TW585936B - Stabilizer for aqueous acidic hydrogen peroxide, acidic metal treatment solution containing the same and process for treating metal surface using said acidic solution - Google Patents
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Description
585936 A7 ____B7 五、發明説明(1 ) 本發明係關於金屬表面處理,尤其是使用在酸性水溶 液中之過氧化氫來處理金屬表面的方法,該溶液中含有用 於處理金屬表面之過氧化氫,以及用來安定過氧化氫之安 定劑系統。 在金屬處理程序中,常會在全部或部份的金屬表面上 形成金屬氧化物層,而影響其外觀及/或進一步處理步驟 的適用性。因此,舉例而言,這種問題會發生在鋼(包括 不銹鋼)、鈦及其合金、銅及其合金以及甚至在某些情況 下發生在鋁上。所以,一般均希望能移除該金屬氧化物層 或至少減少其大小或範圍。此類處理方法可稱爲金屬表面 淨化法,或在某些情況中,取決於所進行的特定處理,而 特別稱爲金屬浸漬法或磨光法或去污法。在其中一類的處 理方法中,係使用過氧化氫溶液,通常爲其酸性水溶液,· 來移除氧化物層。 經濟部中央標準局買工消費合作社印製 在金屬表面處理過程中,該氧化物層的移除會使金屬 進入溶液中。經常性地丟棄金屬處理溶液是不經濟且浪費 資源的,因此溶液中的金屬濃度會隨著時間而增加。進入 溶液中的金屬通常是常用的金屬,諸如鐵、銅及與它們成 爲合金的金屬,諸如鎳、鉻及鈦。此外,在某些處理方法 中諸如鋼浸漬法中,通常是進行最多氧化作用的金屬,也 就是鐵,會出現在溶液中,而且若在該方法開始時就刻意 地保持金屬量,則更會有極大量的金屬在溶液中。這些在 酸性溶液中的金屬會催化過氧化氫的分解作用,因此一般 均希望能找到使過氧化氫分解的速率及/或程度極小化的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -4- 585936 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(2 ) 方法。 爲了阻滯過氧化物在酸性溶液中的分解作用,迄今已 有人提出加入許多不同的無機或有機物質,這些物質通常 亦稱爲螯合劑或自由基抑制劑。不論安定作用(即過氧化 物分解的阻滯作用)是藉由何種特定的機制所達成的,許 多的此類安定劑可在化學上歸類爲醇類(請參見美國專利 第3869401及3556883號),羧酸類(請參 見美國專利第3537895號),膦酸類(請參見美國 專利第3122417及4059678號)或磺酸類( 請參見美國專利第3 8 0 1 5 1 2號)。在對酸溶液所提 出的安定劑中,對羥基苯甲酸已揭示於WO 91/ 5 0 7 9 ( Solvay Interox Limited 公司所有)中。 本發明諸多方面的第一目的,在於提供過氧化氫酸性 水溶液的安定方法,因此被安定的過氧化氫溶液,以及將 此類溶液用於處理金屬的用途。 本發明進一步或相關方面的第二目的,在於提供利用 羥基苯甲酸來增加或改善過氧化氫安定作用的方法,因此 被安定的過氧化氫溶液,以及將它們用於處理金屬的用途 〇 本發明提供一種用於過氧化氫酸性水溶液之含有羥基 苯甲酸的安定劑,其特徵在於包含: a) 80至200且較佳爲100至150重量份之 羥基苯甲酸 b) 50至120且較佳爲60至100重量份之助 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " " 一
585936 A7 _______ B7 五、發明説明(3 ) 水溶性芳基磺酸 C) 2·5至6且較佳爲3至5重量份之疏水性烷芳 基磺酸。 在此羥基苯甲酸一辭意指被至少一個羥基及一個羧酸 基團在任何相關位置上所取代的芳基。該辭範圍中特別適 用的化合物是對羥基苯甲酸。 在此助水溶性芳基磺酸一辭意指被至少一個短鏈烷基 及一個磺酸基團在任何相關位置上所取代且所含碳原子總 數不超過9個的芳基。以其易得性及有效性而言,特別適 用的實例是對甲苯磺酸。 在此疏水性烷芳基磺酸一辭意指被含有至少8個碳的 疏水性烷基所取代的芳基磺酸。該烷基通常含有1 0至 20個線形碳,一般爲不含支鏈的,而且在許多情況中爲 10至14個碳或成混合形式,諸如十二碳烷基或平均約 1 2個碳的混合形式。特別適用的實例爲十二碳烷基苯磺 酸,其通常亦含有癸基、十一碳烷基、十三碳烷基及十四 碳烷基的部份。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 •在本發明特別理想的安定劑組成物中,各成份a ): b):c)的重量比係選擇在30:20:1, +/- 2 0 %的範圍內。在含有較佳比例的許多本發明相關組成 物中,成份a)對成份b)對成份c)的重量比係選擇在 18至25:20 :0.8至1.2的範圍內。 藉由以上述之數量和比例使用該三種成份,尤其是使 用這些成份的較佳或特別比例,可以獲得與單獨使用羥基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6- 585936 A7 ______B7_ 五、發明説明(4 ) 苯甲酸時相比,經改善之酸性溶液中的過氧化氫安定作用 。因此,本發明安定劑在需維持溶液中之游離過氧化氫的 情況中特別有效。 雖然該等安定劑的三種成份被描述爲各別的酸類,但 在此應瞭解的是,成份a)、 b)和c)的意義包括了以 該成份之相應鹽類的形式使用或引入該成份,以作爲安定 劑中全部或部份的該成份。在使用上,金屬處理溶液的酸 度會主導其中各別成份之化學形式及離子化程度。就使用 鹽類的情況(諸如鹼金屬(鈉)鹽)而言,其重量計算係 以相應酸爲準。若需要,可藉由引入水溶性鹼諸如鹼金屬 氫氧化物(如氫氧化鈉)而至少部份地中和該等組成物。 本發明的第二方面,係提供含有或其中引入了過氧化 氫及安定劑的酸性金屬處理溶液,其特徵在於該安定劑包 含: a) 80至200且較佳爲100至150重量份之 羥基苯甲酸 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 b) 50至120且較佳爲60至100重量份之助 水溶性芳基磺酸 c) 2 · 5至6且較佳爲3至5重量份之疏水性烷芳 基磺酸。 該金屬處理水溶液的酸度通常由一或多種無機酸提供 ,尤其是選自硫酸、磷酸、氫氟酸及鹽酸的酸類,此種選 擇係由欲進行金屬處理者考量何種酸類及其混合物在何種 濃度下適用於所欲處理之金屬後自行決定。此外,若需要 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 585936 A7 _____B7_ 五、發明説明(5 ) ,部份的酸度可由硝酸提供。用於金屬表面處理之溶液習 用上係調配爲具有2以下的經測量P Η値,而且在許多情 況中,該pH値係選在pH 0以下(如pH - 0.5 )至Ρ Η 1。應瞭解的是,該經測量之ρ Η値會因所引 入之酸類與溶液中任何其他組份之間的交互作用而上升。 舉例而言,如所周知的,HF在溶液中會與Fe陽離子錯 合而釋出H +離子,因此與沒有Fe離子之純HF溶液相比 會降低經測量之ρ Η値。也應瞭解的是,熟於此技藝人士 會依所企求之金屬處理操作而選擇酸濃度。較高濃度適於 金屬浸漬法,而較低濃度適於磨光法操作。 金屬處理浴中各種酸類的濃度在許多體系中係選在下 述之範圍內,以綜合地提供2以下的適用pH値。對硫酸 及/或磷酸而言,可達250克/升,且通常用於磨光爲 2至50克/升,用於浸漬爲50至200克/升。對氫 氟酸及/或鹽酸而言,可達1 0 0克/升,且通常爲1 〇 至5 0克/升。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在某些目的上,組合酸類特別適用。例如,對於鋼( 尤其是不銹鋼)或鈦的浸漬,較佳爲使用濃度5 〇至 1 5 0克/升的硫酸及濃度2 0至3 5克/升的氫氟酸。 在不銹鋼的處理中,當溶液中的鐵與諸如氟化物錯合時, 安定劑尤其有效。在銅浸漬或鋁去污方面,較佳爲使用濃 度1 0 0至2 5 0克/升的硫酸溶液。 酸溶液中的過氧化氫會被迅速消耗,例如,如果其主 要功能是在原位置上氧化諸如亞鐵離子的物質,以便維持 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -8 - 585936 A7 _____B7 五、發明説明(6 ) 溶液中亞鐵與正鐵離子之間的所企求莫耳比。或者,可維 持正的過氧化氫濃度,諸如通常不超過1 0 0 g/ 1的濃 度,而在許多情況中,取決於金屬處理而爲0.1至 120g/l,對銅浸漬而言,過氧化氫濃度通常爲10 至50g/l,而銅磨光則爲50至120g/l,對鋼 或鈦處理而言,其濃度通常爲0 · 1至10g/l。在鋼 浸漬溶液中,通常存在有濃度爲1 5至1 50g/l的正 鐵離子,當該溶液中也存在著正的過氧化氫濃度時,該離 子最好是成錯合形式的。在其他浸漬溶液中,會留存一些 殘餘的亞鐵離子,而在此類溶液中過氧化氫因氧化亞鐵離 子(亦較佳爲成錯合形式)而迅速消耗,使得過氧化物爲 暫時存在而非保持爲正的濃度。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在該等酸溶液中的安定劑濃度(即,成份a )、b ) 和c )的總合)由各別的酸來計算,通常爲5 0 p pm至 10g/l,而且在許多情況中係選自200ppm至 lg/Ι的範圍內,應瞭解的是,通常佔安定劑5 0至 6 0重量%之成份a )的實際上限,通常取決於溶液溫度 ,較高的溫度時可使用較高的濃度。熟於此技藝者可輕易 地進行一些試驗而決定溶液中最適當的安定劑濃度,其可 權衡使用額外安定劑之成本或犧牲相應之過氧化氫安定性 而使用較少安定劑以節省成本,因此在減少分解速率上的 節省與放任較快分解上的成本之間取得平衡。由至今所進 行之試驗中發現,較爲有利的是,安定劑濃度的改變不會 影響溶液進行金屬處理時的速率,因此使用者可使用不同 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -9 - 585936 A7 __B7_ 五、發明説明(7 ) 的過氧化氫安定系統(諸如Solvay Interox公司所產製之商 標名爲S 3 3 3的系統),但仍持續使用預定用於相應溶 液的處理條件。 若需要,可將安定劑以和過氧化氫分開的方式加入酸 性金屬處理溶液中,且可將其溶於一或多種用於維持酸度 的無機酸中而加入溶液中,但最爲便利的方式是至少部份 的安定劑是透過過氧化氫溶液而引入溶液中。例如,可藉 由直接引入安定劑或使用先前用過之浴液的迴流液(通常 先經中間處理以降低該浴液中之溶解金屬濃度)而先提供 處理浴中安定劑的適當起始濃度,然後以在過氧化氫溶液 中的方式再加入安定劑,而獲得可接受的安定劑濃度。 本發明更進一步的方面,在於提供濃縮過氧化氫溶液 ,其特徵在於包含作爲安定劑之 a) 80至200且較佳爲100至150重量份之 羥基苯甲酸 b) 50至120且較佳爲60至100重量份之助 水溶性芳基磺酸 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 c) 2 · 5至6且較佳爲3至5重量份之疏水性烷芳 基磺酸,該安定劑之濃度爲3至10g/l。 在此類濃縮溶液中,過氧化氫濃度通常爲3 5至7 0 % w / w 〇 藉由將安定劑倂入過氧化氫溶液中,可確保安定劑以 所企求之成份a )、b )和c )的比例存在。這可簡化處 理過程,因爲使用者不再需要監測安定劑含量。還可瞭解 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -10- 585936 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 ____ B7_'五、發明説明(8 ) 的是,經由將本發明安定劑倂入過氧化氫溶液中,可使處 理過程帶有一種內建的機制來彌補下述之源自於溶液的損 失,例如因爲將處理樣品自處理浴中取出時帶出溶液,或 使用者使用空氣或其他氣體來攪動處理浴及/或提供氧氣 補充源而該等氣體對溶液有提取作用,且隨後以不含安定 劑之酸來補充浴液,所造成之安定劑損失。 當安定劑係倂入過氧化氫溶液中時,可以便利地監測 其p Η値,並可藉由例如引入可溶性鹼(諸如氫氧化鈉) 而將其pH調整至3.2至3.8。 本發明的另一方面,在於提供處理金屬表面的方法, 在此方法中係將部份或完全爲氧化物層所覆蓋之金屬表面 ,與過氧化氫及其安定劑所成之酸性溶液(具有可有效安 定過氧化氫的濃度)接觸,並保持接觸直到移除了至少部 份的氧化物層,該方法之特徵在於該安定劑包含: a) 80至200且較佳爲100至150重量份之 羥基苯甲酸 b) 50至120且較佳爲60至100重量份之助 水溶性芳基磺酸 c) 2 . 5至6且較佳爲3至5重量份之疏水性烷芳 基磺酸。 該金屬處理方法可在至今已述於或用於以其他安定劑 (諸如羥基苯甲酸與不同於本發明之b )+ c )的成份所 成之安定劑)來安定酸性金屬處理溶液時所用之操作條件 及酸和過氧化氫濃度下來進行。確實的使用條件需考量所 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -11 - 585936 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(9 ) " 欲處理之金屬表面、酸性溶液中的活性組份濃度以及操作 溫度。所使用的酸溶液通常是前文中所述之酸溶液或類似 者。操作溫度通常爲2 0至8 0 °C,且對許多操作而言, 係選自3 5至6 0°C的範圍。金屬表面與酸性溶液保持接 觸的時間係取決於前文所述之因素,且在實務上通常由範 圍試驗或先前使用不同安定劑(諸如前述之S 3 3 3 )的 相應過氧化物酸性處理溶液的使用經驗來決定。在許多情 況中,該接觸時間係選自30秒至40分鐘的範圍內。 將可瞭解的是,依照可能的方法衍變,可將過氧化氫 (尤其是含有安定劑的過氧化氫)引入而用以維持預定的 電位(如對鋼浸漬而言,相對於甘汞電極的3 5 0至 40OmV),或用以將溶液中的過氧化氫維持於特定濃 度或預定的濃度範圍內。 以一般說明闡述本發明之後,下文中將以實施例的方 式詳述本發明之特定體系。 實施例1 .在此實施例中,製備適用於金屬處理過程的經安定之 過氧化氫溶液。將PHBA (對羥基苯甲酸,3g)加入 過氧化氫水溶液(35% w/w,994g)中,並在 實驗室周溫下攪拌之,直到肉眼觀察到固體已溶解爲止。 以同樣方式將PTSA(對甲苯磺酸,2 g)加入該混合 物中並予攪拌及於周溫下溶解之,然後將DBS A (十二 碳烷基苯磺酸,10% w/w活性物質,lg)溫和地 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇Χ;297公釐) -12- 585936 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 _______B7五、發明説明(10 ) 加入並攪拌於該混合物中,以避免起泡。所得之組成物含 有3g/l之成份a), 2g/l之成份b)以及〇·1 g / 1之成份c )。 實施例2及比較例C 3至C 7 在此實施例及比較例中,於會分解過氧化氫之金屬存 在於溶液中的情況下,就本發明安定劑之成份來證明該安 定劑之功效。 將硫酸亞鐵(1 5g/l的鐵)和充足之HF (以在 溶液中提供2 5 g/ 1之未錯合HF )溶於硫酸水溶液( 6 3 g/Ι )中,而製備含鐵之酸溶液,並將過氧化氫溶 液(3 5% w/w,各含有本發明安定劑或其成份)引 入該鐵溶液中,直到游離過氧化氫濃度(在將亞鐵離子氧 化成正鐵離子之後)達0 . 5% w/w。該過氧化氫溶 液係以實施例1之方法或其中適當的步驟製得。由於鐵與 H F的錯合而在溶液中產生F e F n錯合物,所以有效的硫 酸濃度約爲110g/l。 •該含鐵溶液係儲存於5 0 °C下。監測其中過氧化氫的 濃度,並藉由內插法測定損失半數時的時間(半衰期,t )° 所使用之安定劑系統組成物以及試驗結果總結於下表 1中。 (請先閲讀背面之注意事項 本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -13- 585936 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(11 ) 表1 _ 實施例/組成 物 編號 在過氧化氫溶液中之濃度,g / 1 半衰期 Ρ Η B A P T S A D Β S A t (分鐘 ) 2 3 2 0 . 1 2 4 0 C 3 3 6 0 C 4 0 . 1 4 5 C 5 2 3 3 C 6 3 2 14 5 C 7 2 0 . 1 4 5 由表1可看出,實施例組成物的功效遠.比其各別成份 及它們的次級組合爲優異。 實施例8至1 4 在這些實施例中重複實施例2,但使用不同濃度之該 安定劑三種成份,如下表2中所示。 本紙張尺度適用中國國家標準(cnsTI^7 210x297公玉7 (請先閲讀背面之注意事項\^^寫本頁) 訂 -14- 585936 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(12 ) 表2 實施例編號 在過氧化氫溶液中之濃度,g / 1 半衰期 Ρ Η B A P T S A D Β S A t (分鐘 ) 8 3 . 6 2 . 4 0.12 2 8 3 9 3 . 6 2 . 4 0.08 2 8 3 10 3.6 1 . 6 0.12 18 9 11 2 . 4 2 . 4 0.12 2 6 8 12 2 . 4 1 . 6 0.12 15 7 13 2.4 2 . 4 0.08 2 16 14 3 . 6 1 . 6 0.08 3 12 由表2可看出,當改變各成份濃度時,獲得了經增加 之安定作用。 實施例1 5 在此實施例中,於5 0°C下各以實施例8至1 4中的 鐵/硫酸/H F/經安定之過氧化氫的新鮮溶液浸漬鋼 3 1 6。在各浸漬試驗中發現,於5 2分鐘後完成浸漬, 製得最可接受之表面處理外觀。 實施例1 6至1 9 在這些實施例中,以兩階段處理銅和黃銅,首先於周
平 标%ra 尚 T ξ * 公 7 29 585936 A7 ___B7 五、發明説明(13 ) 溫下以實施例1中之溶液(其中含有1 〇 %硫酸及經安定 之過氧化氫)予以浸漬溶液處理,然後於周溫下以實施例 1中之溶液(其中含有0 · 3%硫酸及經安定之過氧化氫 )予以磨光溶液處理,處理時間及結果總結於下表3中。 表3 實施例 處理樣品 浸漬時間 磨光時間 外觀 分鐘 分鐘 16 銅管 1 5 淸潔,非常光 亮 17 黃銅棒 2 7 淸潔,非常光 亮 18 銅線6 5 7 5 5 淸潔,無光彩 19 黃銅線2 3 2 5 淸潔,非常光 0 亮 由表3可看出,本發明經安定之過氧化氫適用於銅及 其合金類之表面處理。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 實施例2 0 在此實施例中,重複實施例1 5 ,但使用含有2 g / 1 PHBA、 2g/l PTSA 及 〇.lg/l DB SA之3 5% w/w過氧化氫溶液。於5 2分鐘後 完成浸漬,製得可接受之表面處理外觀。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- 附件1(A):第 861 13850 號專利申請案 中文說明書修正頁 民國年12月修正 修 / I 本 Ρ;ί u 補充Μ 申請曰期 86年 9月23日 案 號 86113850 類 別 (以上各欄由本局填註) C4 發領專利説 型 公告本 讲書 585936 發明 名稱 中文 過氧化氫酸性水溶液之安定劑,含彼之酸性金屬處理溶液及使用誃 酸性溶液處理金屬表面的方法 新型 英文
Stabilizer for aqueous acidic hydrogen peroxide, acidic metal treatment solution containing the saine and process ior treating metal surface using said acidic solution 人 明作 發創 名籍所 居 姓國住 U253 D L2)3 y(\ Λιν /V /fv /(\ /[ 沙拉·柯爾根 Colgan,Sarah Jane 尼爾♦ if!德紐 Sanders, Neil Joseph 柯林.泰唐諾 McDonogh, Colin Frederick 英國 0英國 (3)英國赤郡朗空比奇伍德克羅斯戴爾路二十號 英國 20 Croasdale Drive, Beechwood, Runcorn, Cheshire VA7 2RJ, England英國聖海倫斯伊克拉斯頓克拉克斯克瑞森待六 十五號 65 Clarkes Crescent, Eccleston, St Helens, WA10 5EA, England英國赤郡沃靈頓愛普頓公園威羅巷三十六號 36 Willow Lane, Appleton Park, Warrington, Cheshire, VA4 5DZ, England____ 姓 名 (名稱) (1)首威英特歐斯有限公司 Solvay Interox Limited ^濟部智兑44 Q Η工4費合作社印製 國 籍
L 申請人 住、居所 (事務所) 代表人 姓 名 (1)英國(1)英國崔斯夏♦威靈頓♦男爵路♦男爵工廠 Baronet Works, Baronet Road, Warrington, Cheshire, WA(1 6HB, United Kingdom (1)提摩西♦皮爾斯Pearce, Timothy 紙張尺度顧中關家轉(⑽)八4規格(21QX297公釐)
Claims (1)
- 585936 ' .f A8 B8 C8 D8 典 v—·/ 、 : -j Γ"; 六、申請專矛br®———一J \ _ τ -—.飞 w. m— 附件:2 (A) 第861 13 850號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國8 8年1 2月修正 1 · 一種用於過氧化氫酸性水溶液之安定劑,其含有 羥基苯甲酸,其特徵在於其包含: a) 80至200重量份之羥基苯甲酸 b ) 5 0至1 2 0重量份之助水溶性芳基磺酸 c ) 2 · 5至6重量份之疏水性烷芳基磺酸。 2 ·.如申請專利範圍第1項之安定劑,其中該安定劑 包含 a) 1〇〇至150重量份之羥基苯甲酸 b ) 6 0至1 0 0重量份之助水溶性芳基磺酸 c ) 3至5重量份之疏水性烷芳基磺酸。 3 ·如申請專利範圍第2項之安定劑,其中該安定劑 包含之成份a) : b) : c)的重量比爲30 : 20 : 1 + / - 2 0 %。 4 .如申請專利範圍第1項之安定劑,其中該安定劑 包含之成份a) : b) : c)的重量比爲18至25 : 2 〇:0 · 8 至 1 · 2 。 5 ..如申請專利範圍第1至4項中任一項之安定劑, 其中成份a )爲對羥基苯甲酸。 6 .如申請專利範圍第1至4項中任一項之安定劑, 其中成份b )爲對甲苯磺酸。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -· ie«i- eel n n i-i i-i ϋ-_、a n ϋ ϋ n an in 1· I - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 585936 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 7 ·如申請專利範圍第1至4項中任一項之安定劑, 其中成份c )爲十二碳烷基苯磺酸。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8 ♦—種酸性金屬處理溶液,其含有或其中引入了過 氧化氫及如申請專利範圍第1項之安定劑,其中該酸性溶 液含有足以提供一 〇 . 5至2之P Η値的至少一種無機酸 ,及該酸性溶液含有5 0至1 5 0 g / 1之硫酸、2 0至 35g/l之HF以及15至150g/l之鐵(以Fe 計算),而用以處理鋼。 9 .如申請專利範圍第8項·之酸性溶液,其中該酸性 溶液含有2 5至2 5 0 g/ 1之硫酸。 1 0 .如申請專利範圍第8項之酸性溶液,其中過氧 化氫係以0 . 〇 5至1 2 0 g / 1之濃度存在於溶液中。 1 1 ·如申請專利範圍第8項之酸性溶液,其中安定 劑係以至少5 0 p p m之濃度存在。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 2 · —種經安定的過氧化氫溶液,其係用於引入金 屬表面處理所用之酸性溶液中,其特徵在於該溶液包含如 申請專利範圍第1項之安定劑,而該安定劑之濃度爲3至 1 0 g / 1 ,其中過氧化氫的濃度爲35至70% w / w,及該溶液具有藉加入水溶性鹼而得之3 . 2至3 . 8 的p Η値。 1 3 · —種處理金屬表面的方法,其係以含有或其中 引入了過氧化氫及其安定劑之酸性溶液進行處理,在該方 法中係將處理樣品與該酸性溶液接觸,並保持接觸直到移 除了金屬表面上的部份氧化物層,該方法之特徵在於該酸 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 585936 A8 B8 · C8 D8 六、申請專利範圍 性溶液含有如申請專利範圍第1項之過氧化氫的安定劑。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之方法,其中被引入 該酸性溶液中的過氧化氫溶液具有3 5至7 0 % w / w 之過氧化氫,且含有3至1 0 g / 1如申請專利範圍第1 項之安定劑。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9620877.2A GB9620877D0 (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Metal surface treatment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW585936B true TW585936B (en) | 2004-05-01 |
Family
ID=10801058
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW086113850A TW585936B (en) | 1996-10-07 | 1997-09-23 | Stabilizer for aqueous acidic hydrogen peroxide, acidic metal treatment solution containing the same and process for treating metal surface using said acidic solution |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6126755A (zh) |
EP (1) | EP0958405B1 (zh) |
JP (1) | JP4172662B2 (zh) |
AU (1) | AU4565497A (zh) |
DE (1) | DE69714862T2 (zh) |
GB (1) | GB9620877D0 (zh) |
TW (1) | TW585936B (zh) |
WO (1) | WO1998015674A1 (zh) |
ZA (1) | ZA978918B (zh) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9620877D0 (en) * | 1996-10-07 | 1996-11-27 | Solvay Interox Ltd | Metal surface treatment |
GB9807286D0 (en) | 1998-04-06 | 1998-06-03 | Solvay Interox Ltd | Pickling process |
IT1303814B1 (it) * | 1998-12-02 | 2001-02-23 | Henkel Kgaa | Apparecchiatura e metodo per controllare processi di decapaggio peracciaio. |
CA2300492A1 (en) * | 2000-03-13 | 2001-09-13 | Henkel Corporation | Removal of "copper kiss" from pickling high copper alloys |
KR100379824B1 (ko) * | 2000-12-20 | 2003-04-11 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 식각용액 및 식각용액으로 패턴된 구리배선을 가지는전자기기용 어레이기판 |
GB2386865B (en) * | 2000-12-20 | 2004-09-15 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Etchant and array substrate having copper lines etched by the etchant |
BR0208747B1 (pt) * | 2001-04-09 | 2011-02-08 | processo e aparelho para remoção de peróxido de hidrogênio. | |
US6803354B2 (en) | 2002-08-05 | 2004-10-12 | Henkel Kormanditgesellschaft Auf Aktien | Stabilization of hydrogen peroxide in acidic baths for cleaning metals |
US7459005B2 (en) * | 2002-11-22 | 2008-12-02 | Akzo Nobel N.V. | Chemical composition and method |
US7675828B2 (en) | 2003-02-25 | 2010-03-09 | Lg Electronics Inc. | Recording medium having data structure for managing at least a data area of the recording medium and recording and reproducing methods and apparatuses |
WO2004079740A1 (en) | 2003-03-04 | 2004-09-16 | Lg Electronics Inc. | Method for recording on optical recording medium and apparatus using the same |
WO2004085707A1 (en) * | 2003-03-21 | 2004-10-07 | Swagelok Company | Aqueous metal finishing solution, methods for finishing metal components, system for cleaning metal components and finished brass products |
DE10313517B4 (de) * | 2003-03-25 | 2006-03-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Lösung zum Ätzen von Kupfer, Verfahren zum Vorbehandeln einer Schicht aus Kupfer sowie Anwendung des Verfahrens |
JP2005036288A (ja) * | 2003-07-16 | 2005-02-10 | Asahi Denka Kogyo Kk | 金属表面用酸洗浴組成物 |
US9371556B2 (en) | 2004-03-05 | 2016-06-21 | Gen-Probe Incorporated | Solutions, methods and kits for deactivating nucleic acids |
US20090145856A1 (en) * | 2007-12-11 | 2009-06-11 | Raymond Letize A | Acid recycle process with iron removal |
KR20130069419A (ko) * | 2011-12-15 | 2013-06-26 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 구리 혹은 구리기 합금 표면의 산화 피막의 제거 방법 및 이 방법을 사용하여 회수한 구리 혹은 구리기 합금 |
JP5886022B2 (ja) * | 2011-12-15 | 2016-03-16 | 三菱伸銅株式会社 | 銅或いは銅基合金表面の酸化皮膜の除去方法 |
JP2013199702A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-10-03 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 銅或いは銅基合金表面の酸化皮膜の除去方法 |
CN103046060A (zh) * | 2012-12-19 | 2013-04-17 | 青岛盛瀚色谱技术有限公司 | 一种清洗液 |
CA3100968A1 (en) * | 2020-11-27 | 2022-05-27 | Sixring Inc. | Novel approach to biomass delignification |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL130828C (zh) * | 1959-06-03 | |||
NL154561B (nl) * | 1965-04-27 | 1977-09-15 | Lancy Lab | Werkwijze voor het verwijderen van koper(i)oxyde en koper(ii)oxyde van een voorwerp met een oppervlak van koper of een koperlegering, werkwijze voor het bereiden van een hiervoor toe te passen beitsvloeistof en de door toepassing van deze beitswerkwijze verkregen voorwerpen. |
US3556883A (en) * | 1967-07-21 | 1971-01-19 | Mitsubishi Edogawa Kagaku Kk | Method for chemically polishing copper or copper alloy |
BE791457A (fr) * | 1971-11-18 | 1973-05-16 | Du Pont | Solutions acides stabilisees d'eau oxygenee |
US3869401A (en) * | 1972-12-04 | 1975-03-04 | Du Pont | Stabilized acidic hydrogen peroxide solutions |
US4059678A (en) * | 1973-02-02 | 1977-11-22 | Fmc Corporation | Stabilization of iron-containing acidic hydrogen peroxide solutions |
FR2343797A1 (fr) * | 1976-03-11 | 1977-10-07 | Air Liquide | Solutions stabilisees de peroxyde d'hydrogene pour les traitements de surface des metaux |
GB8522046D0 (en) * | 1985-09-05 | 1985-10-09 | Interox Chemicals Ltd | Stabilisation |
EP0351772A3 (en) * | 1988-07-19 | 1990-07-04 | HENKEL CORPORATION (a Delaware corp.) | Stabilized hydrogen peroxide |
GB8922504D0 (en) * | 1989-10-05 | 1989-11-22 | Interox Chemicals Ltd | Hydrogen peroxide solutions |
GB9117823D0 (en) * | 1991-08-17 | 1991-10-09 | Laporte Industries Ltd | Hydrofluoric acid compositions |
US5869019A (en) * | 1996-10-02 | 1999-02-09 | Nanodyne Incorporated | Synthesis of phase stabilized vanadium and chromium carbides |
GB9620877D0 (en) * | 1996-10-07 | 1996-11-27 | Solvay Interox Ltd | Metal surface treatment |
-
1996
- 1996-10-07 GB GBGB9620877.2A patent/GB9620877D0/en active Pending
-
1997
- 1997-09-23 TW TW086113850A patent/TW585936B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-10-02 JP JP28427397A patent/JP4172662B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-06 EP EP97944009A patent/EP0958405B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-06 ZA ZA9708918A patent/ZA978918B/xx unknown
- 1997-10-06 DE DE69714862T patent/DE69714862T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-06 WO PCT/GB1997/002725 patent/WO1998015674A1/en active IP Right Grant
- 1997-10-06 US US09/284,023 patent/US6126755A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-06 AU AU45654/97A patent/AU4565497A/en not_active Abandoned
-
2000
- 2000-03-20 US US09/531,601 patent/US6176937B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA978918B (en) | 1998-04-07 |
AU4565497A (en) | 1998-05-05 |
JP4172662B2 (ja) | 2008-10-29 |
JPH10182112A (ja) | 1998-07-07 |
WO1998015674A1 (en) | 1998-04-16 |
EP0958405B1 (en) | 2002-08-21 |
EP0958405A1 (en) | 1999-11-24 |
GB9620877D0 (en) | 1996-11-27 |
US6176937B1 (en) | 2001-01-23 |
DE69714862D1 (de) | 2002-09-26 |
DE69714862T2 (de) | 2003-04-10 |
US6126755A (en) | 2000-10-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |