包含 20 一反射塗層或附於支樓件之膜。 16·如申請專利範圍第15項之反射器，其中該反射器包含 一反射塗層’其藉由選自包含塗刷、噴射、浸潰、洗 每、轉化塗刷、凝耀塗刷、姓刻、化學蒸汽沉積、賤 射、電漿喷射及雷射沉積之方法施予。 -28 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（21〇 χ 297公爱） "" --- 【231380

六、申請專利範 n•如申請專利範圍第15項之反射器，其中該反射塗層或 膜為〇·1至2500微米。 18·如申請專利範圍第丨項之反射器，其中該反射器包含 包裝的粉末或團塊之反射材料。 5 I9·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器包含 選自由聚乙烯醇、氰基丙烯酸酯、丙烯酸類及矽酮組 成之群組的材料。 2〇·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器包含 選自由石夕酸鈉、低溫燒結玻璃、驗金屬氧化物石夕酸鹽 10 組成之群組的材料。 0 21·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器包含 選自由第三丁氧化鋁、矽酸鈉、四乙基原矽酸g旨 (TEOS )、金屬異丙氧化物、異丙氧化鏑、異丙醇中 之乙基己醯二異丙氧化鏑、己烷中之2-乙基己酸鏑、 15 曱苯-異丙醇中之異丙氧化鏑、2-甲氧基乙醇中之厶甲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 氧基乙氧化鏑、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化斜、 己烷中之2-乙基己酸铒、曱苯-異丙醇中之異丙氧化 斜、2_甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化铒、異丙醇中 之乙基己醯二異丙氧化鈥、曱苯-異丙醇中之異丙氧^匕 2〇 鈥、孓甲氧基乙醇中之2-曱氧基乙氧化鈥、乙酸鑭、 己烷中之2-乙基己酸鑭、異丙氧化鑭、孓甲氧基乙醇 中之2-曱氧基乙氧化鑭、乙醇中之乙氧化鎂、甲醇中 之甲氧化鎂、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化鎂、 異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化鈥、己燒中之2、乙臭 -29 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（21〇 x 297公爱） 1231380 _ C8 RW。修正 -..... £)8 r H 六、申請專利範圍 "—"~ 己酸鈥、曱苯-異丙醇中之異丙氧化敍、2_甲氧基乙醇 中之2-甲氧基乙氧化鈦、曱苯異丙醇中之乙基己酿單 異丙氧化纟彡、己糾之2_乙基己咖、異丙醇中 之異丙氧化彭、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化 5 彭、曱苯-異丙醇中之異丙氧化髟、2-甲氧基乙醇中之 2-甲氧基乙氧偏彡、甲苯_異丙醇巾之異丙氧化镱、l 甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化镱、甲苯·異丙醇中之 異丙氧化釔、甲苯-異丙醇中之乙基己醯單異丙氧化釔 組成之群組的材料。 1〇 22·如申請專利範圍第1項之反射器，其中該反射器包含 選自由硫酸鋇、氧化鋁、氟化鎂及氧化鎂組成之群組 的反射材料。 23· —種輻射系統，包括至少一輻射源，及至少部份地圍 繞該至少一輻射源之至少一反射器，其中，該至少一 15 反射器係為漫射的。 24·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該至少一 輻射源係一閃光燈。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 25·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，進一步包 括多數輻射源，每一該輻射源均至少部份地由多數反 20 射器所圍繞，且其中，該多數反射器為漫射的。 26·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該至少一 反射器有一漫射反射表面，反射大於50%之自240至 28〇nm之輻射。 27.如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該至少一 -30 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1231380 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 反射器完全地圍繞該至少一輻射源以形成一密閉空 穴。 28·如申請專利範圍第27項之輻射系統，其中，該空穴之 所有内側表面係可漫射地反射，且其反射大於50%之 自240至280 nm之輻射。 29·如申睛專利範圍第23項之輕射系統，其中，進^一步包 括多數輻射源，每一輻射源至少部份地被多數之該反 射器所圍繞，且該反射器形成一空穴，於其中，目標 區係置於反射器之焦距或焦面。 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 30·如申請專利範圍第29項之輻射系統，其中，該些反射 器為橢圓形狀，且該些輻射源置於橢圓形狀反射器之 相對焦距處。 31 ·如申睛專利範圍第23項之輕射糸統’其中，該至少一 反射器係橢圓形狀。 ’ 32·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，進一步包 括一目標容積，其中，該目標容積包括在一隱形眼鏡 包裝内之一隱形眼鏡。 33·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該輻射系 統係用以消毒。 34·如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，每一燈具 有至少一反射器，且該至少一反射器提供大於1.7之 品質因數。 35·如申請專利範圍第34項之輻射系統，其中，該至少一 反射器提供大於2之品質因數。 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐） 1231380 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 修正 細 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 36. 如申請專利範圍第34項之輻射系統，其中，該至少一 反射器提供大於3之品質因數。 37. 如申請專利範圍第29項之輻射系統，其中，可自一反 射器通過至另一反射器而無經過該目標之輻射的數 5 量，係小於50°/〇。 38. 如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，進一步包 括一反射阻擋元件。 39. 如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，進一步包 括衰減材料。 10 40.如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該至少一 反射器包括大於99.9%純度之反射材料。 41.如申請專利範圍第23項之輻射系統，其中，該至少一 反射器包括選自由硫酸鋇、氧化鋁、氟化鎂及氧化鎂 組成之群組中之反射材料。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐）