JPH11180733A - 光触媒膜付きガラス - Google Patents
光触媒膜付きガラスInfo
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- JPH11180733A JPH11180733A JP9349089A JP34908997A JPH11180733A JP H11180733 A JPH11180733 A JP H11180733A JP 9349089 A JP9349089 A JP 9349089A JP 34908997 A JP34908997 A JP 34908997A JP H11180733 A JPH11180733 A JP H11180733A
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Landscapes
- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線を人体に暴露することなく、板ガラス
の少なくとも片面の光触媒膜に光照射して光触媒膜を活
性化し、防曇機能を発揮できるようにすること。 【解決手段】 板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を
形成し、板ガラスの端面、または一方の面周縁部の、光
触媒膜を形成していない適宜箇所に、前記光触媒の励起
光源を、励起光が前記箇所から漏出しないように配設
し、または／および入射面を設計し、前記箇所より板ガ
ラス内に励起光を入射し、板ガラス内を繰返し全反射さ
せて板ガラス内を伝播させるようにした光触媒膜付きガ
ラス。
の少なくとも片面の光触媒膜に光照射して光触媒膜を活
性化し、防曇機能を発揮できるようにすること。 【解決手段】 板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を
形成し、板ガラスの端面、または一方の面周縁部の、光
触媒膜を形成していない適宜箇所に、前記光触媒の励起
光源を、励起光が前記箇所から漏出しないように配設
し、または／および入射面を設計し、前記箇所より板ガ
ラス内に励起光を入射し、板ガラス内を繰返し全反射さ
せて板ガラス内を伝播させるようにした光触媒膜付きガ
ラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、車両などの輸送機
器用や、ショウウインドウやショウケースなどの表示
用、あるいは一般建築用の窓材等として利用される板ガ
ラスにおいて、板ガラス（窓材）の少なくとも片面に光
触媒膜を形成し、それに励起光（紫外線）照射すること
により、光触媒膜を光化学的に活性化させ、板ガラス
（窓材）に付着した有機質の塵埃を分解除去したり、前
記活性化により、板ガラス（窓材）に親水性を付与し、
その一面側と他面側における温度や湿度の違いに基づく
水蒸気の露滴の発生を抑制するものあり、殊に前記励起
光（紫外線）が人体に悪影響を及ぼさないように設計し
た光触媒膜付きガラスに関する。
器用や、ショウウインドウやショウケースなどの表示
用、あるいは一般建築用の窓材等として利用される板ガ
ラスにおいて、板ガラス（窓材）の少なくとも片面に光
触媒膜を形成し、それに励起光（紫外線）照射すること
により、光触媒膜を光化学的に活性化させ、板ガラス
（窓材）に付着した有機質の塵埃を分解除去したり、前
記活性化により、板ガラス（窓材）に親水性を付与し、
その一面側と他面側における温度や湿度の違いに基づく
水蒸気の露滴の発生を抑制するものあり、殊に前記励起
光（紫外線）が人体に悪影響を及ぼさないように設計し
た光触媒膜付きガラスに関する。
【０００２】
【従来技術および解決すべき課題】光触媒物質（例えば
TiO2半導体）は、それが高エネルギー光（紫外線）で励
起されて、電子−正孔対が生じ、これら電子（e-）、正
孔（h+) が、その表面の吸着、付着物質を酸化還元し、
例えば有機物質は分解、酸化・還元され除去されるもの
で、光触媒物質は、吸着有機物質（疎水性物）を分解除
去して親水化し、また水が光触媒物質表面で−OHのかた
ちで化学吸着され、さらに付着する水はそれと結合して
滑らかな水膜を形成し、水の露滴すなわち曇りを防ぐも
のと考えられている。
TiO2半導体）は、それが高エネルギー光（紫外線）で励
起されて、電子−正孔対が生じ、これら電子（e-）、正
孔（h+) が、その表面の吸着、付着物質を酸化還元し、
例えば有機物質は分解、酸化・還元され除去されるもの
で、光触媒物質は、吸着有機物質（疎水性物）を分解除
去して親水化し、また水が光触媒物質表面で−OHのかた
ちで化学吸着され、さらに付着する水はそれと結合して
滑らかな水膜を形成し、水の露滴すなわち曇りを防ぐも
のと考えられている。
【０００３】光触媒物質を活性化するうえで励起光が必
要であり、太陽光（紫外域）も有効な活性化手段である
が、太陽光が充分に入射しない箇所においては、励起光
である紫外線を照射する必要が生ずる。ところが、紫外
線は人の目や皮膚に接すると炎症を生じさせたり、とき
に癌を発生させる等、人体の健康を害するものである。
要であり、太陽光（紫外域）も有効な活性化手段である
が、太陽光が充分に入射しない箇所においては、励起光
である紫外線を照射する必要が生ずる。ところが、紫外
線は人の目や皮膚に接すると炎症を生じさせたり、とき
に癌を発生させる等、人体の健康を害するものである。
【０００４】本発明は、紫外線の照射に際して、上記弊
害を排除した光触媒膜付きガラスを提供することを目的
とする。
害を排除した光触媒膜付きガラスを提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、板ガラスの少
なくとも片面に光触媒膜を形成し、板ガラスの端面に対
して前記光触媒の励起光源を、励起光が前記端面から漏
出しないように配し、前記端面から板ガラス内に励起光
を入射し、板ガラス内を繰返し全反射させて板ガラス内
を伝播させるようにした光触媒膜付きガラスである。
なくとも片面に光触媒膜を形成し、板ガラスの端面に対
して前記光触媒の励起光源を、励起光が前記端面から漏
出しないように配し、前記端面から板ガラス内に励起光
を入射し、板ガラス内を繰返し全反射させて板ガラス内
を伝播させるようにした光触媒膜付きガラスである。
【０００６】また本発明は、板ガラスの少なくとも片面
に光触媒膜を形成し、板ガラスの一方の面の周縁部の光
触媒膜を形成していない適宜箇所に、前記光触媒の励起
光源を、励起光が前記箇所から漏出しないように配し、
前記箇所より板ガラス内に励起光を入射し、板ガラス内
を繰返し全反射させて板ガラスを伝播させるべく、前記
励起光の前記一方の面 X−X'における屈折角γt を設定
してなる光触媒膜付きガラスである。
に光触媒膜を形成し、板ガラスの一方の面の周縁部の光
触媒膜を形成していない適宜箇所に、前記光触媒の励起
光源を、励起光が前記箇所から漏出しないように配し、
前記箇所より板ガラス内に励起光を入射し、板ガラス内
を繰返し全反射させて板ガラスを伝播させるべく、前記
励起光の前記一方の面 X−X'における屈折角γt を設定
してなる光触媒膜付きガラスである。
【０００７】なお、上記において、一方の面 X−X'に対
する入射励起光の屈折角γt が、41.8°以上になるよう
に励起光入射条件を調整するものである。
する入射励起光の屈折角γt が、41.8°以上になるよう
に励起光入射条件を調整するものである。
【０００８】更に、励起光の入射箇所のガラス面を、上
記一方の面 X−X'に対して傾斜させた面とするのがよ
い。
記一方の面 X−X'に対して傾斜させた面とするのがよ
い。
【０００９】また、前記いずれのケースにおいても、励
起光の入射箇所に、光導入ホログラム、またはプリズム
を添設し、それら光導入ホログラム、またはプリズムを
介して励起光を入射するようにすることもできる。
起光の入射箇所に、光導入ホログラム、またはプリズム
を添設し、それら光導入ホログラム、またはプリズムを
介して励起光を入射するようにすることもできる。
【００１０】加えて、前記いずれのケースにおいても、
光触媒膜と板ガラスとの間に、該光触媒膜より屈折率の
低い透明酸化物の膜を介在させるのもよい。
光触媒膜と板ガラスとの間に、該光触媒膜より屈折率の
低い透明酸化物の膜を介在させるのもよい。
【００１１】
【発明の実施の形態および実施例】先述した如く、本発
明は車両などの輸送機器用や、ショウウインドウやショ
ウケースなどの表示用、あるいは一般建築用の窓材等と
して利用される板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を
形成するものである。特に自動車や鉄道車両等の窓や、
厨房、浴室等の窓においては、室内側の水分（水蒸気）
の篭もり易い側のガラス面に、水滴の付着による曇りが
発生し易い。このようなケースにおいては、ガラス板片
面に光触媒膜を形成すれば、曇りを除去できる。
明は車両などの輸送機器用や、ショウウインドウやショ
ウケースなどの表示用、あるいは一般建築用の窓材等と
して利用される板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を
形成するものである。特に自動車や鉄道車両等の窓や、
厨房、浴室等の窓においては、室内側の水分（水蒸気）
の篭もり易い側のガラス面に、水滴の付着による曇りが
発生し易い。このようなケースにおいては、ガラス板片
面に光触媒膜を形成すれば、曇りを除去できる。
【００１２】勿論、ガラス板両面に光触媒膜を形成する
場合は、いずれの面に曇りが生じても、曇りの除去が可
能となる。
場合は、いずれの面に曇りが生じても、曇りの除去が可
能となる。
【００１３】Ｉ. 励起光を板ガラス端面から入射する実
施形態および実施例 図１は、本発明における励起光を板ガラス端面から入射
する形態を示した概略断面図であり、図１Ａは励起光源
としてランプ５を用いた態様、図１Ｂは励起光を光ファ
イバーを介し光照射部５’より照射する態様を示した。
施形態および実施例 図１は、本発明における励起光を板ガラス端面から入射
する形態を示した概略断面図であり、図１Ａは励起光源
としてランプ５を用いた態様、図１Ｂは励起光を光ファ
イバーを介し光照射部５’より照射する態様を示した。
【００１４】板ガラス１としては、アルミノ珪酸アルカ
リ系ガラス、アルカリ珪酸系ガラス、硼珪酸系ガラス、
ソーダ石灰シリカ系ガラスを含むアルカリ石灰珪酸系ガ
ラスなど、あるいはそれらの強化ガラス等があるが、１
例としてフロート法により製板したソーダ石灰系の板ガ
ラス１を採用する。
リ系ガラス、アルカリ珪酸系ガラス、硼珪酸系ガラス、
ソーダ石灰シリカ系ガラスを含むアルカリ石灰珪酸系ガ
ラスなど、あるいはそれらの強化ガラス等があるが、１
例としてフロート法により製板したソーダ石灰系の板ガ
ラス１を採用する。
【００１５】前記板ガラス１の片面には、光触媒物質よ
りなり、あるいは光触媒物質を主体とする膜（光触媒
膜）３を形成し、他方の面９には、光触媒膜は形成して
いない。
りなり、あるいは光触媒物質を主体とする膜（光触媒
膜）３を形成し、他方の面９には、光触媒膜は形成して
いない。
【００１６】なお、板ガラス１は表裏面が平行なガラス
であるから、板ガラスの片面に配した光触媒膜３は、板
ガラスの他方の面９と平行しており、また、板ガラスの
端面４（帯状に連続生産される板ガラスの切断面）を表
裏面と直交させる（表裏面と直角に切断する）ことも当
然のことである。
であるから、板ガラスの片面に配した光触媒膜３は、板
ガラスの他方の面９と平行しており、また、板ガラスの
端面４（帯状に連続生産される板ガラスの切断面）を表
裏面と直交させる（表裏面と直角に切断する）ことも当
然のことである。
【００１７】図１Ａにおいて、光源５は板ガラスの端面
４の例えば上方に配置され、ランプシェード６に覆わ
れ、励起光２が外に漏出しないようにする。図１Ｂにお
いては、光源からの励起光を、凸レンズや凹面鏡等の集
光手段を介して光ファイバーに導入し（図示せず）、該
光ファイバーを介して光照射部５’より照射するように
したもので、同様にシェード６により励起光２の漏出を
防ぐ。このケースにおいては、太陽光等、別箇所に配し
た紫外線光源を利用でき、また、図１Ａのランプ５を用
いる場合に比べ光発散（照射）スペースをコンパクトに
設計できるという利点を有する。
４の例えば上方に配置され、ランプシェード６に覆わ
れ、励起光２が外に漏出しないようにする。図１Ｂにお
いては、光源からの励起光を、凸レンズや凹面鏡等の集
光手段を介して光ファイバーに導入し（図示せず）、該
光ファイバーを介して光照射部５’より照射するように
したもので、同様にシェード６により励起光２の漏出を
防ぐ。このケースにおいては、太陽光等、別箇所に配し
た紫外線光源を利用でき、また、図１Ａのランプ５を用
いる場合に比べ光発散（照射）スペースをコンパクトに
設計できるという利点を有する。
【００１８】励起光２（以下単に光という）は、前記光
触媒膜を構成する光触媒物質を励起し、活性化する光を
いい、好適例としては、光触媒物質として最適なアナタ
ーゼ（アナターゼを混在した複合物質も含む）を活性化
するうえで効果的な波長域 320〜 390nm程度の紫外光を
含む光をいう。
触媒膜を構成する光触媒物質を励起し、活性化する光を
いい、好適例としては、光触媒物質として最適なアナタ
ーゼ（アナターゼを混在した複合物質も含む）を活性化
するうえで効果的な波長域 320〜 390nm程度の紫外光を
含む光をいう。
【００１９】光源５より発散し、または光照射部５’よ
り照射して、板ガラスの端面４に入射し、板ガラス１の
内を伝搬する光２は、図示のごとく板ガラスの他方の面
９と、光触媒膜３との間で入・反射を繰返し、また光触
媒膜３は光２により励起されて親水作用を呈する。
り照射して、板ガラスの端面４に入射し、板ガラス１の
内を伝搬する光２は、図示のごとく板ガラスの他方の面
９と、光触媒膜３との間で入・反射を繰返し、また光触
媒膜３は光２により励起されて親水作用を呈する。
【００２０】その間、光２はガラスに吸収され、また光
触媒膜３を活性化するために減衰する。光２が光触媒膜
３の全面にゆき渡るようにするためには、板ガラス１の
サイズや光触媒膜３の膜付面積を勘案し、初期の光強度
を設計するものであるが、それは設計者の適宜設計事項
である。
触媒膜３を活性化するために減衰する。光２が光触媒膜
３の全面にゆき渡るようにするためには、板ガラス１の
サイズや光触媒膜３の膜付面積を勘案し、初期の光強度
を設計するものであるが、それは設計者の適宜設計事項
である。
【００２１】例えば、後述実施例１に示すようなサイズ
の光触媒膜付き板ガラスにおいて、図１Ｂに示す如く、
光照射部５’より、光を板ガラス端面４に対し斜め入射
させ（光２を直に対向端面４’に放出しないようす
る）、かつ板ガラスの端面４での光強度が20mW／cm2 に
なるごとく配置設計し、光２が光触媒膜３と板ガラス他
方の面９との間の繰返し反射のみによって、板ガラスの
上下長さ 455mmにおける対向端面４’に達するようにし
て、該対向端面４’での光２の漏出を検査したところ５
mW／cm2 以上の光が検知され、光エネルギーがガラス中
に吸収され、また光触媒膜によって吸収され、減衰して
も、なお、余剰の光エネルギーが検知され、光触媒膜全
体が万遍なく活性化されることが伺える。
の光触媒膜付き板ガラスにおいて、図１Ｂに示す如く、
光照射部５’より、光を板ガラス端面４に対し斜め入射
させ（光２を直に対向端面４’に放出しないようす
る）、かつ板ガラスの端面４での光強度が20mW／cm2 に
なるごとく配置設計し、光２が光触媒膜３と板ガラス他
方の面９との間の繰返し反射のみによって、板ガラスの
上下長さ 455mmにおける対向端面４’に達するようにし
て、該対向端面４’での光２の漏出を検査したところ５
mW／cm2 以上の光が検知され、光エネルギーがガラス中
に吸収され、また光触媒膜によって吸収され、減衰して
も、なお、余剰の光エネルギーが検知され、光触媒膜全
体が万遍なく活性化されることが伺える。
【００２２】図２は、板ガラスへの光の入射（屈折）、
反射経路を示した拡大部分断面図であり、この図を参照
して、板ガラスの端面４への入射光２が板ガラス１内で
全反射する条件を説明する。なお、図中記号は以下のと
おりである。 αi ：空気／板ガラス端面の界面での入射角 αt ：空気／板ガラス端面の界面での屈折角 βi ：板ガラス／光触媒膜の界面での入射角 βt ：板ガラス／光触媒膜の界面での屈折角 θi ：光触媒膜／空気の界面での入射角 θt ：光触媒膜／空気の界面での屈折角 ｎ0 ：空気の屈折率（1.00） ｎ1 ：板ガラスの屈折率（1.53） ｎ2 ：光触媒膜（アナターゼ）の屈折率（2.15） 注１：屈折率はいずれも光触媒膜の励起波長域（320nm
〜390nm)での屈折率である。注２：板ガラスの屈折率は
ソーダ石灰系ガラスの組成にもよるが殆どが1.53前後で
ある。
反射経路を示した拡大部分断面図であり、この図を参照
して、板ガラスの端面４への入射光２が板ガラス１内で
全反射する条件を説明する。なお、図中記号は以下のと
おりである。 αi ：空気／板ガラス端面の界面での入射角 αt ：空気／板ガラス端面の界面での屈折角 βi ：板ガラス／光触媒膜の界面での入射角 βt ：板ガラス／光触媒膜の界面での屈折角 θi ：光触媒膜／空気の界面での入射角 θt ：光触媒膜／空気の界面での屈折角 ｎ0 ：空気の屈折率（1.00） ｎ1 ：板ガラスの屈折率（1.53） ｎ2 ：光触媒膜（アナターゼ）の屈折率（2.15） 注１：屈折率はいずれも光触媒膜の励起波長域（320nm
〜390nm)での屈折率である。注２：板ガラスの屈折率は
ソーダ石灰系ガラスの組成にもよるが殆どが1.53前後で
ある。
【００２３】Ｉ-1. 光触媒膜／空気空間界面で全反射さ
せる入射角度について 板ガラスの端面４から光２を入射させて、板ガラス１の
表裏面の外に光２を漏出することなく光触媒膜３を励起
させるには、板ガラス片面に設けた光触媒膜３と空気ａ
の界面で、また、板ガラスの他方の面９と空気ａとの界
面で、光２を全反射させる必要がある。
せる入射角度について 板ガラスの端面４から光２を入射させて、板ガラス１の
表裏面の外に光２を漏出することなく光触媒膜３を励起
させるには、板ガラス片面に設けた光触媒膜３と空気ａ
の界面で、また、板ガラスの他方の面９と空気ａとの界
面で、光２を全反射させる必要がある。
【００２４】まず光２が光触媒膜３から漏出しない、す
なわち光触媒膜／空気空間界面で全反射させる入射角
は、スネルの式から求めることができる。なお、空気／
光触媒膜／板ガラス／空気それぞれの界面は、全て平行
であり、これらの面は光を入射させる板ガラスの端面と
直交することを前提とする。
なわち光触媒膜／空気空間界面で全反射させる入射角
は、スネルの式から求めることができる。なお、空気／
光触媒膜／板ガラス／空気それぞれの界面は、全て平行
であり、これらの面は光を入射させる板ガラスの端面と
直交することを前提とする。
【００２５】光触媒膜／空気の界面での入射角θiは、
下記［式１］であらわされる。 θi ＝ sinー1［（ｎ0/ｎ2）sin θt］ （界面で全反射させるためのθｔは９０°の故） ＝ sinー1（ｎ0/ｎ2） −−−−−［式１］ すなわち光触媒膜／空気の界面での入射角θi ≧ sinー1
（ｎ0/ｎ2） であれば全反射し、空気空間に漏出するこ
とはない。
下記［式１］であらわされる。 θi ＝ sinー1［（ｎ0/ｎ2）sin θt］ （界面で全反射させるためのθｔは９０°の故） ＝ sinー1（ｎ0/ｎ2） −−−−−［式１］ すなわち光触媒膜／空気の界面での入射角θi ≧ sinー1
（ｎ0/ｎ2） であれば全反射し、空気空間に漏出するこ
とはない。
【００２６】<<前記光触媒膜／空気空間で全反射するた
めの入射角θi を得るための板ガラス／光触媒膜界面で
の入射角について>>板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi は下記式より得られる。 βi ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin βt］ （βt ＝θi である故、［式１］を代入する） ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin θi ］ ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）（ｎ0/ｎ2）］ ＝ sinー1（ｎ0/ｎ1） −−−−−［式２］ ＝41.8 すなわち、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガラス
／光触媒膜界面での入射角βi ≧ 41.8°であれば、前
記光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。
めの入射角θi を得るための板ガラス／光触媒膜界面で
の入射角について>>板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi は下記式より得られる。 βi ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin βt］ （βt ＝θi である故、［式１］を代入する） ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin θi ］ ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）（ｎ0/ｎ2）］ ＝ sinー1（ｎ0/ｎ1） −−−−−［式２］ ＝41.8 すなわち、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガラス
／光触媒膜界面での入射角βi ≧ 41.8°であれば、前
記光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。
【００２７】<<前記板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi を得るための板ガラスの端面への光入射角について
>>空気空間／板ガラス端面の界面での入射角αi は以下
の式より得られる。 αi ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin αt］ （前提条件より、αt＝90.0−βi ） ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）cos βi］ −−−−−［式３］ ところで、βi ＝41.8°の故、 sinαi ≦1.14となり、
いかなる板ガラス端面での入射角αi においても、光触
媒膜側において全反射が生ずることになる。
βi を得るための板ガラスの端面への光入射角について
>>空気空間／板ガラス端面の界面での入射角αi は以下
の式より得られる。 αi ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin αt］ （前提条件より、αt＝90.0−βi ） ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）cos βi］ −−−−−［式３］ ところで、βi ＝41.8°の故、 sinαi ≦1.14となり、
いかなる板ガラス端面での入射角αi においても、光触
媒膜側において全反射が生ずることになる。
【００２８】また、この結果から、板ガラスの片面のみ
ならず、両面に光触媒膜を設けた場合においても入射角
αi の如何にかかわらず、全反射することが分かる。
ならず、両面に光触媒膜を設けた場合においても入射角
αi の如何にかかわらず、全反射することが分かる。
【００２９】Ｉ-2. 板ガラスの他方の面／空気空間界面
で全反射させる入射角度について 前記のとおり、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガ
ラス／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。すな
わち、光触媒膜の屈折率が板ガラスと同等であろうと、
或いは空気と同等であろうと、βi ≧41.8°であれば全
反射することになり、換言すれば、光触媒膜を形成しな
い板ガラスの他方の面でも、βi ≧41.8°であれば全反
射することになる。更に前記βi ≧41.8°の場合、前記
のとおり板ガラス端面への入射角αi において sinαi
≦1.14となり、いかなる入射角αi においても、板ガラ
スの他方の面側において全反射が生ずることになり、光
は光触媒膜から漏出しない。
で全反射させる入射角度について 前記のとおり、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガ
ラス／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。すな
わち、光触媒膜の屈折率が板ガラスと同等であろうと、
或いは空気と同等であろうと、βi ≧41.8°であれば全
反射することになり、換言すれば、光触媒膜を形成しな
い板ガラスの他方の面でも、βi ≧41.8°であれば全反
射することになる。更に前記βi ≧41.8°の場合、前記
のとおり板ガラス端面への入射角αi において sinαi
≦1.14となり、いかなる入射角αi においても、板ガラ
スの他方の面側において全反射が生ずることになり、光
は光触媒膜から漏出しない。
【００３０】以上より、板ガラスの光触媒膜側、および
光触媒膜非形成面側いずれにおいても、板ガラスに対面
する人物が紫外線の暴露から回避できるものである。
光触媒膜非形成面側いずれにおいても、板ガラスに対面
する人物が紫外線の暴露から回避できるものである。
【００３１】なお、現実には、膜の表面が基板の板ガラ
スと完全に平行にはならない。平行からのずれをあらわ
す端的な物性値としてヘーズ値があり、該ヘーズ値は膜
面に垂直入射した光の散乱光と全透過光の強度比として
あらわされる。
スと完全に平行にはならない。平行からのずれをあらわ
す端的な物性値としてヘーズ値があり、該ヘーズ値は膜
面に垂直入射した光の散乱光と全透過光の強度比として
あらわされる。
【００３２】光触媒膜が板ガラスと完全に平行である時
に、光触媒膜／空気界面で、全反射が生じる条件におい
て、前記垂直入射光により測定した膜のヘーズ値が 0.5
％ならば、光触媒膜／空気の界面で臨界角より小さい角
度で斜め入射する光が存在し、その光は系外、すなわち
空気中に漏出する。その量は、多くとも 0.5％であり、
その程度の光量なら人体に対する影響は僅少と推察され
る。
に、光触媒膜／空気界面で、全反射が生じる条件におい
て、前記垂直入射光により測定した膜のヘーズ値が 0.5
％ならば、光触媒膜／空気の界面で臨界角より小さい角
度で斜め入射する光が存在し、その光は系外、すなわち
空気中に漏出する。その量は、多くとも 0.5％であり、
その程度の光量なら人体に対する影響は僅少と推察され
る。
【００３３】実際に、後述実施例で示すように、ヘーズ
値 0.5％以下であれば、紫外線検出器においても検知し
得ず、人体に対する影響も皆無と考えてよい。
値 0.5％以下であれば、紫外線検出器においても検知し
得ず、人体に対する影響も皆無と考えてよい。
【００３４】光触媒膜を構成する光触媒物質としては、
アナターゼが最良の触媒活性を示すことは知られている
が、膜の強度向上、および基板ガラスとの密着性向上の
ために、シリカ、アルミナ、酸化錫、酸化ジルコニウム
等の１種以上を混在させることができる。
アナターゼが最良の触媒活性を示すことは知られている
が、膜の強度向上、および基板ガラスとの密着性向上の
ために、シリカ、アルミナ、酸化錫、酸化ジルコニウム
等の１種以上を混在させることができる。
【００３５】あるいは、板ガラスと光触媒膜との間に、
それら光触媒膜より低屈折率の膜を介在させ、また、そ
の膜厚を調整すれば、光触媒膜からの反射（二重像を生
ずる）を、光干渉により緩和することができる。
それら光触媒膜より低屈折率の膜を介在させ、また、そ
の膜厚を調整すれば、光触媒膜からの反射（二重像を生
ずる）を、光干渉により緩和することができる。
【００３６】上記光触媒膜におけるアナターゼや、アナ
ターゼを含む複合金属酸化物の膜を形成するには、チタ
ン等の金属アルコキシドや、チタン等の金属アセチルア
セトナート等を出発原料とする酸化物ゾル溶液を加熱基
板に塗布し、加熱焼成するゾルゲル法や、同様な金属化
合物蒸気を加熱基板に吹付け、熱分解等により酸化物膜
を形成するＣＶＤ法、それら金属酸化物を物理的蒸着手
段により基板に蒸着するＰＶＤ法等が好適であり、いず
れもヘーズ値を 0.5％以下にできる。
ターゼを含む複合金属酸化物の膜を形成するには、チタ
ン等の金属アルコキシドや、チタン等の金属アセチルア
セトナート等を出発原料とする酸化物ゾル溶液を加熱基
板に塗布し、加熱焼成するゾルゲル法や、同様な金属化
合物蒸気を加熱基板に吹付け、熱分解等により酸化物膜
を形成するＣＶＤ法、それら金属酸化物を物理的蒸着手
段により基板に蒸着するＰＶＤ法等が好適であり、いず
れもヘーズ値を 0.5％以下にできる。
【００３７】以上は、板ガラス表面からの光の漏出を抑
えることについて述べたが、光の入射する板ガラスの端
面（図１中符号４）に対向する端面４’や、板ガラスの
側部端面からの光の漏出は、人が板ガラスに対面してい
る限り、大きな問題とはならない。上記各端部からの漏
出を抑えようとすれば、該各端部に反射性物質（ステン
レス、アルミニウム等の各種金属）や吸収性物質（セリ
アやチタニア）よりなる膜を被覆するようにすればよ
い。好適例としてはディッピング法により、板ガラスの
光入射すべき箇所を除いて光触媒物質とりなる塗膜を膜
付けし、硬化させ膜形成してもよい。また、板ガラスの
側辺や下辺をサッシ等の枠体で覆ってしまえば前記被覆
処理の必要もない。
えることについて述べたが、光の入射する板ガラスの端
面（図１中符号４）に対向する端面４’や、板ガラスの
側部端面からの光の漏出は、人が板ガラスに対面してい
る限り、大きな問題とはならない。上記各端部からの漏
出を抑えようとすれば、該各端部に反射性物質（ステン
レス、アルミニウム等の各種金属）や吸収性物質（セリ
アやチタニア）よりなる膜を被覆するようにすればよ
い。好適例としてはディッピング法により、板ガラスの
光入射すべき箇所を除いて光触媒物質とりなる塗膜を膜
付けし、硬化させ膜形成してもよい。また、板ガラスの
側辺や下辺をサッシ等の枠体で覆ってしまえば前記被覆
処理の必要もない。
【００３８】別に、例えば図１Ａ中符号７（破線で示
す）のように対向端面４’に反射性物質を被覆すれば、
漏出すべき光２は系内に反射されることとなり、余剰光
を再度光触媒膜の活性に有効利用できるので好都合であ
り、あるいは、図示しないが、光を板ガラスの端面４に
加え、対向する端面４’からも入射し、光触媒の活性化
をより早める等の設計も随意にできる。以下に具体的な
実施の数例を示す。
す）のように対向端面４’に反射性物質を被覆すれば、
漏出すべき光２は系内に反射されることとなり、余剰光
を再度光触媒膜の活性に有効利用できるので好都合であ
り、あるいは、図示しないが、光を板ガラスの端面４に
加え、対向する端面４’からも入射し、光触媒の活性化
をより早める等の設計も随意にできる。以下に具体的な
実施の数例を示す。
【００３９】<<実施例１>>大きさ 363mm× 455mmの板ガ
ラスの片面に膜厚 153±20nmのアナターゼ型光触媒膜を
ゾルゲル成膜法で被覆した。
ラスの片面に膜厚 153±20nmのアナターゼ型光触媒膜を
ゾルゲル成膜法で被覆した。
【００４０】なお、出発原料としてはチタニウムイソプ
ロポキシドを用い、イソプロピルアルコール溶媒に溶解
させ、加水分解によりチタニアゾル溶液とし、この液
に、上下端面および光触媒膜非形成面をマスク膜被覆し
た板ガラスを浸漬したうえで、徐々に引上げて片面膜付
けし、これを乾燥して、 500℃程度に加熱焼成すること
により、アナターゼ型光触媒膜３を形成するものであ
る。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメーターにより求
めたところ 0.3％であった。
ロポキシドを用い、イソプロピルアルコール溶媒に溶解
させ、加水分解によりチタニアゾル溶液とし、この液
に、上下端面および光触媒膜非形成面をマスク膜被覆し
た板ガラスを浸漬したうえで、徐々に引上げて片面膜付
けし、これを乾燥して、 500℃程度に加熱焼成すること
により、アナターゼ型光触媒膜３を形成するものであ
る。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメーターにより求
めたところ 0.3％であった。
【００４１】図１Ａに示すように、前記板ガラス１の長
さ 363mm、幅５mmの上下端面４、４’および他方の面９
のマスク膜を剥離し、前記上端面４を覆うごとくランプ
シェード６を配設し、中に高圧水銀灯５を配在し、上記
上端面での光強度が20mW／cm 2 になる位置に高圧水銀灯
をセッティングした。なお高圧水銀灯の発光スペクトル
は、輝線スペクトルで、波長 305nmの相対強度は75％、
357nmで95％、 395nmで67％である。
さ 363mm、幅５mmの上下端面４、４’および他方の面９
のマスク膜を剥離し、前記上端面４を覆うごとくランプ
シェード６を配設し、中に高圧水銀灯５を配在し、上記
上端面での光強度が20mW／cm 2 になる位置に高圧水銀灯
をセッティングした。なお高圧水銀灯の発光スペクトル
は、輝線スペクトルで、波長 305nmの相対強度は75％、
357nmで95％、 395nmで67％である。
【００４２】ちなみに、光２を板ガラスの上端面４より
入射し、板ガラスの光触媒膜面３および他方の光触媒膜
非形成面９から漏出する光の量を大塚電気製フォトマル
（MCPD−1100型）で測定したところ、いずれにおいても
光は検出できなかった。
入射し、板ガラスの光触媒膜面３および他方の光触媒膜
非形成面９から漏出する光の量を大塚電気製フォトマル
（MCPD−1100型）で測定したところ、いずれにおいても
光は検出できなかった。
【００４３】別に、図１Ｂに示す如く、光照射部５’よ
り、光を板ガラス上端面４に対し斜め入射させ（光２を
直に対向端面４’に放出しないようする）、かつ板ガラ
スの上端面４での光強度が20mW／cm2 になるごとく配置
設計し、光２が光触媒膜３および他方の光触媒膜非形成
面９の間の繰返し反射のみによって、板ガラスの上下長
さ 455mmにおける対向（下）端面４’（図１Ａ参照）に
達するようにして、該対向端面４’での光の漏出を検査
したところ５mW／cm2 以上の光が検知され、光エネルギ
ーがガラス中に吸収され、また光触媒膜によって吸収さ
れ、減衰しても、なお、余剰の光エネルギーが検知さ
れ、光触媒膜全体が万遍なく活性化されることが伺え
た。
り、光を板ガラス上端面４に対し斜め入射させ（光２を
直に対向端面４’に放出しないようする）、かつ板ガラ
スの上端面４での光強度が20mW／cm2 になるごとく配置
設計し、光２が光触媒膜３および他方の光触媒膜非形成
面９の間の繰返し反射のみによって、板ガラスの上下長
さ 455mmにおける対向（下）端面４’（図１Ａ参照）に
達するようにして、該対向端面４’での光の漏出を検査
したところ５mW／cm2 以上の光が検知され、光エネルギ
ーがガラス中に吸収され、また光触媒膜によって吸収さ
れ、減衰しても、なお、余剰の光エネルギーが検知さ
れ、光触媒膜全体が万遍なく活性化されることが伺え
た。
【００４４】実施例１として、前記図１Ａの如く光源ラ
ンプ５を配した片面光触媒膜付き板ガラスと、比較例１
としての両面に光触媒膜を被覆しない素板としての板ガ
ラスの両方を、約43℃の飽和水蒸気に約３分間接触させ
た後、約40℃の乾燥器中に約10分間放置し、室温に１時
間放置し、再度最初の飽和水蒸気接触を開始するまでを
１サイクルとして、10サイクルまでの板ガラスの曇り発
生試験を実施し、各サイクルで、飽和水蒸気に約３分間
接触させる間の板ガラス片面（実施例１においては光触
媒膜面）の曇りの発生状況を目視で評価した。評価に際
しては対象としない他方の面は曇りを払拭除去した。ま
た、対比を明確にするために、実施例１、比較例１の板
ガラスとも、このテストの間、常に高圧水銀灯の光を端
面より入射した。
ンプ５を配した片面光触媒膜付き板ガラスと、比較例１
としての両面に光触媒膜を被覆しない素板としての板ガ
ラスの両方を、約43℃の飽和水蒸気に約３分間接触させ
た後、約40℃の乾燥器中に約10分間放置し、室温に１時
間放置し、再度最初の飽和水蒸気接触を開始するまでを
１サイクルとして、10サイクルまでの板ガラスの曇り発
生試験を実施し、各サイクルで、飽和水蒸気に約３分間
接触させる間の板ガラス片面（実施例１においては光触
媒膜面）の曇りの発生状況を目視で評価した。評価に際
しては対象としない他方の面は曇りを払拭除去した。ま
た、対比を明確にするために、実施例１、比較例１の板
ガラスとも、このテストの間、常に高圧水銀灯の光を端
面より入射した。
【００４５】その結果、表１に示したように、比較例１
の板ガラスは、３サイクルからに曇りが発生したが、実
施例１の板ガラスは10サイクルの間、曇りの発生は認め
られなかった。 〔表１〕 試料 判 定 １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 実施例１ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例１ ○ ○ × × × × × × × × （註）○： 曇りの発生が認められない。 ×： 曇りの発生が認められた。
の板ガラスは、３サイクルからに曇りが発生したが、実
施例１の板ガラスは10サイクルの間、曇りの発生は認め
られなかった。 〔表１〕 試料 判 定 １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 実施例１ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例１ ○ ○ × × × × × × × × （註）○： 曇りの発生が認められない。 ×： 曇りの発生が認められた。
【００４６】<<実施例２>>チタニウムテトライソプロポ
キシドにオクチレングリコールを添加した溶液を定量ポ
ンプで約 200℃に加熱されたステンレス製密封容器（蒸
発器）に注入した。該容器には、別に乾燥した窒素ガス
を通してあり、更に出口側で約 200℃の乾燥空気と混合
し、常圧ＣＶＤ用ガスを調製した。
キシドにオクチレングリコールを添加した溶液を定量ポ
ンプで約 200℃に加熱されたステンレス製密封容器（蒸
発器）に注入した。該容器には、別に乾燥した窒素ガス
を通してあり、更に出口側で約 200℃の乾燥空気と混合
し、常圧ＣＶＤ用ガスを調製した。
【００４７】実施例１同様の板ガラスを、移送コンベア
により加熱炉内に搬送し、最高温度約 620℃程度まで昇
温し、該加熱炉より移送コンベアにより搬出直後の板ガ
ラス上面に、予め用意したＣＶＤ装置により、前記調製
ガスをＣＶＤノズルより吹付け、アナターゼ型光触媒膜
３を成膜し、片面光触媒膜付き板ガラスを作製した。こ
のガラスの光触媒膜の膜厚は 120±25nmであり、ガラス
のヘーズ値は 0.5％であった。
により加熱炉内に搬送し、最高温度約 620℃程度まで昇
温し、該加熱炉より移送コンベアにより搬出直後の板ガ
ラス上面に、予め用意したＣＶＤ装置により、前記調製
ガスをＣＶＤノズルより吹付け、アナターゼ型光触媒膜
３を成膜し、片面光触媒膜付き板ガラスを作製した。こ
のガラスの光触媒膜の膜厚は 120±25nmであり、ガラス
のヘーズ値は 0.5％であった。
【００４８】これを実施例１と全く同様にランプシェー
ドを覆設した高圧水銀灯５をセッティングし、板ガラス
の光触媒膜面３、他方の光触媒膜非形成面９から漏出す
る光の量を測定したところ、いずれも光は検出できなか
った。
ドを覆設した高圧水銀灯５をセッティングし、板ガラス
の光触媒膜面３、他方の光触媒膜非形成面９から漏出す
る光の量を測定したところ、いずれも光は検出できなか
った。
【００４９】この板ガラスの光触媒膜３上に、ヘーズメ
ーターで測定してヘーズ値が約３％になるようにステア
リン酸を塗布し、前記高圧水銀灯で紫外線を約20分間端
面入射し、再度ヘーズ値を測定したところ、ヘーズ値が
１％以下に減少した。
ーターで測定してヘーズ値が約３％になるようにステア
リン酸を塗布し、前記高圧水銀灯で紫外線を約20分間端
面入射し、再度ヘーズ値を測定したところ、ヘーズ値が
１％以下に減少した。
【００５０】なお、光触媒膜を膜付けしない前記比較例
１同様の板ガラス片面にステアリン酸を塗布し、同時間
経過後のヘーズ値をみたところ、塗布時３％のヘーズ値
は経過後も全く変化がなかった。
１同様の板ガラス片面にステアリン酸を塗布し、同時間
経過後のヘーズ値をみたところ、塗布時３％のヘーズ値
は経過後も全く変化がなかった。
【００５１】<<実施例３>>実施例１と同様の板ガラスを
用い、実施例１と同様で、但し出発原料としてはチタニ
ウムイソプロポキシドとシリコンテトラエトキシド（酸
化物重量換算でチタニア：シリカ＝70：30）を用い、イ
ソプロピルアルコール溶媒に溶解させ、加水分解により
チタニア・シリカゾル溶液とし、この液に実施例１同様
にマスキングした板ガラスを浸漬したうえで、徐々に引
上げて片面に膜付けし、これを乾燥して、 500℃程度に
加熱焼成することにより、アナターゼ・シリカ混合光触
媒膜３を形成した。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメ
ーターにより求めたところ 0.3％であった。
用い、実施例１と同様で、但し出発原料としてはチタニ
ウムイソプロポキシドとシリコンテトラエトキシド（酸
化物重量換算でチタニア：シリカ＝70：30）を用い、イ
ソプロピルアルコール溶媒に溶解させ、加水分解により
チタニア・シリカゾル溶液とし、この液に実施例１同様
にマスキングした板ガラスを浸漬したうえで、徐々に引
上げて片面に膜付けし、これを乾燥して、 500℃程度に
加熱焼成することにより、アナターゼ・シリカ混合光触
媒膜３を形成した。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメ
ーターにより求めたところ 0.3％であった。
【００５２】これを実施例１と全く同様にランプシェー
ドを覆設した高圧水銀灯５をセッティングし、板ガラス
の光触媒膜面３および他方の光触媒膜非形成面９から漏
出する光の量を測定したところ、光は検出できなかっ
た。
ドを覆設した高圧水銀灯５をセッティングし、板ガラス
の光触媒膜面３および他方の光触媒膜非形成面９から漏
出する光の量を測定したところ、光は検出できなかっ
た。
【００５３】実施例２同様、この板ガラスの光触媒膜３
上に、ヘーズ値が約３％になるようにステアリン酸を塗
布し、前記高圧水銀灯で紫外線を約20分間端面入射し、
再度ヘーズ値を測定したところ、ヘーズ値が１％程度に
減少した。
上に、ヘーズ値が約３％になるようにステアリン酸を塗
布し、前記高圧水銀灯で紫外線を約20分間端面入射し、
再度ヘーズ値を測定したところ、ヘーズ値が１％程度に
減少した。
【００５４】なお、光触媒膜中にシリカを混在させたこ
とにより、磨耗輪による磨耗試験においてもアナターゼ
単味のものより膜が剥離し難いことが判った。
とにより、磨耗輪による磨耗試験においてもアナターゼ
単味のものより膜が剥離し難いことが判った。
【００５５】II. 励起光を板ガラス表（裏）面周縁部か
ら入射する実施形態および実施例 図３は、本発明における励起光を板ガラス表面または裏
面の周縁部から入射する形態を示した概略断面図であ
り、図３Ａは光源としてランプ５を用い、プリズム８よ
り光入射した態様、図３Ｂは先の実施形態で示した光照
射部５’より、板ガラス表面周縁の斜断面１a'に光入射
した態様、図３Ｃは斜断面１a'に光導入ホログラムを介
して光入射した態様をあらわす。
ら入射する実施形態および実施例 図３は、本発明における励起光を板ガラス表面または裏
面の周縁部から入射する形態を示した概略断面図であ
り、図３Ａは光源としてランプ５を用い、プリズム８よ
り光入射した態様、図３Ｂは先の実施形態で示した光照
射部５’より、板ガラス表面周縁の斜断面１a'に光入射
した態様、図３Ｃは斜断面１a'に光導入ホログラムを介
して光入射した態様をあらわす。
【００５６】板ガラス１としては、先の実施形態同様の
板ガラスを採用する。また、先の実施形態同様に板ガラ
ス１の片面には、光触媒物質よりなり、あるいは光触媒
物質を主体とする膜（光触媒膜）３を形成し、他方の面
９には、光触媒膜は形成していない。
板ガラスを採用する。また、先の実施形態同様に板ガラ
ス１の片面には、光触媒物質よりなり、あるいは光触媒
物質を主体とする膜（光触媒膜）３を形成し、他方の面
９には、光触媒膜は形成していない。
【００５７】本実施形態において、光源５は板ガラス１
の表面側（または裏面側）で、光触媒膜を施さない箇所
１a に対して配置され、ランプシェード６に覆われ、波
長320nm 〜390nm を主とする紫外線よりなる励起光（以
下光という）２が外に漏出しないようにする。
の表面側（または裏面側）で、光触媒膜を施さない箇所
１a に対して配置され、ランプシェード６に覆われ、波
長320nm 〜390nm を主とする紫外線よりなる励起光（以
下光という）２が外に漏出しないようにする。
【００５８】板ガラスの表面側周縁部１a から入射し、
板ガラス１の内を伝搬する光２は、図示のごとく光触媒
膜３および他方の面９の間で入・反射を繰返し、その際
光触媒膜３に照射した光により光触媒膜３が励起されて
親水作用を呈する。その間、光２はガラスに吸収され、
また光触媒膜３を活性化するために減衰する。光２が光
触媒膜３の全面にゆき渡るようにするためには、板ガラ
ス１のサイズや光触媒膜３の膜付面積を勘案し、初期の
光強度を設計するものであるが、それは設計者の適宜設
計事項であり、先の実施形態およびそれにかかる実施例
１に示したことと同様である。
板ガラス１の内を伝搬する光２は、図示のごとく光触媒
膜３および他方の面９の間で入・反射を繰返し、その際
光触媒膜３に照射した光により光触媒膜３が励起されて
親水作用を呈する。その間、光２はガラスに吸収され、
また光触媒膜３を活性化するために減衰する。光２が光
触媒膜３の全面にゆき渡るようにするためには、板ガラ
ス１のサイズや光触媒膜３の膜付面積を勘案し、初期の
光強度を設計するものであるが、それは設計者の適宜設
計事項であり、先の実施形態およびそれにかかる実施例
１に示したことと同様である。
【００５９】図４は、板ガラスへの光の入射（屈折）、
反射経路を示した拡大部分断面図であり、この図を参照
して、板ガラスの表面側周縁部１a への入射光２が板ガ
ラス１内で全反射する条件を説明する。なお、図中記号
は以下のとおりである。 γi ：空気／板ガラス表（裏）面界面での入射角 γt ：空気／板ガラス表（裏）面界面での屈折角 （以下の記号は先の実施形態で示した記号と一致する） βi ：板ガラス／光触媒膜の界面での入射角 βt ：板ガラス／光触媒膜の界面での屈折角 θi ：光触媒膜／空気の界面での入射角 θt ：光触媒膜／空気の界面での屈折角 ｎ0 ：空気の屈折率（1.00） ｎ1 ：板ガラスの屈折率（1.53） ｎ2 ：光触媒膜（アナターゼ）の屈折率（2.15） 注１：屈折率はいずれも光触媒膜の励起波長域（320nm
〜390nm)での屈折率である。注２：板ガラスの屈折率は
ソーダ石灰系ガラスの組成にもよるが殆どが1.53前後で
ある。
反射経路を示した拡大部分断面図であり、この図を参照
して、板ガラスの表面側周縁部１a への入射光２が板ガ
ラス１内で全反射する条件を説明する。なお、図中記号
は以下のとおりである。 γi ：空気／板ガラス表（裏）面界面での入射角 γt ：空気／板ガラス表（裏）面界面での屈折角 （以下の記号は先の実施形態で示した記号と一致する） βi ：板ガラス／光触媒膜の界面での入射角 βt ：板ガラス／光触媒膜の界面での屈折角 θi ：光触媒膜／空気の界面での入射角 θt ：光触媒膜／空気の界面での屈折角 ｎ0 ：空気の屈折率（1.00） ｎ1 ：板ガラスの屈折率（1.53） ｎ2 ：光触媒膜（アナターゼ）の屈折率（2.15） 注１：屈折率はいずれも光触媒膜の励起波長域（320nm
〜390nm)での屈折率である。注２：板ガラスの屈折率は
ソーダ石灰系ガラスの組成にもよるが殆どが1.53前後で
ある。
【００６０】II-1. 光触媒膜／空気空間界面で全反射さ
せる入射角度について 板ガラスの端縁部近傍の表面側１a から光２を入射させ
て、板ガラス１の表裏面の外に光２を漏出することなく
光触媒膜３を励起させるには、光触媒膜３と空気ａの界
面で、光２を全反射させる必要がある。光２が光触媒膜
３から漏出しないための入射角は、先の実施形態同様ス
ネルの式から求めることができる。なお、空気／光触媒
膜／板ガラスそれぞれの界面は、全て平行であることは
先述と同様である。
せる入射角度について 板ガラスの端縁部近傍の表面側１a から光２を入射させ
て、板ガラス１の表裏面の外に光２を漏出することなく
光触媒膜３を励起させるには、光触媒膜３と空気ａの界
面で、光２を全反射させる必要がある。光２が光触媒膜
３から漏出しないための入射角は、先の実施形態同様ス
ネルの式から求めることができる。なお、空気／光触媒
膜／板ガラスそれぞれの界面は、全て平行であることは
先述と同様である。
【００６１】光触媒膜／空気の界面での入射角θiは、
下記［式４］であらわされる。 θi ＝ sinー1［（ｎ0/ｎ2）sin θt］ （界面で全反射させるためのθｔは90°の故） ＝ sinー1（ｎ0/ｎ2） −−−−−［式４］ すなわち光触媒膜／空気の界面での入射角θi ≧ sinー1
（ｎ0/ｎ2） であれば全反射し、空気空間に漏出するこ
とはない。
下記［式４］であらわされる。 θi ＝ sinー1［（ｎ0/ｎ2）sin θt］ （界面で全反射させるためのθｔは90°の故） ＝ sinー1（ｎ0/ｎ2） −−−−−［式４］ すなわち光触媒膜／空気の界面での入射角θi ≧ sinー1
（ｎ0/ｎ2） であれば全反射し、空気空間に漏出するこ
とはない。
【００６２】<<前記光触媒膜／空気空間で全反射するた
めの入射角θi を得るための板ガラス／光触媒膜界面で
の入射角について>>板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi は下記式より得られる。 βi ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin βt］ （βt ＝θi である故、［式４］を代入する） ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin θi ］ ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）（ｎ0/ｎ2）］ ＝ sinー1（ｎ0/ｎ1） −−−−−［式５］ ＝ 41.8 すなわち、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガラス
／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、前記
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになり、ま
た、前提条件より、βi ＝γt （空気／板ガラス界面で
の屈折角、なお、前記界面、すなわち板ガラス表面は各
図の X−X'のラインであらわされる）であるから、屈折
角γt ≧41.8°であれば、全反射することになる。
めの入射角θi を得るための板ガラス／光触媒膜界面で
の入射角について>>板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi は下記式より得られる。 βi ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin βt］ （βt ＝θi である故、［式４］を代入する） ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）sin θi ］ ＝ sinー1［（ｎ2/ｎ1）（ｎ0/ｎ2）］ ＝ sinー1（ｎ0/ｎ1） −−−−−［式５］ ＝ 41.8 すなわち、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガラス
／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、前記
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになり、ま
た、前提条件より、βi ＝γt （空気／板ガラス界面で
の屈折角、なお、前記界面、すなわち板ガラス表面は各
図の X−X'のラインであらわされる）であるから、屈折
角γt ≧41.8°であれば、全反射することになる。
【００６３】<<前記板ガラス／光触媒膜界面での入射角
βi を得るための板ガラスの端縁近傍の表面側への光入
射角について>>空気空間／板ガラスの界面での入射角γ
i は以下の式より得られる。 γi ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin γt］ （前提条件より、γt＝βi ） ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin βi］ −−−−−［式６］ ところで、βi ≧41.8°であるから、入射角γi ＞90°
であることが必要となり、そのままでは光入射できな
い。
βi を得るための板ガラスの端縁近傍の表面側への光入
射角について>>空気空間／板ガラスの界面での入射角γ
i は以下の式より得られる。 γi ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin γt］ （前提条件より、γt＝βi ） ＝ sinー1 ［（ｎ1/ｎ0）sin βi］ −−−−−［式６］ ところで、βi ≧41.8°であるから、入射角γi ＞90°
であることが必要となり、そのままでは光入射できな
い。
【００６４】図３Ａに示す態様においては、光入射箇所
１a において、プリズム８を添設したものであり、それ
により、容易にβi ＝γt ≧41.8°にでき、それにより
全反射を生じさせ、光は光触媒膜から漏出しない。従っ
て、周囲の人物が紫外線の暴露から回避できるものであ
る（上記角度は先述のように板ガラスの屈折率を1.53と
した場合の角度であるが、板ガラス組成により屈折率も
若干変動し、従って角度も些少の変動があることはいう
までもない）。前記プリズム８の角度の開き＜φや、屈
折率は、前記光源１の位置も勘案して、適宜に設計する
ことができる。
１a において、プリズム８を添設したものであり、それ
により、容易にβi ＝γt ≧41.8°にでき、それにより
全反射を生じさせ、光は光触媒膜から漏出しない。従っ
て、周囲の人物が紫外線の暴露から回避できるものであ
る（上記角度は先述のように板ガラスの屈折率を1.53と
した場合の角度であるが、板ガラス組成により屈折率も
若干変動し、従って角度も些少の変動があることはいう
までもない）。前記プリズム８の角度の開き＜φや、屈
折率は、前記光源１の位置も勘案して、適宜に設計する
ことができる。
【００６５】別に、図３Ｂに示すように、板ガラス１の
光入射箇所を、板ガラス端面にかけて薄くなるように傾
斜させた面１a'とし、光入射するようにすれば、見掛上
の板ガラス表面 X−X'ラインに対して前記屈折角γt ≧
41.8°にできるので、上記同様、光は光触媒膜から漏出
しない。
光入射箇所を、板ガラス端面にかけて薄くなるように傾
斜させた面１a'とし、光入射するようにすれば、見掛上
の板ガラス表面 X−X'ラインに対して前記屈折角γt ≧
41.8°にできるので、上記同様、光は光触媒膜から漏出
しない。
【００６６】なお、光源部５’としては、太陽光や、別
箇所に配した紫外線光源からの光を集光し、光ファイバ
ーにより該光源部５’に伝送し、光入射させる等の設計
ができる。
箇所に配した紫外線光源からの光を集光し、光ファイバ
ーにより該光源部５’に伝送し、光入射させる等の設計
ができる。
【００６７】さらに、図３Ｃにおいては、上記同様板ガ
ラス１の光入射箇所を傾斜させた面１a'とし、該部に公
知の、反射光を屈折角41.8°以上の所望の角度になるよ
うに回折させる光導入ホログラムよりなるシート８’を
添着すれば、所望の屈折角を得ることができる。
ラス１の光入射箇所を傾斜させた面１a'とし、該部に公
知の、反射光を屈折角41.8°以上の所望の角度になるよ
うに回折させる光導入ホログラムよりなるシート８’を
添着すれば、所望の屈折角を得ることができる。
【００６８】なお、上記結果から、板ガラスの片面のみ
ならず、両面に光触媒膜を設けた場合においても屈折角
41.8°以上となるように設計すれば、光は全反射するこ
とが分かる。
ならず、両面に光触媒膜を設けた場合においても屈折角
41.8°以上となるように設計すれば、光は全反射するこ
とが分かる。
【００６９】II-2. 板ガラスの他方の面／空気空間界面
で全反射させる入射角度について 前記のとおり、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガ
ラス／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。すな
わち、光触媒膜の屈折率が板ガラスと同等であろうと、
或いは空気と同等であろうと、βi ≧41.8°であれば全
反射することになり、換言すれば、光触媒膜を形成しな
い板ガラスの他方の面でも、βi ≧41.8°であれば全反
射することになる。更に前記同様、βi ＝γt(屈折角）
≧41.8°となるように入射方式を設計すれば、板ガラス
の他方の面側において全反射が生ずることになり、光は
該面から漏出しない。
で全反射させる入射角度について 前記のとおり、光触媒の屈折率如何にかかわらず、板ガ
ラス／光触媒膜界面での入射角βi ≧41.8°であれば、
光触媒膜／空気空間界面で全反射することになる。すな
わち、光触媒膜の屈折率が板ガラスと同等であろうと、
或いは空気と同等であろうと、βi ≧41.8°であれば全
反射することになり、換言すれば、光触媒膜を形成しな
い板ガラスの他方の面でも、βi ≧41.8°であれば全反
射することになる。更に前記同様、βi ＝γt(屈折角）
≧41.8°となるように入射方式を設計すれば、板ガラス
の他方の面側において全反射が生ずることになり、光は
該面から漏出しない。
【００７０】以上より、板ガラスの光触媒膜側、および
光触媒膜非形成面側いずれにおいても、板ガラスに対面
する人物が紫外線の暴露から回避できるものである。
光触媒膜非形成面側いずれにおいても、板ガラスに対面
する人物が紫外線の暴露から回避できるものである。
【００７１】なお、先の実施形態同様、膜の表面が基板
の板ガラスと完全に平行にはならず、ヘーズが生ずる
が、ヘーズ値は、多くとも 0.5％であり、その程度の光
量なら紫外線検出器においても検知し得ず、人体に対す
る影響も皆無と考えてよい。
の板ガラスと完全に平行にはならず、ヘーズが生ずる
が、ヘーズ値は、多くとも 0.5％であり、その程度の光
量なら紫外線検出器においても検知し得ず、人体に対す
る影響も皆無と考えてよい。
【００７２】また、先の実施形態同様、光触媒膜を構成
する光触媒物質としては、アナターゼが最良の触媒活性
を示すことは知られているが、膜の強度向上、および基
板ガラスとの密着性向上のために、シリカ、アルミナ、
酸化錫、酸化ジルコニウム等の１種以上を混在させるこ
とができ、あるいは、板ガラスと光触媒膜との間に、そ
れら光触媒膜より低屈折率の膜を介在させ、また、その
膜厚を調整すれば、光触媒膜からの反射（二重像を生ず
る）を、光干渉により緩和することができる。
する光触媒物質としては、アナターゼが最良の触媒活性
を示すことは知られているが、膜の強度向上、および基
板ガラスとの密着性向上のために、シリカ、アルミナ、
酸化錫、酸化ジルコニウム等の１種以上を混在させるこ
とができ、あるいは、板ガラスと光触媒膜との間に、そ
れら光触媒膜より低屈折率の膜を介在させ、また、その
膜厚を調整すれば、光触媒膜からの反射（二重像を生ず
る）を、光干渉により緩和することができる。
【００７３】更に、上記光触媒膜におけるアナターゼ
や、アナターゼを含む複合金属酸化物の膜を形成するう
えで、チタン等の金属アルコキシド等を出発原料とする
ゾルゲル法や、同様な金属化合物蒸気によるＣＶＤ法、
それら金属酸化物を物理的蒸着手段により基板に蒸着す
るＰＶＤ法等（いずれもヘーズ値を 0.5％以下）が好適
であることも、先の実施形態同様である。
や、アナターゼを含む複合金属酸化物の膜を形成するう
えで、チタン等の金属アルコキシド等を出発原料とする
ゾルゲル法や、同様な金属化合物蒸気によるＣＶＤ法、
それら金属酸化物を物理的蒸着手段により基板に蒸着す
るＰＶＤ法等（いずれもヘーズ値を 0.5％以下）が好適
であることも、先の実施形態同様である。
【００７４】加えて、板ガラスの端面４' や、板ガラス
の側部端面からの光の漏出を抑えるうえで、該各端部に
反射性物質や吸収性物質よりなる膜を被覆したり、サッ
シ等の枠で覆ったりする等先の実施形態例同様の、設計
工夫ができる。以下に具体的な実施の数例を示す。
の側部端面からの光の漏出を抑えるうえで、該各端部に
反射性物質や吸収性物質よりなる膜を被覆したり、サッ
シ等の枠で覆ったりする等先の実施形態例同様の、設計
工夫ができる。以下に具体的な実施の数例を示す。
【００７５】<<実施例４>>実施例１同様の、 363mm× 4
55mm×５mm（厚）のサイズからなる板ガラス１におい
て、光触媒膜非形成の他方の面９の一周縁部１a(幅10m
m）から光入射するようにし、片面に膜厚 153±20nmの
アナターゼ型光触媒膜３をゾルゲル成膜法で被覆した。
55mm×５mm（厚）のサイズからなる板ガラス１におい
て、光触媒膜非形成の他方の面９の一周縁部１a(幅10m
m）から光入射するようにし、片面に膜厚 153±20nmの
アナターゼ型光触媒膜３をゾルゲル成膜法で被覆した。
【００７６】すなわち実施例１同様に、チタニウムイソ
プロポキシドのイソプロピルアルコール溶液について、
加水分解によりチタニアゾル溶液とし、この液に光触媒
膜非形成部分をマスク膜被覆した板ガラスを浸漬したう
えで、徐々に引上げて片面膜付けし、これを乾燥して、
500℃程度に加熱焼成することにより、アナターゼ型光
触媒膜を形成した。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメ
ーターにより求めたところ 0.3％と実施例１同様であっ
た。
プロポキシドのイソプロピルアルコール溶液について、
加水分解によりチタニアゾル溶液とし、この液に光触媒
膜非形成部分をマスク膜被覆した板ガラスを浸漬したう
えで、徐々に引上げて片面膜付けし、これを乾燥して、
500℃程度に加熱焼成することにより、アナターゼ型光
触媒膜を形成した。このガラスのヘーズ値は、ヘーズメ
ーターにより求めたところ 0.3％と実施例１同様であっ
た。
【００７７】この板ガラスの長さ 363mm、幅10mmの、マ
スク膜を剥離した他方の面９の１周縁部１a に、板ガラ
スと同屈折率のプリズム８を添設し、それを覆うごとく
ランプシェードを配設し、中に高圧水銀灯５を配在し、
上記プリズム８の光入射表面での光強度が20mW／cm2 に
なる位置に高圧水銀灯をセッティングした。
スク膜を剥離した他方の面９の１周縁部１a に、板ガラ
スと同屈折率のプリズム８を添設し、それを覆うごとく
ランプシェードを配設し、中に高圧水銀灯５を配在し、
上記プリズム８の光入射表面での光強度が20mW／cm2 に
なる位置に高圧水銀灯をセッティングした。
【００７８】ちなみに、上記高圧水銀灯から光入射し、
板ガラス片面の光触媒膜３および他方の光触媒膜非形成
面９から漏出する光の量を大塚電気製フォトマル（MCPD
−1100型）で測定したところ、いずれにおいても光は検
出できなかった。
板ガラス片面の光触媒膜３および他方の光触媒膜非形成
面９から漏出する光の量を大塚電気製フォトマル（MCPD
−1100型）で測定したところ、いずれにおいても光は検
出できなかった。
【００７９】先の実施例１と全く同様に、上記片面光触
媒膜付き板ガラスを約43℃の飽和水蒸気に約３分間接触
させた後、約40℃の乾燥器中に約10分間放置し、室温に
１時間放置し、再度最初の飽和水蒸気接触を開始するま
でを１サイクルとして、10サイクルまでの曇り発生試験
を実施し、各サイクルで、飽和水蒸気に約３分間接触さ
せる間の曇りの発生状況を目視で評価した。なお、本実
施例４の板ガラスはこのテストの間、常に高圧水銀灯の
光をプリズム８を介して入射した。
媒膜付き板ガラスを約43℃の飽和水蒸気に約３分間接触
させた後、約40℃の乾燥器中に約10分間放置し、室温に
１時間放置し、再度最初の飽和水蒸気接触を開始するま
でを１サイクルとして、10サイクルまでの曇り発生試験
を実施し、各サイクルで、飽和水蒸気に約３分間接触さ
せる間の曇りの発生状況を目視で評価した。なお、本実
施例４の板ガラスはこのテストの間、常に高圧水銀灯の
光をプリズム８を介して入射した。
【００８０】その結果、本実施例の板ガラスは、10サイ
クルの間、曇りの発生は認められず、先の実施例１同様
の効果が認められた。
クルの間、曇りの発生は認められず、先の実施例１同様
の効果が認められた。
【００８１】<<実施例５>>チタニウムテトライソプロポ
キシドにオクチレングリコールを添加した溶液を定量ポ
ンプで約 200℃に加熱されたステンレス製密封容器（蒸
発器）に注入した。該容器には、別に乾燥した窒素ガス
を通してあり、更に出口側で約 200℃の乾燥空気と混合
し、常圧ＣＶＤ用ガスを調製した。
キシドにオクチレングリコールを添加した溶液を定量ポ
ンプで約 200℃に加熱されたステンレス製密封容器（蒸
発器）に注入した。該容器には、別に乾燥した窒素ガス
を通してあり、更に出口側で約 200℃の乾燥空気と混合
し、常圧ＣＶＤ用ガスを調製した。
【００８２】実施例４同様の板ガラスを移送コンベアに
より加熱炉内に搬送し、最高温度約620℃程度まで昇温
し、該加熱炉より移送コンベアにより搬出直後に、板ガ
ラス上面に予め用意したＣＶＤ装置により、前記調製ガ
スをＣＶＤノズルより吹付け、アナターゼ型光触媒膜を
成膜した。このガラスの膜厚は 120±25nmであり、ガラ
スのヘーズ値は 0.5％であった。
より加熱炉内に搬送し、最高温度約620℃程度まで昇温
し、該加熱炉より移送コンベアにより搬出直後に、板ガ
ラス上面に予め用意したＣＶＤ装置により、前記調製ガ
スをＣＶＤノズルより吹付け、アナターゼ型光触媒膜を
成膜した。このガラスの膜厚は 120±25nmであり、ガラ
スのヘーズ値は 0.5％であった。
【００８３】これを実施例４と全く同様に、光触媒膜非
形成面の周縁部１a にプリズムを配置し、ランプシェー
ドを覆設した高圧水銀灯をセッッティングした。実施例
４同様に、上記片面光触媒膜付き板ガラスを約43℃の飽
和水蒸気に約３分間接触させた後、約40℃の乾燥器中に
約10分間放置し、室温に１時間放置し、再度最初の飽和
水蒸気接触を開始するまでを１サイクルとして、10サイ
クルまでの曇り発生試験を実施し、各サイクルで、飽和
水蒸気に約３分間接触させる間の曇りの発生状況を目視
で評価した。なお、この板ガラスはこのテストの間、常
に高圧水銀灯の光をプリズム８を介して入射した。
形成面の周縁部１a にプリズムを配置し、ランプシェー
ドを覆設した高圧水銀灯をセッッティングした。実施例
４同様に、上記片面光触媒膜付き板ガラスを約43℃の飽
和水蒸気に約３分間接触させた後、約40℃の乾燥器中に
約10分間放置し、室温に１時間放置し、再度最初の飽和
水蒸気接触を開始するまでを１サイクルとして、10サイ
クルまでの曇り発生試験を実施し、各サイクルで、飽和
水蒸気に約３分間接触させる間の曇りの発生状況を目視
で評価した。なお、この板ガラスはこのテストの間、常
に高圧水銀灯の光をプリズム８を介して入射した。
【００８４】その結果、本実施例５の板ガラスは、10サ
イクルの間、曇りの発生は認められず、実施例４同様の
効果が認められた。
イクルの間、曇りの発生は認められず、実施例４同様の
効果が認められた。
【００８５】なお、上記各実施形態および実施例によれ
ば、板ガラスが接着剤層を介在させた合せガラスであっ
て、その一方のガラスの外側面に光触媒膜を形成した場
合、あるいは両方のガラスの外側面に光触媒膜を形成し
た場合も、本発明の範疇であることは、いうまでもな
い。
ば、板ガラスが接着剤層を介在させた合せガラスであっ
て、その一方のガラスの外側面に光触媒膜を形成した場
合、あるいは両方のガラスの外側面に光触媒膜を形成し
た場合も、本発明の範疇であることは、いうまでもな
い。
【００８６】また、ガラス自体に少量のCeO2やTiO2等を
混在させ、通常のガラスより太陽光における紫外域の吸
収率を増大した、いわゆる紫外線吸収ガラスがあるが、
その吸収に充分打ち克つ光（紫外線）を照射するように
すればよい。
混在させ、通常のガラスより太陽光における紫外域の吸
収率を増大した、いわゆる紫外線吸収ガラスがあるが、
その吸収に充分打ち克つ光（紫外線）を照射するように
すればよい。
【００８７】更に、車両用ガラスなどの例としては、平
板状の板ガラスに限らず、曲率半径の大きい曲げガラス
が多く採用されるが、その一方の面、あるいは両方の面
に光触媒膜を形成した場合においても、本発明に基づく
ところの適宜設計事項に過ぎない。
板状の板ガラスに限らず、曲率半径の大きい曲げガラス
が多く採用されるが、その一方の面、あるいは両方の面
に光触媒膜を形成した場合においても、本発明に基づく
ところの適宜設計事項に過ぎない。
【００８８】すなわち、曲げガラス、強化ガラス、合せ
ガラス、紫外線吸収ガラスのいずれか、または全ての組
合せにおいても、本発明の範疇にあるものである。
ガラス、紫外線吸収ガラスのいずれか、または全ての組
合せにおいても、本発明の範疇にあるものである。
【００８９】
【発明の効果】本発明によれば、紫外線を人体に暴露す
ることなく、板ガラス片面または両面の光触媒膜に照射
し、光触媒膜を活性化でき、満足し得る防曇機能を発揮
できるという効果を奏する。
ることなく、板ガラス片面または両面の光触媒膜に照射
し、光触媒膜を活性化でき、満足し得る防曇機能を発揮
できるという効果を奏する。
【図１】一実施形態における光触媒膜付き板ガラスの断
面図であり、図１Ａは光源ランプから光入射した態様、
図１Ｂは光照射部から光入射した態様をあらわす。
面図であり、図１Ａは光源ランプから光入射した態様、
図１Ｂは光照射部から光入射した態様をあらわす。
【図２】図１にかかる板ガラス端面より光入射した例の
拡大部分断面図である。
拡大部分断面図である。
【図３】他の実施形態における光触媒膜付き板ガラスの
断面図であり、図３Ａは光源ランプよりプリズムを介し
光入射した態様、図３Ｂは光照射部より、板ガラス表面
周縁の斜断面に光入射した態様、図３Ｃは斜断面に光導
入ホログラムを介して光入射した態様をあらわす。る。
断面図であり、図３Ａは光源ランプよりプリズムを介し
光入射した態様、図３Ｂは光照射部より、板ガラス表面
周縁の斜断面に光入射した態様、図３Ｃは斜断面に光導
入ホログラムを介して光入射した態様をあらわす。る。
【図４】図３にかかる板ガラスの表（裏）面の周縁部よ
り光入射した例の拡大部分断面図である。
り光入射した例の拡大部分断面図である。
１ 板ガラス １a 板ガラスの一表面周縁部 １a' 傾斜させた面 ２ 光（励起紫外線） ３ 光触媒膜 ４ 板ガラスの一端面 ５ 光源（ランプ） ５’ 光照射部 ８ プリズム ８’ 光導入ホログラムよりなるシート ９ 板ガラスの他方（光触媒膜非形成）の面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２１Ｖ 8/00 ６０１ Ｆ２１Ｖ 8/00 ６０１Ａ 19/00 ３１０ 19/00 ３１０Ｚ // Ｆ２１Ｖ 3/04 3/04 Ｄ
Claims (6)
- 【請求項１】板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を形
成し、板ガラスの端面に対して前記光触媒の励起光源
を、励起光が前記端面から漏出しないように配し、前記
端面から板ガラス内に励起光を入射し、板ガラス内を繰
返し全反射させて板ガラス内を伝播させるようにしたこ
とを特徴とする光触媒膜付きガラス。 - 【請求項２】板ガラスの少なくとも片面に光触媒膜を形
成し、板ガラスの一方の面の周縁部の、光触媒膜を形成
していない適宜箇所に、前記光触媒の励起光源を励起光
が前記箇所から漏出しないように配し、前記箇所より板
ガラス内に励起光を入射し、板ガラス内を繰返し全反射
させて板ガラス内を伝播させるべく、前記励起光の前記
一方の面 X−X'における屈折角γt を設定してなること
を特徴とする光触媒膜付きガラス。 - 【請求項３】一方の面 X−X'に対する入射励起光の屈折
角γt が、41.8°以上になるように励起光入射条件を調
整したことを特徴とする請求項２記載の光触媒膜付きガ
ラス。 - 【請求項４】励起光の入射箇所のガラス面を、一方の面
X−X'に対して傾斜させた面としたことを特徴とする請
求項２または３記載の光触媒膜付きガラス。 - 【請求項５】励起光の入射箇所に、光導入ホログラム、
またはプリズムを添設し、それら光導入ホログラム、ま
たはプリズムを介して励起光を入射するようにしたこと
を特徴とする請求項１ないし４記載の光触媒膜付きガラ
ス。 - 【請求項６】光触媒膜と板ガラスとの間に、該光触媒膜
より屈折率の低い透明酸化物の膜を介在させたことを特
徴とする請求項１ないし５記載の光触媒膜付きガラス。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9349089A JPH11180733A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 光触媒膜付きガラス |
| US09/177,134 US6055085A (en) | 1997-10-23 | 1998-10-22 | Photocatalytic glass pane equipped with light source for activating same |
| EP98120111A EP0911300A1 (en) | 1997-10-23 | 1998-10-23 | Photocatalytic glass pane equipped with light source for activating same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9349089A JPH11180733A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 光触媒膜付きガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11180733A true JPH11180733A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18401424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9349089A Pending JPH11180733A (ja) | 1997-10-23 | 1997-12-18 | 光触媒膜付きガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11180733A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315892A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Inax Corp | ガラス板アッセンブリ、ガラス板表面の光触媒の活性化方法及びタイル施工構造 |
| JP2007502200A (ja) * | 2003-08-04 | 2007-02-08 | アトランティウム レイザーズ リミテッド | 光放射による液体及びガスの直列処理 |
| JP2007144328A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Shinshu Univ | 光触媒ファイバーとそれを使用した液体浄化装置 |
| JP2010184195A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Stanley Electric Co Ltd | 二酸化炭素還元装置 |
| JP2010264437A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Skypebble Associates Llc | 回折格子支援自浄性材料 |
| JP2013001611A (ja) * | 2011-06-17 | 2013-01-07 | Kureha Corp | 合わせガラスの加熱方法およびデフロスタ装置 |
| CN116085708A (zh) * | 2023-02-15 | 2023-05-09 | 北京化工大学 | 一种新型槽式太阳能捕集与光运输装置 |
-
1997
- 1997-12-18 JP JP9349089A patent/JPH11180733A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007502200A (ja) * | 2003-08-04 | 2007-02-08 | アトランティウム レイザーズ リミテッド | 光放射による液体及びガスの直列処理 |
| US7683344B2 (en) | 2003-08-04 | 2010-03-23 | Atlantium Technologies Ltd. | In-line treatment of liquids and gases by light irradiation |
| JP2006315892A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Inax Corp | ガラス板アッセンブリ、ガラス板表面の光触媒の活性化方法及びタイル施工構造 |
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| JP2010264437A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Skypebble Associates Llc | 回折格子支援自浄性材料 |
| JP2013001611A (ja) * | 2011-06-17 | 2013-01-07 | Kureha Corp | 合わせガラスの加熱方法およびデフロスタ装置 |
| CN116085708A (zh) * | 2023-02-15 | 2023-05-09 | 北京化工大学 | 一种新型槽式太阳能捕集与光运输装置 |
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