TW557359B - Polarization analyzing apparatus and method for polarization analysis - Google Patents

Description

557359 五、發明說明（i) 本發明係有關於一種分析裝置及一種方法用於運用分 光方法實施測量材料之光學與電氣特性，且特別是有關於 一種分析裝置及一種方法用於不需使用任何基準地以非破 壞性與非接觸方式之材料測量。 在兆赫區（100GHz至20ΤΗζ)之時間域分光方法為具有 對如包含此頻率區之材料的折射指數與消光係數之複數折 射指數、複數導電性或複數介質常數而不需Kramer-Kroning轉換之類的複數光學常數直接測量能力之特點。 進而言之，由兆赫波區之複數光學常數，難以由其他頻率 範圍中之測量獲得的固態、液態或氣相材料的各種資訊可 被獲得。進而言之，複數光學常數之非破壞性與非接觸式 測量為可能的。由上述之此種背景，在兆赫波區之時間域 分光儀的研發及使用其之材料研究被充滿活力地追求。 雖然很多運用兆赫時間域分光儀之研究已對固態、液 態與氣相材料被實施，其很多為對兆赫電磁波之透射比測 量被實行。在某些其他慣常研究中，來自一樣本之反射電 磁波被測量以導出具有小的兆赫電磁波透射比之樣本的光 學常數。 依照習知技藝1之透射比測量的時間域分光儀的概要 參照第5圖被解釋。在習知技藝丨之時間域分光儀中，透 過一樣本傳輸之電磁波及不需放置該樣本（基準資料）之電 磁波二者被測量。 第5圖為習知技藝1之概要圖。一脈衝雷射100產生 光學雷射脈衝101。一光束分裂器1〇2分割輸入的光學雷 4 557359 五、發明說明（2) 射脈衝101成為光學雷射脈衝103與104並將之輸出。光 學雷射脈衝103被用以發射電磁波而光學雷射脈衝1〇4 被用以觸發電磁波偵測光電導裝置110。光學雷射脈衝1〇3 經鏡102、截波器1〇5與透鏡1〇6入射至一發射天線108 上，其為一兆赫電磁波發射光電導裝置。

發射天線108藉由輸入光學雷射脈衝1〇3而發射兆赫 電磁波124。所產生之兆赫電磁波124被半球面鏡122與 拋物面鏡107照準並在樣本1〇9入射。一穩定電源121饋 送電力至發射天線108。 截波器105為一旋轉裝置交替地具有開啟的扇形部位 與關閉的扇形部位，且其在1至3kHz之期間重複地傳輸 及岔斷光學雷射脈衝103。

通過樣本109之兆赫電磁波125被抛物面鏡113與半 球面鏡123聚光，並入射一接收天線110,其為被置於與 發射天線108對稱位置之電磁波偵測電導裝置。是為一偵 測裝置之接收天線110輸出一信號，其與在被塵秒光學雷 射脈衝104之激發瞬間所施用的兆赫電磁波電場成比例。 在光束分裂器102被分割之其他光學雷射脈衝104經 由形成一反射鏡之回歸反射器111、鏡128, 129、與透鏡 130被輸入該接收天線110。藉由以箭頭指不之方向移動有 回歸反射器111被固定於其上之活動台112,光學雷射脈 衝104激發接收天線110之時機（照射時機之時間延遲量） 可被改變。一電流放大器126放大來自接收天線110之輸 出信號。一鎖入放大器127輸入電流放大126之輸出信 557359 五、發明說明（3) 號與截波器105之一旋轉控制信號（或旋轉偵測信號），然 後自電流放大器126之輸出信號取出對應於截波器105之 旋轉的分量。 在藉由移動該活動台112改變時間延遲量，於各別時 間延遲來自鎖入放大器127之輸出信號（兆赫電磁波之電 場）被測量。結果為，如第6圖顯示之被發射兆赫電磁波的 時間解析波形（電場之時間延遲特性的振幅/量）可被測量。 就如已描述者，兆赫電磁波之時間解析波形本身（即電 磁波之振幅/相位特性）可被測量。對於分別在電磁波路徑 插入樣本之情形及對於不插入之情形測量，然後分別由各 別的Fourier變換結果取得複數光譜間之比值，該樣本之複 數透射比光譜被獲得。因而，如樣本之複數折射指數或複 數電導性之複數光學常數在兆赫波之廣泛範圍上一次全部 被獲得。 在習知技藝2之時間域分光儀中，測量自測量物體樣 本表面被反射之電磁波的時間解析波形及自作為反射比已 知為1的基準之材料（基準）表面被反射之電磁波的時間解 析波形，然後取得其複數光譜間之比值，該樣本之複數反 射比光譜被獲得。 在習知技藝1中透過一樣本之被傳輸光線被測量，而 在習知技藝2中來自一樣本之被反射光被測量。其餘的部 份具有相同的組配。 然而在運用被反射光之習知技藝2的時間域分光儀 中，為了知道具有充分精確度之相位資訊，有必要使一樣 6 557359 五、發明說明（〇 本之反射表面與一基準之位置間在小於數微米的精確度内 (Τ· I· Jeon 與 D· Grischkowsky : Applied Physics Letters,第 72期，3032-3035(1998))。此用一般樣本座之機械性精確 度是非常難達成的。為了避免此困難，一嶄新的方法被發 展’其中具有已知薄膜厚度與對樣本表面之已知折射指數 的透明材料被附裝，在透明薄膜表面被反射之電磁波與在 該透明薄膜及樣本間之介面被反射的電磁波二者均被測 量’且藉由考慮該透明薄膜之薄膜厚度與折射指數所實施 的資料處理，足夠的精確度被獲得（2001年第61屆應用物 理秋季學術研討會中Shigeki Najima等人的論文（Heisei 13)。然而此方法具有之問題為對該樣本之某種處理步驟為 必要的，且其處理處理包括麻煩的複雜性。 在運用反射光之時間域分光儀中亦企囷以不需對一基 準實施任何測量地進行試驗以獲得光學常數。一種方法被 k出’其中在改變對樣本的入射角時，Brewster角藉由測 量被反射之波形被獲得，然後由這些資料，在基體（即為一 樣本）上之薄膜的折射指數被獲得（Μ· Li等人·· Applied

Physics Letters，第 74 期，2113-2114(1999))。雖然此方法 在促成測量極端薄膜之光學常數為優異的，其必須在每次 入射角被改變時移動接收天線之位置。在時間域分光儀 中，由於必須在每次入射角被改變時調整觸發該接收天線 之塵秒脈衝雷射的光線路徑，其在測量時需要大量的時間 與功夫，使此方法成為不實際的。此外，用此方法無法獲 得連續的光譜。 557359 五、發明說明（5) 在考慮上面的問題下，本發明之目的為要提供一種裝 置與一種方法，複數光學常數光譜可用此以高精確度被測 置，甚至在樣本在單一入射角的反射測量具有低的電磁波 透射比也不需任何基準㈣量且進_步地不需對樣本施加任 何額外的處理。· 為了達成上述的目的，本發明具有如下的組配。 依本發明之一層面的極化分析裝置具有：一光源用於 產生光學脈衝；一光線分割部用於分割自上述的光源被發 射之光學脈衝；一電磁波發射部用於輸入分割後光學脈衝 及發射電磁波；一照準部用於照準被發射之電磁波；一極 化器部用於輸入照準後電磁波及讓極化電磁波由此通過， 且能在其極化平面上切換；一光線分析器部用於輸入自一 樣本被反射之上述的極化電磁波並讓其極化電磁波分量由 此通過；一聚光器部用於將通過的極化電磁波分量聚光； 一光學時間延遲部用於可變地造成在其他分割後光學脈衝 之時間延遲；以及一電磁波偵測器部用於輸入上述的聚光 後之極化電磁波分量與上述的時間延遲後之其他光學脈衝 並變換上述的聚光後之極化電磁波分量為一電氣信號。 依本發明之另一層面的極化分析裝置具有：一光源用 於產生光學脈衝；一光線分割裝置用於分割自上述的光源 被發射之光學脈衝；一電磁波發射裝置用於輸入分割後光 學脈衝及發射電磁波；一照準裝置用於照準被發射之電磁 波；一極化器裝置用於輸入照準後電磁波及讓極化電磁波 由此通過，且能在其極化平面上切換；一光線分析器裝置 557359

五、發明說明（6) 用於輸入自一樣本被反射之上述的極化電磁波並讓其極化 電磁波分量由此通過；一聚光器裝置用於將通過的極化電 磁波分量聚光；一光學時間延遲裝置用於可變地造成在其 他分割後光學脈衝之時間延遲；以及一電磁波偵測器裝置 用於輸入上述的聚光後之極化電磁波分量與時間延遲後之 光學脈衝並變換上述的聚光後之極化電磁波分量為一電氣 信號。 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置進一步具 有· 一計异部用於將由一樣本被反射之S極化電磁波與p 極化電磁波的上述電氣信號藉由時間解析所獲得之時間解 析波形加以Fourier變換，及計算S極化電磁波與P極化 電磁波之振幅以及相位資訊。 該Fourier變換為用於抽出一時間變化量之頻率成份 的一般數值計算過程。 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置特徵在於： 上述計算部進一步使用振幅反射比rp/rs(rs與rp分別為一樣 本之S極化電磁波與ρ極化電磁波的相位)與相位差5 占$ (5S與δρ為自一樣本被反射之s極化電磁波與p極化電磁 波的各別相位）由一樣本所反射的S極化電磁波與ρ極化電 磁波的振幅與相位資訊導出複數光學常數光譜。 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置特徵在於： 上述電磁波之頻率為1〇〇 GHz至20 ΤΗζ的頻率範圍内。 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置特徵在於： 上述光源為一塵秒脈衝雷射或一半導體雷射。 9 557359 五、發明說明（7) 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置特徵在於： 上述光分割部或光分割裝置為一光束分裂器。 依本發明之另一層面的上述極化分析方法具有：一產 生步驟自光源產生光學脈衝；一分割步驟分割自上述光源 被發射之光學脈衝；一電磁波發射步驟輸入被分割的光學 脈衝之一及發射電磁波；一照準步驟照準被發射的電磁 波；一第一極化步驟自被照準的電磁波抽取一第一極化電 磁波；一第一偵測步驟使用其他被分割的光學脈衝偵測自 一樣本被反射之上述的第一極化電磁波；一第二極化步驟 自被照準的電磁波抽取一第二極化電磁波；一第二偵測步 驟使用上述其他的光學脈衝偵測自一樣本被反射之上述的 第二極化電磁波；以及一光學時間延遲步驟可變地造成上 述光學脈衝中的時間延遲。 依本發明之另一層面的上述極化分析裝置特徵在於： 上述第一極化後電磁波為s極化電磁波（電場向量垂直於 入射平面）與p極化電磁波（電場向量平行於入射平面）之 一，且上述第二極化電磁波為其他之一。 本發明具有之特點為能實現一極化分析裝置及一極化 分析方法，其中該極化光學常數光譜可以高精確度被測 量，甚至在低電磁波透射比之樣本上以單一常數入射角之 反射測量也不需任何基準測量且進一步不需對一樣本施用 任何額外的處理。 本發明之嶄新特點將在此後完整地被描述且特別在申 請專利範圍被指出，且本發明之組配與細節及其他目標及 10 557359

五、發明說明（Ο 特點在參照下列描述考慮到相關附圖時將變得較佳地被了 解與明白。 第1(a)，（b)圖顯示本發明一實施例之概要組配圖。 第2圖顯示有關本發明之被反射極化電磁波的時間解 析波形圖。 第3圖顯示由第2圖之資料被計算之橢圓儀入射角 (ellipsometric angle)之頻率相依性（振幅反射性與相位差） 的圖。 第4圖顯示由第3圖之資料被計算的複數折射指數圖。 第5圖為習知技藝1之複數分析裝置的概要組配圖。 第6圖為習知技藝1之複數分析裝置所獲得的被偵測 信號之概念圖。 其將被了解各圖的所有部分純粹為了說明目的之圓例 不一定忠實地呈現被圖示元件之真實相對尺寸與位置。 下列的描述配合實施例之圖顯示本發明之較佳實作模 本發明之極化分析裝置與極化分析方法在下文使用一 實施例明確地被解釋。在此，本發明不被解釋為受限於下 面被描述之實施例。 第1 (a)圖為本發明一實施例之概要組配圖。 一雷射脈衝（光源）1產生光學雷射脈衝。一塵秒雷射脈 衝或一半導體雷射被使用作為光源。該等雷射脈衝為約 800nm波長、80fs脈衝寬度及80MHz之重複頻率的雷射 光。一光束分裂器2(光線分割部、光線分割裝置）分割輸入 11 557359 五、發明說明（9) 雷射脈衝並輸出光學雷射脈衝10與11。該光束分裂器2 例如為半鏡。光學雷射脈衝10被用於電磁發射，而光學雷 射脈衝11被用作為一觸發器或一光電導天線（接收天線）7。 光學雷射脈衝10經由鏡40、截波器41與透鏡42被 入射至一發射天線3,其為一兆赫電磁波發射光電導裝置 (電磁波發射部、電磁波發射裝置）。輸入3包含一對導電 模型（平行的電極）以在垂直於入射雷射光之平面（垂直於 第1圖之紙平面）上的極端狹窄的空間彼此被拉動。藉由光 學雷射脈衝10之照射，電流瞬間地在發射天線3(平行電 極）流動。在發射天線3中，轉移電流幾乎僅在一時期内流 動，此時光學雷射脈衝被投射至發射天線3,且發射天線3 因而發射具有50fs至10ps脈衝寬度之兆赫電磁波20(在兆 赫區（100GHz至20THz)内的電磁波）。被產生之電磁波為 一線性被極化之波，在垂直於該電流方向具有其磁分量。 被使用之發射天線3具有極化相依特性，且其被安裝之方 式為其電場向量在照射為垂直於電磁波傳播方向且亦針對 入射於一樣本之平面形成45度角後立刻具有最大值之電 磁波。此處，入射於一樣本之平面意即包括在該樣本被反 射自發射天線3出來之電磁波的傳播方向並到達接收天線 7(包括第1 (a)圖之畫圖紙的平面）。 穩定電源50供應電力至發射天線3。 任何天線可被用作為發射天線3。例如在取代上述雙 極天線下，一領結（bow-tie)天線（發射線性極化波）或具有 螺旋型電極結構之螺旋天線（發射圓圈形極化波）可被使 12 557359

五、發明說明（ίο) 用。由發射天線3被發射之兆赫電磁波透過極化器之動作 被變換成線性極化波且被入射至該樣本。 截波器41為交替地具有開啟扇形部分與關閉扇形部 分之旋轉裝置，且其以1至3kHz之期間重複光學雷射脈 衝10之傳輸與岔斷。 所產生之電磁波20被半球形透鏡43與拋物面鏡4(照 準部，第一光學系統）照準且被入射至極化器30(極化部）。 極化器30讓特定的極化電磁波自兆赫電磁波20間通過。 極化器30為具有很多厚度為數微米之金屬線以1〇微米間 隔作成陣列所形成的配線格柵。極化器30可被置於恰在樣 本5前或恰在發射天線3後。較佳的是將極化器30置於一 座上，其使得精確控制方位角為可能的。 首先，S極化電磁波（或p極化電磁波）被極化器30自 發射天線3所發射的兆赫電磁波20取出（讓電磁波通過極 化器30)。在此情況下，以90度旋轉極化器30之方位角， P極化電磁波（或S極化電磁波）可被取出（參照第1(b)圓）。 S極化電磁波為其電場向量垂直於其入射平面的電磁波， 而P極化電磁波為其電場向量平行於其入射平面的電磁 若發射天線3不具有極化相依特性，通過極化器30 之S極化電磁波與P極化電磁波具有相同的振幅與相同的 相位。其可能發生發射天線3具有極化相依特性。在此情 形中，發射天線3被安裝之方式為電場向量恰在發射天線 3針對入射平面形成45度角被發射後的位置具有其最大 13 557359 五、發明說明（11) 值。因而s極化電磁波與p極化電磁波具有相同的振幅與 相同的相位。 在上述調整後s與p極化電磁波傾斜地入射該樣本而 在調整極化器之方位角後維持其照準。 自樣本5被反射之兆赫電磁波21(S極化電磁波與P 極化電磁波）入射至分析器31(分析部）維持其照準。分析器 31為與極化器30(參照第1(b)圖）相同種類之配線格栅，其 僅讓為接收天線7給予最高偵測敏感度的極化後分量自被 反射之電磁波間通過。通過分析器31之兆赫電磁波21被 抛物面鏡6與半球形透鏡47聚光（聚光部、第二光學系 統），且入射至接收天線7，其為一電磁波偵測光電導裝置 (電磁波偵測部、電磁波偵測裝置）。接收天線7包含一對 導電模型（平行的電極）以在垂直於入射雷射光之平面（垂 直於第1圖之紙平面）上的極端狹窄的空間彼此被拉動。任 何天線可被用作為接收天線7。例如在取代上述雙極天線 下，一領結（bow-tie)天線可被使用^作為一偵測裝置之接 收天線7輸出一信號，其與在塵秒光學雷射脈衝丨丨之激發 時刻被施用的兆赫電磁波11之電場成比例。接收天線7 僅在其被塵秒光學雷射脈衝11激發時變得傳導性的，且在 停止此光線照射後其恢復成非傳導性的。接收天線7具有 極化相依特性，且其被安裝使得其最高偵測敏感方向為與 電磁波傳播之方向垂直之平面上並針對入射平面形成45 度角。 被光束分裂器2分割且被用於電磁波偵測之光學雷射 14 557359

五、發明說明（l2) 脈衝11經由回歸反射器44(此為一反射鏡）、鏡45與透鏡 46入射至接收天線7。當光學雷射脈衝11入射至接收天線 7時，接收天線7瞬間顯示其傳導性。在此時刻與被反射 而到達接收天線7之電磁波的電場成比例之電流在接收天 線7内流動。 作為反射鏡（光學時間延遲部、第三光學系統）之回歸 反射器44被置於光束分裂器2與接收天線7間。藉由以箭 頭所示的方向移動有回歸反射器44被安裝之活動台32, 光學雷射脈衝之光學路徑長度會變化，因而光學雷射脈衝 11激發接收天線7之時機（照射時機之時間延遲（相位）量） 會變化。電流放大器48放大接收天線7之輸出信號。一鎖 入放大器49輸入電流放大器48之輸出信號與一旋轉控制 信號（或旋轉偵測信號），並因而自電流放大器48之輸出信 號間取出對應於截波器41之旋轉的成份。 在藉由移動活動台32改變時間延遲量下，在各別時間 延遲之鎖入放大器49的輸出信號（兆赫電磁波之電場）被測 量。結果為被發射之S極化電磁波與P極化電磁波之時間 解析波形（時間延遲/振幅特性）被獲得。 來自η型石夕晶圓（0.136公分，0.7mm厚度）之被反射S 與P極化電磁波的時間解析波形ws(t)與wp(t)(t :時間）在 45度入射角之情形於第2圖中被顯示。且藉由在第2圖顯 示之這些資料的各別Fourier變換間取得一比值所獲得之 對頻率的橢圓儀入射角變化在第3圖中被顯示。由第3圖 之資料被計算的複數折射指數光譜在第4圖中被顯示。此 15 557359 五、發明說明（η) 處在第3圖與第4圖顯示之實線為用Drude模型所計算之

在實施例之極化分析裝置中，在電腦51正在發送命令 以逐步方式移動活動台32之時（在改變光學雷射脈衝11激 發接收天線7的時機之時），鎖入放大器49之輸出信號（S 極化電磁波之輸出信號與P極化電磁波之輸出信號）連續 地被輸入至電腦51。在鎖入放大器49之輸出信號（時間解 析波形）被A/D變換後，資料被儲存在電腦51之記憶體内。 在另一實施例中，在測量操作人員以逐步方式移動該 活動台32時，其連續地讀取鎖入放大器49之輸出信號， 然後輸入該等讀取值至電腦51内。 至於極化器30之配線格柵，S極化電磁波與p極化電 磁波所通過之方向可用監測或手動方式被切換。

在測量時，將被移動之部分僅為極化器3 0之方位角與 該活動台32之位置。 該等照準部、聚光器部與光學時間延遲部均為如橢圓 面鏡、透鏡之類的光學設施所構成。 電腦51 (計算處理部）根據上述被測量之資料計算下列 的算式並在顯示器52上顯示所計算之結果作為目標參數。 藉由分別將S與P極化電磁波之時間解析波形ws(t) 與wp(t)(t :時間）加以Fourier變換，含有有被反射電磁波 之振幅與相位資訊之複數光譜£3(2；)與別被獲 得。其中V為（2 7Γ X頻率）。 16 557359

五、發明說明（14) Es( v ) = |Es(i；)|e ^ (l) Ep( v ) = 1 Ep ()|e (2) 藉由取得s極化電磁波與p極化電磁波之複數光譜間 的比值，S極化電磁波與p極化電磁波間之振幅反射比 rp(v )/rs(w )的光譜與相位差被求得。 阶)」乓⑻| i{〜⑻-心⑺} |rp⑻|叫⑻―5S⑽"^)=iio〇Ie =kM\e (3) 這些為對應於之前已知道的極化分析方法中之橢圓儀 入射角的各別項，tan Ψ(ρ) = Γρ (2^)/rs )且△ ]； ξ 5 p —。則複數光學常數光譜可利用極化分析方法之助由橢 圓儀入射角被導出。由橢圓儀入射角所求得之頻率相依變 異用於求得複數光學常數光譜之方法為被習知很久的，且 其例如在A· Azzam與Ν· M. Bashara的「糖圓儀入射角與 極化光線」一書（North-Holland，1987)中被描述。 令複數光學常數為（n“k)(n為光學常數之常數部，k為 複數光學常數之虛線部）’且複數介質常數為— (ε!為複數介質常數之實數部，£2為複數介質常數之虛數 部）。以0。為電磁波對樣本之入射角，ε ,可如等式（4)地用 η與k被表達。 ε , =n^ = sin^ ^ Li^{c〇s\2W)-sin2(2W)sin2A }Ί 一 {l+sin(2¥) cos Δ}2 — 類似地，ε2可用n與k表示成等式（5): 17 557359

五、發明說明（is)

Tan2 Θ 〇sin(4 Ψ )sin Δ £2=2nk=sin^〇--— /c、 {l+sin(2W)cosA}2 (5) 進而言之，複複數介質常數與複數介質傳導性有關 係：01—1(72(01為介質傳導性之實數部，（72為介質傳導 性之虛數部）如等式（6)與等式（7)所表達，且介質特性可用 非接觸式與非破壞性方法不需形成電極模型地被測量。其 中ε 〇為真空介質常數。

ν (6) (7) σ 1= -a 2 4 π ν 2= - ( £ o一 ε 1 ) 4 π 依照本發明，橢圓儀入射角tan Ψ與△可僅用s極化 電磁與P極化電磁波之反射波的時間解析波形之測量以單 一固定入射角被求得且不需任何入射角相依性之測量。

進而言之，依照本發明已在上面被描述，樣本之複數 光學常數光譜可用各別被反射的電磁波之時間解析波形在 極化器之方位角被設定為相互正交地相交的極化方向狀態 下之測量被導出。 在慣常的分光極化分析方法中，由於極化器之詳細方 位角相依性，其被要求一點一點地改變方位角來測量很多 次’但在本發明中複數光學常數光譜可僅測量兩次被求得。 本發明之兆赫電磁波極化分析方法及其裝置可藉由測 量自一樣本被反射之數個極化電磁波的時間解析波形導出 各種複數資料。在兆赫電磁波極化分析方法及其裝置中， 18 16)57359 基準資料未被測量。 就如已在上面被描述者，樣本之複數光學常數光譜可 由s極化與P極化電磁波之被反射波的時間解析波形以不 需測量如金屬鏡之基準地容易地被求得。

進而言之，若樣本上電磁波被照射之區域為平的，其 為可測量的，而不需對其有特別的額外處理。例如，藉由 安襄本測量至薄膜形成裝置内，對半導體或超傳導性薄膜 之自由載波密度與機動性、鐵電材料之複數介質常數、或 組織（DNA，蛋白質或酵素之類）的點觀測值為可能的。例 如’組織樣本之分子的旋轉吸收線用本測量裝置被偵測， 且作用程度被測量（或特定DNA之存在被偵測）。

依照本發明所獲得的有利效果為能實現一種極化分析 裝置與一種極化分析方法，其使得甚至在材料具有低的電 磁波透射比時用單一固定入射角之反射測量而不需實施任 何基準測量且進一步不需對樣本施用任何額外處理地測量 其複數光學常數光譜為可能的。 雖然本發明已以處理較佳實施例的某些細節被描述， 此處被揭示之任何較佳實施例的組配細節可被改變或修 改，且其元件組合或順序之任何改變可不偏離本發明如申 請專利範圍所設立之精神與領域地被完成。 元件標號對照表 元件編號 譯 名 元件編號 譯 名 1 雷射脈衝，光源 3 發射天線 2 光束分裂器 4 拋物面鏡 19 557359 五、發明說明（l7) 元件標 號對照 表 元件編號 譯 名 元件編號 譯 名 5 樣本 52 顯示器 6 拋物面鏡 100 脈衝雷射 7 光電導天線，接收天線 101 光學雷射脈衝 10 光學雷射脈衝 102 光束分裂器 11 光學雷射脈衝 103 光學雷射脈衝 20 兆赫電磁波 104 光學雷射脈衝 21 兆赫電磁波 105 截波器 30 極化極 106 透鏡 31 分析器 107 拋物面鏡 32 台 108 發射天線 40 鏡 109 樣本 41 截波器 110 接收天線 42 透鏡 111 回歸反射器 43 半球形透鏡 112 台 44 回歸反射器 113 拋物面鏡 45 鏡 120 鏡 46 透鏡 121 電源 47 半球形透鏡 122 半球面鏡 48 電流放大裔 123 半球面鏡 49 鎖入放大器 124 兆赫電磁波 50 電源 125 兆赫電磁波 51 電腦 126 電流放大器 20 557359

五、發明說明（is) 元件標號對照表 元件編號 譯 名 元件編號 譯 名 127 鎖入放大器 128 鏡 129 鏡 130 透鏡 21

Claims (1)

1. 557359

   六、申請專利範圍

   1·一種極化分析裝置，特徵在於具有：一光源用於產生光 學脈衝；一光線分割部用於分割自光源被發射之光學脈 衝；一電磁波發射部用於輸入分割後光學脈衝及發射電 磁波；一照準部用於照準被發射之電磁波；一極化器部 用於輸入照準後電磁波及讓極化電磁波由此通過，且能 在其極化平面上切換；一光線分析器部用於輸入自一樣 本被反射之極化電磁波並讓其極化電磁波分量由此通 過；一聚光器部用於將通過的極化電磁波分量聚光；一 光學時間延遲部用於可變地造成在其他分割後光學脈衝 之時間延遲；以及一電磁波偵測器部用於輸入聚光後之 極化電磁波分量與時間延遲後之光學脈衝並變換聚光後 之極化電磁波分量為一電氣信號。

   2.—種極化分析裝置，特徵在於具有：一光源用於產生光 學脈衝；一光線分割裝置用於分割自光源被發射之光學 脈衝；一電磁波發射裝置用於輸入分割後光學脈衝及發 射電磁波；一照準裝置用於照準被發射之電磁波；一極 化器裝置用於輸入照準後電磁波及讓極化電磁波由此通 過，且能在其極化平面上切換；一光線分析器裝置用於 輸入自一樣本被反射之極化電磁波並讓其極化電磁波分 量由此通過；一聚光器裝置用於將通過的極化電磁波分 量聚光；一光學時間延遲裝置用於可變地造成在其他分 割後光學脈衝之時間延遲；以及一電磁波偵測器裝置用 於輸入聚光後之極化電磁波分量與時間延遲後之光學脈 衝並變換聚光後之極化電磁波分量為一電氣信號。 -22 - 557359

   六、申請專利範圍 3·如申請專利範圍第1項或第2項所述之極化分析裝置，特 徵在於進一步具有··一計算部用於將由一樣本被反射之s 極化電磁波與P極化電磁波的上述電氣信號藉由時間解 析所獲付之時間解析波形加以傅立葉（Fourier)變換，及計 算S極化電磁波與p極化電磁波之振幅以及相位資訊。

   4·如申請專利範圍第3項所述之極化分析裝置，特徵在於： 該上述計算部進一步使用振幅反射比rp/rs(rs與Γρ分別為 一樣本之S極化電磁波與ρ極化電磁波的相位)與相位差~ —5S(5S與άρ為自一樣本被反射之S極化電磁波與ρ極化 電磁波的各別相位）由一樣本所反射的S極化電磁波與Ρ 極化電磁波的振幅與相位資訊導出複數光學常數光譜。 5.如申請專利範圍第1項或第2項所述之極化分析裝置，特 徵在於：該電磁波之頻率為1〇〇 THz的頻率範圍 内0

   6 ·如申請專利範圍第1項或第2項所述之極化分析裝置，特 徵在於·該光源為一塵秒脈衝雷射或一半導體雷射。 7·如申請專利範圍第1項或第2項所述之極化分析裝置，特 徵在於：該光分割部或光分割裝置為一光束分裂器。 8. —種極化分析方法，特徵在於具有：一產生步驟自光源 產生光學脈衝；一分割步驟分割自上述光源被發射之光 學脈衝；一電磁波發射步驟輸入被分割的光學脈衝之一 及發射電磁波；一照準步驟照準被發射的電磁波；一第 一極化步驟自被照準的電磁波抽取一第一極化電磁波； 一第一偵測步驟使用其他被分割的光學脈衝偵測自一樣 -23 - 557359 六、申請專利範圍 本被反射之上述的第一極化電磁波；一第二極化步驟自 被照準的電磁波抽取一第二極化電磁波；一第二铺測步 驟使用上述其他的光學脈衝偵測自一樣本被反射之上述 的第二極化電磁波；以及一光學時間延遲步驟可變地造 成上述光學脈衝中的時間延遲。 9·如申請專利範圍第9項所述之極化分析方式，特徵在於： 該第一極化後電磁波為S極化電磁波（電場向量垂直於入 射平面）與P極化電磁波（電場向量平行於入射平面）之 一，且上述第二極化電磁波為其他之一。 -24 -