TWD209963S - 等離子體處理裝置用容器 - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計係關於一種等離子體處理裝置用容器之設計，特別是有關於一種用於等離子體處理半導體製造基板裝置中的容器。;【設計說明】;無。
Description
本設計係關於一種等離子體處理裝置用容器之設計，特別是有關於一種用於等離子體處理半導體製造基板裝置中的容器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR30-2019-0039749 | 2019-08-20 | ||
| KR20190039749 | 2019-08-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD209963S true TWD209963S (zh) | 2021-02-21 |
Family
ID=88966701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW109300766F TWD209963S (zh) | 2019-08-20 | 2020-02-19 | 等離子體處理裝置用容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWD209963S (zh) |
-
2020
- 2020-02-19 TW TW109300766F patent/TWD209963S/zh unknown
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