KR100886096B1 - 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법 - Google Patents
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- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 77
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 77
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 title abstract description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- -1 alkali metal hydroxide compound Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 claims abstract description 31
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052783 alkali metal Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract 4
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 20
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 8
- 229910052977 alkali metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 5
- 239000012467 final product Substances 0.000 abstract description 5
- 238000003408 phase transfer catalysis Methods 0.000 abstract description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 63
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 53
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 30
- 239000000047 product Substances 0.000 description 30
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 27
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 11
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 11
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 3
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical class OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010407 vacuum cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IJMRQCMHQXRKKY-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethoxy-ethoxy-methyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(CC(C)C)OC(C)Cl IJMRQCMHQXRKKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIFBEYQLKOBDQH-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCCl IIFBEYQLKOBDQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJPGPCCOXUQRLT-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCl VJPGPCCOXUQRLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000610640 Homo sapiens U4/U6 small nuclear ribonucleoprotein Prp3 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical class OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001110823 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) 60S ribosomal protein L6-A Proteins 0.000 description 1
- 101000712176 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) 60S ribosomal protein L6-B Proteins 0.000 description 1
- 102100040374 U4/U6 small nuclear ribonucleoprotein Prp3 Human genes 0.000 description 1
- DJRSJHZEOJHZER-UHFFFAOYSA-N [SiH4].SS Chemical compound [SiH4].SS DJRSJHZEOJHZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- HIVLDXAAFGCOFU-UHFFFAOYSA-N ammonium hydrosulfide Chemical compound [NH4+].[SH-] HIVLDXAAFGCOFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001284 azanium sulfanide Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZCDKKVGLGCSJ-UHFFFAOYSA-N chloromethoxy-methoxy-methyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](C)(OC)OCCl ZMZCDKKVGLGCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical class OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910000057 polysulfane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N tetrasulfane Chemical compound SSSS IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N trichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)(Cl)Cl DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
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Abstract
본 발명은,
알칼리 금속 수산화물, 화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물(여기서, H는 수소이고, M은 암모늄 또는 알칼리 금속이고, n은 1 내지 10의 수이다) 및 황을 물 속에서 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하는 단계(A) 및
당해 폴리설파이드 혼합물을 상 전이 촉매의 존재하에 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, X는 Cl, Br 또는 I이고, m은 0 내지 2의 정수이다)과 반응시키는 단계(B)를 포함하는, 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m의 유기규소 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소이고, Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소이고, m은 0 내지 2의 정수이고, n은 1 내지 10의 수이다)의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은, 상 전이 촉매 기술을 기초로, 최종 생성 조성물이 보다 큰 안정성, 순도 및 외관을 갖도록 하는 황 함유 유기규소 화합물을 제공한다. 당해 방법은 또한 부산물로서 황화수소를 최소화하거나 제거한다.
유기규소 화합물, 황 함유 유기규소 화합물, 알칼리 금속, 폴리설파이드 혼합물, 황 화합물
Description
본 발명은 상 전이 촉매 기술에 의한 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법에 관한 것이다. 당해 방법은 먼저 알칼리 금속 수산화물을 물 속에서 설파이드 화합물 및 황과 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성시키는 반응을 포함한다. 이어서, 폴리설파이드 혼합물은 상 전이 촉매의 존재하에 실란 화합물과 반응시킨다.
황 함유 유기규소 화합물은 다양한 상업적 응용 분야에서 반응 커플링제로서 유용하다. 특히, 황 함유 유기규소 화합물은 실리카를 함유하는 고무 가황물 주성분의 타이어를 제조하는데 있어서 필수 성분으로 되었다. 황 함유 유기규소 화합물은 실리카 함유 고무 가황물의 물리적 성질을 개선시켜 자동차 타이어의 내마모성, 구름 저항 및 습윤 활주 성능을 개선시킨다. 황 함유 유기규소 화합물은 실리카 함유 고무 가황물에 직접 첨가될 수 있거나, 고무 가황물 조성물에 첨가하기 전에 실리카를 전처리하는데 사용될 수 있다.
황 함유 유기규소 화합물을 제조하기 위한 다수의 방법이 문헌에 공지되어 있다. 예를 들면, 프렌치 등(French et al)의 미국 특허 제5,399,739호는 알칼리 금속 알콜레이트를 황화수소와 반응시켜 알칼리 금속 황화수소를 형성하고, 이어서 알칼리 금속과 반응시켜 알칼리 금속 설파이드를 제공하는, 황 함유 유기실란의 제조 방법을 기술하고 있다. 이어서, 수득한 알칼리 금속 설파이드는 황과 반응시켜 알칼리 금속 폴리설파이드를 형성하고, 이어서 이것을 화학식 X-R2-Si(R1)3의 실란 화합물(여기서, X는 염소 또는 불소이다)과 최종적으로 반응시켜 황 함유 유기실란을 제조한다.
미국 특허 제5,466,848호, 제5,596,116호 및 제5,489,701호는 실란 폴리설파이드의 제조방법을 기술하고 있다. 미국 특허 제5,466,848호의 방법은 먼저 황화수소를 나트륨 에톡실레이트와 반응시켜 황화나트륨을 제조함을 기초로 한다. 이어서, 황화나트륨을 황과 반응시켜 테트라설파이드를 형성하고, 이어서 이를 클로로프로필트리에톡시실란과 반응시켜 3,3'-비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드를 형성한다. 미국 특허 제5,596,116호는 황화수소의 사용 없이, 알콜 중의 금속 알콕사이드와 황 성분을 반응시키거나 나트륨 금속을 황 및 알콜 성분과, 클로로프로필트리에톡시실란과 같은 할로하이드로카빌알콕시실란과 반응시킴으로써 폴리설파이드를 제조하는 방법을 교시하고 있다. 미국 특허 제5,489,701호는 황화수소를 활성 금속 알콕사이드 용액과 접촉시키고, 이어서 반응 생성물을 클로로프로필트리에톡시실란과 같은 할로하이드로카빌알콕시실란과 반응시켜 실란 폴리설파이드를 제조하는 방법을 청구하고 있다.
미국 특허 제5,892,085호는 고순도의 유기규소 디설판을 제조하는 방법을 기재하고 있다. 미국 특허 제5,859,275호는 비스(실릴오르가닐)폴리설판의 제조방법을 기재하고 있다. 미국 특허 제5,892,085호 및 제5,859,275호 둘다는 할로알콕시실란을 폴리설파이드와 직접 반응시킴을 포함하는 무수 기술을 기재하고 있다.
미국 특허 제6,066,752호는 용매의 부재 또는 비양성자성 용매의 존재하에 황, 알칼리 금속 및 할로겐알콕시실란을 반응시켜 황 함유 유기규소 화합물을 제조하는 방법을 교시하고 있다.
가장 최근에는, 미국 특허 제6,140,524호는 n이 2.2 ≤n ≤2.8의 범위에 있도록 분포되어 있는 화학식 (RO)3SiC3H6SnC3H6Si(RO)3의 단쇄 폴리설파이드 실란 혼합물을 제조하는 방법을 기재하고 있다. 당해 특허의 방법은 금속 폴리설파이드, 전형적으로 Na2Sn을 알콜 용매 속에서 화학식 (RO)3SiC3H6X의 할로게노프로필트리알콕시실란(여기서, X는 할로겐이다)과 반응시킨다.
황 함유 유기실란의 또 다른 제조방법은 상 전이 촉매 기술을 사용하는 선행 문헌에 교시되어 있다. 상 전이 촉매 기술은 황 함유 유기규소 화합물을 제조하기 위한 상기 언급된 선행 기술 방법과 관련된 다수의 현실적인 문제점들을 극복한다. 이들 문제점의 대부분은 용매의 사용과 관련되어 있다. 특히, 에틸 알콜의 사용은 이의 낮은 인화점 때문에 문제의 소지가 될 수 있다. 추가로, 산업적 규모상에서 상기 언급된 많은 선행 기술의 방법에 필요한 무수 조건을 달성하고 유지하는 것은 어렵다.
황 함유 유기규소 화합물을 제조하기 위한 상 전이 촉매 기술은, 예를 들면, 미국 특허 제5,405,985호, 제5,663,396호, 제5,468,893호 및 제5,583,245호에 교시되어 있다. 이들 특허는 상 전이 촉매를 사용한 황 함유 유기규소 화합물의 신규 제조방법을 교시하고 있지만, 아직까지 산업적 규모에서 상 전이 기술의 사용에는 많은 현실적인 문제점들이 존재한다. 예를 들면, 황 함유 유기 실란의 제조에서 산업적 규모로 수행될 수 있는 효율적이고 안전한 반응을 제공하기 위해서는 상 전이 촉매의 반응성을 조절할 필요가 있다. 추가로, 최종 생성물의 안정성, 외관 및 순도를 개선시킬 필요가 있다. 특히, 선행 기술 분야의 상 전이 촉매 방법은 최종 생성물에 미반응 황이 다량 함유되어 있도록 한다. 이들 미반응 황은 시간에 따라 보관된 생성물에서 침전하여 생성물에서 설파이드의 분포를 변화시킬 수 있다.
생성물 품질을 개선시킬 필요성은 알칼리 금속 또는 황화수소암모늄이 상 전이 촉매 기술에서 출발 물질로서 사용되는 경우에 특히 중요하다. 이들 반응에서, 위험하고 악취성인 황화수소는 부반응으로 생성된다. 생성물 조성물에 황화수소가 소량으로 포함되어도 대규모 산업적 공정에서는 이들을 사용할 수 없게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 상 전이 촉매 기술을 기초로 황 함유 유기규소 화합물을 제조하는 개선된 방법을 제공하는 것이다.
추가로, 본 발명의 목적은 상 전이 촉매 기술을 기초로 최종 생성물 조성물이 보다 큰 안정성, 순도 및 외관을 갖도록 하는 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가의 목적은 설파이드 화합물을 사용하는 상 전이 촉매 기술을 기초로 부산물로서 황화수소를 최소화하거나 이를 제거하는 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법을 제공하는 것이다.
여전히, 본 발명의 추가의 목적은 통상적인 선행 기술의 방법보다 저렴하고 미반응 부산물을 최소화하는 출발물질을 사용하는 상 전이 기술을 기초로 황 함유 유기규소 화합물을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상 전이 촉매 기술에 의한 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 개선된 방법은 금속 수산화물을 물 속에서 설파이드 화합물과 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하고, 이어서 이를 상 전이 촉매의 존재하에 실란 화합물과 반응시킴을 특징으로 한다.
본 발명은,
알칼리 금속 수산화물, 화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물(여기서, H는 수소이고, M은 암모늄 또는 알칼리 금속이고, n은 1 내지 10의 수이다) 및 황을 물 속에서 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하는 단계(A) 및 당해 폴리설파이드 혼합물을 상 전이 촉매의 존재하에 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, X는 Cl, Br 또는 I이고, m은 0 내지 2의 정수이다)과 반응시키는 단계(B)를 포함하는, 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m의 유기규소 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소이고, Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소이고, m은 0 내지 2의 정수이고, n은 1 내지 10의 수이다)의 제조방법이다.
본 발명에 따라 제조될 수 있는 황 함유 유기규소 화합물의 예는 본원에 참조문헌으로서 인용되는 미국 특허 제5,405,985호, 제5,663,396호, 제5,468,893호 및 제5,583,245호에 기재되어 있다. 본 발명에 따라 제조되는 바람직한 황 함유 유기규소 화합물은 3,3'-비스(트리알콕시실릴프로필)폴리설파이드이다. 가장 바람직한 화합물은 3,3'-비스(트리에톡시실릴프로필)디설파이드 및 3,3'-비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드이다.
본 발명의 제1 단계는 알칼리 금속 수산화물, 설파이드 화합물 및 황을 물 속에서 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성시킴을 포함한다.
본 발명에서 사용될 수 있는 알칼리 금속 수산화물은 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화루비듐 및 수산화세슘과 같은 I족 알칼리 금속의 수산화물이다. 바람직한 금속 수산화물은 수산화나트륨이다.
화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물은 본 발명의 방법의 반응 단계(A)에서 사용되고, 이때 M은 알칼리 금속 또는 암모늄 그룹이고, H는 수소이다. 대표적인 알칼리 금속은 리튬, 칼륨, 나트륨, 루비듐 또는 세슘이다. 바람직하게는, M은 나트륨이다. MHS 화합물의 예는 NaHS, KHS 및 NH4HS를 포함한다. 설파이드 화합물이 MHS 화합물인 경우, NaHS가 바람직하다. NaHS 화합물의 특정 예는 펜실베니아주 피츠버그의 PPG로부터 시판되는 NaHS 플레이크(71.5 내지 74.5%의 NaHS 함유) 및 NaHS 용액(45 내지 60%의 NaHS 함유)을 포함한다. M2Sn의 화합물의 특정 예는 Na2S, K2S, Cs2S, (NH4)2S, Na2S2, Na2S3, Na2S4, Na2S6, K2S2, K2S3, K2S4, K2S6 및 (NH4)2S2를 포함한다. 바람직하게, 설파이드 화합물은 Na2S이다. 특히 바람직한 설파이드 화합물은 펜실베니아주 피츠버그 소재의 PPG로부터 시판되는 황화나트륨 플레이크(60 내지 63%의 Na2S 함유)이다.
본 발명의 제1 단계에서 사용되는 황은 황 원소이다. 유형 및 형태는 중요하지 않고, 통상적으로 사용되는 것들을 포함할 수 있다. 적합한 황 물질의 예는 위스콘신주 밀워키 소재의 제조원(Aldrich)로부터 시판되는 100메쉬 정련된 황 분말이다.
본 발명의 방법에 사용되는 알칼리 금속 수산화 화합물, 알칼리 금속 황화수소 화합물 및 황의 양은 다양할 수 있다. 바람직하게는, S/HS-의 몰비는 0.1 내지 10의 범위이다. S/HS- 화합물의 몰비는 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값인 최종 생성물 분포에 영향을 미치도록 사용될 수 있다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 4인 것이 바람직한 경우, S/HS- 화합물의 몰비에 대한 바람직한 범위는 2.7 내지 3.2이다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 2인 것이 바람직한 경우, 황/설파이드 화합물의 바람직한 비율 범위는 0.8 내지 1.2이다.
본 발명의 방법 단계 (A)에 첨가되는 알칼리 금속 수산화물의 양은 사용되는 설파이드 화합물의 양의 몰비를 기준으로 0.1 내지 10일 수 있다. 바람직하게는, 알칼리 금속 수산화물 대 설파이드 화합물의 몰비는 0.8 내지 1.2이고, 가장 바람직하게는 0.95 내지 1.05이다.
본 발명의 단계 (A)에서 사용되는 물의 양은 다양할 수 있다. 일반적으로, 단계 (A)의 반응에서 형성되는 디알칼리 금속 설파이드의 침전을 방지하기 위해 충분한 양의 물이 첨가된다. 반응을 증진시키기 위해 임의의 성분들이 또한 물에 첨가된다. 예를 들면, 염화나트륨 또는 기타 염수가 첨가될 수 있다.
반응 단계 (A)는 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 금속 황화수소 화합물, 황 및 물을 반응 용기내에서 함께 혼합시킴을 포함한다. 반응 단계 (A)는 다양한 온도에서 수행될 수 있지만, 일반적으로 이의 범위는 20 내지 100℃이다. 바람직하게는, 반응은 50 내지 90℃ 범위의 온도에서 수행된다. 일반적으로, 제1 단계는 다양한 압력에서 수행될 수 있지만, 바람직하게는 제1 단계 반응은 대기압에서 수행된다. 제1 단계의 반응을 수행하는데 요구되는 시간은 중요하지 않지만, 일반적으로 이의 범위는 5분 내지 30분이다.
본 발명의 방법을 위한 제2 단계는 폴리설파이드 혼합물을 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 임의의 탄화수소 그룹일 수 있다)과 반응시킴을 포함한다. 따라서, R의 예는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 사이클로헥실 또는 페닐을 포함한다. 바람직하게는, R은 메틸 또는 에틸 그룹이다. 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X에서, m은 정수이고, 0 내지 2일 수 있다. 바람직하게는, m은 0이다. Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소 그룹이다. Alk는, 예를 들면, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌 또는 이소부틸렌일 수 있다. 바람직하게는 Alk는 2 내지 4개의 탄소를 함유하고, 가장 바람직하게는 Alk는 프로필렌 그룹이다. X는 염소, 불소 또는 요오드로부터 선택되는 할로겐 원자이다. 바람직하게는 X는 염소이다. 본 발명에 사용될 수 있는 실란 화합물의 예는 클로로프로필 트리에톡시 실란, 클로로프로필 트리메톡시 실란, 클로로에틸 트리에톡시 실란, 클로로부틸 트리에톡시 실란, 클로로이소부틸메틸 디에톡시 실란, 클로로이소부틸메틸 디메톡시 실란, 클로로프로필디메틸 에톡시 실란을 포함한다. 바람직하게는, 본 발명의 실란 화합물은 클로로프로필 트리에톡시 실란(CPTES)이다.
실란 화합물 (RO)3-mRmSi-Alk-X는 상기된 바와 같이 폴리설파이드 혼합물과 직접 반응시킬 수 있거나, 실란 화합물을 유기 용매중에 분산시켜 유기상을 형성할 수 있다. 유기 용매의 대표적인 예는 톨루엔, 크실렌, 벤젠, 헵탄, 옥탄, 데칸 및 클로로벤젠 등을 포함한다. 유기 용매가 사용되는 경우, 바람직한 유기 용매는 톨루엔이다.
본 발명의 단계 (B)에서 반응을 수행하는 경우, 바람직하게는, 실란 화합물을 상기된 바와 같은 폴리설파이드 혼합물과 직접 반응시킨다.
본 발명의 방법에 사용되는 실란 화합물 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 양은 다양할 수 있다. 적합한 범위는 사용되는 알칼리 금속 황화수소 화합물의 몰양을 기준으로 1/10 내지 10/1을 포함한다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 4인 것이 바람직한 경우, 실란 화합물(RO)3-mRmSi-Alk-X는 일반적으로 2.0 내지 2.10의 알칼리 금속 황화수소 화합물의 몰과량으로 사용되고, 2.01 내지 2.06의 범위가 가장 바람직하다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 2인 것이 바람직한 경우, 실란 화합물 (RO)3-mRmSi-Alk-X는 바람직하게는 1.8 내지 2.1의 알칼리 금속 황화수소 화합물의 몰 과량으로 사용되고, 1.9 내지 2.0의 범위가 가장 바람직하다.
본 발명에서 사용 가능한 상 전이 촉매는 4급 오늄 양이온이다. 상 전이 촉매로서 4급 오늄 양이온의 바람직한 예는 본원에 참조로서 인용되는 미국 특허 제5,405,985호에 기재되어 있다.
바람직하게는, 4급 오늄 양이온은 테트라부틸 암모늄 브로마이드 또는 테트라부틸 염화암모늄이다. 가장 바람직한 4급 오늄 염은 테트라부틸 암모늄 브로마이드이다. 특히 바람직한 4급 오늄 염은 위스콘신주 밀워키 소재의 제조원[Aldrich Chemical]으로부터 시판되는 테트라부틸 암모늄 브로마이드(99%)이다.
당해 방법에 사용되는 상 전이 촉매의 양은 다양할 수 있다. 바람직하게는, 상 전이 촉매의 양은 사용되는 실란 화합물의 양을 기준으로 0.1 내지 10중량%이고, 가장 바람직하게는 0.5 내지 2중량%이다.
상 전이 촉매는 임의의 시점에 반응에 첨가될 수 있다. 바람직하게는, 상 전이 촉매는 단계 (B)의 실란 화합물과의 반응 전에 폴리설파이드 혼합물에 첨가된다.
본 발명의 단계 (B)를 수행하는 경우, 바람직하게는, 실란 화합물은 일정한 반응 온도가 유지되는 속도로 폴리설파이드 혼합물에 첨가된다. 본 발명의 단계 (B) 반응은 다양한 온도에서 수행될 수 있지만, 일반적으로 40 내지 100℃의 범위에서 수행된다. 바람직하게는, 반응은 65 내지 95℃의 온도 범위에서 수행된다. 일반적으로, 제2 단계는 다양한 압력에서 수행될 수 있지만, 바람직하게는 제2 단계 반응은 대기압에서 수행된다. 제2 단계의 반응이 수행되는데 요구되는 시간은 중요하지 않지만, 일반적으로 5분 내지 6시간의 범위이다.
본 발명의 반응 단계는 또한 완충액을 포함하는 수성상의 존재하에 수행될 수 있다. 완충액은 인산의 알칼리 금속 염, 인산수소염, 인산이수소염, 탄산염, 탄산수소염 또는 붕산염과 같은 단일 화합물 또는 이의 배합물일 수 있다. 완충액의 예는 Na3PO4, Na2HPO4, NaH2PO4, Na2CO3, NaHCO3 및 NaB4O7를 포함한다. 바람직하게는, 완충액은 Na3PO4, Na2CO3 또는 K2CO3로부터 선택된다.
수성상에 첨가되는 완충액의 양은 다양할 수 있지만, 일반적으로 M2Sn 또는 MHS의 몰수 이상의 몰량으로 첨가된다. 이론적으로 제한되지 않지만, 본 발명자는 상 전이 촉매를 사용하여 황 함유 유기규소 화합물을 제조하기 위한 공정에서 수성상으로의 완충액의 첨가는 반응 매질의 pH를 조절하는 것을 돕고 이로써 생성물을 형성하는데 영향을 미쳐 황화수소의 생성과 같은 부반응을 최소화하는 것으로 알고 있다. 따라서, 본 발명의 한 양태는 pH를 조절함으로써 상기된 반응에서 제조된 황 함유 유기규소 화합물을 제공한다. 본 발명의 반응에 사용되는 수성상의 pH는 상기된 바와 같이 완충액을 첨가함으로써 또는 반응 동안의 pH를 7 내지 14로 유지하는 속도 및 농도로 임의의 산성 또는 염기성 화합물을 첨가함으로써 조절될 수 있다. 본 발명자는 또한 pH가 생성물 분포, 즉, 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서의 n 값에 영향을 미칠 수 있음을 밝혔다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 2인 것이 바람직한 경우, 바람직한 pH 범위는 8 내지 10이다. 생성물 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m에서 평균 n 값이 4인 것이 바람직한 경우, 바람직한 pH 범위는 11 내지 14이다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 알칼리 금속 수산화물, 설파이드 화합물, 상 전이 촉매, 물 및 황은 폴리설파이드 혼합물을 형성하도록 함께 혼합된다. 이어서, 폴리설파이드 혼합물을 실란 화합물 (RO)3-mRmSi-Alk-X와 반응시킨다. 당해 반응은 다양한 온도에서 수행될 수 있지만, 일반적으로 40 내지 100℃의 범위이다. 바람직하게는, 반응은 65 내지 95℃의 온도에서 수행된다. 일반적으로, 제1 단계는 다양한 압력에서 수행될 수 있지만, 바람직하게는 제1 단계 반응은 대기압에서 수행된다. 제1 단계의 반응이 수행되는데 요구되는 시간은 중요하지 않지만, 일반적으로 5분 내지 30분이다. 이어서, 반응 중간 생성물을 실란 화합물 (RO)3-mRmSi-Alk-X와 반응시킨다.
수성상 또는 폴리설파이드 혼합물을 형성하는데 사용되는 물의 양은 다양할 수 있지만, 바람직하게는 본 방법에 사용되는 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물의 양을 기준으로한다. 물이 기타 출발 물질에 소량으로 이미 존해할 수 있기 때문에, 물은 직접적으로 첨가될 수 있거나 간접적으로 첨가될 수 있다. 본 발명의 목적을 위해, 존재하는 물의 총량, 즉, 직간접적으로 첨가된 모든 물의 양을 계산하는 것이 바람직할 수 있다. 바람직하게는, 수성상 또는 반응 중간 생성물을 형성하는데 사용되는 물의 총량은 사용되는 실란 화합물을 기준으로 1 내지 100중량%이고, 보다 바람직한 범위는 2.5 내지 70중량%이다. 가장 바람직하게는, 중간 생성물과 관련하여 사용되는 물은 사용되는 실란 화합물을 기준으로 20 내지 40중량% 범위이다.
반응 말기에, 유기상, 수성상, 및 반응동안에 형성된 NaCl, Na2HPO4 또는 NaHCO3와 같은 염을 포함할 수 있는 침전된 고체 물질을 함유한 생성물 혼합물이 생성된다. 유기상은 유기실란 화합물을 함유한다.
본 발명은 또한 생성물 혼합물로부터 유기실란 화합물의 분리를 증진시키는 처리 단계를 포함한다. 당해 분리는 상기된 바와 같이 성분 (A), (B) 및 임의의 (C)의 반응으로부터 직접 유래하는, 유기상 및 수성상의 상 분리일 수 있다. 또한, 침전된 염이 반응 동안에 형성되는 경우, 염은 상 분리 전에 여과 방법 또는 경사분리 방법에 의해 먼저 분리시킬 수 있다. 바람직하게는, 물 또는 희석된 산성 용액을 분리전에 생성물 혼합물에 첨가한다. 물 또는 희석된 산성 용액의 첨가는 어느 정도 또는 모든 침전된 염을 용해시킴으로써 상 분리 동안 생성물의 품질을 증진시킬 수 있다. 당해 단계동안에 첨가되는 물 또는 희석된 산성 용액의 양은 사용되는 실란 화합물의 중량을 기준으로 10 내지 50%일 수 있고, 바람직하게는 첨가되는 물 또는 희석된 산성 용액의 양은 사용되는 실란 화합물의 양을 기준으로 20 내지 40중량%이고, 가장 바람직하게는 25중량% 내지 35중량%이다. 희석된 산성 용액이 사용되는 경우, 일반적 산, 예를 들면, HCl, HNO3 및 H2SO4 등 중의 임의의 하나일 수 있고, 규정(N) 농도는 0.000001 내지 5이고, 바람직하게는 0.01 내지 1이다. 희석된 산성 용액은 또한 클로로실란을 물에 첨가하여 제조될 수 있다. 희석된 산성 용액을 형성하는데 사용될 수 있는 클로로실란의 예는 트리클로로실란, 트리클로로메틸실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸클로로실란, 트리메틸클로로실란을 포함한다. 바람직하게는, 희석된 산성 용액을 제조하는데 0.5 내지 10중량%의 클로로실란이 사용될 수 있고, 1 내지 5중량%가 가장 바람직하다. 희석된 산성 용액을 형성하는데 클로로실란을 사용하는 경우, 클로로실란은 바람직하게는 트리메틸클로로실란이다.
물 또는 희석된 산성 용액을 생성물 혼합물에 첨가한 후, 유기상 및 수성상을 상 분리함으로써 생성물 혼합물로부터 유기규소 화합물을 분리한다. 유기규소 화합물을 함유하는 유기상은 추가로 건조단계에 제공할 수 있다. 건조 단계의 한 예는, 진공하에 유기상을 처리하여, 존재할 수 있는 임의의 잔여 물과 함께 존재하는 임의의 휘발성 유기 물질을 제거하는 것일 수 있다. 당해 건조 단계는, 예를 들면, 유기상을 5 내지 35mmHg(0.67 내지 4.65 kPa)의 감압하에 20 내지 160℃의 온도, 바람직하게는 5 내지 25mmHg(0.67 내지 3.33kPa)의 감압하에 90 내지 120℃의 온도로 가열시킴을 포함할 수 있다. 또한, 유기상의 건조 단계는 유기상내 휘발성 유기 물질 및 잔여 물의 함량을 제거하기 위한 박막 제거기의 사용을 포함할 수 있다. 유기상의 건조 단계를 위한 또 다른 기술은 유기규소 화합물을 함유하는 유기상을 건조제와 접촉시키는 것일 수 있다. 건조제는 유기상 중의 미량의 물을 제거하기 위한 당해 기술 분야에 공지된 임의의 고체 물질일 수 있다. 이들은 황산나트륨 및 황산마그네슘 등과 같은 공지된 이온 흡습재 또는 실리케이트 계열의 물질, 예를 들면, 제올라이트, 실리카 및 알루미나실리케이트 등을 포함한다. 바람직한 건조제는 황산나트륨 또는 황산마그네슘이고, 가장 바람직하게는 황산나트륨이다.
건조된 유기상을 본 발명에 따른 추가의 단계에 적용하여 유기규소 화합물의 최종 순도 및 외관을 추가로 개선시킬 수 있다. 유기규소 화합물을 함유하는 유기상은 15℃ 이하의 온도로 냉각시킬 수 있다. 당해 냉각 단계는 미반응 황 및 황 화합물을 침전시킨다. 바람직하게는, 유기규소 화합물을 함유하는 유기상은 -20 내지 30℃의 온도로 냉각되고, 가장 바람직하게는 -15 내지 15℃의 온도로 냉각된다. 이어서, 침전된 미반응 황 및 황 화합물은 유기규소 화합물을 함유하는 유기상으로부터, 예를 들면, 여과에 의해 분리될 수 있다. 본 발명자는 미반응 황 및 황 화합물을 제거함으로써 시간경과에 따른 황 및 미반응 황 화합물의 추가의 침전을 최소화하거나 제거할 수 있음을 밝혔다. 그 결과로서, 시간 경과에 따라 변화하지 않는 조성물을 제조하거나 고체 침전물을 함유하는 생성물 조성물을 생성하지 않는 조성물을 제조함으로써 유기규소 화합물의 장기 저장 안정성은 증진된다.
하기의 실시예는 본 발명을 설명하기 위해 제공된다. 이들 실시예는 본원의 특허청구범위의 범위를 제한하지 않는 것으로 의도된다.
다양한 황 함유 유기규소 화합물의 분포는 고압 액체 크로마토그래피(HPLC)에 의해 분석한다. HPLC 분석에 대한 전형적인 실험 조건은 다음과 같다: 반응 샘플의 8 또는 9개 액적을 8.5g의 사이클로헥산에 희석시키고, 이어서 0.2㎛ PTFE 막(예: WhatmanR의 PURADISCTM 25TF)을 통해 바이엘에 여과시키고, 10㎕ 샘플의 여과물을 자동샘플 주입기를 통해 HPLC 시스템(예를 들면, Hewlett-Packard 1050)에 주입한다. 이동상으로서 96% 아세토니트릴 및 4% 테트라하이드로푸란(용적/용적)의 혼합물을 사용하여 Lichrosorp RP18 컬럼(예를 들면, Alltech Assoc., Inc; 250mm x 4.6mm, 10㎛)상에서 샘플을 분획시킨다. 적합한 여기 파장으로서 254nm를 사용하여 UV 흡수 검출기를 통해 분획물을 조사한다. 하기 열거된 특이적이고 실험적으로 평가된 반응 인자*(RF)[문헌참조: H.-D. Luginsland, "Reactivity of the Sulfur Functions of the Disulfane Silane TESPD and the Tetrasulfane Silane TESPT"; Rubber Division, American Chemical Society; Chicago, IL, April 13-16, 1999]를 통해 각각의 피크 면적을 나누어 단일 설파이드 종의 상이한 UV 민감성을 평균한다. 반응 인자(RF)는 쇄내 전체 황 원자 및 황 원소 각각에 대한 농색성을 나타낸다.
HPLC 반응 인자
| S2 | S3 | S4 | S5 | S6 | S7 | S8 | S9 | S10 | S원소 |
| 1.0 | 3.52 | 6.39 | 9.78 | 13.04 | 17.39 | 20.87 | 26.08 | 31.30 | 37.26 |
실시예 1
기계적 교반기, 1개의 배플, 적가 깔때기 및 내부 온도계를 장착한 1L 반응기에 황화수소 나트륨 수용액 114.02g(0.24% Na2S, 45.77% NaHS), 물 51.00g 및 수산화나트륨 수용액 77.24g(48.20%의 NaOH)를 75℃에서 투입한다. 이어서, 황 89.88g을 분획으로 첨가하고, 모든 고체가 용해될 때까지 혼합물을 격렬하게 교반시킨다. 이어서, 25% 촉매 수용액 14.40g(물 10.80g 중의 테트라부틸 암모늄 브로마이드, TBAB 3.60g)을 첨가한다. 이어서, 클로로프로필트리에톡시실란 463.50g을 신속하게 첨가하고, 반응 온도를 85℃ 이하로 유지한다. 발열반응이 감소한 후, 혼합물을 80℃의 온도 수준에서 교반시키고, 3.5시간 후 클로로프로필트리에톡시실란(CPTES)이 안정한 수준에 도달할 때까지 정량 가스 크로마토그래피 분석에 의해 반응의 진행을 추적한다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 이어서 형성된 염화나트륨 침전물이 완전히 용해될 때까지 물 131.10g을 주의깊게 첨가한다. 교반을 중단하고, 수성상 446.30g을 제거한다. 이어서, 에탄올 6.18g 및 잔여 물을 진공 조건, 25mmHg(3.33kPa) 및 50℃하에 분당 250ml의 공기 세정과 함께 30분 이내에 유기상으로부터 증발시킨다. 잔여 용액을 15℃로 냉각시키고, 배출(485.43g의 원료 물질)시키며, 여과지(예를 들면, WhatmanR 1) 및 여과 보조제(예를 들면, 제조원(ManCel Assoc., Inc.)의 CeliteR 545)를 통해 브흐너(Buchner) 깔때기에서 여과시킨다. 잔여 물 액적을 제거하기 위해, 황산마그네슘 5.00g을 첨가한다. 유기상을 여과하고, 청명하고 밝은 호박색 액체 468.68g을 수득한다(수율: 설파이드 종을 기준으로 94.1%). HPLC 분석은 평균 황 등급이 3.81임을 보여준다.
실시예 2
기계적 교반기, 1개의 배플, 적가 깔때기 및 내부 온도계를 장착한 1L 반응기에 황화수소 나트륨 수용액 114.02g(0.24% Na2S, 45.77% NaHS), 물 51.00g 및 수산화나트륨 수용액 69.52g(48.2%의 NaOH)를 77℃에서 투입한다. 이어서, 황 89.88g을 분획으로 첨가하고, 모든 고체가 용해될 때까지 혼합물을 격렬하게 교반시킨다. 이어서, 25% 촉매 수용액 14.40g(물 10.80g 중의 테트라부틸 암모늄 브로마이드 3.60g)을 첨가한다. 이어서, 클로로프로필트리에톡시실란 463.50g을 신속하게 첨가하고, 반응 온도를 85℃ 이하로 유지한다. 발열반응이 감소한 후, 혼합물을 80℃의 온도에서 교반시키고, 3.5시간 후 클로로프로필트리에톡시실란(CPTES)이 안정한 수준에 도달할 때까지 정량 가스 크로마토그래피 분석에 의해 반응의 진행을 추적한다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 이어서 형성된 염화나트륨 침전물이 완전히 용해될 때까지 물 127.46g을 주의깊게 첨가한다. 교반을 중단하고, 수성상 400.16g을 제거한다. 이어서, 에탄올 5.83g 및 잔여 물을 진공 조건, 25mmHg(3.33kPa) 및 50℃하에 분당 250ml의 공기 세정과 함께 30분 이내에 유기상으로부터 증발시킨다. 잔여 용액을 15℃로 냉각시키고, 배출(509.01g의 원료 물질)시키며, 여과지(예를 들면, WhatmanR 1) 및 여과 보조제(예를 들면, 제조원(ManCel Assoc., Inc.)의 CeliteR 545)를 통해 브흐너(Buchner) 깔때기에서 여과시킨다. 잔여 물 액적을 제거하기 위해, 황산마그네슘 6.69g을 첨가한다. 유기상을 여과하고, 청명하고 밝은 호박색 액체 486.37g을 수득한다(수율: 설파이드 종을 기준으로 이론치의 97.6%). HPLC 분석은 평균 황 등급이 3.83임을 보여준다.
실시예 3
기계적 교반기, 1개의 배플, 적가 깔때기 및 내부 온도계를 장착한 1L 반응기에 황화수소 나트륨 수용액 114.02g(0.24% Na2S, 45.77% NaHS), 물 51.00g 및 수산화나트륨 수용액 84.96g(48.2%의 NaOH)를 76℃에서 투입한다. 이어서, 황 89.88g을 분획으로 첨가하고, 모든 고체가 용해될 때까지 혼합물을 격렬하게 교반시킨다. 이어서, 25% 촉매 수용액 14.4g(물 10.80g 중의 테트라부틸 암모늄 브로마이드 3.6g)을 첨가한다. 이어서, 클로로프로필트리에톡시실란 463.50g을 신속하게 첨가하고, 반응 온도를 85℃ 이하로 유지한다. 발열반응이 감소한 후, 혼합물을 80℃의 온도 수준에서 교반시키고, 3.5시간 후 클로로프로필트리에톡시실란이 안정한 수준에 도달할 때까지 정량 가스 크로마토그래피 분석에 의해 반응의 진행을 추적한다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 이어서 형성된 염화나트륨 침전물이 완전히 용해될 때까지 물 131.22g을 주의깊게 첨가한다. 교반을 중단하고, 수성상 419.48g을 제거한다. 이어서, 에탄올 9.06g 및 잔여 물을 진공 조건, 32mmHg(4.5kPa) 및 50℃하에 분당 250ml의 공기 세정과 함께 30분 이내에 유기상으로부터 증발시킨다. 잔여 용액을 15℃로 냉각시키고, 배출(495.49g의 원료 물질)시키며, 여과지(예를 들면, WhatmanR 1) 및 여과 보조제(예를 들면, 제조원(ManCel Assoc., Inc.)의 CeliteR 545)를 통해 브흐너(Buchner) 깔때기에서 여과시킨다. 잔여 물 액적을 제거하기 위해, 황산마그네슘 3.10g을 첨가한다. 유기상을 여과하고, 청명한 호박색 액체 469.86g을 수득한다(수율: 설파이드 종을 기준으로 이론치의 94.8%). HPLC 분석은 평균 황 등급이 3.74임을 보여준다.
실시예 4
기계적 교반기, 1개의 배플, 적가 깔때기 및 내부 온도계를 장착한 1L 반응기에 황화수소 나트륨 수용액 114.02g(0.24% Na2S, 45.77% NaHS), 물 51.00g 및 수산화나트륨 수용액 77.24g(48.20%의 NaOH)를 78℃에서 투입한다. 이어서, 황 86.88g을 분획으로 첨가하고, 모든 고체가 용해될 때까지 혼합물을 격렬하게 교반시킨다. 이어서, 25% 촉매 수용액 14.40g(물 10.80g 중의 테트라부틸 암모늄 브로마이드 3.60g)을 첨가한다. 이어서, 클로로프로필트리에톡시실란 459.00g을 신속하게 첨가하고, 반응 온도를 85℃ 이하로 유지한다. 발열반응이 감소한 후, 혼합물을 80℃의 온도 수준에서 교반시키고, 3.5시간 후 클로로프로필트리에톡시실란이 안정한 수준에 도달할 때까지 정량 가스 크로마토그래피 분석에 의해 반응의 진행을 추적한다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 이어서 형성된 염화나트륨 침전물이 완전히 용해될 때까지 물 131.10g을 주의깊게 첨가한다. 교반을 중단하고, 수성상 418.97g을 제거한다. 이어서, 에탄올 6.57g 및 잔여 물을 진공 조건, 34mmHg(3.34kPa) 및 50℃하에 분당 250ml의 공기 세정과 함께 30분 이내에 유기상으로부터 증발시킨다. 잔여 용액을 15℃로 냉각시키고, 배출(492.44g의 원료 물질)시키며, 여과지(예를 들면, WhatmanR 1) 및 여과 보조제(예를 들면, 제조원(ManCel Assoc., Inc.)의 CeliteR 545)를 통해 브흐너(Buchner) 깔때기에서 여과시킨다. 잔여 물 액적을 제거하기 위해, 황산마그네슘 5.00g을 첨가한다. 유기상을 여과하고, 청명하고 밝은 호박색 액체 472.91g을 수득한다(수율: 설파이드 종을 기준으로 이론치의 91.7%). HPLC 분석은 평균 황 등급이 3.75임을 보여준다.
실시예 5
반응기에 NaHS 플레이크 50.0g(0.589몰), 황 56.6g(1.767몰) 및 물 75.62g을 첨가하고, 실온에서 혼합한다. 이어서, NaOH 펠렛(NaOH/NaHS 비 = 1.0 및 S/NaHS 비 = 3.0) 25.12g을 신속하게 첨가하여 H2S의 생성을 억제하고, 혼합하면서 70℃로 가열한다. 황이 완전히 용해되면, 용액은 30분후 청명한 황적색으로 된다. NaOH 첨가후 가스 방출은 관찰되지 않는다. 상 전이 촉매인, 25.0중량%의 테트라부틸 암모늄 브로마이드(TBAB) 용액(4.54g, 0.014몰)을 설파이드 수성상에 첨가하고, 15분 동안 혼합한다. 암적색 흑색 침전물이 표면에 형성된다. 이어서, 클로로프로필트리에톡시실란(CPTES) 302.5g(1.256몰)을 서서히 첨가하고, 2시간 동안 반응시킨다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 부산물 NaCl 염을 탈이온수로 용해시킨다. 이어서, 혼합물을 상 분리한다. 유기상(생성물)을 여과하고, 가스 크로마토그래피(GC) 및 고압 액체 크로마토그래피(HPLC) 기술로 분석한다. HPLC 분석은 평균 황 등급이 4.08임을 보여준다.
안정한 설파이드 분포가 반응 초기단계에 달성된다. 머캅토실란은 형성되지 않고, 고체 황 침전물도 생성물의 냉각 및 장기 저장 동안에 관찰되지 않는다.
실시예 6
반응기에 NaHS 용액 100g(0.8316몰)을 첨가하고, 50℃로 가열한다. 이어서, 50중량% NaOH 용액(NaOH/NaHS 비율 = 1.0 및 S/NaHS 비율 = 3.0) 66.5g(0.8316몰)을 서서히 첨가하여 혼합한다. Na2S의 고체 결정이 형성되고 수성상 중에 분산된다. 황 79.3g(2.495몰)을 첨가하고, 83℃에서 15분 동안 혼합한다. 대부분의 침전물은 Na2Sx의 형성과 함께 용해된다. 이어서, TBAB 4.0g(0.013몰)을 70℃에서 첨가한 후, CPTES(402.0g, 1.672몰)를 첨가한다. CPTES 첨가 동안에 발열반응은 관찰되지 않지만, CPTES 첨가후 7분 동안 20℃의 발열(70℃에서 90℃로)이 관찰된다. 210분 동안 계속 반응시킨 후 NaCl 염을 30℃에서 물 177.4g에 용해시킨다. 상 분리후, 433.4g의 유기 상(생성물) 및 379.4g의 수성상을 수거한다. HPLC 분석은 평균 황 등급이 3.86임을 보여준다.
GC 데이터는 반응이 2시간 후에 완결되고 CPTES 함량이 1.0중량% 미만임을 보여준다. 당해 방법에서, 수산화나트륨의 사용으로 pH가 12를 초과하기 때문에 반응의 모든 단계에서 머캅탄 화합물은 형성되지 않는다. HPLC 데이타는, 반응이 진행되어도 설파이드 분포에 유의적인 변화는 없고, 수산화나트륨의 존재하에 안정한 설파이드 분포가 수성상에 형성됨을 보여준다.
실시예 7
본 실험에서, NaOH/NaHS의 몰비를 3.0으로 변화시킨다. 반응기에 NaOH 팔렛 37.7g(0.942몰)을 첨가하고, 200rpm에서 교반시킴으로써 75.6g의 물에 용해시킨다. 발열로 인해 온도는 40℃로 상승한다. 이어서, NaHS 플레이크 25.0g(0.314몰 Na)(61.7%의 NaHS 및 6.07%의 Na2S를 함유, PPG 제조) 및 황 70.5g(2.19몰, S/HS- 비 = 7.0)을 혼합하면서 서서히 첨가한다. 약간의 가스가 방출되면서 암오렌지 적색 용액이 신속하게 형성된다. TBAB 촉매(4.5g, 0.014몰)를 68℃에서 폴리설파이드 수성상에 첨가하고, 10분 동안 혼합한다. 클로로프로필트리에톡시실란(302.5g, 1.2562몰의 CPTES)를 서서히 첨가하고, 80 내지 85℃에서 1.5시간 동안 반응시킨다. 17℃의 발열 반응이 CPTES 첨가 동안에 관찰된다. 반응 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 염을 물에 용해시킨다. 상 분리에 의해 252.8g의 수성상 및 309.1g의 호박색 유기상이 수득된다. 황 분포에 대해 HPLC로 유기상을 분석하고, 평균 황 등급은 3.93이다. HPLC 결과는 설파이드 분포가 실시예 6과 동일함을 보여주지만, GC는 15중량%의 CPTES가 미반응되었음을 보여준다. 생성물로부터 황색 황이 또한 밤새 침전된다.
실시예 8
동일 몰량의 NaOH 및 NaHS 및 3배 몰량의 황에 대한 또 다른 실험은 본 실시예에서 제공된다. 먼저, NaHS 플레이크 50.0g(0.6281몰), NaOH 팔렛 25.12g(0.6281 몰) 및 황 60.42g(1.8844몰)을 실온에서 1ℓ반응기에 첨가한다. 이어서, 75.62g의 물을 계속 혼합하면서 서서히 첨가한다. 25중량%의 수용액으로서 TBAB 촉매 4.53g을 첨가하기 전에 68℃로 가열한다. CPTES 317.61g(1.32몰)을 수성상에 서서히 첨가하여 발열반응을 억제하고, 80 내지 85℃에서 2시간 동안 반응시킨다. 반응이 종결된 후, 부산물인 NaCl 염을 45℃에서 용해시킨다. 상 전이 후, 생성물 316.93g을 수거하고, GC 및 HPLC로 분석한다. 계산된 황 등급은 3.89이다. 과량의 CPTES가 반응에 사용되었기 때문에, GC는 6.0중량%의 CPTES가 미반응되었음을 보여준다. 생성물은 담황색 오렌지색이고 청명하다.
실시예 9(비교 실시예)
3,3'-비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드를 또한 수산화나트륨 없이 출발 물질로서 황화이나트륨으로부터 제조한다. 60중량%의 활성 플레이크로서 PPG로부터 입수한 Na2S 81.0g(0.623몰), 황 59.92g(1.187몰) 및 탈이온수 75.0g을 실온에서 1ℓ반응기에 첨가한다. 혼합물을 300rpm에서 혼합하면서 68℃로 가열한다. 모든 고체는 15분 후에 용액에 용해된다. 이어서, 25중량%의 용액으로서 TBAB 2.4g(0.0074몰)을 첨가하고, 10분 동안 혼합한다. 이어서, CPTES 300.0g(1.246몰)을 서서히 첨가하고, 120분 동안 반응시킨다. GC 결과는 0.5중량% 미만의 CPTES가 미반응되었음을 보여준다. 염을 50℃에서 용해시키고, 유기상을 상 분리한다. 274.8g의 암적색 오렌지색 생성물을 수거한다. 생성물을 또한 HPLC로 분석하고, 황 등급은 3.83인 것으로 계산되었다. 당해 방법으로부터 수득한 생성물은 색이 보다 어두웠고, 냉각시 고체가 침전된다.
Claims (42)
- 알칼리 금속 수산화물, 화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물(여기서, H는 수소이고, M은 암모늄 또는 알칼리 금속이고, n은 1 내지 10의 수이다) 및 황을 물 속에서 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하는 단계(A) 및당해 폴리설파이드 혼합물을 상 전이 촉매의 존재하에 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, X는 Cl, Br 또는 I이고, m은 0 내지 2의 정수이다)과 반응시키는 단계(B)를 포함하는, 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m의 유기규소 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소이고, Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소이고, m은 0 내지 2의 정수이고, n은 1 내지 10의 수이다)의 제조방법.
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- 알칼리 금속 수산화물을 물 속에서 화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물(여기서, H는 수소이고, M은 암모늄 또는 알칼리 금속이고, n은 1 내지 10의 수이다)과 반응시켜 디알칼리 금속 설파이드 혼합물을 형성하는 단계(A),당해 디알칼리 금속 설파이드 혼합물을 황과 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하는 단계(B) 및당해 폴리설파이드 혼합물을 상 전이 촉매의 존재하에 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, X는 Cl, Br 또는 I이고, m은 0 내지 2의 정수이다)과 반응시키는 단계(C)를 포함하는, 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m의 유기규소 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소이고, Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소이고, m은 0 내지 2의 정수이고, n은 1 내지 10의 수이다)의 제조방법.
- 알칼리 금속 수산화물, 화학식 M2Sn 또는 MHS의 설파이드 화합물(여기서, H는 수소이고, M은 암모늄 또는 알칼리 금속이고, n은 1 내지 10의 수이다) 및 황을 물 속에서 반응시켜 폴리설파이드 혼합물을 형성하는 단계(A) 및당해 폴리설파이드 혼합물을 상 전이 촉매 및 완충액 함유 수성상의 존재하에 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-X의 실란 화합물(여기서, X는 Cl, Br 또는 I이고, m은 0 내지 2의 정수이다)과 반응시키는 단계(B)를 포함하는, 화학식 (RO)3-mRmSi-Alk-Sn-Alk-SiRm(OR)3-m의 유기규소 화합물(여기서, R은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소이고, Alk는 탄소수 1 내지 18의 2가 탄화수소이고, m은 0 내지 2의 정수이고, n은 1 내지 10의 수이다)의 제조방법.
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/895,720 | 2001-06-29 | ||
| US09/895,720 US6384256B1 (en) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
| PCT/US2002/015194 WO2003002577A1 (en) | 2001-06-29 | 2002-05-13 | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20040018405A KR20040018405A (ko) | 2004-03-03 |
| KR100886096B1 true KR100886096B1 (ko) | 2009-02-27 |
Family
ID=25404953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020037017150A KR100886096B1 (ko) | 2001-06-29 | 2002-05-13 | 황 함유 유기규소 화합물의 제조방법 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6384256B1 (ko) |
| EP (1) | EP1401843B1 (ko) |
| JP (1) | JP4372542B2 (ko) |
| KR (1) | KR100886096B1 (ko) |
| CN (2) | CN1280296C (ko) |
| AT (1) | ATE411327T1 (ko) |
| DE (1) | DE60229389D1 (ko) |
| TW (1) | TWI238825B (ko) |
| WO (1) | WO2003002577A1 (ko) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6465670B2 (en) * | 2000-08-01 | 2002-10-15 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of surface modified silica |
| US6534668B2 (en) * | 2001-06-29 | 2003-03-18 | Dow Corning Corporation | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds using a buffered phase transfer catalysis process |
| DE10132939C1 (de) * | 2001-07-06 | 2003-01-30 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von gelben Bis(3-[trialkoxysilyl]alkyl)polysulfanen |
| US6680398B1 (en) | 2002-08-16 | 2004-01-20 | Dow Corning Corporation | Method of making mercaptoalkylalkoxysilanes |
| KR101025953B1 (ko) * | 2002-11-04 | 2011-03-30 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 블로킹된 머캅토실레인 커플링제의 제조 방법 |
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| US6998452B1 (en) | 2005-01-14 | 2006-02-14 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Controlled free radical agent for nanocomposite synthesis |
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| FR2900151A1 (fr) * | 2006-04-24 | 2007-10-26 | Univ Grenoble 1 | Procede pour l'obtention de disulfures et thiosulfinates et composes obtenus |
| CA2650186A1 (fr) | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Universite Joseph Fourier (Grenoble 1) | Procede pour l'obtention de disulfures et thiosulfinates et composes obtenus |
| DE102006041356A1 (de) | 2006-09-01 | 2008-03-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
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| CN105713032B (zh) * | 2016-01-21 | 2018-06-15 | 杭州硅畅科技有限公司 | 一种一锅法制备含硫硅烷偶联剂的方法 |
| EP3838905A1 (de) | 2019-12-18 | 2021-06-23 | Evonik Operations GmbH | Verfahren zur herstellung von polysulfansilanen mittels phasentransferkatalyse |
| DE102020211042A1 (de) | 2020-09-02 | 2022-03-03 | Evonik Operations Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Polysulfansilanen mittels Phasentransferkatalyse |
| CN112920216A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-08 | 山东阳谷华泰化工股份有限公司 | 双-[3-(三乙氧基硅)-丙基]-二硫化物的制备方法 |
| WO2023208772A1 (en) | 2022-04-26 | 2023-11-02 | Momentive Performance Materials Gmbh | Stabilized compositions of sulfur silanes with high mercapto content |
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| DE4025866A1 (de) | 1990-08-16 | 1992-02-20 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von mercaptosilanen |
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-
2001
- 2001-06-29 US US09/895,720 patent/US6384256B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-05-13 DE DE60229389T patent/DE60229389D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-13 WO PCT/US2002/015194 patent/WO2003002577A1/en active Application Filing
- 2002-05-13 KR KR1020037017150A patent/KR100886096B1/ko active IP Right Grant
- 2002-05-13 EP EP02736814A patent/EP1401843B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-13 CN CNB02813124XA patent/CN1280296C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-13 AT AT02736814T patent/ATE411327T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-05-13 CN CNB2005100703008A patent/CN100339381C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-13 JP JP2003508958A patent/JP4372542B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-31 TW TW091111715A patent/TWI238825B/zh not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 해당사항없음 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60229389D1 (de) | 2008-11-27 |
| KR20040018405A (ko) | 2004-03-03 |
| TWI238825B (en) | 2005-09-01 |
| US6384256B1 (en) | 2002-05-07 |
| EP1401843B1 (en) | 2008-10-15 |
| CN1680396A (zh) | 2005-10-12 |
| EP1401843A1 (en) | 2004-03-31 |
| CN1280296C (zh) | 2006-10-18 |
| CN1522261A (zh) | 2004-08-18 |
| WO2003002577A1 (en) | 2003-01-09 |
| JP4372542B2 (ja) | 2009-11-25 |
| JP2004531581A (ja) | 2004-10-14 |
| ATE411327T1 (de) | 2008-10-15 |
| CN100339381C (zh) | 2007-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130201 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140205 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150120 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170119 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180201 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190129 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200129 Year of fee payment: 12 |