經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225521 A7 B7 五、發明說明（丨） 〔技術領域〕 本發明係關於IZO灑鍍靶，其適用於形成結晶組織微 細、燒結體轮度局、抗擦強度大、以姻及鲜氧化物爲主成 分之透明導電膜；並關於該濺鍍靶之製造方法。 〔背景技術〕 有幾個金屬複合氧化物所構成之透明導電膜，由於具 有高導電性和可見光透過性，而被使用在液晶顯示裝置、 薄膜電致發光顯示裝置、放射線檢測裝置、終端機器之透 明數位板、窗用玻璃之結露防止用發熱膜、帶電防止膜或 太陽光集熱器用選擇透過膜、觸控面板的電極等多方面的 用途。 這種金屬複合氧化物所構成之透明導電膜中，最普及 的是稱作ITO之氧化銦-氧化錫所構成之透明導電膜。 其他已知的有在氧化錫中添加銻者(ΑΤΟ)、或在氧化 鋅中添加鋁者(ΑΖΟ)等等。其等由於膜特性和製造成本等 互爲不同，而能按照用途來作適當的使用。 其中，有人提案出，使用蝕刻速度比ΪΤΟ膜爲大之以 銦及鋅的複合氧化物(以下沒有特別說明的情形稱爲「ΙΖ〇 」）爲主成分之透明導電膜(參照日本專利第2695605號公 報）。 這時成膜所用之ΙΖΟ靶，係藉熱靜水壓衝壓法所製造 出者(參照上述專利公報之實施例4〜12)。 然而，該方法所製造出之以往的ΙΖΟ濺鍍靶，燒結密 3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225521 A7 __ B7 五、發明說明（〆） 度不夠高，且結晶粒徑也不均一。又，所得之靶，體電阻 不夠低，並不一定是最適合於DC 鍍用之濺鍍靶。 又因熱靜水壓衝壓法所得之燒結靶的機械強度低，在 濺鍍中或靶的操作中會有發生缺口或裂痕的問題。 〔發明之揭示〕 有鑑於以上數點，本發明的目的是在不致喪失以銦及 鋅的氧化物爲主成分之IZO透明導電膜所帶有的特性下謀 求改良，係進行靶密度的提昇、結晶粒徑的均一微細化、 機械特性的改善，而提供一能使濺鍍的放電安定化、且能 安定且再現性良好的得出透明導電膜之：[Z0濺鍍靶，及其 製造方法。 本發明係關於： 1) 一種銦-鋅系氧化物構成之彳賤鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ’及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富相； 2) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其以 ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲1〇//m以下； 3) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其以 ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲5//m以下； 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公^7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- I---訂----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225521 A7 B7 五、發明說明（；）） 4) 一種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富相；其以 ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲10//Π1以下，燒 結體密度爲6.5g/cm3以上； 5) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織’即在氧化姻結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富2；n相；其平 均結晶粒徑爲3//m以下； 6) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富zn相；其以 ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲10/ΖΠ1以下，平 均結晶粒徑爲3/zm以下； 7) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富in相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富zn相；其燒 結體密度爲6.5g/cm3以上’平均結晶粒徑爲3 " m以下； 8) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 相組織’即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富ιη相 ，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zll相；其以 ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲1〇//m以下，燒 結體始度爲6.5g/cm3以上’平均結晶粒徑爲3vm以下； 9) 一種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備2 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) ---- ----訂----- 1225521 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ 相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富in相 ’及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zll相；其表 面粗度爲Ra在2//m以下’平均抗撓強度爲68MPa以上 10) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織’即在氧化姻結晶中固溶有Zn或未固溶之富In 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲10/zm以下， 表面粗度爲Ra在2//m以下，平均抗撓強度爲68MPa以 上； 11) 一種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍祀，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富in 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 燒結體密度爲6.5g/cm3以上，表面粗度爲Ra在2 /z m以下 ，平均抗撓強度爲68MPa以上； 12) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富in 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲10//m以下， 燒結體密度爲6.5g/cm3以上，表面粗度爲Ra在2/zm以下 ，平均抗撓強度爲68MPa以上； 13) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -- - - - ----β — — — — — — 歷 1 . (請先閱讀背面之注意事:填寫本頁) * 1225521 A7 B7 五、發明說明（<) 平均結晶粒徑3//m以下，表面粗度爲Ra在2//m以下， 平均抗撓強度爲68MPa以上； H)—種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富zn相；其 以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲以下， 平均結晶粒徑3//m以下，表面粗度爲Ra在2//m以下， 平均抗撓強度爲68MPa以上； 15) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 燒結體松度爲6.5g/cm以上’平均結晶粒徑3//m以下， 表面粗度爲Ra在2/zm以下，平均抗撓強度爲68MPa以 上； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 16) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶，其特徵爲具備 2相組織，即在氧化銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In 相，及在氧化鋅結晶中固溶有In或未固溶之富Zn相；其 以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體之平均徑爲10# m以下， 燒結體密度爲6.5g/cm3以上，平均結晶粒徑3//m以下， 表面粗度爲Ra在2//m以下，平均抗撓強度爲68MPa以 上； 17) 上述1〜16所記載之銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶中 ，銦-鋅系氧化物燒結體中的不純物之Fe、Al、Si、Ni、
Ti、Cu 各爲 lOppm(wt)以下； 7 本紙張尺度適用中關家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公董) -- 1225521 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 A7 B7 五、發明說明（y) 18) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於：將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造 粒，藉冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大 氣中以13〇0〜1500°c加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相； 19) 一種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲ΙΟ/zm以下； 2〇)—種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜150(TC加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富in相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以έρμα觀察之Zn原子凝集體 - I I I--I I 訂 I I I I (請先閱讀背面之注意事:填寫本頁) ♦ 1225521 A7 __B7 _ 五、發明說明（1 ) 之平均徑爲5//m以下； 21) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲l〇/zm以下，燒結體密度爲6.5g/cm3以上； 22) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其平均結晶粒徑爲3//m以下； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 23) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶對製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 χ 297公釐） 1225521 Α7 ______ Β7 五、發明說明（多） 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲10/zm以下，平均結晶粒徑爲3 以下； 24) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其燒結體密度爲6.5g/cm3以上， 平均結晶粒徑爲3//m以下； 25) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化絪和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲l〇//m以下，燒結體密度爲6.5g/cm3以上，平 均結晶粒徑爲3μηι以下； 26) —種絪-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225521 A7 — B7 五、發明說明（1 ) 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°c加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其表面粗度爲Ra在2#m以下， 平均抗撓強度爲68MPa以上； 27) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲10/zm以下，表面粗度爲Ra在2/zm以下，平 均抗撓強度爲68MPa以上； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 28) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --- 1225521 A7 - -—BZ_— 五、發明說明)
In或未固溶之富Zn相；其燒結體密度爲6 5g/cm3以上， 表面粗度爲Ra在2/zm以下，平均抗撓強度爲68MPa以 上； 29) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之灘鍍耙具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲l〇//m以下，燒結體密度爲6.5g/cm3以上，表 面粗度爲Ra在2/zm以下，平均抗撓強度爲68MPa以上 ， 30) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其平均結晶粒徑3 以下，表面 粗度爲Ra在2/zm以下，平均抗撓強度爲68MPa以上； 31) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 12 1225521 A7 --------B7____ 五、發明說明（) 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜l5〇0°C加熱燒結； 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以ΕΡΜΑ觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲10/zm以下，平均結晶粒徑3//m以下，表面 粗度爲Ra在2//m以下，平均抗撓強度爲68MPa以上； 32) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於= 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其燒結體密度爲6.5g/cm3以上， 平均結晶粒徑3//m以下’表面粗度爲Ra在2 // m以下， 平均抗撓強度爲68MPa以上； 33) —種銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶之製造方法，其 特徵在於： 將氧化銦和氧化鋅實施微粉碎後，進行混合造粒，藉 冷壓及/或靜水壓冷壓來成型後，於氧環境氣氛或大氣中以 1300〜1500°C加熱燒結； 13 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225521 A7 _ _ B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（〆） 以使所得之濺鍍靶具備2相組織，即在氧化銦結晶中 固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶中固溶有 In或未固溶之富Zn相；其以έρμα觀察之Zn原子凝集體 之平均徑爲以下，燒結體密度爲6.5g/cm3以上，平 均結晶粒徑3//m以下，表面粗度爲Ra在2//m以下，平 均抗撓強度爲68MPa以上； 34)上述16〜33所記載之銦-鋅系氧化物構成之濺鍍靶 之製造方法中，銦-鋅系氧化物燒結體中的不純物之Fe、 Al、Si、Ni、Ti、Cu 各爲 l〇ppm(wt)以下。 〔圖式之簡單說明〕 圖1係顯示對本發明的IZO靶素材表面，用ΕΡΜΑ定 性分析姻的結果。 圖2係顯示對本發明的ΙΖΟ靶素材表面，用ΕΡΜΑ定 性分析鋅的結果。 圖3係顯示對本發明的ΙΖΟ靶素材表面，用ΕΡΜΑ定 性分析氧的結果。 圖4係顯示本發明的ΙΖΟ靶之抗撓強度和累積破壞機 率的關係。 圖5係顯示本發明的ΙΖΟ靶之韋布爾圖(Weibull Plot) 〔發明之實施形態〕 在製造以銦及鋅的氧化物爲主成分之濺鍍靶時’例如 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) -----
I I I I 線Φ 1225521 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（π) 以重量比爲約90 : 10來秤取平均粒徑2//m的氧化銦粉和 相同粒徑之氧化鋅粉，加入成形用結合劑後實施均一混合 〇 接著，將該混合粉末充塡入模具內，用冷壓及/或CIP 加壓成形後，於大氣中或氧環境氣體中，以130(TC〜1500 °C的溫度實施燒結。 使IZO濺鍍靶燒結體的結晶粒徑成爲3//m以下，較 佳爲2//m以下，更佳爲1/zm以下。按需要將燒結體的密 度調整成6.5g/cm3以上(相對密度919%以上），又將IZO 中的不純物之Fe、Al、Si、Ni、Ti、Cu分別調整成 10ppm(wt)以下。 如此所得之IZO濺鍍靶，係具備2相組織，即在氧化 銦結晶中固溶有Zn或未固溶之富In相，及在氧化鋅結晶 中固溶有In或未固溶之富Zn相，且用ΕΡΜΑ觀察之Ζη 原子之平均凝集體直徑爲l〇//m以下，此乃本發明之顯著 的特徵。 將所得之IZO濺鍍靶燒結體用平面磨床硏削成表面粗 度2//m以下的IZO靶素材，以使抗撓強度的平均値成爲 68MPa以上。又藉由使Ra形成0.5//m以下，可使抗撓強 度的平均値成爲78MPa以上。 在此，進一步對IZO濺鍍靶的靶面施加鏡面加工，使 平均表面粗度成爲〇.2//m以下亦可。 該鏡面加工(硏磨），可使用機械硏磨、化學硏磨、化 學機械硏磨等之既知的硏磨技術。 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225521 A7 '_________B7__ 五、發明說明（χ^) 例如，用固定磨粒拋光機(拋光液：水)拋光，或用游 離磨粒硏磨床(硏磨材：SiC糊等)硏磨後、將硏磨材更換成 鑽石糊來施加硏磨，藉此而得出。上述硏磨方法沒有特別 的限制，只要能達成良好的平均表面粗度Ra，使用其他硏 磨方法亦可。將所得之IZO濺鍍耙接合於支持板(backing plate) 〇 接著，進行吹氣或流水洗淨等的淸淨處理。用吹氣來 除去異物時，若從噴嘴的對向側用吸塵器來進行吸氣，則 能更有效的除去異物。然而，由於吹氣和流水洗淨有其界 限，故進一步進行超音波洗淨等亦可。該超音波洗淨，以 在頻率25〜300KHz間進行多重振盪的方法爲有效。以如讓 頻率25〜300KHZ間之以25KHz爲刻度所分隔成的12種頻 率作多重振盪，以進行超音波洗淨。 這樣形成之透明導電膜形成用IZO濺鍍靶的體電阻値 能形成ΙΟπιΩ · cm以下。如此般，可在不改變IZO之習知 特性下，降低IZO濺鍍靶之體電阻値。 又，本發明的靶的特徵爲：密度高、具有結晶粒徑更 加均一微細化的組織、機械強度高。藉此，所得的靶能安 定具再現性良好地得出透明導電膜。 實施例及比較例 接著，藉由將實施例和比較例作對比來說明本發明。 在製造IZO濺鍍靶時，首先以重量比爲約90 : 10來 秤取平均粒徑2/zm的氧化銦粉和相同粒徑之氧化鋅粉’ 均一地施以微粉碎混合後，加入成形用結合劑後進行造粒。 16 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225521 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（6) 接著，將該混合粉末均一地充塡入模具內，用冷壓機 加壓成形。將所得之成形體用燒結爐於1380°C燒結5小時 。除昇溫中爲氧環境氣體，其他皆在大氣中（環境氣體）， 以昇溫速度4°C/min、降溫速度10°C/min來實施。 接著，將所得之燒結體表面用平面磨床硏削，用鑽石 切刀來切斷側邊，即得出IZO靶素材。 該IZO靶素材，爲氧化銦-l〇.7wt%氧化鋅，密度 6.87g/cm3(理論密度 7.00g/cm3)，體電阻 3·2ηιΩ · cm，Fe 、A1、Si、Ti、Cu的不純物量各別爲lOppm以下。 接著，觀察該IZO靶素材的組織並用ΕΡΜΑ來進行靶 表面的定性分析。其結果，平均結晶粒徑爲1.36//m， ΕΡΜΑ之定性分析結果顯示於圖1、圖2、圖3。圖1係銦 原子的面分析結果，圖2係鋅原子的面分析結果，圖3係 氧原子的面分析結果。 如圖1、圖2及圖3所示可知，面上都相同的有凝集 鋅原子的散佈。又，鋅原子的平均凝集徑爲5/zm以下。 又空孔比結晶粒徑小，且整體呈均一地分散。 然後進行拋光以製作出本發明實施例之Ra 0.4//m的 板(實施例1)，沿長方向進行平面硏削以製作出Ra 1.2//m 的板(實施例2)，又沿長方向進行平面硏削以製作出Ra 2.2 /z m的板(比較例）。 接著，對這些板進行三點撓曲試驗，以測定強度。結果 顯示於圖4及圖5。圖4係顯示依據中位數法之抗撓強度和 累積破壞機率的關係，圖5係顯示單一模式之韋布爾圖。 17 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ----- ---訂----- 線Φ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225521 A7 B7 五、發明說明（vW) 從圖5求出代表破壞機率的偏差之韋布爾讎〇η値) ’將其顯币於表i。韋布爾係數是藉由求取線性回歸直線 來得出m値。韋布爾讎越大，係代表非破麵力的最大 値之偏差越少，從表1可確認出，讎於習知品，實施例 品之偏差少，而爲更安定的材料。 從圖4可知當Ra爲2.0“以上時，抗擦強度變低。 一般而S，平面硏削後的表面粗度是對應於結晶粒徑。在 粒徑不均-的娜，Ra雖更大，而使抗麵度循的降 低。以往的組織並不均一’而會產生這個現象。 從上述對比可明白’本發明藉由形成結晶粒徑微細且 表面粗度小的祀’可獲得品質超越習知品的耙。 (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) ----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表 1 硏削條件及 表面粗度Ra 韋布爾係數 實施例1 拋光 0.4 // m 10.2 實施例2 長方向平面硏削 1.2 // m 11.1 比較例 長方向平面硏削 2.2 β m 9.2 〔發明效果〕 本發明之透明導電膜形成用IZO濺鍍靶，不致喪失以 銦及鋅的氧化物爲主成分之IZO透明導電膜所帶的特性， 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -Γ-- ---訂----- 線%- 1225521 A7 B7 五、發明說明（\^) 而能實質地有效降低體電阻。又，如此般所形成之透明導 電膜形成用IZO濺鍍靶的體電阻値能控制在ΙΟπιΩ · cm以 下的範圍。 又，本發明的靶的特徵爲：密度高、具有結晶粒徑更 加均一微細化的組織、抗撓強度高。藉此，能獲得一能使 濺鍍的放電安定化、且能安定且再現性良好的得出透明導 電膜之靶。 (請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁) %1 — lr 訂---- 線%- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 適 度 尺 張一1 97 2 X (2Γ0 格 規 4 )A S) N (C 準 標