【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種被處理液循環型的刮取式析晶裝置。 【先前技術】 自以前析晶方法就有例如隔熱冷卻法、注入致冷劑的 直接冷卻法、利用水套或熱交換器的間接冷卻法、蒸發濃 縮法、鹽析法等。根據結晶的特性、前後工藝的關係、經 濟性# ’適當選擇利用這些析晶方法。 另外’在其中的間接冷卻法中，為了避免「在冷卻面 上附著結晶而降低導熱係數並使操作性惡化」的缺點，有 供給新的原液或暫時把冷卻面加熱而使附著在冷卻面的結 晶浴解的方法（間歇式）、和把附著在冷卻面的結晶用刮 取葉片（所謂到板）刮取的方法（刮取式）。不過，由於 間歇式的間接冷卻法在處理量多時會產生操作上的問題， 所以在現實中廣泛使用刮取式的間接冷卻法。 用5亥刮取式的間接冷卻法的析晶裝置，例如如第一圖 所示的裝置。 即’被處理液循環型的刮取式析晶裝置丨〇〇，包括：具 有筒狀的圓周壁1 〇 1及槽底104、並供有被處理液p的析晶 槽105 ’和設置於該析晶槽105内的流通管102，和設置於 該流通官102内側的内側旋轉槳葉103，和圍繞圓周壁101 轴心旋轉並刮取附著於圓周壁101内壁面101A上結晶的圖 中I$的刮取葉片（刮刀）（另外，圖中的符號Μ是用於 557230 使内側旋轉« 1G3旋轉的馬達等的驅動裝置。在 1〇°上’圖中未示的刮取葉片，由與該驅動裝置Μ不同：另 外的驅動裝置所驅動。）。 乃 但是’在該析晶裝置100中，由於有因内側旋 103的兩速旋轉的結晶磨損、破碎的問題，利用新提出的： 第二圖所示的把旋_ 206設在流通# 202的外 式的析晶裝置200 (並且，2()1表示圓周壁、難表示少 壁内壁面、204表示槽底、2〇5表示析晶槽。另外，在該裝 置200巾，驅動裝置Μ除了使外側的旋轉紫葉觸旋轉: 外，還使圖中未示的到取葉片旋轉。）的方案。為了進— 步提高被處㈣Ρ的循環，該裝置2〇。還具有抑制因旋轉 紫葉206而產生旋轉流動的被處理液ρ的旋轉、並把循環 方向轉變為上下流動的旋轉流抑制板m (例如，參照 文獻1 )。 由於該析晶裝置200能防止結晶的破 處理液的旋轉流動，所以是非常有用的裝置。 【專利文獻1】 特公昭61 — 25402號公報（第二圖） 么但疋，近年來，需要可使結晶成長得更大、且能使微 2結晶更少的析晶裝置，也期待著這樣的析晶裝置的進一 ^文善。當然，也考慮了用提高旋轉槳葉的旋轉速度產生 t循％机的方法使結晶成長得更大，但因容易產生結晶的 磨損或破碎，故抵消了這種裝置的優點。 因此，本發明的主要目的在於提供一種既防止結晶的 557230 磨損或破碎，又能使結晶成長得更大，並且可以減少微細 結晶的被處理液循壞型刮取式析晶裝置。 【發明内容】 解決上述問題的本發明如下所述。 本發明之1的被處理液循環型刮取式析晶裝置，包括 :具有筒狀圓周壁及槽底並供有被處理液的析晶槽、設置 於該析晶槽内的流通管、設置於該流通管外側的外側旋轉 槳葉、圍繞所述圓周壁的軸線旋轉並刮取附著於所述圓周 壁内面上結晶的刮取葉片、從所述槽底向所述圓周壁的軸 線方向延伸的至少一片被處理液旋轉流抑制板； 通過所述外側旋轉槳葉的旋轉，產生使被處理液沿流 通管的外側上升並沿内側下降的被處理液的循環，其特徵 在於： 在上述流通管的内側的下端部，具有把被處理液往上 述旋轉流抑制板推進的内側旋轉槳葉。 本發明之2的被處理液循環型刮取式析晶裝置，包括 :具有筒狀圓周壁及槽底並供有被處理液的析晶槽、設置 於該析晶槽内的流通管、設置於該流通管外側的外側旋轉 紫葉、圍繞所述圓周壁的軸線旋轉並刮取附著於所述圓周 壁内面上結晶的刮取葉片、從所述槽底向所述圓周壁的轴 線方向延伸的至少一片被處理液旋轉流抑制板； 通過所述外側旋轉槳葉的旋轉，產生使被處理液沿流 通管的外側上升並沿内側下降的被處理液的循環，其特徵 557230 在於： 上述外側旋轉槳葉被設在上述流通管的外側下端部， 並由上述方疋轉流抑制板向上吸引抑制了旋轉流的被處理液 〇 本發明之3所述的發明，是根據本發明之i或2所述 的被處理液循環型刮取式析晶裝置，其特徵在於： 至少具有一片從槽頂向圓周壁軸線方向延伸的被處理 液旋轉流抑制板。 本發明之4所述的發明，是根據本發明之1〜3中任意 一項所述的被處理液循環型刮取式析晶裝置，其特徵在於 在槽底中央部設有圓錐狀的凸出部，並在該凸出部以 外的槽底上設有結晶結塊破碎機構。 【實施方式】 以下’說明本發明的實施例。另外，所謂本發明的被 處理液，例如是溶解了對二氣苯、雙酚A以及2、6-二甲基 萘等的結晶性的物質的漿狀溶液，其種類沒有特定限制。 (裝置整體） 如第三圖及第四圖所示，本發明實施例的被處理液循 環型刮取式析晶裝置1，主要包括：圓周壁3、具有槽底4 及槽頂5並供有被處理液P的析晶槽6、設置於該析晶槽6 内的流通管7、設置於該流通管7外侧的外側旋轉槳葉8、 557230 圍、’堯圓周壁3軸心旋轉並刮取附著於圓周壁3内面3A上的 結晶的刮取葉片9、9...、至少-片從上述槽底4沿圓周壁 &車4方向延伸的，在本實施例中為3片被處理液p的旋轉 抓抑制板1G (以下簡單稱作下側旋轉流抑制板丨q。）以及 至少一片從槽頂5沿圓周壁3軸線方向延伸的，在本實施 例中為3片的被處理液p的旋轉流抑制板u (以下簡單稱 作上側旋轉流抑制板11。）。 析晶槽6的圓周壁3為圓筒狀，且該圓周壁3的下端 邊緣與槽底4、上端邊緣與槽頂5分別連接。槽底4和槽頂 抑可乂與圓周壁3整體成形，也可以形成作為與圓周壁3的 單獨邛件。在本實施例中，槽底4和槽頂5都是形成與圓 周壁3的單獨部件。另外，分別在槽了貝5上設有被處理液 、、σ ’在槽底4上設有兩個被處理液排放口 16、16。 並且，在析晶槽6的圓周壁3上，設有外部水套17。 在:亥外部水套17 0，經致冷劑供給、排放口 17Α使致冷劑 通過，並間接地冷卻析晶槽6内的被處理液Ρ。 、流通管7，被配置在與圓周壁3同軸並且從槽底4離開 的位置。机通管7 ’通過沿水平方向延伸的桿狀支撐輻條 18 18 ··被安裝在軸19上。該軸1Θ，被沿上下方向延伸地 置,圓周壁3的軸心部，且被軸承20所支承。軸19，當 ;七頂5上部的作為驅動裝置的馬達Μ驅動旋轉時 使々,L通官7也隨之旋轉（本裝置1，是由馬達Μ並通過單 ^ 、軸19而使刮取葉片9、外側旋轉槳葉8及内側旋轉槳 葉12全部旋轉的機械構造不複雜的裝置。）。 557230 在流通管7的外側下端部，設有外側旋轉槳葉8。以該 外側旋轉槳葉8的旋轉，產生使被處理液P沿流通管7的 外側上升並沿内側下降的被處理液P的循環。通過該循環 促進結晶的成長。對外側旋轉槳葉8的設置方法沒有特定 的限制。例如，如本實施例所示，可以安裝在流通管7的 外側’或通過桿狀支撐輻條18等安裝在轴19上（當然，
必須不能與其他部件相碰。）。但是，從防止被處理液P 方走轉的觀點出發，最好是不用輻條而直接安裝在流通管7 上的形式。 在本發明中，與以往的把外側旋轉槳葉設在流通管的 外側中央部形式不同，之所以設在流通管的外側下端部， 疋為了主動地向上吸引與旋轉流抑制板接觸的被處理液。 即’通過與旋轉流抑制板的接觸，截住使循環速度減低了 的被處理液，並通過實現循環速度的恢復，以維持合適的 循衩。如果被處理液以正確的規則循環，則除了有效地促 進結晶成長的效果外，還可以使析晶槽内的過飽和度均勻 並防止過飽和度局部過高，所以阻止了微結晶的產生。 ^在本實施例中，在流通管7的内側下端，還設有内側 =轉紫葉12。對内側旋轉紫葉12的設置方法沒有特殊的限 Π如’如本實施例所示，可以是分別把其基端部安裝 〆 上、把其前端部安裝在流通管7的内壁面上的形式 :戈把其基端部安裝在軸19上、而其前端部不安裝在流通 :裝的:式壁二上的形式。但是，若是基端部及前端部都被 /二（刚者的形式），則内側旋轉槳葉12，也可以 557230 具有與上述的支撐輻條18、18…同樣的功能。 在本發明中，之所以與沒有設置内側旋轉槳葉的以往 的形式不同、把内側旋轉槳葉設置在流通管7的内側下端 ’是為了把被處理液向旋轉流抑制板推進。通過該推進可 以盡可能地防止被處理液碰撞旋轉流抑制板而降低該循環 速度。即，以在碰撞到旋轉流抑制板之前、多少提高被處 理液的循環速度的方式，使旋轉流抑制板附近的循環速度 與其他部分的循環速度相同，從而，可以防止被處理液滯 留於旋轉流抑制板附近、或產生紊流。 另外，内側旋轉槳葉對於使被處理液整體循環，只不 過起。周1 動的輔助作用（消極的作用）。但不產生结晶 的磨損、破碎。 設有外側旋轉槳葉及内側旋轉槳葉的流通管的「下端 部」的範圍，分別根據旋轉速度、直徑、面積、被處理液 的性質、圓周壁的直徑、流通管的直徑所決定。因而，在 不產生結晶的磨損、破碎的範圍内（若高速旋轉，則下端 部的範圍則結晶的磨損、破碎也增多），適#地設定 。在本實施例中’外側旋轉樂葉8’位於與旋轉流抑制板 1"目同高度的位置’且把内側旋轉槳葉12設置於比其高一 些的上方。 但是’若被處理液p的旋轉流成為主流，則在圓周壁3 附近被冷卻的被處理液p向流通f 7的内側移動的比例會 減少’並在流通管7的内側與圓周壁3附近之間產生溫度 梯度。因此，在圓周壁3附近，被處理液？與致冷劑的溫 12 557230 差變小，並降低導熱係數。另外，析晶槽6内的過飽和度 會不均句並容易產生細結晶。並且，會產生結晶付著、^ 出在刮取葉片上並阻播運轉、結晶向析晶槽6下側部沈降 、使過飽和母液與結晶的接觸惡化的問題。為此，下側旋 轉流抑制板10就是為了把被處理液P的旋轉流動轉變為上 下的流動而設置的裝置。因此，其形狀、安裝位置沒有特 定限制，可以適當地變更設計。在本實施例中，如第四圖 所示，下側旋轉流抑制板10的截面形狀略為弓狀（向被處 理液P的水平流動方向膨脹的狀態）^截面形狀略為弓狀 ，則可以可靠地阻擋旋轉流動，並可有效地向上下流動轉 變。另外，下側旋轉流抑制板10的安裝位置，與水平方向 的關係，是以位於流通管7的内側位置，與上下的關係， 是其前端部（延伸長度）伸入流通管7的下端部的狀態。 之所以使下側旋轉流抑制板10處於伸入流通管7的下端部 的狀態’這是為了防止旋轉流穿越下側旋轉流抑制板1〇的 側方、不能抑制旋轉流的緣故。 和下側旋轉流抑制板10 —樣，上側旋轉流抑制板u 也是用於把被處理液P的旋轉流轉變為上下的流動而設置 的哀置。目此，其形狀、安裝位置沒有特定限制，可以適 當地進行設計變更。在本實施例中’如第四圖所示，把上 側旋轉流抑制板11的截面形狀設為略呈弓狀（向被處理液 p ^流動方向膨脹的狀態）。另外’上側旋轉流抑制板U 的女裝位置，與水平方向的關係，是從位於流通管7的外 側位置延伸到稍微内側位置，與上下的關係、，是前端部（ 13 557230 延伸長度）比流通管7的上邊緣稍高於上方的位置。 在本實施例中，刮取葉片9、9...，被安裝在流通管7 的外壁面上。例如’可以通過桿狀支樓輻條i"安裝在轴 ^上’或在支樓輻條18上設置向上下方向延伸的扁桿、並 2裝在該扁桿上’但最好如本實施例所示直接安裝在流通 s 7的外壁面上’這樣可以防止因支撐輻條轉動而產生的 被處理液P的旋轉流。對刮取葉片9、9·..的形狀及安裝位 置，沒有特定限制。例如，可以是從圓周壁3的下端部位 置延伸到上部位置的-根桿狀部件。但是，如本實施例所 不’在水平方向上的關係，為相對向的位置上設置刮取葉 片組9A及9B，且刮取葉片群9A的到取葉片9、9…與刮取 葉片組9B的刮取葉片9、9···最 好5又置在上下方向關係為相 互錯開的位置上。這樣設置刮 茶月9 9·.·，可產生向上 方的循裱流動（例如，若到取筆 邱你署“ 是從圓周壁3的下端 #置延伸到上部位置的—根桿狀部件，則 的循環流動。），並且可減小 方 。 π 驅動軸19旋轉的驅動力 付著於圓周壁3的内壁面 取葦片q、〇 r A上的、纟口日日，由如上述的到 、 :·到下，並料於被處理液P中形《狀。另 外，根據用實驗機的確認得 a a c 古』取業片9、9…的t辦古 向的長度，最好為析晶槽直徑的百分之三以下。 - 但是’在析晶槽6内， 上的結晶落下，可31周壁3内壁面及轴19 錐狀的槽底，在中央部集中收^於以在的中央部是低圓 '、 集鬼狀物’ ·所以即使設置結 14 557230 晶塊的破碎機構，也很難完全消除在放出被處理液時的 塞故障因此，在槽底4中央部設置圓錐狀的凸出部（在 凸出部中，包括槽广& 4本身凸出的形式、和安裳其他部件 的形式。）’並在該凸出部以外的槽底4上安裝結晶塊破 碎機構21，由於結晶塊集中在直徑外側（圓周壁3側）， 故可以把結晶塊拆開。⑽而，可以消除在排放漿液時的堵 塞故障。另外，本實施例的破碎機構21，如第三圖中的放 大圖所示，是由安裝於槽底4上的凸部2U、21心··和與該 凸部2iA、21A…嚙合的安裝於流通管7下端部的凸部21β 、21B…所構成梳子狀機構。 如上所述’根據本發明的被處理液循環型刮取式析晶 裝置’既防止了結晶的磨損和破碎，又可使結晶更大地成 長，且可以減少微細結晶。 【圖式簡單說明】 (一） 圖式部分 第一圖是以往的析晶裝置說明圖。 第二圖是以往的析晶裝置說明圖。 第三圖是本實施例的析晶裝置的縱剖面圖。 第四圖是本實施例的析晶裝置的橫剖面圖。 (二） 元件代表符號 1 一析晶裝置 3 —圓周壁 4 一槽底 5 —槽頂 15 557230 6 一析晶槽 8—外側旋轉槳葉 10 —下側旋轉流抑制板 12 —内側旋轉槳葉 16 —被處理液排放口 19 一轴 P 一被處理液 7 —流通管 9—刮取葉片 11 一上側旋轉流抑制板 15—被處理液供給口 17—外部水套 20—破碎機構