TWD210155S - 等離子體處理裝置用容器 - Google Patents

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TWD210155S
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TW
Taiwan
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processing device
plasma processing
vessel
design
container
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Application number
TW109300766D01F
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English (en)
Inventor
蔡熙星
金亨源
鄭熙錫
Original Assignee
南韓商吉佳藍科技股份有限公司
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【物品用途】;本設計係關於一種等離子體處理裝置用容器之設計,特別是有關於一種用於等離子體處理半導體製造基板裝置中的容器。;【設計說明】;無。

Description

等離子體處理裝置用容器
本設計係關於一種等離子體處理裝置用容器之設計,特別是有關於一種用於等離子體處理半導體製造基板裝置中的容器。
無。
TW109300766D01F 2019-08-20 2020-02-19 等離子體處理裝置用容器 TWD210155S (zh)

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