TW594328B

TW594328B - Color liquid crystal display panel, manufacturing method of the same

Info

Publication number: TW594328B
Application number: TW089121534A
Authority: TW
Inventors: Mamoru Okamoto; Yuji Yamamoto; Michiaki Sakamoto; Hironori Kikkawa
Original assignee: Nec Lcd Technologies Ltd
Priority date: 1999-10-15
Filing date: 2000-10-13
Publication date: 2004-06-21
Also published as: KR20010040098A; KR100510312B1; JP2001117085A; US6690446B1

Description

594328 五、發明說明α) 【發明背景】 1.發明領域 j發明係關於一種彩色液晶顯示板與造方、其係有關一種藉由在彩色液曰gg - f '、口 u 推用非曰石々“ 不板（其係由具有多數個使用非矽之溥馭電晶體的透明絕緣基板所製）的TFT( 膜電晶體）基板上形成g色矩陳乃、、索备、稱CF-on-TFT板），以及其製造方法。本舍明亦有關於一種使用CF_on_TFT板作板的液晶顯示器。巴欣日日，、、、員不 2 ·相關技術的描述圖1係一習用液晶顯示板的斷面圖。如圖所示，此一習用液晶顯示板係藉由將（1)第一基板丨（於後文係指丁？丁基板）及（2 )第二基板1 6等兩基板間夾隔著設於其周圍的密^ 材枓1 9加以疊層，使兩基板的各自之薄膜形成表二對的方式而組裝成一面板，並在其間設置一球形分隔件Μ 使基板1及1 6之間維持一恆定的距離，以及在烘烤密⑺封材料之後注入液晶材料2 1至面板内。其中，該第一基板'ι具有··由閘極電極2、閘極絕緣膜4、半導體層5、源極電極6 及汲極電極7組成之開關元件（如TFTs，薄膜電晶體）·，每一電極2、6、7的配線層（未圖示），與TFT成一對一之對應，而設置的像素内之像素電極丨2 ;覆蓋所有前述元件的^ 護膜8 ;定向膜1 8a ;以及作為與外部電源之電連接的端子 3。而該第二基板16具有：黑色矩陣9 ;紅“）、綠（G)及藍 (B)各色之濾色片11R、11G(未圖示）&11β ;透明共通電極 594328 五、發明說明（2) 1 7 (如I TO，銦錫氧化物），·以及定向膜1 8b。習知之液晶材料2 1用的液晶注入方法有雙孔方法 (two-holes method)及真空注入方法。前者的方法包含ρ 下的步驟：在面板預定位置上設置二個穿透面板的孔，以、及經由其中一孔注入液晶材料2 1同時經由另一孔排出面板；而使液晶材料2 1抽入面板中。後者的方法包括以下之步驟：設置具有一注入口的空面板，將液晶材料2丨置入^ 空中（1 X 1 0 - 2至1 X1 〇 - 4托耳）以使液晶材料2 1附著於、、主入” 口，然後逐漸恢復m力至大氣塵，俾藉由液晶面板内間的壓力差，使液晶材料2 1被注入面板中。目前， : 份的情況下係使用後者的方法。 ’在大部其次，在液晶材料被注入之後，將注入口穷妒後，/偏光板24a及24b係疊層至基板1及16各別的山 ^ 而形成液晶面板，可被通過第一基板‘丨 2 ，照光線所照射。弟一基板1 6的背為了取得高清晰度，此類】曰度。然而’因為習用的液晶板呈有形二：須增加像素密色片11及黑色矩陣9，在製造過程中:成於對向基板上的遽差，故必須估算到裕度，故難以確V像夺：置對正的誤 (開口率）儘可能地保持最大值。呆像素開口部之面積 9 — 29=:提報第平8-㈣24及的CF(濾色片）—〇n_TFT)的主動件（如TFTs，即所謂色矩陣的方法。土板上形成濾色片及黑

DH $ 6頁 594328 五、發明說明（3) 在這前述公報中之任一者的情形，由於濾色片及黑色矩陣係形成於CF-on-TFT基板上，所以不需要考慮位置對正用的裕度，因此，簡化了製造過程同時增加像素的開口率。 ^然而，就CF-on-TFT結構的面板而言，外部光線的反射係大於習用的液晶顯示板，因此，在明亮的外部光線之下，有顯示品質劣化的問題。立圖2 A及2 B係顯示出液晶顯示板外部光線反射機構的示意圖。前述的問題將參考圖“及26來加以解釋。因為IT〇的折射率（11)(11約為2.0)大於對正薄膜183及1^(11約為 1.6)及玻璃基板（η約為l4)，外部光線的反射成分主要是對向基板上I TO的反射以及像素電極丨2上〗Τ0的反射。來自掃目苗線或訊號線的反射也不重要。如圖2Α所示，因為在習用TFT及CF分離型液晶顯示板中，反射光通過rgb 濾色片11二次，所以反射光以穩定的方式減弱。相反地，如圖2B所示，在CF-on-TFT結構的液晶顯示板的濾色片u 了，反射光並未減弱，且大量的反射光係大於來自習用顯示板的反射光。 ^ 具體地說’ CF-on-TFT結構的顯示板的問題在於：波長λ約=5 5 〇nm的綠光之反射光，在明亮的外部光線下係別的顯著。、附帶一提者：設置反射防止膜以降低反射為通常之作法，於日本專利公開公報第平6 — 2 1 425 2號及1〇 —i 548 i7號中揭不一種為提高反射型液晶燈泡的反射效率，而於對向

第7頁 594328 五、發明說明（4) 電極I T 0的上方及下方号罟G伙卜光的技術。方-置反射防止起以有效地除去反射反射光而故f ::，由於反射防止膜係用以有效地取出則mt:ϊ控制反射防止膜的折射率及厚度， :t取，？ί亦即顯示影像之位置的依存性將過大，而不 :::南：：的：示性能。0此，反射防止膜必須藉由濺 =似方法以無機材料製&，如此即造成於液晶顯示器勺衣仏過程中必須要增加一額外步驟的問題。如岫文所时論過及如圖2β所示，於在^^丁基板上形成有濾色片11的CF-on-TFT結構的液晶顯示板，相較於圖2Α 所示4用TFT及CF分離型液晶顯示板，對向基板側之17〇及，素電極12之ITO的外部光線之反射，或來自訊號線及掃 ϋ線之反射係顯著的，且為了合乎目前高密度結構之高品質影像的要求’必須避免由反射（尤其是來自掃瞄線及訊號線者）引起的影像品質劣化。進一步地’在設置反射防止膜至丨τ〇上方或下方以防 f影像品質劣化時，必須藉由濺鍍或類似方法形成具有預 =折射率及膜厚的無機材料膜，如此將造成必須在液晶顯示板製造過程中增加一額外步驟的問題。【發明之概述】 ^ 因此’本發明之一目的在於提供一種具有優良顯示品質及較低外部光線反射的CF-on-TFT結構的顯示板，以及其製造方法及一液晶顯示器。本啦明的彩色液晶顯示板包括：一第一基板；像素電

第8頁 594328 五發明說明（5) 極，形成於第一基板上，用體，形成於第^以形成各個像素；薄膜電晶二战於弟基板上，用以作為各個像紊夕„閼-从 :保一膜’用以覆蓋薄膜電晶一矩【1:，片’皆形成於保護膜上；一外塗#，3=車及：慮色片·一筮-I α α 土增復盍黑色矩陣及濾色極，係形成於第二基板上；置，f明共通電 4a u ^ ^ ^ t 在対材枓，用以疊層箆一其板及弟一基板於其外框部；一且θ弟基二基板之間的空隙；以及用使：1 ’注入至第-及第較短波長側偏移的機構或構件使入射光的反射光之波長朝 :交佳的情形是，偏移機構或偏移構件將一基板之間的空隙距離，與、土板及弟射率各向異性(ref ract lve、二在该空隙之液晶材料之折差，設立成較接近於藍光。dex anis〇tr〇py)的遲滞外=，可以使用平面内（in-Plane)分隔件來維持第一月弟一基板之間的空隙距離。、弟及及第進平面可以使用透明電阻膜，“維持第-及弟一基板之間的空隙距離。寸弟進一步地，在平面内可L7游Λ、 (accumulation + . λ ^成一個濾色片的疊層部

UcCumulat10n portlon)，以維持空隙距離。及弟一基板之間的此外，（例如）以氟液晶混合物基板空隙間的液晶材料。為庄入在第一及弟一又，形成於平面内的透明雷上。月笔阻馭可以形成於第一基板

594328 五、發明說明（6) 更進一步地，形成於平面内的濾色片之疊層部係形成於例如第一基板上。本發明彩色液晶顯示板的製造方法，包括以下步驟：在第一基板上形多數個薄膜電晶體及一個配線層；覆蓋於該薄膜電晶體及配線層，在該第一基板的全面形成一保護膜；於該薄膜電晶體的至少一半導體層上及在基板周圍部的外框上形成黑色矩陣；形成遽色片層；覆蓋於該黑色矩陣及濾色片層，在該第一基板的全面形成一外覆層；於該外覆層設置一接觸通孔以形成像素電極；封材^該第一基板之薄膜電晶體表面的周圍部上設置一密第一晶體間的異性間的 &用密封材料將具有透明共通電極的第二基板 =板上’而使該透明共通電極與該第一基板之，面相對向；以及吕亥笼晶口在、宜層之基板間的空隙内注入一液晶材料空例^，較佳的情形是，將第一基板及第二 Ϊ遲^離，與注入在該空隙之液晶材料之折射又^ 是，設立成較接近於藍光。空隙（例如）平面内的分隔件係散佈在第一及第進-步地，可藉由光刻在第—基板的平面内：疊層至薄膜電基板之率各向

成透明

^^8 五、發明說明------------- 電F且腺、、’以維持第一及第二基板間的空隙距離。平面進:步地，可藉由光刻、印刷或電沉積在第一基板的办内形成濾色片的疊層部，以維持第一及第二基板間二1象距離。間可使用氟液晶混合物作為注入在第一及第二基板曰勺空隙内的液晶材料。土成依照彩色液晶顯示板及其製造方法，在TFT基板上形板黑/色矩陣及濾色片的CF-on-TFT結構的彩色液晶顯示方’來自像素電極1 TO之外部光線的反射光能由以下之、予以降低：利用在遲滯差（△ n d)與光透射率間存在有長依存性的事實，以選擇並控制CF-on-TFT板的間隙（d) 及液μ材料的折射率各向異性（△ d)。結果，在未設置防止反射膜之情況下，即能提供一種反射性較小的 CF-on-TFT結構的液晶顯示器。一本發明的液晶顯示器使用前述的彩色液晶顯示板以顯不一影像。一 ^本發明的另一液晶顯示器使用由前述彩色液晶顯不反衣le方法所製之彩色液晶顯示板以顯示影像。【較佳實施例的詳細說明】炫苓考附圖，詳細描述本發明的一實施例如下。 [第一實施] (1)構成之說明圖3至圖8顯示本發明之顯示板（CF-on-TFT板）的第一

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實施例，係藉由在透明絕緣基板（具有多數個传 TT/ 丨、771井日日石夕 t成的溥膜電晶體）所製成之彩色液晶顯示板的TFT基板形成黑色矩陣及濾色片而予以製成。土圖3也是示出顯示板（CF-on-TFT板）之末端部的橫刊面圖，其中，黑色矩陣9及濾色片11係形成於彩色液晶/顯°示板之TFT基板1上。圖4係本實施例的CF — 〇n —TFT結構的整^固顯示板的平面視圖，及圖5及6係顯示板之像素部的平=視圖。又，圖3係沿著圖5之P-P線所取得的顯示板邊緣部的橫剖面視圖。此外，圖7A —7C以及圖8A —8])係本實施例之彩色液晶顯示板之製程的流程的橫剖面圖。 7

在圖3中，開關TFT係包含：形成於第一基板1上的閑極電極2及閘絕緣膜4，以及形成於閘絕緣膜4上的源極電極6及汲極電極7。保護膜8被形成於開關TFτ上之後，形成黑色矩陣9 ’並由透明絕緣膜之負型光敏彩色光阻劑 (negative-type photosensitive color resist)形成濾

色片11B及11R，以便部份地覆蓋黑色矩陣9。在濾色片及11R以及黑色矩陣9的外部形成外覆層丨5。此外，提供一個將像素電極12電連接至TFT之源極電極6的接觸通孔13，之後’形成像素電極1 2，形成聚醯亞胺定向膜1 8 a，因而製成CF-on-TFT結構的第一基板！。另一方面，提供另一個第二基板16(於後文係指對向基板），在朝向第一基板1的表面上具有對向透明共通電極17。在透明共通電極17上形成有一聚醯亞胺定向膜18a。第一基板丨及第二基板16形成一液晶板’而使開關T F T及透明共通電極1 7彼此相對，並 594328 五、發明說明（9) 且’在液晶板周圍上施加密封材料而封住液晶材料2 1，時使用球形間隔體20維持第一基板i及第二基板16間的恆习定距離。在第一基板1及第二基板丨6的外表面上分別提偏光板24a及24b。、板1及第二基板1 6之密封材料1 g 圖4係從視覺可辨側來看的液晶顯示板之平面視圖，並且不出：分別提供於第一基板1之周圍部的水平末端垂直末端上的端子3H及3V、第二基板16、用以連接第液注入口 2 2、及用以晶阻基液晶注入口 2 2之UV硬化性聚丙烯樹脂或類似所梦末端密封劑23。此外，像素開口14R、14G&14B係提供成的黑色矩陣9上且也被提供至形成於周圍部之黑色矩陣u ^並且圖4概要地示出黑色矩陣9及1〇在圖的平面視圖。 1 1刀半導:平面®，並示出位在閘極電極2外部的二？電極6，以及將像素電極12電連接至源極汲極電極7及閘極2彼此交叉，及大部分色濾色；mV糸顯示區。在像素電極12之下方形成有-單體上mf5中未顯示’但顯示，於圖6)，並且在半導居5上方形成有一黑色矩陣9(見圖6)。形狀圖6係平面視圖，11示出-像素以說明黑色矩陣9的开:狀’亚不出黑色矩陣9，像素電極12，像辛電極12二的通孔13，半導n μ，@ ^ #电如Z像素電極12用的 U。粒層5及相對應於像素電極12的濾色片在前述構成的液晶板中，為了降低在顯示螢幕上入射 594328 五、發明說明（10) 光的反射光，液晶材料的折射率及第一基板丨和第二美 16間的空隙係重要的。這將在下文更詳細地加以說一土板 (2 )製造方法的說明在前述配置的液晶板中，所用液晶材料21的折射向異性(★ Δη)以及第一基板}和第二基板16間的距離（二t:ί ί：光的反射光係重要的，在下文中將詳細地描述本κ施例液晶板的製造方法。及，、及二3ΐ圖7'中，由閘極電極2、源極電極6、及及極电極7所組成的TFT，係形成於第一基 -基板^由透明絕緣材料如厚度為0 7 ;二 -λ板1上Λ Λ / 利用（例如）濺鑛方法在第基板1上形成厚度在1〇〇至4〇〇nm之間的金 (A1) ’鉬（Mo)，鉻（Cr))膜，並要' ^的極電極2及圖4所示的卜末端·以圖^將所要$狀的閑如圖7A所示，利用㈣（化學氣相沉積）等方 l^L Γλ Z'Th ^ ^ ^(SiN) ^ ^ ^ ^ 上做為閘、纟巴緣膜4。缺後在閽p始赠力， :晶…為半導體層5'並將 (1(αι !°μ〇^to ^tilr：^^〇Q^〇〇nm 形成所要的電極形狀以便製‘先刻將其圖案化而及圖4所示之H太& # y π成源極電極6、汲極電極7、以 '所一不之Η “端子3 Η並做為資料端子部。進、地’形成厚約⑽至2〇_的氮化石夕膜，做為覆 594328 五、發明說明（11) 蓋全部上述元件的保護膜。外，也能由透明樹脂材料（如严…、&材料（如氮化矽）以保護膜。 |乳彳对脂或聚丙烯樹脂）製成其次，如圖7 B所示，下t _ 的$色矩陳H i彳又脒犏述被形成於TFT基板上 =陣9及濾色片11之配置及製造方法。為了阻止光線進入半導髀矩陣。同時，在板的周圍上色二基板上形成黑色由以下方法予以製成：將内部。黑色矩陣9及1 0係猎破聚丙烯樹脂（例如商業上知文& TQp γ q W J T十旳貞t尤列）$ 土山知名的JSR公司的OPTMER CR系及烘烤，將其圖案化，形成所要的开用二先顯衫、厚為的1 $ 0 ,,,取听要的形狀。在這裡係形成膜十3 ^的膜。較佳黑色矩陣9及ίο所需要的性質電抗值3更大的光密度（⑽值）’以及1010n/sq.或更大的片叙塗佈黑色矩陣9及10的旋轉塗佈迴轉數，係隨著光阻劑之黏度而改變，並且在本實施例中，利用旋轉塗佈，使用黎度為5至10CP的光阻劑，以50 0至1 5 0 0rpm轉速，進行約1 0秒’而取得膜厚約1至3 Ω m的膜。在塗佈光阻劑之後，於90 °C熱板上對光阻劑進彳f預烤兩分鐘’以便自光阻劑去除溶劑。使用gh i混合射線（u v射線）進行曝光，曝光量為300至50 0Mj/cm2。 ^ 於曝光之後，使用0· 4質量百分比的TMAH(氫氧化四甲 1女）顯影劑（内含表面活性劑），進行顯影，使光阻劑圖案

第15頁 594328 五、發明說明（12) 化，形成所要的形狀。顯影劑係在常溫下使用，且係使用旋轉顯影以6 0至1 2 0秒的時間進行顯影。其次，在乾淨的烤箱中以220 t烘烤60分，以便硬化黑色矩陣9及1 0。應該知道的是，塗佈方法並不限制為上述的旋轉塗佈，他的塗佈方法，例如，細縫及旋轉法、棒塗佈方法（bar coat method)、及偏移印刷法（off set printing method)也可以使用。又，T F T基板可用U V射線或臭氧進行沖洗，而做為黑色矩陣9及1 〇之塗層的預處理。容易理解的是，藉由此項預處理，基板表面上的無機材料被分解，且能進一步地改良黑色矩陣9及1 0的黏度。此外，利用圖案化在濾色片i ir 的某一處上形成一穿孔，可以使用成通孔丨3。

一“次，如圖7C所示，濾色片11之R、G、B係形成於每一=素中。例如，内部分散有紅（R)顏料（例如商業上知/ ^ SR么司的0PTMER CR系列）之聚丙烯樹脂所製的負型光 ::色光阻劑，係藉由相同於黑色矩陣9及10所用之旋轉 ^ 破塗佈在基板上。調整旋轉迴數，使膜厚約為1 · 〇

…ί/:預烘烤及曝光之後，進行顯影，使所要的成於像素部。*此，將於下-步驟中“ 電極6至像素電極12之接觸通孔13的“ 孔1 3。/、幵口開口必須足夠大’以包含至少該接觸

第16頁 594328 五、發明說明（13) 的方式形成綠色（G)濾色片11G及藍色（β)濾色片11β。各別顏色的濾色片11僅須在黑色矩陣9及丨〇旁依次地形成，形成的順序並未特別地限制。各種顏色之濾以及黑色矩陣9及1 〇的形成順序也沒有特別的限制。在圖4中，三色用的像素開口係分別標記為、及 14B。其次，如圖8A所示，為了整平黑色矩陣9及1〇和片11R、11G及11B，藉由以下形成外塗層15··塗佈酚= 脂（novolak)正型光敏光阻劑（例如，商業上知名的）=

司之OPTMER PC系列），使用曝光及顯影將其形成為在接A 通孔13部上具有一開口的圖f，並在攝氏22〇度下分，使其硬化。纟濾色片U及周圍部黑色矩陣1〇層15具有實質相同的厚度，因此，依照圖案來分割外塗ς 1 5的步驟係加以省略。 q 其次’如謂所示，利錢、塗在外塗層15及通孔13之源極電極6上形成透明導電膜，如ιτ〇 ’將該= 案化，形成像素電極12。透明導電膜之厚度愈大，會聚= 愈好。這樣會使源極電極6的電連接穩定，但在關切被用成透明導電膜之ΙΤ0膜的工作性質時，合適之膜厚 6〇至12〇nm。在這種情況下，製造所謂的CF-on-TFT基板，中黑色矩陣9及濾、色片1 1係形成於TFT基板上。 ^其次，下文將要描述對向基板（第二基板）16的配置及 Γί L對向基板16係藉由以下予以完成：制濺 '塗方式，在由透明絕緣材料（如厂旱度為〇.7龍或非驗性玻璃）所

第17頁 594328 五、發明說明（14) 製的第二基板16上，形成厚度約為（例如）80至150ηπι的 I TO製對向透明共通電極1 7。其次’下文將要描述藉由將前述所製iCF_〇n_TFT基板疊層至前述所製之對向基板丨6所形成之CF_on_TFT板ς 置及其製造方法。如圖8D所示，聚醯亞胺膜18a (例如，商業上知名的

Nissan Chemical Industries ， Ltd·的SUNEVER 系列，

或JRS公司的OPTMER AL系列），藉由旋轉塗佈或偏移印刷，被施加至CF-οη-TFT結構的第一基板}的整個表面上，膜厚為40至70nm ’並在攝氏2〇〇度下烘烤6〇分。其次，在所形成的定向膜18a的表面上以一個方向施加磨擦劑（rubbing)，以取得所要的預傾斜角（pre_tiH angle)。磨擦劑藉以下所述予以施加：將包覆傳導性合成纖維（如黏性嫘縈）的磨擦滾筒和定向膜18a進行物理性接觸’同時調整推進深度、旋轉方向、及滾筒角度。其次，如圖8C所示，密封材料丨9係藉由濾網印刷 (screen printing)、分配器塗佈（dispenser c〇ating)或類似方法，而形成於基板1的周圍部。例如，環氧樹脂黏合劑（例如商業上知名的Mi tsui

Chemicals的STRUCTBOND系列）可以做為密封材料19。密封材料1 9的寬度並未特別地規定，只要其寬度足以取得其和對向基板1 6間的充足的疊層強度，並避免所注入的液晶漏

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五、發明說明（15) 1密封材料1 9内其:人’如圖8D:不’由環氧樹脂製之含有銀粉 j(^ansfer)被撒布在密封材料19的四個角落上，並且穷 =料19係疊層至分別形成的對向基板16上，之； $處理以硬化密封材料19。如在第—基板i的說明中所：向膜18b係形成於對向基板16上，並且磨擦劑係施力口 1其上方。當CF-on-TFT結構的基板丨及對向基板16在愚層日守，平面内的分隔件20係散佈在對向基板16上，因此，確保在基板1及1 6間的預定空隙。鲁 ^ &在此，使用由二乙烯基苯交聯聚和物製的所謂的球形城珠作為平面内分隔件2 〇。在考慮到遲滯差（△ nd)及光學性質（如光透射率）之的關係時，提供約為〇.42之Δη(1作為基板丨及^間的空隙曰板隙）。換句話說，如果所用之液晶材料的折射率各向显性（Δη)係約為〇·〇76，則最佳的板隙（d)( Δη(1/Δη) ς 5 · 5 // m。 ·、、、、、、、」然而，很明顯地遲滯差（△ nd= △ η χ d)及光透射率間具有波長依存性。進一步地，如日本專利公開公報第曰 1 1 - 1 428 77號所揭示的，人類可察覺之每一顏色的色相及光強度（視覺品質）也是決定於光的波長。例如，綠色的穿透光或反射光，比藍色光更容易被察覺。牙 #因此’來自像素電極I TO 1 2之外部光線的反射較為顯著之CF-on-TFT結構的顯示板中，藉由將反射光的波長轉換成較知：的波長側而實現反射光抑制裝置，因此，人米員

第19頁 594328 五、發明說明（16) 之感官並不易認出。在本實施例中，遲滯差（△ nd)係設為〇 · 2至〇 · 4。更祥 :地’當使用△ η = 0 · 0 7 6的液晶材料時，遲滯差（△ n d)既疋為約0 · 3，亦即，板隙既定為約4. 〇 # m。其次，將基板1及1 6皆切成所要的板尺寸。在這裡，如圖4所示，對向基板1 6經切割而比第一基板工小，°因此’， $露出水平末端上的Η-末端端子3Η及垂直末端上的[1—末端，子3V。然而，如果ΙΤΟ所製透明共通電極17係形成於切而割線上，切割粉末黏附在位在第一基板1上的端子別及” 上’而在端子間造成不想要的短路。因此，較佳的情形是，在不使透明電極丨7形成切判線的情況下，進行圖案化。液晶材料21係注入在依這樣^法所製之液晶板内。液晶係利用真空注入方式加以注入，中液晶板係置於能夠實現所要真空程度的真空容器中，然後，撤出顯示板，以便使液晶材料緊密地接觸尚未覆蓋密封材料19的注入口（如圖4所示），並將壓力逐漸恢復1大^ 氣壓。在本實施中，使用一種氟化合物（如商業上知名的 Chijso、Petrochemical公司之UX〇N系列）作為液晶材料，並藉由逐漸地注入氮氣，使氣壓由約為1 〇_4托耳的真空逐漸地恢$成大氣壓。在注入液晶之後，注入口 2 2用U v硬化性聚，稀樹脂或類似所製之末端密封劑加以阻塞。最後，將偏光板24a及24b分別疊層在基板}及16的外表面上，因而完成圖4所示的CF-on-TFT板。使用一種碘化

五、發明說明（17) 物偏光膜（例如，商辈卜％列）作為偏光板24a&24bt、知的Nitt0 Denk0公司的NPF系本實施例的特微在於· 線反射光係由以下予以柄來f像素電極1T012的外部光射率間開拓波長依存性=.·藉由在遲滯差（△nd)及光透隙U)及液晶材料的折射1存|在^，3以控制CF-⑽— TFT板的間供反射防止膜之情況下射，卞/接向/性（^)。、结果，在不提 CF，-m結構的液晶顯：器、供-種反射性遲滞差（△ Π d )传液a 44*』I 以 CF,-m 板二= U)通常為約U，同日ί =且液晶材料21之折射率㈣.076予以表示（U述折Λ率各^異性（W係以△ △ η既定為〇. 〇76，作是1 a /然氟化合物之液晶材料的間隙⑷可以減少，一而且Λ△要Μί定為如ο.1 —般地高時，時，則間隙⑷π以加；。皮定為如〇.05-般地小質。乂便-猎由控制反射光來改良影像品 —此外，CF οη-ΤρΤ板間隙（d)係相對應於液a姑後封厚度’並且在圖4的例子中，相對應於B日材料21之隔件20的直徑。因此，如果曰' 二/ v平面内分由散布多數個平面内分p件：料係咼黏性的，則藉精確的空隙長保=’因此，實現：距離。 "為疋向腰⑷及18b之主要表面間的以間隙距離（d)及折射率各向異性（△ η) 藉由相對應

594328 五、發明說明（18) 於外部光線之光，被轉換成影響到視覺認於前述彩像素内之R、G 境下亦不會受品質彩色影像與間隙長度間 0. 2至0 . 4的彩入貧料影像訊局清晰度及局雖然在本施例，但可以且在後附之申圍之内的所有

反射光的波長依存性，每一 R、G、B入射在UV射線區的反射光，因此，不會負面性地知。色液晶顯示板，利用驅動電路個別驅動各個、：B，可提供一種即使在明亮的外部光線環到外部光之反射光的不利影響，而能顯示高的液晶顯不裔。此外’在考慮到液晶材料2 1 的關係之下，藉由製造遲滯差（A nd)設定為色液晶顯示板，並將其連接到驅動電路以輸號或RBG訊號之方式，即能提供一種可顯示品質影像的液晶顯不為。文中描述目前在本發明中被認為係較佳之實理解的是，吾人仍可對其進行多種修改，並請專利範圍内欲涵蓋在本發明真實精神及範這類修改。

第22頁 594328 圖式簡單說明【圖式簡單說明】圖1係習用液晶顯示板的橫剖面圖。圖2 A及2 B係顯不液晶顯不板的外部光線反射機構的言兄明圖。圖3係依照本發明一實施例的液晶顯示板的橫剖面圖。圖4係依照本發明之一實施例的液晶顯示板的整體圖。圖5係本發明一實施例之液晶顯示板的像素部之平面圖。圖6係依照本發明一實施例的液晶顯示板的像素部之詳細平面圖。圖7A-7C係依照本發明一實施例的液晶顯示板之製程的橫剖面圖。圖8A-8D係顯示接在圖7之後的製程步驟之橫剖面圖。【圖式符號說明】 1 第一基板 2 閘極電極 3H 端子 3V 端子 4 閘絕緣膜 5 半導體層 6 源極電極 7 汲極電極

第23頁 594328 圖式簡單說明 8 保護膜 9 黑色矩陣 10 黑色矩陣 11 濾色片 11 B 藍色濾色片 11 G 綠色濾色片 11 R 紅色滤色片 12 像素電極 13 通孔 14B ， 14G ， 14R 像素開口 15 外塗層 16 對向基板（第二基板） 1 7 共通電極 18a，18b 定向膜 19 密封材料 2 0 分隔件 21 液晶材料 22 注入口 23 末端密封劑 24a 偏光板 24b 偏光板

第24頁

Claims

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種彩色液晶顯不板5包括：一第一基板；像素電極，形成於該第一基板上，用以構成各個像素；薄膜電晶體，形成於該第一基板上，用以作為各個像素之開關元件； —保護膜，覆蓋於該薄膜電晶體上；一黑色矩陣及一濾色片，皆形成於該保護膜上；一外塗層，覆蓋該黑色矩陣及濾色片；弟二基板，與該第一基板對向設置；一透明共通電極，形成於該第二基板上；一密封材料，用以在該第一基板及第二基板於各外框部將其予以密封及疊置；、 —液晶材料，注入於該第一及第二基板間的空隙· 及 ’从構或使入射光的反射光之波長朝較短波長側偏移的機 2移播如Λ請專利範圍第1項之彩色液晶顯示板，其中：該偏或偏移構件將帛一基板及第：基板之帛的空隙距 (r /、/主入在该空隙之液晶材料之折射率各向異性 index anis〇tropy)的遲滞差，設定在0·2至 3. 括： :申請專利範圍第2項之彩色液晶顯示板，其中一平面内分隔件，用來維持第一基板及第二基板之間

594328 594328 修正 MM 891215.S4 六、申請專利範圍的空隙距離 4.如申請專利範圍第2項之彩色液晶顯示板，里中括：一平面内透明光阻膜，形成於平面内以維持第一基板及第二基板之間的空隙距離。、土 5·如申請專利範圍第2項之彩色液晶顯示板，其中更包括：該濾色片的疊層部，形成於平面内以維持第一基板及第二基板之間的空隙距離。

6.如申請專利範圍第2項之彩色液晶顯示板，其中··被注入於第一基板及第二基板間空隙内的該液晶材料含有氟液晶混合物。 7 ·如申请專利範圍第4項之彩色液晶顯示板，其中：該形成於平面内的透明光阻膜係形成於該第一基板上。 8 ·如申請專利範圍第5項之彩色液晶顯示板，其中：該形成於平面内的濾色片的疊層部係形成於該第一基板上。 9 · 一種彩色液晶顯示板的製造方法，包含以下步驟：在第一基板上形多數個薄膜電晶體及一個配線層；覆盡於该薄膜電晶體及配線層’在該第一基板的全面形成一保護膜；

於該薄膜電晶體的至少一半導體層上及在基板周圍部的外框上形成黑色矩陣；形成濾色片層；覆蓋於該黑色矩陣及濾色片層，在該第一基板的全面形成一外覆層；於該外覆層設置一接觸通孔以形成像素電極;

第26頁 594328 修正案號89121534 千月曰六、申請專利範圍在該第一基板之薄膜電晶體表面的周圍部上設置一密封材料；使用密封材料將具有透明共通電極的第二基板疊層至曰，板上，而使該透明共通電極與該第—基板之薄膜電曰曰體表面相對向；以及在該等疊層之基板間的空隙内注入一液晶材料。半.，11請專利範圍第9項之彩色液晶顯示板的製造方 :•、將第一基板及第一基板之間的空隙距離，與注在f) 隙之液晶材料之折射率各向異性的遲滯差，設定隹u · 2至0 · 4之間。 m請專利範圍第9項之彩色液晶顯示板的製造方的八二彼.在第一基板及第二基板間的空隙中散佈平面内】7刀。由^維持第一基板及第二基板間的空隙距離。 :，ΐ!:月士利範圍第10項之彩色液晶顯示板的製造方膜，^维拉ΐ由光刻在第一基板的平面内形成透明電阻請”範圍㈣項之彩色液晶=的製造方内开光㈤、印刷或電沉積在該第-基板的平面内形成濾色片層的疊層部，以維持該間的空隙距離。弟基板及弟一基板 ΐ m範圍第1 °項之彩色液晶顯示板的製造方並中.使用氟液晶混合物作為注入在基板及第二基板間的空隙内的液晶材料。

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