TW593326B - Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds using a buffered phase transfer catalysis process - Google Patents
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Description
593326 A.7 B7 五、發明説明(1 ) 本發明係關於經由相傳遞催化技術製造含硫有機碎化 合物之方法。該方法包括在相轉移觸媒及含有一種緩衝劑 之水相存在下,使一種硫化物,及視需要,硫與矽烷化合 物產生反應。 含硫之有機矽化合物使用於各種商業應中作為反應偶 合劑。特別,含硫之有機矽化合物在製造以含有矽石之橡 膠硫化物為基準之輪胎時已變成基本組份。含硫之有機矽 化合物改良含有矽石之橡膠硫化物之物理性質導致汽車輪 胎具有改良之磨耗阻力,滾動阻力和濕剎停性能。可將含 硫之有機矽化合物直接加至含有矽石的橡膠硫化物中,或 替代,在加至橡膠硫化物組合物前,可使用來預處理矽石。 該項技藝中業已記述甚多方法用以製備含硫之有機矽 化合物。舉例而言,經由French等之美國專利案5,399,739 號中記述經由一種鹼金屬醇化物與H2S產生反應而形成鹼 金屬氫硫化物,隨後使其與一種鹼金屬產生反應而產生鹼 金屬硫化物來製造含硫有機矽烷之方法。然後使所產生之 鹼金屬硫化物與硫反應而提供鹼金屬多硫化物,然後最後 使它與式X-R^SKR1)]之矽烷化合物產生反應(此式中X是氯 或溴)而產生含硫之有機矽烷。 美國專利案第5,466,848、5,596,116和5,489,701等號中記述 用於製備矽烷多硫化物之方法。該’848專利案中之方法係 以經由Ηθ與乙氧基化鈉的反應而首先產生硫化鈉為基 準。然後使硫化鈉與硫產生反應而形成四硫化物。其隨後 與氯丙基三乙氧基矽烷產生反應而形成3,3’-雙(三乙氧基 G07539 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 593326 A7 B7 五、發明説明(2 矽烷基丙基)四硫化物。該,116專利案中教導不使用H2S而 製備多硫化物之方法,係使醇中之金屬醇鹽與元素硫產生 反應’或經由鈉金屬連同元素硫和一種醇與一種画代羥基 燒氧基矽烷例如氯丙基三乙氧基矽烷產生反應。該,7〇1專 利案中聲稱:用於製備矽烷多硫化物之方法係使硫化氫氣 體與一種活性金屬烷醇鹽溶液接觸及隨後使反應產物與一 種鹵代烴基烷氧基矽烷例如氯丙基三乙氧基矽烷產生反 應。 美國專利案第5,892,085號中記述高純度有機矽二硫烷之 方法。美國專利案第5,859,275號中記述用於製備雙(矽烷基 有機基)聚硫烷之方法。,085和,275兩專利案中記述包括卣 代燒氧基硬燒與一種多硫化物直接反應之無水技術。 美國專利案第6,066,752號中教導:在無溶劑存在或一種 操質子落劑存在下,經由硫-一種驗金屬和一種函垸|氧基碎 烷產生反應而製造含硫之有機矽化合物之方法。 更最近,美國專利申請案第6,140,524號中記述用於製備 具有式(RO)3SiC3H6SnC3H6Si(RO)3之短鏈多硫化物珍境混合 物之方法,此式中具有其中!!在2.2 S n s 2.8範圍内之分 佈。’524專利案方法中使金屬多硫化物,一般是Nh、醇溶 劑中之與具有式(RO)3SiC3H6X(其中X是鹵素)之鹵素丙基三 烷氧基矽烷產生反應。 該項技藝中,用於製備含硫之有機矽烷之代替方法教導 以使用相轉移催化技術為基準。相轉移催化技術克服與用 於製備含硫之有機矽化合物之前述先前技藝方法相關聯G07540 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐)
裝 η
線 593326
AT ______ B7 五、發明説明(3 ) <許多主要問題。許多的此等問題係與使用溶劑有關。特 別,因為其低閃點,使用乙醇可能有問題。另外,難以獲 得和維持工業規模之許多前述先前技藝方法中必須之無水 狀況。 用於製造含硫之有機矽化合物之相轉移催化技術舉例 而言,記述於下列美國專利案中:5 4〇5 985、5,663,396、 5,468,893和5,583,245。雖然此等專利案中教導使用相轉移 催化以製備含硫之有機碎化合物之新方法,但是仍存在著 以工業規模使用相轉移技術之許多實用問題。舉例而言, 於製備含硫之有機矽燒時必須控制相轉移觸媒的反應性 以便產生可以工業規模以貫施之有效率且安全之反應。此 外,須要改良最後產物穩定性、外觀和純度。特定言之, 先前技藝的相轉移催化方法導致含有高數量之未反應之硫 物種之成品產物組合物。此等未反應之硫物種可能隨著時 間消逝而可沈澱在所儲存產物中而造成產物硫化物分佈之 改變。 當使用驗金屬或硫化氫銨作為相轉移催化技術之起始 原料時,須要改良產品品質具有特別重要性。此等反應中, 危險且有惡臭之H]S產生在副反應中。含有甚至較少量之 HzS的產物組合物阻止其使用於大規模工業程序中。 與使用用於製備含硫有機碎化合物之相轉移催化技術 相關聯之更另外問題是膠凝(作用)其係由水解有機矽化合 物上之燒氧基基團’或起始之碎燒反應物,連同水相反應 物所造成。 -9 - 中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公货) 593326 A 7 ____B7 五、發明説明(4 ) 因此,本發明之一個目的在提供以相轉移催化技術為基 準,用於製備含硫之有機矽化合物之改良方法。 本發明之另外目的在提供以相轉移催化技術為基準,用 於製備含硫之有機碎化合物之方法,其產生具有較大穩定 性、純度和外觀之成品產物組合物。 本發明尚有另外目的在使用氫硫化物化合物(其可將成 為副產物之ΗΘ減至最少或消除)並以相轉移技術為基 準,提供製備含硫之有機矽化合物之方法。 本發明更有另外目的在以相轉移技術為基準而提供製 備含硫之有機碎化合物之方法,在此方法之情況,可將起 始原料或所產生之膠凝減至最少或消除。 本發明經由緩衝之相轉移催化技術而提供製備含硫有 機矽化合物之方法。含硫有機矽化合物係由本發明之方法 在相轉移觸媒(催化劑)和含有緩衝劑之水相存在下,使氫 硫化銨或一種鹼金屬氫硫化物,及視需要硫與具有下式: 矽烷產生反應: ’ (R〇)3.mRmSi-Alk-X (其中 X是 Cl,Br或 I) 本發明的改良,其特徵為:添加一種緩衝劑至水相。 本發明亦提供經由控制水相的p Η值用於製備含硫有機 碎化合物之改良方法。 本發明亦包括經由改良之方法所製造之有機矽化合物。 本發明是在相轉移觸媒(催化劑)和含有緩衝劑之水相存 在下,用於製備下式之有機矽化合物之方法: (R〇)3.mRmSi-Alk-Sn_Alk>SiRm(〇R)3_m -10 - 007542 593326 A7 B7 五、發明説明( 其中R單獨是具有1至12個碳原子之單價烴;Aik是具 有1至1 8個碳原子之二價烴;m是0至2之一個整 數,η是自1至8之數目; 使下列(A),(Β)及(C)產生反應: (Α)具有式M2Sn或MHS之硫化物化合物, 其中Η是氫,Μ是铵或一種驗金屬, η係如上所界定,與 (Β)具有下式之矽烷化合物; (RO)3.mRmSi-Alk - X 其中X是Cl’Br或I’而m是與上述者相同, 及視需要, (C)硫. 可依照本發明所製備之含硫有機矽化合物的實例記述 於下列美國專利案中:5,405,985、5,663,396、5,468,893和 5,583,245,以引用的方式併入本文中。依照本發明所製備 之較佳含硫有機矽化合物是3,3^雙(三烷氧基矽烷基丙基) 多硫化物。最佳之化合物是3,3^雙(三乙氧基矽烷基丙基) 二硫化物及3,3^雙(三乙氧基矽燒基丙基)四硫化物。 可使用式M2Sn或MHS之硫化物化合物在本發明方法之 反應步驟中作為組份(A),其中Μ代表一種鹼金屬或銨基 團,而Η代表氫。代表性鹼金屬包括鋰、鉀、鈉,铷或铯。 較佳之Μ是鈉。通常當所得產物式:(R〇)3_mRmsi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m中η的平均值需要是2時,優先使用MHS化合 物。MHS化合物的實例包括NsHS、KHS和NH4HS。當硫化 -11 - 中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂
線 593326 A7 B7 五、發明説明(6 ) 物化合物是MHS化合物時,以NaHS較佳。NaHS化合物之 特定實例包括來自PA州,匹資堡的ppg公司之NaHS片(含 有 71.5-74.5% NaHS)和 NaHS液(含有 45-60% NaHS)。當所得產 物式:(RO)3_mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(ORU η的平均值需要 是4時,優先使用合物。MjdC合物的特定實例包括
Na2S、K2S、Cs2S、(NH4)2S、Na2S2、Na2S3、Na2S4、Na2S6、 H、K2s3、K2S4、K2S6和(NH4)2S2。較佳,該硫化物化合物 是Na〗s。特佳之硫化物化合物是來自PA州,匹資堡的ppG 公司之硫化納片(含有60-63% NazS)。 本發明方法的反應步驟中之組份(B)是具有下式之矽境 化合物:
(R〇)3.mRmSi-Alk-X R單獨可能是含有1至12個碳原子之任何烴類基團。因此, R的實例可包括甲基、乙基、丙基、丁基、異丁基、環己 基,或苯基。較佳R是甲基或乙基基團。在式(R0)3_mRmSi_ Alk-X中,m是一個整數其數值可能是自〇至2。較佳m等於 0。Aik是含有1至1 8個碳原子之二價烴基團。舉例而言Aik 可能是伸乙基、伸丙基、伸丁基或伸異丁基。Aik較佳含 有2至4個碳原子而Aik最佳是伸丙基基團。X是選自氯、溴 或碘之一個齒素原子。較佳X是氯。可使用於本發明中之 碎燒化合物的實例包括氯丙基三乙氧基石夕统、氯丙基三甲 氧基矽烷、氣乙基三乙氧基矽烷、氯丁基三乙氧基矽烷、 氯異丁基甲基二乙氧基矽烷、氯異丁基甲基二甲基矽烷、 氯丙基二甲基乙氧基矽烷。本發明的矽烷化合物較佳是氯 -12 -
國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 593326 Λ7 B7 五、發明説明(7 ) 丙基三乙氧基矽烷(CPTES)。 亦可將硫作為一種視需要之組份(C)而加至本發明方法 之反應步驟中。本發明的反應中所使用之硫是元素硫。型 和形式並不重要且可包括一般所使用者。適當硫物質之實 例是來自WI州,Milwaukee市Aldrich公司之1 00網目精煉硫 粉末。 本發明方法中所使用之硫和疏化物的數量可變更,但是 較佳,S/M2Sn或S/MHS的莫耳比範圍自0.3至5。可使用硫/ 硫化物化合物之莫耳比來影響成品產物分佈,即,式: (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3.mt η之平均值。當需要產 物式(RO)3.mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3_m 中 η 的平均值是 4 時,硫/硫化物化合物比之較佳範圍是2.7至3.2。當需要產 物式(RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3_m 中 η 的平均值是 2 時,硫/硫化物化合物比之較佳範圍是0.8至1.2。 矽烷化合物(RO)3-mRmSi-Alk-X在溶劑不存在或存在下, 可與硫化物產生反應,或者,與硫化物化合物與硫之組合 (如上所述)產生反應。亦可將矽烷化合物分散入有機溶劑 中而形成有機相。有機溶劑之代表性實例包括甲苯、二甲 苯、苯,庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、氯苯及類似物。當使 用有機溶劑時,較佳之有機溶劑是甲苯。 當實施本發明之反應時,較佳使矽烷化合物直接與硫化 物化合物和硫之組合體(如上所述)產生反應。 本發明方法中所使用之矽烷化合物(RO)3_mRmSi-Alk-X的 數量可變更。適當莫耳範圍之實例包括以所使用之硫化物 __ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 593326 A7 __ B7 I、發明説明(8~) " 一~ 化合物之數量為基準,自1/10至10/1。當需要產物式: (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(〇R)3-m 中 n 的平均值是 4 時,碎 烷化合物(11〇)3-1^1118丨-八11^\係以自2.0至2.10莫耳過量的 Μθη硫化物化合物而使用,以2.01至2.06之範圍最佳。當需 要產物式(RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-mt η 的平均值 是2時,矽烷化合物(11〇)3_1111^^-八11^\係以自1.8至2.1〇莫耳 過量的MHS硫化物化合物而使用,以1 ·9至2.0之範圍最佳。 本發明中可操作之相轉移觸媒是第四鑌陽離子。作為相 轉移觸媒之第四鑌陽離子的較佳實例記述於美國專利案 5,405,985號中,以引用的方式併入本文中。第四鐳陽離子 較佳是溴化四丁銨或氯化四丁銨。最佳之第四鑌鹽是溴化 四丁銨。特佳之第四鏘鹽是來自WI州,Milwaukee市之 Aldrich化學公司之溴化四丁銨(99%)。 本方法中所使用之相轉移觸媒的數量可變更。較佳,相 轉移觸媒的數量以所使用之矽烷化合物的數量為基準,自 0.1至10重量%,而最佳自〇·5至2重量〇/〇。 可將相轉移觸媒在任何時間添加至反應中◊較佳係在本 發明方法的反應步驟前將相轉移觸媒加至水相中。 本發明的反應係在含有一種緩衝劑之水相存在下實 施。緩衝劑可能是單一化合物例如磷酸的鹼金屬鹽、磷酸 氫鹽、磷酸二氫鹽、碳酸鹽、碳酸氫鹽、或硼酸鹽或其組 合°緩衝劑之實例包括:Na3P〇4、Na2HP04、NaH2P04、 Na2C03、NaHC03和 NaB407。較佳,緩衝劑係選自 Na3P04、 Na2C03 或 K2c〇3。當需要產物式(r〇)3 mRmsi-Alk-Sn-Alk- -14 - 中 ΐ國家標準(CNS) A4規格(210X297公#)
AT _B7 五、發明説明(9 )
SiRm(〇Un的平均 <直是4時,較佳之緩衝劑是时〇4。 當需要產物式(RO)3-mRmSimSiRm(〇R)3 m中η的平 均值是2時,較佳之緩衝劑是Na2C〇3或K2C…。 經加至水相中之緩衝劑的數量可變更,但是通常係以等 於或大於Mjn或MHS之莫耳數目之莫耳數量添加。 在本發明之較佳具體實施例中,將硫化物化合物,相轉 移觸媒、緩衝劑、水和視需要之硫混合在一起而形成一種 中間產物。該反應可在各種溫度下實施,但通常在4〇至 l〇〇°C之範圍內。較佳該反應在65至95。〇範圍之溫度下予以 實施。通常,第一步驟可在各種壓力下實施,但較佳該第 一步驟反應在大氣壓下實施。第一步驟的反應發生所須之 時間並不重要,但通常自5至30分鐘。然後使中間物反應產 物與碎燒化合物(RO)3.mRmSi-Alk-X產生反應。中間反應產物 與矽烷化合物的反應發生所須之時間並不重要,但通常係 自5分鐘至6小時。 造成水相或中間反應產物所使用之水的數量可變更,但 是較佳以本方法中所使用之矽烷化合物(III)之數量為基 準。可將水直接或間接添加,因為一些水可能以少量已經 存在於其他原料中《為了本發明之目的,最好計算存在之 水的總量,即:考慮直接或間接所添加之所有水。較佳, 造成水相或中間反應產物時所使用之水的總量是所使用 之矽烷化合物的1至100重量%,而以2 · 5至70重量°/❶的範圍 更佳。最佳是以所使用之矽烷化合物的數量為基準,範圍 自20至40重量%的中間反應產物所使用之水。 ^0754? -15 -本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 593326 A 7 _;____B7 五、發明説明(1〇 ) " 一 雖然不受任何學說所限制,但是本發明發明人咸信:在 使用相轉移觸媒以製備含硫有機矽化合物之方法中添加 緩衝劑至水相協助控制反應介質的pH值,藉以影響產物成 形並使副反應減至最少,例H2S產生或產生具有通式: (RO)3-mRmSi-Alk-SH之硫醇碎燒。因此,作為本發明之第二 具體實施例,含硫有機♦化合物可經由控制pH值在上述之 反應中產生。本發明反應中所使用之水相的pH值可經由如 上述添加一種緩衝劑予以控制,或者,經由以如此速率和 濃度添加任何酸性或鹼性化合物以便在反應期間維持pH 值在7至14之範圍内。本發明發明人亦發現·· pH值對於產 物分佈即:對於產物式(R0)3.mRmSi_Alk_Sn_Alke>SiRm⑴R)3 m 中η的數值可能具有影響。當需要產物式(R〇)3 mRmSi_Alk_ Sn-Alk>SiRm(〇R)3-n^ n的平均值是2時,較佳之pH範圍是自8 至 1〇° 當需要產物式(RO)3_mRmSi_Alk-Sn_Alk-SiRm(〇R)3-m 中 η的平均值是4時,較佳之pH範圍自11至14。 將梦烷化合物以如此速率加至水相或加至中間反應 產物(如上所述)以便控制放熱反應,並維持溫度在4〇。 至ii〇c之範圍内。宜將反應溫度維持在60至95。[。反靡 進展可由消耗之矽烷化合物原料予以監測。觸媒之數量和 反應溫度影響欲完成反應必須之反應時間。 在反應終了時’所產生之產物混合物中含有有機相、水 相、且可能有沈澱之固體物質(其可包括反應期間所形成之 各種鹽類例如Naa、Na2HP〇4或NaHC〇3(或類似之神鹽)有機 相含有有機矽烷化合物)。 -16 -
593326 Λ 7 Β7 五、發明説明(11 ) 本發明亦包括處理步驟來加強將有機硬燒化合物與產 物混合物分離。此項分離可能是直接自組份(A)、(B)和視 需要(C)之反應(如上所述)所產生之有機相和水相之相分 離。或者,如果在反應期間形成沈澱之鹽類則在相分離 前,可將鹽類首先經由過濾方法或傾析方法予以分離。較 佳,在分離前,將水或稀酸性溶液加至產物混合物中。添 加水或稀酸性溶液可經由溶解一些或全部所沈殿之鹽而 加強相分離。此步驟期間所添加之水或稀酸性溶液之數量 可以所使用之矽烷化合物數量之重量為基準,自1 〇變更至 5 0重量%,較佳,所添加之水或稀酸性溶液的數量以所使 用之梦垸*化合物的數量為基準,自20至40重量%,而最佳 係自25重量°/〇至35重量%。當使用稀酸性溶液時,其可能 是具有0.000001至5之當量(N)濃度,較佳〇.〇1至1之任何的 普通酸’舉例而言’ HCbHNOrl^SO4或類似物。稀酸性 溶液亦可經由添加氯矽烷至水中予以製備。可使用以造成 稀酸性溶液之氯矽烷的實例包括三氯矽烷、三氯甲基碎 燒、二甲基二氯矽烷、二甲基氯矽烷、三甲基氯矽烷。較 佳可使用5至1〇重量%氯矽烷來製備稀酸性溶液而以丨至5 重量%為最佳。當使用氯矽烷來造成稀酸性溶液時,該氯 矽烷較佳是三甲基氯矽烷。 接著添加水或稀酸性溶液至產物混合物中 化合物經由有機相和水相之相分離而自產中二合將::: 析出了使含有機碎化合物之有相機相歷經乾燥步驟。乾 步驟之一個實例可能是在真空下處理有機相來移除存在
裝 訂
線 593326
發明説明(12 -18 - 之任何揮發性有機物連同 ^.f ^ 、 义j』此存在 < 任何殘餘水。舉例而 Ί",此乾燥步驟可? 匕括在:> 至35 mm Hg(0.67至4.65 kPa)之減 壓下加熱有機相至20至⑽。C之溫度,較佳條件是5至25rnm %(0·67至3.33kPa)下之列至丨抓。或者,有機相的乾燥步 驟可包括使用薄膜汽提塔來移除揮發性有機物及有機相 中之殘餘水含量。適合有機相之乾燥步驟旳更另外技術可 旎是使含有有機矽化合物之有機相與乾燥劑物質接觸。該 乾燥劑物質可能是此項技藝中已知之任何固體物質來移除 有機相中微量.的水。此等物質包括所熟知之離子吸濕物質 例如硫酸鈉,硫酸鎂及類似物,或以矽酸鹽為基底之物質 例如沸石,矽石,矽酸鋁鹽和類似物。較佳之乾燥劑物質 是硫酸鈉或硫酸鍰而以疏酸鈉為最佳。 可使經乾燥之有機相歷經根據本發明之附加步驟而導 致更進一步改良有機珍化合物之最後純度和外觀。可將含 有有機矽化合物之有機相冷卻至低於1 5。(:之溫度。此冷卻 步驟導致沈澱未反應之硫和硫化合物。較佳,將含有有機 矽化合物之有機相冷卻至負20。至30°C範圍内之溫度,最 佳至負1 5 °至1 5 °C的範圍内。然後可將所沈澱之未反應硫 和硫化合物,舉例而言經由過濾而與含有有機矽化合物之 有機相分離。本發明發明人發現··移除未反應硫和硫化合 物可將隨著時間之消逝,硫和未反應硫化合物之更進一步 沈殿減少或消除。其結果是,有機碎化合物的長期儲存穩 定性經由產生不會隨著時間而改變組成之組合物而加強 或產生含有固體沈澱之產物組合物。 550 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS) A4规格(210 x 297公爱) 裝 訂 線 593326 A7 B7 __ 五、發明説明(13 ) 提供下列實例來舉例說明本發明。此等實例並不希望限 制本文中申請專利範圍的範圍。 實例 含有各種硫之有機矽化合物的分佈經由高壓液相層析 法(HPLC)予以分析。HPLC之一般操作條件如下;將8至9 滴的反應樣品稀釋於8.5克之環己烷中,然後將它通過0.2 μηι PTFE隔膜(例如 Whatman®之PURADISC™ 25TF)濾入一只 管瓶中,將濾液之10 μΐ樣品經由自動取樣器注入HPLC系統 (例如 Hewlett-Packard 1 050)中。將樣品在 Lichrosorp RP18 柱(例如 Alltech Assoc.公司;250 mm X 4.6 mm,10 jam)上(使 用96%乙腈與4%四氫吱喃(vol/vol)之混合物作為流動相)分 館。將餾份經由使用254 nm作為適當激勵波長之UV-吸收 採測器審查。每種單一硫化物物種的不同UV-靈敏度劃分 通過下列特定、實驗所評估之響應因數(RF)*(其反映關於 鏈中之每一硫原子及元素硫之增色性)之各自尖峰區域予 以平均。 HPLC響應因數: S2 S3 ——S4 S5 S6 S7 S8 S9 S10 S 元棄· 1.0 3.52 6.39 9.78 13.04 17.39 20.87 26.08 31.30 37.26 *係由H· - D. Luginsland在下列文獻中所報導:1999年4月 13-16,IL州,芝加哥,美國化學協會,橡膠部門“Reactivity of the Sulfur Functions of the Disulfane Silane TESPD and the Tetrasulfane Silane TESPT,,。 比較性實例 -19 - ----- 本纸張尺度適#中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐) 593326 A7 B7 五、發明説明(14 ) 在 76 °C 下,將 6.75 克的硫化二鈉(59.75% Na2S,0.26% NaHS)及2·08克的元素硫裝載入配置有磁性攪摔棒和内部 溫度計之100毫升燒瓶中。然後,添加6.25克之水並將混合 物攪拌直至將所有固體粒子溶解。然後添加1.00克之25% 觸媒水溶液(0.75克的水中之0_25克,鎮化四丁銨)。然後, 將6.03克之氯丙基三乙氧基碎燒經由注射器加至I毫升部 份中。20分鐘以内,反應溫度昇至80°C而混合物立即固化 而形成桔棕色凝膠。另外添加氯丙基三乙氧基石夕淀導致形 成白色樹脂在凝膠的頂上。 實例1 在78°C下,將4.01克之片狀氫硫化鈉(2.08% Na2S、71.10% NaHS),1.66克之元素硫和7.37克之硫酸二鈉裝載入配置磁 性攪捽棒,冷凝器和内部溫度計之100毫升燒瓶中。添加 12.50克的水並將混合物攪摔直至將所有固體粒子溶解。見 到強的硫化氫形成。添加1.00克之25%觸媒水溶液(0.75克之 水中,0·25克之溴化四丁銨)。然後,在4〇分鐘内,將23.75 克之氯丙基三乙氧基碎燒經由注射器加至2毫升部份中。反 應溫度升至7 9 °C在降低放熱後,將混合物在7 8 °C之溫度下 攪拌,反應進展經由定量氣相層析分析予以注視直至2.75 小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定程度。將反應混合 物冷卻至室溫並將2 0 · 1 8克之透明且接近無色之液體經由 移液管自水相的頂上收集。高壓液相層析分析顯示:3 · 11 的平均硫等級。定量氣相層析分析顯示:36.45%未反應之 氯丙基三乙氧基矽烷。 GC7552 .20. Ϊ纸張尺度適财a ®家標準(CNS)八视格x撕公釐]"" ' ~ 593326 A7 B7 五、發明説明 在76°C下,將4.01克之片狀硫氫化鈉(2.08% Na2S、71.10% NaHS) ’ ι·66克之元素硫和10·45克之四硼酸二納(Na2B4〇7) 裝裁入配置磁性攪拌棒、冷凝器和内部溫度計之丨〇 〇毫升 燒瓶中。添加12.50克之水並將混合物攪摔直至將所有固體 粒子溶解。見到輕微形成之硫化氫。添加1〇〇克之25%觸媒 水落液(0.75克之水中,0.25克之溴化四丁銨)。然後在44分 鐘内,將23.75克之氯丙基三乙氧基矽烷每四分鐘經由注射 器加至2毫升部份中。反應溫度昇至。在降低放熱後, 將混合物在76C之溫度下授摔,反應進展經由定量氣相層 析分析予以注視直至3小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩 定比率程度。將反應混合物冷卻至室溫並將22.88克之透明 且接近無色之液體經由移液管自水相之頂上收集^高塵液 相層析分析顯示:2.53的平均硫等級。定量氣相層析分析 顯示·· 21.03%未反應之氯丙基三乙氧基矽烷。 實例3 在78°C下’將4.01克之片狀硫氫化鈉(2.08%Na2S、71.10% NaHS),1.66克之元素硫和5·51克之碳酸二鈉裝載入配置磁 性攪拌棒、冷凝器和内部溫度計之100毫升燒瓶中。然後, 添加18.75克之水並將混合物攪拌直至所有固體粒子溶 解。然後添加丨·00克之25%觸媒水溶液(〇·75克之水中,〇·25 克之溴化四丁銨)。然後在33分鐘内,將23.75克之氣丙基三 乙氧基矽烷每3分鐘經由注射器加至2毫升之部份中。反應 溫度增加至8 0 °C 。在降低放熱後,將混合物在 CC7553 -21.
---—J i紙張尺度適用A4規格⑵0X 297公釐 五、發明説明(16 ) 79°C溫度下攪拌,反應進展經由定量氣相層析分析予以注 視直至3 ·25小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定比率程 度。將反應混合物冷卻至50°C,添加9.73克之水。攪掉該 混合物直至所有形成之鹽類溶解。將混合物冷卻至 30C ’並將22.64克之透明且接近無色之液體經由移液管自 水相的頂上收集。高壓液相層析分析顯示:2 · 16 ό々平均硫 等級。定量氣相層析分析顯示:3.46%未反應之氣丙基三乙 氧基矽烷。 實例4 在74°C下,將4·01克之片狀硫氫化鈉(2.08% Na2S、71.10% NaHS),1.66克之元素硫及8.51克之磷酸三鈉裝載入配置磁 性攪拌棒、冷凝器和内部溫度計之100毫升燒瓶中。然後 添加12 · 5 0克之水並將混合物|覺掉直至將所有固體粒子溶 解。然後,添加1.00克之25%觸媒水溶液(0·75克之水中,〇 25 克之溴化四丁铵)。然後,在33分鐘以内,將24.00克之氯丙 基二乙乳基碎燒母3分4里經由注射器加至2亳升部份中β反 應溫度增加至78°C。在降低放熱後,將混合物在76。〔之溫 度下攪摔’並將反應進展經由定量氣相層析分析予以注視 直至2.75小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定比率程 度。將反應混合物冷卻至室溫,將2M4克之透明且接近無 色之液體經由移液管自水相的頂上收集。高壓液相層析分 析顯示:2.12的平均硫等級。定量氣相層析分析顯示:166〇/〇 未反應之氯丙基三乙氧基矽烷。 實例5 -22 - 0C7554 本紙張尺度適用中國®家標準(CNS) A4規格(2〗0 X 297公釐) 593326 五、發明説明
A7 B7
裝
在74 °C下,將72.18克之片狀硫氫化鈉(2.08% Na2S、 71· 10% NaHS),29.94克之元素硫及153.00克之磷酸三鈉裝栽 入配置機械攪拌器,1片擋板、冷凝器、滴液漏斗、和内 部溫度計之1升反應器中。然後,添加225克之水並將混合 物劇烈攪拌直至所有固體粒子溶解。然後添加丨8·〇〇克之 25%觸媒水溶液(13·5〇克之水中,4.50克之溴化四丁銨)。然 後’在70分鐘内,添加427.5〇克之氯丙基三乙氧基矽烷, 反應溫度昇至8 2 °C。在降低放熱後,將混合物在7 9 °C溫度 下攪拌。並將反應進展經由氣體層析分析注視直至2.75小 時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定比率程度。當添加丨5〇 克之水時,將混合物冷卻至5〇。將該混合物更進一步冷 卻至30°C並添加另外25.0克之水。攪捽混合物直至所有形 成之鹽類溶解。然後,排放出664.65克之透明,無色之水 相。亦排放出其餘之有機相且不須更進一步純化,獲得 419.81克之透明淡黃色液體。高壓液相層析分析顯示·· 2.12 的平均硫等級p定量氣相層析分析顯示:0.73%未反應之氣 丙基三乙氧基矽烷。 實例6 在76°C下,將4.01克之片狀硫氫化鈉(2.08%Na2S、71.1〇% NaHS)、4.99克之元素硫及8.51克之磷酸三鈉裝載入配置磁 性攪拌棒、冷凝器和内部溫度計之1 0 0毫升燒瓶中。然後 添加12.50克之水並將混合物攪拌直至所有固體粒子溶 解。然後,添加1.00克之25%觸媒水溶液(0.75克之水中,0.25 克之溴化四丁銨)。然後,在36分鐘内,將24.00克之氣丙基 GC7555 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐〉 593326
AT ____ B7 五、發明説明(18 ) 三乙氧基矽烷每3分鐘經由注射器加至2毫升之部份中。反 應溫度增加至79°C。在降低放熱後,將混合物在78°C之溫 度下攪拌並將反應進展經由定量氣相層析分析注視直至4 小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定比率程度。當添加 9·72克之水來溶解氯化鈉時,將反應混合物冷卻至5〇°c。 將該混合物冷卻至室溫及將24.3 8克之桔標色液體經由經 由移液管自水相的頂上收集。高壓液相層析分析顯示·· 3.86 的平均硫等級。 實例7 在76°C下,將450.00克之水裝載入配置機械攪拌器,1 片擋板、冷凝器、滴液漏斗、和内部溫度計之1升反應器 中。然後,以分成部份方式添加1 5 3 · 1 3克之嶙酸三鋼及 13 2 · 6 3克之鱗酸氫二鋼。將混合物劇烈攪拌直至所有鹽類 溶解。然後添加38.01克之硫氫化鈉(0.24% Na2S、45.77% NaHS)之水溶液。然後添加9.98克之元素硫並將混合物攪拌 直至形成透明,深琥珀色溶液。添加4.00克之25%觸媒水 溶液(3.00克之水中,1·〇〇克之溴化四丁銨)。然後,在15分 鐘内,添加150.00克之氯丙基三乙氧基碎燒,反應溫度增 加至79.5°C。添加另外2.00克之25%觸媒水溶液(3 〇〇克之水 中,1 ·00克之溴化四丁銨)。在降低放熱後,將混合物在 76t溫度下攪拌。並將反應進展經由氣體層析分析注視直 至2.5小時後,氣丙基三乙氧基矽燒達到穩定比率程度。然 後排放出787.77克之透明無色之水相。將其餘之有機相冷 卻至15°(:,排放出(132.01克原料)並在仙(:111^漏斗中通過遽 ^07536 -24 - 本紙張尺度適财® ®家樣準(CNS) Μ規格(210 X 297公#) ' " ~ 593326 Λ7 __ B7 五、發明説明(19 ) 紙(例如Whatman® 1)過濾而產生127.18克之透明,淡黃色液 體。高壓液相層析分析顯示:2.04的平均硫等級。定量氣 相層析分析顯示:0.65%未反應之氯丙基三乙氧基矽烷。 實例8 在76°C下,將450.00克之水裝載入配置機械攪拌器,i 片擔板、冷凝器、滴液漏斗和内部溫度計之1升反應器中。 然後以分成部份之方式,添加102.12克之磷酸三鈉及i76.84 克之磷酸氫二鈉。將混合物劇烈攪拌直至所有鹽類溶解。 然後添加38.01克之硫氫化鈉(0.24% Na2S、45.77% NaHS)之 水溶液。然後添加9.98克之元素硫並將混合物攪拌直至形 成透明,深琥珀色溶液,然後添加4.00克之2 5%觸媒水溶 液(3.00克之水中,ι·〇〇克之溴化四丁銨)。然後,在丨5分鐘 内’添加150.00克之氯丙基三乙氧基矽烷,反應溫度增加 至79.0°C ^添加另外2.00克之25%觸媒水溶液(3 ·〇〇克之水 中,1.00克之溴化四丁銨)。在降低放熱後,將混合物在 7 6 °C溫度下攪拌。並將反應進展經由氣體層析分析注視直 至3小時後,氯丙基三乙氧基矽境達到穩定比率程度。然後 排放出771.09克之透明無色之水相。將其餘之有機相冷卻 至15°(3,排放出(133.82克原料)並在8加1111^1>漏斗中通過滤紙 (例如Whatman® 1)過濾而產生130.08克之透明,淡黃色液 體。高壓液相層析分析顯示:2.05之平均硫等級。定量氣 相層析分析顯示:1.07%未反應之氯丙基三乙氧基矽烷。 實例9 在76°C下’將450.00克之水裝載入配置機械攪拌器、1 C07557 -25 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公 593326 Λ7 B7 五、發明説明(20 ) 片擋板、冷凝器、滴液漏斗和内部溫度計之1升反應器中。 然後以分成部份之方式,添加51.06克之磷酸三鈉及221.05 克之磷酸氫二鈉。將混合物劇烈攪拌直至所有鹽類溶解。 然後,添加38.01克之硫氫化鈉(0.24% Na2S、45.77% NaHS) 之水溶液。然後添加9.98克之元素硫並將混合物攪拌直至 形成透明,深琥珀色溶液,然後添加4.00克之25%觸媒水 溶液(3.00克之水中,1·〇〇克之溴化四丁銨)。然後在15分鐘 内,添加150.00克之氯丙基三乙氧基矽烷,反應溫度增至 79.0°(:。添加另外之2.00克25%觸媒水溶液(3.00克之水中, 1 · 〇 〇克之溴化四丁銨)。在降低放熱後,將混合物在 76C溫度下揽拌。並將反應進展經由氣體層析分析注視直 至3.5小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達到穩定比率程度。然 後排放出762.30克之透明無色之水相。將其餘之有機相冷 卻至15°C,排放出(143.04克原料)並在BUchner漏斗中通過濾 紙(例如Whatman® 1)過濾而產生141.18克之透明之淡黃色 液體。高壓液相層析分析顯示·· 2.09的平均硫等級。定量 氣相層析分析顯示:2.77%未反應之氯丙基三乙氧基碎垸。 實例10 在76°C下,將450.00克之水裝載入配置機械攪拌器、1 片擋板、冷凝器、滴液漏斗和内部溫度計之丨升反應器中。 然後以分成部份之方式添加265.26克之磷酸二鈉。將混合 物劇烈攪捽直至所有鹽類溶解。然後添加38〇1克之硫氫化 鈉(0.24% Na2S、45.77% NaHS)之水溶液。然後添加9 98克之 元素硫並將混合物攪掉直至形成透明,深琥拍色溶液。然 -26 - 本紙ixki# ?國國家棵準(CNS> A4規格(210 X 297公發 593326 A7 B7____ 五、發明説明(21 ) 後添加4.00克之25%觸媒水溶液(3.00克之水中,1.00克之溴 化四丁銨)。然後在15分鐘内,添加150.00克之氯丙基三乙 氧基矽烷,反應溫度增加至79.0°C。添加另外2.00克之25% 觸媒水溶液(3.00克之水中,1.00克之溴化四丁銨)。在降低 放熱後,將混合物在76°C溫度下攪拌,並將反應進展經由 氣體層析分析注視直至4.5小時後,氯丙基三乙氧基矽烷達 到穩定比率程度。然後排放出756.55克之透明無色之水 相。黹其餘之有機相冷卻至15°C,排放出(143.49克原料) 並在Btichner漏斗中通過濾紙(例如Whatman® 1)過濾而產生 140.48克之透明淡黃色液體。高壓液相層析分析顯示:2.19 的平均硫等級。定量氣相層析分析顯示:11.92%未反應之 氯丙基三乙氧基碎燒。 實例11 在室溫下,將419.81克之水加進配置機械攪器、1片擋板 和内部熱電偶之夾套1.5升反應器中。然後附以混合,將 151.33克之固體K2C03、134.85克NaSH水溶液(45.85重量%
NaSH)及34.96克,硫粉末加進該反應器中。然後將反應器 内含物加熱至70°C,在維持在70°C歷5分鐘後,將21.01克 之25重量%溴化四丁按(TBAB)水溶液加進反應器中並容 許混合歷10至15分鐘。然後將500.02克之氣丙基三乙氧基 矽烷(CPTES)經由加成漏斗逐滴加至反應器中cpTES加成 速率受冷卻之夾套能力及需要維持反應器溫度低於85 〇c 所限制。在添加CPTES後將反應器維持在^^歷2至35小時 直至經測定反應完成,如經由有機相的氣相層析分析所量 測之沒有CPTES之更進一步轉化所測定。在反應完成後, 007559 -27- 本紙張尺度適财® ®家標準(CNS) A4规格(210 X 297公釐) 一 ^ 593326 A7 B7 五、發明説明(22 ) 將反應器冷卻至5 0 °C並添加水至反應器中來溶解存在於 反應器中之鹽類。然後停止攪拌及容許反應器内含物進行 相分離。然後排放出較低之水相,留下458.9克之產物。未 反應之CPTES和其他低沸點雜質(2.50重量%之粗產物)經 由真玄汽提而移除留下最終產物,((EtO)3SiCH2CH2CH2)2Sx (其中 χ=2·12)。 實例12 在室溫下,將50.56克之水加進配置機械攪器、1片擋板 和内部熱電偶之夾套1.5升反應器中。然後附以混合,將 317.8克之47.6重量% K2C03水溶液,135.09克NaSH水溶液 (45.56重量% NaSH)及37.04克硫薄片加進該反應器中。然後 將反應器内含物加熱至70°C。在維持在70。(:歷5分鐘後, 將20.99克之25重量%漬化四丁銨(TBAB)水溶液加進反應 器中並容許混合歷10至15分鐘。然後,將500.02克之氯丙 基三乙氧基矽烷(CPTES)經由加成漏斗逐滴加至反應器 中。CPTES加成速率受冷卻之夾套能力及需要維持在反應 器溫度低於85°C所限制。在添加CPTES後,將反應器維持 在75°C歷2至3 · 5小時直至經測定反應完成,如經由有機相 的氣相層析分析所量測之沒有CPTES之更進一步轉化所測 定。在反應完成後,將反應器冷卻至501並添加水至反應 器中來〉谷解存在於反應器中之鹽類。然後停止揽拌及容許 反應器内含物進行相分離。然後排放出較低之水相,留下 479.1克之產物。未反應之CPTES和其他低沸點雜質(177重 量%之粗產物)經由真空汽提而移除留下最終產物, ((EtO)3SiCH2CH2CH2)2Sx(其中 χ=2·16)。
28 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- 593326 第091111716號專利申請案 g 中文申請專利範圍替換本(93年1 | jg篇 六、申請專利範圍 1 · 一種用於製備下式的有機矽化合物之方法, (R〇)3.mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3.m 其中R單獨是具有丨至12個碳原子之單價烴;八化是具 有1至18個碳原子之二價烴;m是〇至2之整數,η是 自1至8之數目; 該方法包括:在相轉移觸媒及含有緩衝劑之水相存在 下’使下列(A)、(Β)及(C)三項產生反應·· (Α)具有式M2Sn或MHS之硫化物化合物: 其中Η是氫,Μ是銨或鹼金屬, η係如上所界定,與 (Β)具有下式之矽烷化合物: (R〇)3-mRmSi-Alk-X 其中X是Cl’ Br或I,而m是與上述相同。 2 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中硫化物化合物與矽 烷化合物進一步與硫反應。 3 · —種用於製備下式的有機矽化合物之方法, (RO)3.mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3_m 其中R單獨是具有1至12個碳原子之單價烴;Aik是具 有1至18個碳原子之二價烴;m是〇至2之整數,η是 自1至8之數目; 此方法包括: (Α)使相轉移觸媒、具有式Μβη或MHS之硫化物化合物, 其中Η是氫,Μ是铵或一種驗金屬,η是如上述者 相同, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)裝593326A B c D 水及緩衝劑產生反應而形成中間反應產物; (B)使該中間反應產物與下式之矽烷化合物產生反應; (R〇)3-mRmSi-Alk-X 其中 X是 Cl,Br或 I,而 m與 上述者相同。 4 ·如申請專利範圍第3項之方法,其中相轉移觸媒、硫化 物化合物,水及緩衝劑進一步與硫反應。 5. —種用於製備下式的有機矽化合物之方法, (R〇)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(〇R)3 m 其中R單獨是具有1至12個碳原子之單價烴;Aik是具 有1至18個碳原子之二價烴;m是0至2之整數,η是 自1至8之數目; 此方法包括:在相轉移觸媒及含有緩衝劑之水相之 存在下, ⑴使 (Α)具有式M2Sn或MHS之硫化物化合物, 其中Η是氫,Μ是銨或鹼金屬,η是如上所界定, 與 (Β)下式之矽烷化合物; (R〇)3-mRmSi-Alk-X 其中X是Cl,Br或I,而m是與上述者相同, 產生反應而形成一種產物混合物; (II)將有機矽化合物與該產物混合物分離。 6·如申請專利範圍第5項之方法,其中硫化物化合物與矽烷 化合物進一步與硫反應。 -2 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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JP2007091678A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | スルフィド鎖含有有機珪素化合物の製造方法 |
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Family Cites Families (21)
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---|---|---|---|---|
US3590065A (en) | 1969-07-18 | 1971-06-29 | Dow Corning | Method of preparing mercaptoalkylalkoxy silanes |
US4082790A (en) | 1974-12-11 | 1978-04-04 | Dow Corning Corporation | Method of preparing mercaptans |
US4401826A (en) | 1982-09-10 | 1983-08-30 | General Electric Company | Method for production of mercapto functional silanes |
DE3346910C1 (de) | 1983-12-24 | 1985-05-02 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Mercaptoalkylsilanen |
DE4025866A1 (de) | 1990-08-16 | 1992-02-20 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von mercaptosilanen |
US5399739A (en) | 1994-04-18 | 1995-03-21 | Wright Chemical Corporation | Method of making sulfur-containing organosilanes |
US5405985A (en) | 1994-07-08 | 1995-04-11 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5468893A (en) | 1994-07-08 | 1995-11-21 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5466848A (en) | 1994-09-28 | 1995-11-14 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5489701A (en) | 1994-09-28 | 1996-02-06 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5596116A (en) | 1995-09-11 | 1997-01-21 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5840952A (en) | 1995-11-02 | 1998-11-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing 3-mercaptopropylalkoxy silane |
US5583245A (en) | 1996-03-06 | 1996-12-10 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5663396A (en) | 1996-10-31 | 1997-09-02 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
DE19651849A1 (de) | 1996-12-13 | 1998-06-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Bis(silylorganyl)-polysulfanen |
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