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五、發明説明（P 發明背景 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關一種扁平顯示器面板，其具有前保護板 係一致地接合至一扁平顯示器面板主體之觀看者側表面的 結構，用以增進扁平顯示器面板，特別是電漿顯示器面板 (於下文中簡稱爲PDP)，主體之機械強度以避免斷裂 ，並用以減少其產生自扁平顯示器面板主體之電磁雜訊及 近紅外射線。 近年來，逐漸重視PDP，其具有可備製大螢幕面板 及可提供淸楚的全彩顯示等優點。P D P係用以提供一種 全彩的顯示，以使得其磷光體被選擇性地釋放以射出光線 於大量的釋放單元（cells)，其係分離地形成於兩玻璃平 板之間。從發射之此原理，則電磁波及熱輻射（近紅外線 射線），其爲其他裝置之故障或雜訊之產生的因素，被釋 放自P D P之前面，因而需要遮蔽此等電磁波及熱輻射。 迄今，以下係已知能夠賦予一種功能以切斷電磁波及 熱輻射（近·紅外線射線）至扁平顯示器面板主體： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 】P— A — 1 1 — 1 1 9 6 6 6揭露一種顯示器面板 ，其包括一 P D P主體、一電磁波遮蔽材料（其係藉由一 透明黏著劑而被接合至PDP主體之前面）、一透明基底 (其係藉由一透明黏著劑而被接合至電磁波遮蔽材料之前 面）、及一熱輻射切割層（其係設於透明基底與p DPS 體之間）。作爲電磁波遮蔽材料，使用一種導電網，其係 由金屬纖維或金屬塗敷之有機纖維所製；而作爲熱輻射切 割層，使用一種多層膜，其包括一基礎膜及一氧化物透明 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -4- 554371 A7 B7___ 五、發明説明（2) 電極膜及一交替地壓製於基礎膜上之金屬薄膜。 JP— A - 57 - 21458，JP - A - 57-198413，JP - A — 60 — 43605 ，等等揭露 一種光學過濾器，其設有一以樹脂合成物製成之近紅外線 射線遮蔽層，藉由散佈一具有近紅外線射線吸收性質（近 紅外線射線吸收劑）於黏結劑（binder)樹脂中而達成。具 有此一結構之近紅外線射線遮蔽層是容易形成的，且其材 料可取得以一相當低的成本。 JP-A - 2001 - 1 3877揭露一種扁平顯示 器裝置，其包括一 PDP主體及一光學過濾器，其包括〜 可見光反射係數調整層、一碰撞減輕組件以及一調整顏色 、遮蔽輻射電磁波、並遮蔽近紅外線射線之組件，其配置 並接合至P D P主體之顯示側基底。 然而，於上述習知技術之中，於（A)中，因爲導電 網被使用爲電磁波遮蔽材料，假如網之額定孔徑被降低以 增加電磁波遮蔽性質時，則網易於遮蔽射出自P D P主體 之光線，因而易於增加光透射比（transmittance)，且影 像之淸晰度可能減損，而假如網之額定孔徑被增加，則雖 然光透射比增進，但電磁波遮蔽性質易於惡化。 於一種情況下，其中一包括近紅外線射線吸收劑（如 (B )之情況）之近紅外線射線遮蔽層被加至前保護平板 以被一同接合至P D P主體，則無法達成所設計之近紅外 線射線遮蔽效果。例如，於J P - A - 1 1 一 1 1 9 6 6 6中揭露之結構中，假如一種利用近紅外線射 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ^；---4¾¾衣— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 -5- 554371 A7 _ B7 五、發明説明（3) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線吸收劑之近紅外線射線遮蔽層被提供以取代其利用金屬 材料之熱輻射切割膜時，則傳輸光之近紅外線射線遮蔽性 質及色調可能會改變，在長期發光之前及之後，此爲不利 的現象。 於（C )中，欲接合至PDP主體之光學過濾器部分 設有由（例如）氨基鉀酸酯（urethane )樹脂型材料所製 之碰撞減輕材料，其爲透明的且具有碰撞抗性，或者一種 丙烯酸樹脂型材料（其含有丙烯橡膠型材料），此得以有 效地避免刮痕。然而，光學膜本身之硬度無法因此一樹脂 層而增加，且假如從觀看者側施加一外力，則此外力被施 加至P D P主體之前玻璃，而P D P主體無法足夠地被保 護。 此外，於一扁平顯示器面板（諸如P D P )中，假如 其接合至扁平顯示器面板主體之前面的前保護平板本身因 遭受來自觀看者側之外力而變形時，則外力可能作用於扁 平顯示器面板主體之前玻璃上，而扁平顯示器面板主體可 能破損，且其預防亦爲重要的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明槪述 因此，本發明之一目的係提供一種扁平顯示器面板， 其包括一扁平顯示器面板主體及一前保護平板，其具有一 電磁波遮蔽功能及一近紅外線射線遮蔽功能被一起結合至 主體，其具有一適合且穩定的近紅外線射線遮蔽效果且其 可更安全地避免扁平顯示器面板主體之破損。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） ~ ~ -6- 554371 A7 ___B7 _ 五、發明説明（4) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 依據本發明之一型態，提供一種扁平顯示器面板，包 括一扁平顯示器面板主體、及一前保護平板，其包括（依 此次序而壓製）一抗反射層、一含有具電磁波遮蔽性質及 近紅外線射線遮蔽性質之金屬的半透明導電層、一由強化 玻璃（tempered glass )或半強化玻璃所製之高度堅硬的 透明基底、及一黏著劑層，其係藉由黏著劑層而被接合至 扁平顯示器面板主體之觀看者側的表面。 於扁平顯示器面板中，扁平顯示器面板主體可爲 P D P 〇 本發明之導電層可具有一結構，包括一導電多層膜， 其包括交替壓製之一氧化物層及一金屬層、及一接地電極 ，其係連接至導電多層膜。 金屬層最好是由A g所組成之一金屬層或者是一含有 Ag爲主成分並含有至少p d、Au及C u之一的金屬層 ，而導電多層膜中之氧化物層最好是含有Ζ η 0爲主成分 並含有選自 Sn、Al 、Cr、Ti 、Si 、B、Mg 及 G a所構成族群之一金屬的至少一氧化物。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本案發明人已進一步對於近紅外線射線之改變執行廣 泛的硏究，當其含有一近紅外線射線吸收劑之近紅外線射 線遮蔽層被鋪設至一種欲接合並結合與一 P D P主體之型 式的前保護平板時，而結果，已發現到P D P主體之表面 溫度（於照射之時刻）係由於整個螢幕之平均溫度而增加 至6 0 °C，且部分地增加至高達約6 0 °C (於持續照射之 點上），以及發現到如參考範例1 (如後文將敘述）之熱 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — 554371 A7 B7 五、發明説明（5) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 惡化電阻測試，當一含有一近紅外線射線吸收劑之近紅外 線射線遮蔽膜被暴露至8 0 °C之高溫時，其光學性質便顯 著地惡化。 本案發明人已進一步執行廣泛的硏究而結果，已發現 到當一玻璃基底被壓製於P D P主體之表面上時，則表面 溫度減低至4 0 °C之位準於玻璃基底之表面上，即使於其 中PDP主體之表面上的溫度達到8 0°C之一部分上。他 們已進一步發現到關於一含有近紅外線射線吸收劑之近紅 外線射線遮蔽膜，並無光學性質之顯著惡化發生，當加熱 溫度低如約4 0 °C時，如將由下文敘述之參考範例2的熱 惡化電阻測試所示。本發明係根據這些發現而被完成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 亦即，一具本發明之另一型態，提供一種扁平顯示器 面板，包括一扁平顯示器面板主體及一前保護平板，其包 括一透明基底、一電磁波遮蔽層、一含有近紅外線射線吸 收劑之近紅外線射線遮蔽層，其係設置於透明基底之一側 上、及一黏著劑層，其被設置爲透明基底之另一側上的最 外層，其係藉由黏著劑層而被接合至扁平顯示器面板主體 之觀看者側的表面。 具有此一結構之扁平顯示器面板設有一近紅外線射線 遮蔽層及一電磁波遮蔽層，藉此可達成一近紅外線射線遮 蔽效果及一電磁波遮蔽效果。 明確地，一透明基底被插入於一扁平顯示器面板主體 與一含有近紅外線射線吸收劑的近紅外線射線遮蔽層之間 ，而此透明基底具有當作熱緩衝層的角色，以減少從扁平 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -8- 554371 A7 B7 五、發明説明（g) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 顯示器面板主體之表面傳輸至近紅外線射線遮蔽層的熱。 因此，即使當扁平顯示器面板之表面溫度於照射之時刻變 高時，其近紅外線射線遮蔽層中所含有之近紅外線射線吸 收劑的熱惡化可被避免，藉此可達成一理想且穩定的近紅 外線射線遮蔽效果。 再者，利用近紅外線射線吸收劑之近紅外線射線遮蔽 層係易於形成且其材料可以低成本取得，因而可達成成本 削減。 最好是提供一作爲最外層之抗反射層於前保護平板之 透明基底的一側上。 具有此一結構之扁平顯示器面板設有一抗反射層，藉 此可達成抗反射之效果。於此，抗反射層可被提供以作爲 前保護平板之最外層。 除了本發明之透明基底、高度堅硬的透明基底、導電 層、電磁波遮蔽層、近紅外線射線遮蔽層、抗反射層及黏 著劑層以外，視情況需要，可於保護平板的外部上提供一 層（諸如污染預防層）。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖形簡述 圖1係顯示本發明之扁平顯示器面板的第一實施例之 橫斷面圖。 圖2係顯示本發明之扁平顯示器面板的第二實施例之 橫斷面圖。 圖3係顯示本發明之扁平顯示器面板的第三實施例之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -9 - 554371 A7 ___B7 五、發明説明（7) 橫斷面圖。 主要元件對照表 1 扁平顯示器面板 2 扁平顯示器面板主體 2 a 表面 3 前保護平板 4 透明基底 5 導電層 6 抗反射層 7 黏著劑層 9 近紅外線射線遮蔽層 11 扁平顯示器面板 13 前保護平板 14 透明基底 15 電磁波遮蔽層 2 1 扁平顯示器面板 2 3 前保護平板 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 較佳實施例之詳細敘述 圖1係顯示本發明之扁平顯示器面板的一實施例之橫 斷面圖。於本實施例中，扁平顯示器面板1包括一扁平顯 示器面板主體2及一高度堅硬的前保護平板3，其係接合 至扁平顯示器面板主體的觀看者側之表面2 a (於下文中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 554371 A7 B7 五、發明説明（8) (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 稱之爲表面2 a)。此前保護平板3包括一高度堅硬的透 明基底4、一導電層5、一抗反射層6及一黏著劑層7。 現在，每一這些構成將被解釋如下。 扁平顯示器面板主體 雖然扁平顯示器面板主體2可應用於本發明，但亦可 能提及各種扁平顯示器面板，諸如P D P、電漿位址液晶 顯示器面板（P A L C )及場發射顯示器（F E D )。在 這之間，本發明利用P D P之優點是很明顯的，因爲其需 要電磁波及近紅外線射線之遮蔽。 以下解釋將舉例一種情況，其中利用P D P爲扁平顯 示器面板，“扁平顯示器面板1 ”被稱爲“ P D P 1 ” 而“扁平顯示器面板主體2 ”被稱爲“ P D P主體2 ” 。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 作爲PDP主體2，可使用各種結構之PDP裝置。 於一典型的PDP中，用以形成多數放電單元（cells )之 分割壁被夾置於兩玻璃基底之間，放電用之電極被形成於 每一放電單元中，一射出紅色、綠色及藍色光之磷光體層 被形成於每一放電單元中，且一含氙（Xe )之氣體被封 入每一放電單元中。藉由使放電單元中之磷光體因放電而 射出光，則可達成一全彩的顯示器。於P D P主體2之開 始時刻，電磁波及近紅外線射線被射出自表面2 a。 前保護平板 前保護平板3包括：一高度堅硬的透明基底4，其係 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） -11 - 554371 A7 B7 五、發明説明（9) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 由玻璃所製、一半透明導電層5 ’其含有具電磁波遮蔽性 質及近紅外線射線遮蔽性質之金屬’其係設於基底4之側 上、一抗反射層6，其係設於與基底相反之導電層5的表 面上、及一黏著劑層7，其係設於基底4之另一側上。高 度堅硬的前保護平板3係藉由黏著劑層7而被接合至 PDP主體2之表面2a。 高度堅硬的透明基底 作爲本發明之高度堅硬的透明基底4，可利用一種強 化或半強化玻璃（熱強化玻璃）。玻璃具有塑膠材料之一 半或更小的熱擴張係數，其不會彎曲即使有介於P D P主 體2側上表面與相反側表面之間的些微溫度差異時，其具 有絕佳的熱阻抗及化學穩定性。高度堅硬之透明基底4的 厚度可根據P D P主體2之尺寸而被適當地設定，其通常 係從1至5mm，最好是從2至4mm之位準。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉由接合具有高度堅硬透明基底4 (其係由強化或半 強化玻璃所製）之前保護平板3至PDP主體2之表面 2 a，則PDP主體2之表面2 a可被製成具有高的硬度 。PDP主體2之螢幕的面積相較於陰極射線管之下可被 製爲較大，而具有超過3 0英吋之螢幕的P D P變爲實際 上所使用的。對於此一大型的P D P主體2，需要增加整 個表面2 a之硬度。亦即，假如保護平板以一空氣縫隙而 被配置於P D P主體2之表面2 a上，假如保護平板係由 具有低硬度之合成樹脂所製，則當外力施加至其中心部分 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 554371 A7 __B7_ 五、發明説明（化 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 時其易於彎曲，中心部分接觸與P D P主體2而結果，外 力被直接施加至PDP主體2，因而導致PDP主體2之 破損。再者，即使當保護平板係由玻璃平板所製以增加硬 度時，假如有一空間介於保護平板與P D P主體2的表面 2 a之間，則外力僅被施加至保護平板，而當外力超過該 保護平板之強度的限制時保護平板便破損。另一方面，於 本實施例中，具有由強化或半強化玻璃所製之高度堅硬透 明基底4的前保護平板3被一致地P D P主體2之表面 2 a ，而構成PDP主體之表面2 a的玻璃平板係藉由黏 著劑層7而被接合，因而外力可由高度堅硬之透明基底4 及P D P主體2之玻璃平板一同承受，故此本發明之 PDP 1具有高的硬度。此外，因爲構成PDP主體之 表面2 a的玻璃平板藉由黏著劑層7而被接合，故介面上 之反射可顯著地被減少，且由於外部物體之反射而生的雙 重影像可被減至最少，相較於保護平板被配置有一空氣縫 隙於P D P主體2之表面2 a上的情況下。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 此一高度堅硬的透明基底4可依據已知的玻璃回火（ tempering )製程而備製，明確地，其可被備製藉由一種於 預定溫度範圍內加熱玻璃平板之空氣冷卻強化法，最好是 從6 5 0至7 0 0 °C，接著藉由強力的空氣冷卻以供回火 。藉由適當地調整空氣冷卻條件（主要爲冷卻率），或者 根據玻璃之厚度，則可獲得一具有至少1 0 0 M p a之平 均斷裂應力的強化玻璃或者一具有從6 0至1 0 OMp a 之平均斷裂應力的半強化玻璃。即使由空氣冷卻回火所備 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13- 554371 A7 B7
五、發明説明（A (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 製之強化玻璃或半強化玻璃也許會斷裂，其斷裂碎片常是 小的且其幾乎不會形成如刀子般之尖銳邊緣，此於安全考 量上爲合宜的。 導電層 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 半透明導電層5具有至少一設於高度堅硬之透明基底 4的一側上之金屬層，其具有一電磁波遮蔽性質及一近紅 外線射線遮蔽性質。金屬層最好是由至少一金屬所組成之 層，此一金屬係選自包括Au，Ag及Cu之族群，或者 是一含有該金屬爲主成分之層，而特別理想的是一含有 A g爲主成分之金屬層，因而可達成低的電阻率及小的吸 收性。再者，含有A g爲主成分之金屬層最好是一種含有 Ag爲主成分且含有至少Pd，Au及Cu之一的金屬層 ，藉此A g之擴散被抑制因而，濕氣抗性增進。至少P d ，Au及Cu之一的含量最好是從0 · 3至1 0原子％， 根據Ag及至少Pd，Au及Cu之一金屬的總含量。假 如是至少0 . 3原子％，則可達成穩定A g之效果，而當 其爲至少1 0原子％時，則可達成理想的層形成率及可見 光透射比而維持理想的濕氣抗性。因此，從上述觀點，加 入量適當地最多爲5 · 0原子％。此外，假如加入量增加 時，則目標成本便可觀地增加，而因此其係落入從0 . 5 至2 · 0原子％之位準的範圍內，藉由考量一般所需的濕 氣抗性。於一種情況（其中導電層5被形成爲單一層）下 ，金屬層之厚度被視爲從5至2 0 nm，最好是從8至 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'乂 297公釐）~ _ -14- 554371 Α7 Β7 五、發明説明（^ 1 5 n m。形成金屬層之方法未被特別地限定，但最好是 其金屬層未被特別地限制，而最好是其金屬層係藉由濺射 (其能夠均勻地形成一薄的金屬層直接於透明基底之一側 上）以被形成。否則，一金屬層可藉由濺射而被形成於一 膜狀透明基底上，且所得之濺射膜可被接合至透明基底4 之一側上。 於本發明中，作爲導電層5，可適當地使用一種導電 多層膜，其包括交替地壓製於高度堅硬透明基底4上之一 氧化物層及一金屬層，特別是一種導電多層膜，其包括交 替地壓製於高度堅硬透明基底4上之一氧化物層、一金屬 層及一氧化物層，以此（2 η + 1 )層之順序（其中係至 少爲1之整數）。氧化物層可爲一含有至少選自Bi ，
Zr ，A1 ，Ti ，Sn， In及Zn等之族群的一金屬 之氧化物爲主成分的層。其最好是一含有至少選自T i ， Sn，I η及Ζ η等之族群的一金屬之氧化物爲主成分的 層。特別理想的是一含有Ζ η 0爲主成分之層，因而其吸 收性小且折射指數約爲2，或者一含有T i〇2爲主成分之 層，因而其折射指數高，且可獲得一具有少數層之較佳的 色調。氧化物層可由多數氧化鍚層構成。例如，其可由一 含有S η 〇2爲主成分之層及一含有Ζ η〇爲主成分之層所 形成，以取代一含有Ζ η 0爲主成分之氧化物層。 含有Ζ η 0爲主成分之氧化物層最好是由含有除了 Ζ η以外之至少一種金屬的Ζ η〇所製之一氧化物層。該 所含之至少一種金屬主要以氧化物之狀態存在於氧化物層 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） ---^---；----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 春 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 -15- 554371 A7 _____B7___ 五、發明説明（^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 中。含有至少一金屬之Z n〇最好是含有至少選自S η， A1 ，Cf ，Ti ，Si ，B，Mg及Ga等之族群的一 金屬之Z n ◦。該至少一金屬之含量最好是從1至1 0原 子％，根據該金屬及Ζ η之總量，藉此以增進欲獲得之導 電膜的濕氣抗性。當其爲至少1原子％時，Ζ η 0膜之內 部應力可被足夠地減小，而理想的濕氣抗性可被獲得。再 者，當其爲最多的10原子％時，Ζη〇之結晶度可被理 想地維持，且與金屬層之相容性不會減少。金屬之含量最 好是從2至6原子％，以獲得一具有低內部應力之Ζ η〇 ，其係穩定地具有良好的可再生性，並藉由顧及Ζ η〇之 結晶度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 氧化物層之幾何膜厚度（於下文中簡稱爲厚度）最好 是從20至60nm (特別是從30至50nm)，相對 於一最接近透明基底之氧化物層及一最遠離透明基底之氧 化物層，以及從4 0至1 2 0 n m (特別是從4 0至 1 〇 〇 n m )，相對於其他的氧化物層。金屬層之總厚度 最好是從2 5至4 Onm (特別是從2 5至3 5 nm)於 一種狀況下，其中欲獲得之導電層的目標電阻爲2 . 5 Ω /□;以及從3 5至50nm (特別是從35至45nm )於一種狀況下，其中目標電阻爲1·5Ω/□。氧化物 層及金屬層之總厚度最好是從1 5 0至2 2 0 n m (特別 是從1 6 0至2 0 0 nm)於其中金屬層之數目爲2的狀 況下，從2 3 0至3 3 0 n m (特別是從2 5 0至3 0 0 nm)於其中金屬層之數目爲4的狀況下，舉例而言。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 Χ297公瘦1 " -16- 554371 A7 _B7_ 五、發明説明（么 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 介於第一金屬層與第二氧化物層之間、介於第二金屬 層與第三氧化物層之間、及介於第三金屬層與第四氧化物 層之間，可提供另一層，用以避免金屬層於其形成氧化物 層之時刻被氧化（於下文中稱爲一氧化障蔽層）。氧化物 障蔽層可爲，例如，一金屬層、一氧化物層或者一氮化物 層。明確地，可使用至少一選自包括A 1 ，T i ，S i ， G a及Ζ η的族群之一金屬、該金屬之一氧化物或者一氮 化物。最好是利用含有T i或S i及Ga之ΖηΟ。氧化 物障蔽層之厚度最好是從1至7 nm。假如其比1 nm還 薄，則其層無法展現當作一障蔽層之足夠功能。假如其比 7 n m還厚，則膜系統之透射比減小。 再者，於導電層5之表面上，最好是提供一由氧化物 膜或者氮化物膜所製之保護層。保護層被利用以保護導電 層5 (特別是含有A g之金屬層）不受濕氣侵害，以及保 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 護導電層5之氧化物層（特別是含有Ζ η 0爲主成分之層 )不接觸黏著劑（特別是一種鹼性黏著劑）於接合抗反射 層6之時刻。明確地，可使用一種金屬（諸如Z I*，T i ，S i ，B或Sn)之氧化物或氮化物的層。特別是當一 含有Ζ η 0爲主成分之層被使用爲導電層5之最外層時， 最好是使用一氮化物膜。氮化物膜可爲Z r及/或S i之 一氮化物膜，而特別最好是使用Z r及S i之合成氮化物 膜。保護層最好是被形成以從5至3 0 n m之厚度，特別 是從5至2 0 n m。 用於接地引線連接（其係用以將得自P D P主體2所 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 554371 A7 ___B7_ 五、發明説明（& (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 射出之電磁波的層中所產生的電流引入至一接地引線）之 電極8被連接至導電層5。電極8被形成於高度堅硬透明 基底4之一側上，以致其電極接觸與導電層5之周邊的至 少部分。其形狀及尺寸未特別的限定，但具有低電阻値者 具有較優的電磁波遮蔽性質。此電極8最好是被設於高度 堅硬之透明基底4的整個周邊上，以確保半透明之導電層 5的電磁波遮蔽效果。作爲此一電極8，可適當地利用一 藉由塗敷一 A g膏（一含有Ag及玻璃熔塊（frit)之膏） 或者一 Cu膏（一含有Cu及玻璃熔塊之膏）、藉著藉由 焙燒而獲得一電極。雖然此焙燒步驟可被同時地執行與上 述高度堅硬之透明基底4的回火步驟，而因此最好是在回 火步驟之前以A g或C u膏塗敷玻璃透明基底。再者，可 使用此一結構，其中導電層5具有一縱向接地引線（未顯 示於圖1中）被連接至電極8。 抗反射層 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 抗反射層6可爲任何具有抗反射性質之層，且可利用 任何已知的抗反射方法。例如，其可爲一接受抗強光（ antiglare )處理之層或者一具有低折射指數層之層。低折 射指數層可被形成自一種已知的低折射指數材料，但最好 是被形成自一種非結晶的氟聚合物，鑑於其抗反射效果以 及層形成之簡易。較佳的是一種層，其包括一樹脂膜及一 形成於樹脂膜之一側上的低折射指數層，從預防碎片之散 射（當高度堅硬之透明基底4本身萬一破損時）的觀點來 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公瘦1 " -18- 554371 A7 B7 五、發明説明（么 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 看。特別最好是一種層，其包括一聚氨酯型撓性樹脂層及 一由形成於樹脂層之一側上的非結晶氟聚合物所製的低折 射指數層，而明確地，可使用（例如）由Asahi Glass Company, Limited 所製造的ARC TOP (商標名）。 一遮蔽近紅外線射線之樹脂膜（諸如具有一近紅外線 射線吸收劑含入其中之一樹脂膜）可被設於透明基底之前 面的導電膜側上（觀看者側）及/或透明基底之背後側（ P D P主體側）。否則，於一種狀況下，其中上述預防散 射及抗反射樹脂膜，諸如A R C T〇P (商標名），被使 用爲抗反射層，則一近紅外線射線吸收劑可被含入聚氨酯 樹脂層中以致其預防散射及抗反射膜具有一近紅外線射線 遮蔽效果。於本發明之P D P 1中，近紅外線射線可被 導電層5所遮蔽，但藉由使得抗反射層6具有近紅外線射 線遮蔽性質，則可進一步增進近紅外線射線遮蔽效果。再 者’藉由含入一顏料及/或一染料（其吸收具有一特定波 長之可見光），則可加入一種色調校正性質，其校正顯示 器色彩之色彩平衡。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 黏著劑層 前保護平板3係藉由黏著劑層7而被接合至P D Pi 體2之表面2 a。本發明中適於黏著劑層7之黏著劑可， 例如，爲一熱融型的黏著劑，諸如一乙烯/乙烯基醋酸鹽 異量分子聚合物（EVA)、一環氧或丙烯酸型紫外線硬 化黏著劑或者一矽氧烷或一氨基鉀酸酯型熱固黏著劑。黏 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19- 554371 A7 B7 五、發明説明（士 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 著劑層7可包括至少兩層。於三或更多層之情況下，一未 直接接觸與前保護平板或P D P主體之層可能不具有黏著 劑性質。黏著劑層7之厚度係從0 · 1至1 · 〇 m m，最 好是從0 · 2至0 · 5 m m。 當一包括熱融型黏著劑之熱融薄片被使用爲黏著劑層 7時，則可使用下列方法爲一種藉由黏著劑層7以接合前 保護平板3與PDP主體2的適當方法。亦即，一熱融薄 片被置於PDP主體2之表面2 a上，前保護平板3被置 於其上並執行定位，而其係以一防熱黏著劑帶而被暫時地 固定。接著，暫時固定的總成被放置且密封於一防熱樹脂 袋中，其配備有一排出道。接著，排出道被連接至一真空 泵以將袋中之空氣除去，且袋被置入一加熱爐中並加熱於 熱融化之一黏著劑融化溫度。在完成加熱之後，袋被取出 自爐中且減壓被終止，並取出PDP 1 ，其包括PDP 主體2及藉由黏著劑層7以接合至P D P主體2之表面 2 a的前保護平板3。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 依據本發明之PDP 1具有此一結構，其具有高度 堅硬之透明基底4 (其係由一強化玻璃或一半強化玻璃所 製）的前保護平板3被一同接合至PDP主體2之表面 2 a ，而構成PDP主體2之表面2 a的玻璃平板與高度 堅硬之透明基底4藉由黏著劑層7而被接合，因而一來自 觀看者側之外力可由高度堅硬之透明基底4及P D P主體 2之玻璃平板所支撐，且一極高的硬度被加入pd P 1 之觀看者側，因此可提供較不易破損之P D P 1。再者 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） -20- 554371 A7 B7 五、發明説明（^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ’藉由黏著劑層7以接合其構成pDp主體2之表面2 a 的玻璃平板與高度堅硬之透明基底4，則介面上之反射可 顯著地被減少’且由於外物之反射而產生之雙重影像可被 減至最少’相較於一種其中保護平板係具有一空氣縫隙而 被配置於P D P主體2之表面2 a側上的情況。 第二實施例 圖2係顯示本發明之扁平顯示器面板的第二實施例之 圖形。於本實施例中，扁平顯示器面板1 1包括一扁平顯 示器面板主體2及一接合至主體之觀看者側表面2 a (於 下文中稱爲表面2 a )的前保護平板1 3。 前保護平板1 3包括一透明基底1 4、一電磁波遮蔽 層1 5、一近紅外線射線遮蔽層9、一抗反射層6及一*黏 著劑層7。 前保護平板 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於本實施例中，前保護平板1 3具有此一結構，其中 電磁波遮蔽層1 5、近紅外線射線遮蔽層9及抗反射層6 係依此順序而被壓製於透明基底1 4之一側上，且黏著劑 層7被形成於透明基底1 4之另一側上。前保護平板1 3 係藉由黏著劑層7而被接合至PDP主體2之表面2 a。 透明基底 作爲透明基底1 4，可使用各種玻璃基底及各種透明 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -21 - 554371 A7 B7 五、發明説明（么 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁， ) 樹脂基底。特別於本實施例中，透明基底1 4亦作用爲一 熱緩衝層，且其因而最好是具有低的熱傳導性係數及高的 熱緩衝效果。明確地，其最好是具有一熱緩衝效果到此一 程度以致當其於8 0°C被接合至加熱過的表面時，表面溫 度被保持最大爲4 0 °C於接合表面之相反側上。其特定範 例包含各種玻璃基底及有機聚合物材料。 此外，透明基底1 4最好是一種高度堅硬的透明基底 ，具有於至少2，0 0 0 M p a之彎曲的彈性模數（於 2 3 °C )，其基底可由，例如，各種玻璃、聚碳酸鹽及丙 烯酸樹脂所製。其間，最好是具有高彈性模數之玻璃，而 於各種玻璃之間，最好是一種具有至少1 〇 〇Mp a之平 均斷裂應力的強化玻璃或者一種具有從6 0至1 0 0 M p a之平均斷裂應力的半強化玻璃（熱加強玻璃）。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當透明基底14具有於至少2，OOOMpa之彎曲 的彈性模數時，則前保護平板1 3本身不易變形（當其被 施加一外力時），且外力較不會影響其構成PDP主體2 之表面2 a的玻璃。因此，其前保護平板1 3被一致地接 合之P D P主體2的機械強度被有效地增進且可避免其斷 裂。特別是玻璃具有塑膠材料之熱擴張係數的一半或更小 的値，故其即使有一些微的溫度差異存在於P D P主體2 側上的表面與其相反側表面之間時仍不會彎曲，且其熱抗 性及化學穩定性極佳，而因此其可穩定地作爲透明基底 14。 當高度堅硬之透明基底被使用爲透明基底1 4時，其 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（210X297公釐） -22- 554371 A7 B7____ 五、發明説明（4 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 厚度被設定以致其足夠的機械強度可被加入p D P主體2 ，且亦可獲得一足夠的熱緩衝效果，但其通常係於1至5 m m之位準。 適於當作透明基底1 4之強化玻璃或半強化玻璃被備 製以如上所述之方法的相同方式。 電磁波遮蔽層1 5係由一包括至少一金屬層之導電膜 或者一以網之形式所形成的網導電膜所製。 作爲包括至少一金屬層之·導電膜，可使用上述之半透 明導電膜5。 作爲網導電膜，可使用，例如，由光石印術所形成者 、由印刷所形成者、或者一纖維網。其中，由光石印術所 形成之導電網具有約0 · 0 5 Ω /□之小的表面電阻，且 因而是特別理想的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印災 明確地，由光石印術膜所形成之導電網膜包括一金屬 網及一樹脂膜，而作爲其製造方法，可使用一種方法，其 中一種使金屬膜（諸如銅膜）接合至一樹脂膜之產品或者 一種藉由蒸汽澱積以使一金屬膜形成於一樹脂膜上之產品 係藉由光石印術而接受成型，且金屬薄膜係以網之形式接 受触刻。 用以藉由光石印術膜而形成導電網膜之金屬薄膜的材 料可，例如，爲銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦、錫、鎢或鉻， 或者其合金。其中，最好是銅、鋁或不銹鋼。金屬薄膜之 厚度爲從2至2 0 // m，最好是從3至1 0 // m，考慮其 電磁波遮蔽性質及蝕刻性質。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -23- 554371 A7 B7 五、發明説明（d (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 用以藉由光石印術膜而形成導電網膜之樹脂膜可，例 如，爲PET (聚對苯二甲酸乙烯酯）、PMMA (聚甲 基丙烯酸甲酯）、PC (聚碳酸酯）、TAC (三乙醯纖 維素）或聚苯乙烯。 由光石印術膜所形成之導電網膜的網之模式最好是使 得其節距係從2 0 0至4 0 0 // m且線寬度係從5至3 0 // m之位準。 用於接地引線連接（類似於上述導電層5之情況）之 一電極8被連接至電磁波遮蔽層1 5。 抗反射層 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 抗反射層6可爲任何具有抗反射性質之層，且可利用 任何已知的抗反射方法。例如，其可爲一接受抗強光處理 之層或者一具有低折射指數層之層。低折射指數層可被形 成自一種已知的低折射指數材料，但最好是由一種非結晶 的氟聚合物所製造，鑑於其抗反射效果以及層形成之簡易 。較佳的是一種層，其包括一樹脂膜及一形成於樹脂膜之 一側上的低折射指數層，從預防碎片之散射（當高度堅硬 之透明基底4本身萬一破損時）的觀點來看。特別最好是 一種抗反射層，其包括一聚氨酯型撓性樹脂層及一由形成 於樹脂層之一側上的非結晶氟聚合物所製的低折射指數層 ’而明確地’可使用（例如）由Asahi Glass Company, Limited所製造的ARCT〇p (商標名）。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公瘦） -24- 554371 A7 B7 五、發明説明（4 沂紅外線射線遮蔽層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 近紅外線射線遮蔽層9係由一樹脂合成物所製，其包 括一當作主成分之樹脂及一散佈於樹脂中之近紅外線射線 吸收劑。 用以形成近紅外線射線遮蔽層9之方法並未特別地限 定，但最好是藉由以一種藉由均勻混合主成分、近紅外線 射線吸收劑及溶劑所獲得之溶液塗敷一基底而形成。作爲 塗敷方法，可選擇浸泡塗敷、滾動塗敷、噴灑塗敷、凹版 印刷塗敷、間歇塗敷、沖模塗敷，等等。藉由這些塗敷方 法，則得以持續地處理，而因此其生產率極佳（相較與一 批系統蒸汽澱積方法）。亦可利用旋轉塗敷，其能夠形成 一薄且均勻的塗敷膜。 作爲使用於塗敷方法之基底，可利用，例如，聚酯型 、丙烯酸型、纖維素型、聚乙烯型、聚丙烯型、聚烯烴型 、聚乙烯氯化物型、聚碳酸鹽型、石碳酸型或氨基鉀酸酯 型。其中，一聚酯膜（諸如聚對苯二甲酸乙烯酯）爲適當 的。 經濟部智葸財產局員工消費合作社印製 於一情況下，其中一包括一透明膜及一形成於透明膜 上之塗敷膜（近紅外線射線遮蔽層9 )(其係由一具有近 紅外線射線吸收劑散佈其中之樹脂合成物所製）的近紅外 線射線遮蔽膜被使用以構成近紅外線射線遮蔽層9時，則 使用爲基底之透明的樹脂膜被插入於近紅外線射線遮蔽層 9與電磁波遮蔽層1 5之間，雖未顯示於圖2中。 再者，於一情況下，其中一包括一樹脂膜及一形成於 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- 554371 A7 _ B7 五、發明説明（4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 樹脂膜之一側上的低折射指數層的層壓板，諸如上述 A R C Τ Ο P (商標），被使用爲抗反射層6，則得以使 用抗反射層6之樹脂膜爲基底並以一藉由均勻地混合主成 分、近紅外線射線吸收劑及溶劑所製之溶液塗敷抗反射層 之另一側來形成近紅外線射線遮蔽層9。 於此一情況下，無基底出現於近紅外線射線遮蔽層9 與電磁波遮蔽層1 5之間，並將一層壓板接合至電磁波遮 蔽層1 5，此層壓板包括相互結合之近紅外線射線遮蔽層 9及抗反射層6。 另一方面，一近紅外線射線吸收劑可被加入其構成抗 反射層6之低折射指數層以獲得一具有抗反射功能之近紅 外線射線遮蔽層。於此情況下，無須分離地形成抗反射層 6及近紅外線射線遮蔽層9，而可提供一具有抗反射功能 之近紅外線射線遮蔽層於電磁波遮蔽層1 5上，雖未顯示 於圖2中。 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 另一方面，於一種情況下，其中一包括一樹脂膜及一 形成於樹脂膜之一側上的低折射指數層的層壓板，諸如上 述A R C Τ Ο P (商標），被使用爲抗反射層6，則亦得 以將一近紅外線射線吸收劑加入樹脂膜以使用層壓板爲一 具有抗反射功能之近紅外線射線遮蔽層。同時於此一情況 下，無須分離地提供抗反射層6及近紅外線射線遮蔽層9 ，而提供一具有抗反射功能之近紅外線射線遮蔽層於電磁 波遮蔽層1 5上，雖未顯示於圖2中。 主成分未被特別限定，只要一近紅外線射線吸收劑可 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26- 554371 A7 B7 五、發明説明（4 ~ "~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 均勻地被配置於其中，且可適當地使用一熱塑樹脂，諸如 一聚酯型樹脂、一烯烴型樹脂、一環烯烴型樹脂或者一聚 碳酸酯樹脂。特別當作主成分，可使用一種市場上可得的 產品，諸如一聚酯樹脂“ ◦一 P E T ” （商標名），由 Kanebo Ltd所製造；一聚烯烴樹脂“ ARTON” （商標名） ，由J S R公司所製造、一環烯烴樹脂“ZEONEX” （商標 名），由ΖΕΟΝ公司所製造或者“ lupilon” （商標名） ，由 Mitusbishi Engineering-Plastics 公司戶斤製造。 將主成分溶解於其中之溶劑並未特別限定，而其可， 例如，爲酮型溶劑（諸如環己酮）、一乙醚型溶劑、一醋 型溶劑（諸如丁基醋酸鹽）、一乙醚酒精型溶劑（諸如乙 基賽珞素（cellosolve))、一酮酒精型溶劑（諸如二丙酮 醇）或者一芳香族型溶劑（諸如甲苯）。其可被單獨使用 或者作爲一種包括至少兩種型式混合之混合溶劑系統。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 作爲近紅外線射線吸收劑，則使用一種著色劑，其能 夠吸收近紅外線區（波長：7 8 0至1 ，3 0 0 n m )中 之至少部分光，而著色劑可爲染料或顏料。明確地，其可 ，例如，爲一 polymethine 型、phthalocyanine 型、 naphthalocyanine 型、金屬複合物型、aminium 型、 immonium 型、diimmonium 型、naphthoquinone 型、 indolphenol型、含氮型或triallylmethane型化合物，但並 不限定於此。 爲了吸收熱輻射及預防電子設備之雜訊的目的’最好 是一種具有從7 5 0至1 ，1 0 0 nm之最大吸收波長的 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -27- 554371 A7 B7 五、發明説明（； (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 近紅外線射線吸收劑，而特別理想的是一金屬複合物型、 aminium 型、phthalocyanine 型、naphthalocyanine 型或 diimmonium型化合物。近紅外線射線吸收劑可被單獨使用 或者作爲一至少其兩種型式之混合。 近紅外線射線遮蔽層9中所含有之近紅外線射線吸收 劑的量最好是根據主成分之至少0 · 1質量％以有效地獲 得近紅外線射線遮蔽效果，特別最好是至少2質量％。此 外，近紅外線射線吸收劑之量被抑制爲最好是至多1 〇質 量％以維持主成分之物裡性質。 近紅外線射線遮蔽層9之厚度最好是至少0 . 5 // m 以有效地獲得近紅外線射線遮蔽效果，且最好是至多2 0 // m，從膜形成之時刻的溶劑較不會殘留及膜形成之操作 較容易的觀點來看。特別理想的是從1至1 0 /z m。 黏著劑層 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 作爲本發明中之黏著劑層7的適當黏著劑，可使用如 上所述之相同黏著劑。黏著劑層7之厚度係從0 · 1至 1·Omm，最好是從〇·2至0·5mm。 製造程序 爲了製造本發明之P D P 1 1 ，例如，於透明基底 1 4之一側上，電極8及電磁波遮蔽層1 5係依此順序而 被形成，且近紅外線射線遮蔽層9係藉由塗敷或藉由接合 而被形成於其上，而抗反射層6被進一步接合。接著，透 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -28- 554371 A7 B7 五、發明説明（； 明基底14之另一側係藉由黏著劑層7而被接合至PDP 主體2。一初步整合的近紅外線射線遮蔽層9及抗反射層 6可被使用並接合至電磁波遮蔽層1 5。 於其中電極8係藉由一 A g膏或C u膏而被形成之情 況下，透明基底1 4之塗敷可藉由絲網印刷法而被適當地 執行。此外，當一玻璃基底被使用爲透明基底1 4時，則 玻璃基底亦被加熱於焙燒電極8之時刻，藉此其被使用爲 透明基底1 4之玻璃基底可藉由焙燒後執行一空氣冷卻步 驟而被強化。 於其中電磁波遮蔽層15係由一包括至少一金屬層之 導電膜所構成的情況下，其最好是藉由濺射而被形成，或 者一分離備製之濺射膜可被接合至透明基底14之表面， 而電極8係形成於此表面上。然而，於其中電磁波遮蔽層 1 5係由一網導電膜所構成之情況下，則一分離備製之網 膜（於其上形成電極8 )被接合。 這些層可藉由一種適於接合膜之接合方法而被接合， 諸如一滾動壓製機，而可提供一黏著劑於各層之間，視情 況所需。 於一包括熱融型黏著劑之熱融薄片被使用爲基底之情 況下，如上述第一實施例所揭露之相同方法可被使用。 依據本實施例之P D P 1 1包括抗反射層6、近紅 外線射線遮蔽層9及電磁波遮蔽層1 5，藉此可達成抗反 射效果、近紅外線射線遮蔽效果及電磁波遮蔽效果。 有可能其近紅外線射線遮蔽層9中所含有之近紅外線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -29- 554371 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __ B7_五、發明説明（ 射線吸收劑因熱而惡化，然而，透明基底1 4係插入於 P D P主體2 (其表面溫度會於照射之時刻增加）與近紅 外線射線遮蔽層9之間，且透明基底1 4作用爲一熱緩衝 層並阻擋熱從P D P主體2之表面2 a傳輸至近紅外線射 線遮蔽層9。因此，近紅外線射線遮蔽層9中所含有之近 紅外線射線吸收劑的熱惡化被避免，且可獲得理想而穩定 的近紅外線射線遮蔽效果。 此外，於PDP主體2之表面2 a上，透明基底1 4 係藉由黏著劑層7而被接合並整合，藉此可顯著地減少介 面上之反射，並可縮減由於外物之反射所造成的雙重影像 ，相較於其中存在有一空間於PDP主體2的表面2 a與 設於P D P主體2前面以供保護用的過濾器之間的情況下 〇 此外，於本實施例中，當電磁波遮蔽層1 5被設置於 透明基底1 4之上時，其電磁波遮蔽層1 5可藉由濺射而 被形成，藉以使得易於形成其連接至電磁波遮蔽層1 5之 電極8。 此外，於本實施例中，於其中電磁波遮蔽層1 5係由 一包括至少一金屬層之導電膜所構成的情況下，亦可藉由 電磁波遮蔽層1 5以達成近紅外線射線遮蔽效果，且近紅 外線射線遮蔽層9被設置於此之外，而因此進一步增進近 紅外線射線遮蔽效果。 第三奮旆例 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30 - 554371 A7 B7 五、發明説明（▲ 圖3係顯示本發明之扁平顯示器面板的第三實施例之 一圖形。依據本實施例之的PDP 21與依據第二實施 例的P D P 1 1之間的差異在於本實施例中，一電磁波 遮蔽層15被設於透明基底14之PDP主體2側上。 亦即，依據本實施例之一前保護平板2 3具有此一結 構以使得於透明基底1 4之一側上，一近紅外線射線遮蔽 層9及一抗反射層6係依此順序而被壓製，且於透明基底 1 4之另一側上，一電磁波遮蔽層1 5及一黏著劑層7係 依此順序而被壓製。前保護平板2 3係藉由一黏著劑層7 而被接合至PDP主體2之表面2a。 於圖3中，對於如圖2中之相同構件，其相同符號被 使用且其解釋被省略。 爲了製造依據本實施例之P D P 2 1 ，例如，於透 明基底1 4之一側上，近紅外線射線遮蔽層9係藉由塗敷 或藉由接合而被形成，且抗反射層6被進一步接合。近紅 外線射線遮蔽層9及抗反射層6可初步地被整合。此外， 分離地，於透明基底1 4之另一側上，一電極8及電磁波 遮蔽層1 5係依此順序而被形成。電極8及電磁波遮蔽層 1 5之形成以及各層之接合可被執行以如第二實施例之相 同方式。接著，其中有電磁波遮蔽層1 5被形成之側係藉 由黏著劑層7而被接合至PDP主體2。作爲用以藉由黏 著劑層7而將前保護平板2 3接合至P D P主體2之方法 ’則可利用如第二實施例中之相同方法。 依據本實施例，可獲得如第二實施例之相同的效果。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ，裝· 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 -31 - 554371 A7 ___B7_ 五、發明説明（21 現在，將參考範例以更詳細地描述本實施例。然而， 應瞭解本發明絕非限定於此等特定範例中。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 範例1 本發明之一 P D P裝置係依據下列程序而備製。 前保護平板之備製 一種蘇打石灰玻璃平板（厚度：3 · 2mm)被切成 如一 P D P主體之相同尺寸，接著將其去角。然後，一種 A g 膏（由 Murata Manufacturing Co.，Ltd 所製）係藉由 絲網印刷法而被印刷於整個周邊上，以一 1 〇 m m之寬度 距矩形玻璃平板之一側上的邊緣。以A g膏印刷之玻璃平 板被加熱於6 0 0 °C並接著藉由強力空氣冷卻而被回火。 爲了避免一濺射膜形成於A g膏之上，故其印刷有A g膏 之一部分被覆蓋以一不銹鋼薄板，且薄板被暫時地固定以 一黏著帶。接著，於印刷有A g膏之玻璃表面上，藉由濺 射以形成一多層膜，包括3A1— Zn〇（40nm)/ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 m η (A 〇 3 表 於 ρ \ 中 〇 η ζ - IX A 3 \ )ym η ο ο g A I d p m η 2 A 3 η ζ m η 〇 η
d P m η ο 示 顯 被 \件 } 條 m成 η 形 ο 膜 1之 C膜 g各 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32- 554371 A7 B7 五、發明説明（& 表1 膜 目標 引入氣體 壓力 充電之電力 (mTorr) (W/cm2) 3ΑΙ-ΖΠ0 3A 卜 Zn 氧 2 3.6 [OPd-Ag 1 .OPd-Ag 氬 2 0.8 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) “ 3 A 1 - ζ η ”是指含有3原子％之A 1的ζ η (根據 A 1及Ζ η之總量），而“ 3 A 1 - Ζ η ”是指藉由濺射 而使用A 1 - Ζ η爲存在有氧之目標所形成的膜。此外’ “1 . 〇Pd — Ag”是指指含有1 . 0原子％2Pd的 A g (根據P d及A g之總量）。 在藉由濺射以形成多層膜之後，則不銹鋼薄板被備製 〇 接著，一抗反射膜（“ ARCTOP URP 2 1 7 9 ” ，商 標名，由Asahi Glass Company, Limited所製）被接合至 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表面（於此表面上係藉由濺射而形成膜），藉由一滾動壓 製機。接著，Ag膏上之ARCTOP係以一雷射切割器 切割且被分離以備製一前保護平板。 P__ D P主體及前保護平板之結合 如上所備製之前保護平板及一 P D P主體係藉由一黏 著劑層而以下列方式被接合及結合。一種E V a型熱融薄 I紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格( 210X297公釐) "~~' -33- 554371 A7 B7 五、發明説明（j 片（“ EVASAFE 1 4 5 0 ” ，商標名，其係由 Bridgestone Corporation所製）被垂直及水平地切割以小 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於P D P主體5 mm之尺寸。此薄片被置於p d P主體與 前保護平板的側邊之間，此三者被覆蓋於彼此之上且暫時 •地以一抗熱黏著帶固定於周邊上的八個位置處。此暫時固 定的結合產品被置入且密封於一設有排氣孔之p E T袋中 。袋中之被係由一真空泵減至40To r r ，溫度於一加 熱爐中被升高至8 0 °C以一段1小時之期間，且袋被保持 於1 10 °C下2 0分鐘。接著，當袋被冷卻至80 t時， 則壓力減小被終止，而在袋被冷卻至室溫以後，一結合之 產品（PDP)被取出自PET袋。 如此備製爲一樣本之前保護平板/P D P主體結合的 產品（P D P )係藉由一種張力測試機器而接受下列斷裂 測試。當此範例斷裂時，其應力爲8 . 3 M p a而變形爲 斷裂測試方法 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一壓縮型負載單元被使用，一鋼球（直徑：3 0 m m )被利用以供負載邊緣用，且一橡膠薄片被插入於鋼球與 樣本之間。 上述結合產品樣本被固定至張力測試機器，藉由一夾 制樣本之周邊的木製支撐框。用以施加一負載之鋼球被設 定於樣本之接近中心部分，並以〇 · 5 m m / m i η之架 空速度執行測量。面板斷裂之時刻被判斷自’例如’外觀 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇Χ297公釐） -34- 554371 A7 _ B7 五、發明説明（么 及負載之改變，而該時刻之變形及強度被計算自測量圖表 之結果。 範例2 P D P被備製以如範例1之相同方式，除了其蘇打石 灰玻璃之厚度爲2 · 5 m m ’並執行斷裂測試。應力爲6 •5Mpa而變形爲3mm，當PDP斷裂時。 比較例1 P D P被備製以如範例1之相同方式，除了並未執行 藉由加熱及強力空氣之回火’而執行斷裂測試。應力爲 4 · 2M,pa而變形爲2 · 8mm，當PDP斷裂時。 比較例2 P D P被備製以如範例1之相同斷裂測試被單獨執行 於PDP主體，且應力爲2 · 2Mpa而變形爲2 . 6 mm，當PDP斷裂時。 範例3 一前保護平板（其具有一藉由濺射而形成於其上之膜 )及一其所接合之抗反射膜被獲得以如範例1中之相同方 式，除了其蘇打石灰玻璃平板之厚度爲2 · 5mm。 此前保護平板及一 P D P主體係藉由一黏著劑層而被 接合並結合以下列方法。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---^---；---衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -35- 554371 A7 B7 五、發明説明（4 矽氧烷樹脂溶液（“ S E 1 8 8 5 A ” ，商標名，其 係由 Dow Corning Toray SiliconeCo·, Ltd.所製）之質量的 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 0 0部分以及矽氧烷樹脂之一硬化劑（“ S E 1 8 8 5 B ”，商標名，其係由 Dow Corning Toray SiliconeCo·, Ltd. 所製）之質量的1 0 0部分被混合，且前保護平板之側邊 (其中抗反射膜未被接合）係藉由一條狀塗敷器而被塗敷 以厚度0 · 5mm之上述混合物，接著於10 〇°C退火處 理3 0分鐘以備製一具有一黏著劑層之前保護平板（此黏 著劑層包括一矽氧烷樹脂形成於其上）。 此前保護平板被覆蓋於P D P主體之上以致其包括矽 氧烷樹脂之黏著劑層接觸與P D P主體，接著藉由橡膠滾 輪來施壓以利層壓而獲得前保護平板及P D P主體之一結 合產品。斷裂測試被執行以如範例1之相同的方式，而應 力爲9.8Mpa且變形爲2·6mm，當PDP斷裂時 〇 範例4 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 一前保護平板及一 P D P主體之一結合產品被獲得以 如範例3之相同方式，除了其下列聚氨酯膜黏著劑層被利 用以取代其包括矽氧烷樹脂之黏著劑層。斷裂測試被執行 以如範例1之相同方式，而應力爲9 · 0 M p a且變形爲 2·6mm，當PDP斷裂時。 PML — 3012(商標名，由 Asahi Glass Company, Li mi ted所製之聚醚型多元醇）之質量的6 5部 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -36- 554371 A7 B7 五、發明説明（3)4 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 分、Excenol EL — 1 030 (商標名，由 Asahi Glass Company, Limited所製之聚醚型多元醇）之質量的2 8部 分、Preminol PML — 1 003 (商標名，由 Asahi
Glass Company, Limited所製之聚醚型多元醇）之質量的 1 0 0部分、二異氰酸環己烷之質量的3 0部分、二丁基 鍚dilaurate之質量的〇 · 2部分及抗氧化劑（“IRGANOX 10 10” ，商標名，由Ciba-Geigy所製）之質量的2部 分被混合，接著去除氣體，並澆鑄於一具有厚度1 0 0 //m之聚對苯二甲酸乙烯酯膜上，其係遭受一釋放處理並 反應於8 0°C 2 0分鐘，且接著分離自聚對苯二甲酸乙烯 酯膜以獲得一具有厚度0 . 5 m m之聚氨酯膜。 聚氨酯膜之每一側係藉由一條狀塗敷器而被塗敷以一 丙烯酸型黏著劑（一包括SKDYNE 1 6 0 4 N (商標名 ，由 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.戶斤製）之質 量的150部分以及L — 45 (商標名，由 Soken 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Chemical & Engineering Co.，Ltd.所製）之質量的 2 部分 的混合物），接著乾燥及退火處理於1 0 0 °C 1 0分鐘以 獲得一聚氨酯膜黏著劑層，其具有一壓製於其每一側上之 厚度0 . 0 1 5 m m的丙嫌酸型黏著劑。 範例5 本發明之一種P D P裝置係一具下列程序而備製。 前保護平板夕塒製 一具有藉由濺射而形成於其上之膜的玻璃基底被獲得 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） -37- 554371 A7 ____B7__ 五、發明説明（4 以如範例1之相同方式，除了其蘇打石灰玻璃平板之厚度 爲 2 · 5 m m 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著’一近紅外線射線遮蔽膜被接合至其藉由濺射而 形成一膜的側邊，藉由一種滾動壓製機器。作爲進一步遮 蔽膜，可利用下列之一方法製造。 首先，一供光學使用之聚酯樹脂（“ 0 - P E T ” ， 商標名，由Kanebo，Ltd所製）被溶解於cyclopentanone 中以致其樹脂濃度將爲1 〇 %以備製近紅外線射線遮蔽膜 之一主成分溶液。對於1 〇 〇 g之主成分溶液，則溶解鎳 、5 · 6 m g 之 b i s -1，2 - d i p h e n y 卜 1，2 - e t h e n e d i t h i ο I a t e ( “Μ I R 1 〇 1 ” ，商標名，由 Midori KagakuCo·，Ltd·所 製）、phthalocyanine 型著色劑（“Excolor8 0 1K” ， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 商標名，由 NIPPON KAYAKU CO·，LTD·所製）、2 2 · 4 m g之diimmonium型著色劑（“ I R G 0 2 2 ” ，商標名 ，由 NIPPON KAYAKU CO., LTD ·所製）及 〇 · 4 m g 之 anthraquinone 型著色劑（著色劑 A ，由 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg· Co.，Ltd·所製），而一具有厚度 1 5 0 //m之聚對苯二甲酸乙烯酯膜（由Toy obo Co., Ltd. 所製）係藉由凹版印刷而被塗敷以所得之溶液而獲得一近 紅外線射線遮蔽膜。包含聚對苯二甲酸乙烯酯膜爲基底之 近紅外線射線遮蔽膜的厚度爲1 5 3 // m。 接著，藉由一滾動壓製機器以將一抗反射膜（“ ARCTOP URP2179” ，商標名，由 Asahi Glass Company, Li m i ted所製）接合至近紅外線射線遮蔽膜，以 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -38- 554371 A7 ____B7_ 五、發明説明（▲ 一雷射切割器切割A g膏上之近紅外線射線遮蔽膜及抗反 射膜並將其分離以形成一電極，而獲得一前保護平板。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) P D P主體及前保護平板夕結合 如上述所備製之前保護平板以及一 P D P主體被結合 以如範例1之相同方式。斷裂測試被執行以如範例1之相 同方法，而應力爲6 . 8Mp a且變形爲3mm，當 PDP主體斷裂時。 參考範例1 範例5中所使用之近紅外線射線遮蔽膜接受藉由下列 方法之一熱惡化抵抗測試。 即，測量關於近紅外線射線遮蔽膜之光學性質，在加 熱前、在4 0 °C加熱1 〇 〇 〇小時後及在8 0 °C加熱1 ， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0 0 0小時後。使用一種電爐當作一加熱機構，其光學性 質係藉由以一分光光度計（UV3 1 0 0，由Shimadzu Corporation所製）測量照亮平均透射比（單位：％ )、傳 輸色調及近紅外線射線透射比（單位：％ )而評估。其結 果被顯示於下列中。於表2中，照亮平均透射比係可見光 (波長：3 8 0至7 8 0 n m )之照亮平均透射比，且係 藉由使其藉分光光度計所得之光譜分佈接受幾何平均（藉 由光譜照亮效率）而獲得。傳輸色調係藉由以C I E (照 度國際委員會）之彩色圖上的座標（X座標及y座標）値 來表示光譜分佈而獲得。近紅外線射線透射比係由8 5 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -39 - 554371 B7 五、發明説明（; n m之波長的透射比及9 0 0 n m之波長的透射比所表示 表2 加熱條件 照亮平均透射 傳輸色調 近紅外線射線透射比 比（％) X y 850 nm 900 nm 初始値 72.5 0.314 0.322 12.60 8.72 40°C, 1,〇〇〇 小時 72.5 0.315 0.324 13.56 9.51 80°C，1,〇〇〇 小時 73.2 0.318 0.331 16.32 12.61 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 從表2所示之結果可確認其關於範例5中所使用之近 紅外線射線遮蔽膜，所有的照亮平均透射比、傳輸色調及 近紅外線射線透射比均由於加熱以8 0 °C 1 ，0 0 0小時 而顯著地惡化，相較與加熱前之初始狀態。例如，關於近 紅外線射線遮蔽過濾器之性質，通常需要最多1 5 %之 8 5 0 nm波長的透射比及最多1 0%之9 0 0 nm波長 的透射比，然而，在加熱於8 0 °C 1 ，0 0 0小時以後， 則近紅外線射線遮蔽效果惡化以致其上述條件將無法滿足 〇 然而，在加熱於4 0 °C 1 ，0 0 0小時以後，近紅外 線射線透射比之惡化較小，且照亮透射比及傳輸色調未顯 著地惡化。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210X297公釐） -40- 554371 A7 ________B7_ 五、發明説明（& 測試範例1 使用如範例5之相同方法所備製的前保護平板/ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) P D P主體結合產品（p D P )爲一樣本，執行共 1，0 0 0小時之照射並執行熱惡化抗性測試。執行光學 性質之測量以如參考範例1中所相同方式。然而，爲了使 前保護平板被取出自P D P主體以測量光學性質（在完成 照射之後），則前保護平板及P D P主體係藉由一黏著劑 而被暫時地接合，其係不同於範例5。 再者，爲了檢視照射前之初始値，光學性質被測量以 如參考範例1之相同方式，針對其接合至P D P主體前之 前保護平板。 其結果係顯示於表3 比較範例3 一前保護平板係以如範例5之相同方式備製，除了其 近紅外線射線遮蔽膜係設於玻璃透明基底之P D P主體側 上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 亦即，以如範例5之相同方式，一 A g膏被形成於一 強化玻璃上，並於其上形成一多層膜，其包括A 1 -ZnO (40nm)/l . 〇Pd-Ag (lOnm)/ 3A1— Zn〇（80nm)/l . OPd - Ag (12 nm)/3Al—Zn〇（8〇nm)/l.〇Pd-Ag (l〇nm)/3Al-Zn〇（4〇nm)。 接著，於其中藉由濺射而形成一膜之側上，一抗反射 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -41 - 554371 A7 B7 五、發明説明（▲ 層（“ARCTOP URP2179” ，商標名，由 Asahi Glass Company, Limited所製）係藉由一滾動壓製機而被 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接合，且接著A g膏上之抗反射層係以一雷射切割器切割 並被分離而形成一電極。 另一方面，於玻璃平板之側上（其係相反於其中藉由 濺射而形成一膜之側），如範例5之相同的近紅外線射線 遮蔽膜係藉由滾動壓製機而被接合以獲得一前保護平板。
比較測試範例1 I 比較範例3中所備製之前保護平板及一 P D P主體係 藉由一黏著劑而被暫時地固定，且所得之結合產品（ P D P )係接受總共1 ，〇 〇 〇小時之照射，並執行熱惡 化抗性測試。光學性質之測量係以如參考範例1之相同方 式被執行。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，爲了檢視照射前之初始値，其光學性質被測量 以如參考範例1之相同方式，其亦針對接合至p D P主體 前之前保護平板，亦即，比較範例3中所備製之前保護平 板。 其結果係顯示於下列表3中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -42- 554371 A7 B7 五、發明説明（义 表3 加熱條件 照亮平均透射 比（％) 傳輸色調 X y 近紅外線射線透射比 850 nm 900 nm 測試範例1 (初始値） 50.5 0.298 0.302 8.30 5.70 在照射1,000 50.8 0.300 0.305 8.60 6.40 小時後 比較測試範 (初始値） 50.5 0.298 0.302 8.30 5.70 例1 在照射1,000 51.6 0.304 0.312 10.60 7.80 小時後 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 從表3中所示之結果可證明，於比較測試範例1中， 照亮平均透射比在照射1 ，0 0 0小時後增加1 . 1 %， 而關於近紅外線射線透射比，則8 5 0 n m之波長以及 9 0 0 n m之波長的透射比係增加2 . 3 %及2 . 1 %， 而於測試範例1中，照亮平均透射比之增加僅爲0 . 3 % 而波長8 5 0 n m及9 0 0 n m之透射比的增加僅個別爲 0 . 3 %及0 · 7 %。此外，關於傳輸色調，於比較測試 範例1中，X値及y値個別增加0 · 0 0 6及0 · 0 1 0 (在照射1 ，0 0 0小時後），而於測試範例1中，X値 及y値僅個別增加0 · 0 0 2及0 · 0 0 3。因此，可確 認其光學性質之惡化被抑制於測試範例1中。 本紙張又度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -43- 554371 A7 B7 五、發明説明（d (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如上所解釋，依據本發明，藉由利用此一結構，即其 一透明基底及一構成扁平顯示器面板之觀看者側表面的玻 璃平板係藉由一黏著劑層而被接合，則介面上之反射可顯 著地被減小，且由於一外物之反射而生的雙重影像可被減 至最小，相較與一其中一保護平板係以一空氣縫隙而被配 置於扁平顯示器面板主體之表面側上的情況。 此外，於其中存在一含有近紅外線射線吸收劑之近紅 外線射線遮蔽層的情況下，可獲得一具有近紅外線射線遮 蔽效果之良好穩定性以及高度可靠性的扁平顯示器面板， 即使當扁平顯示器面板主體之表面溫度增加時。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，當一前保護平板（其具有於2 3 °C之彎曲下至 少2，0 0 0 M p a之彈性模數的一透明基底，諸如一強 化玻璃、一半強化玻璃或者一高度堅硬的塑膠）被一致地 接合至一扁平顯示器面板主體之觀看者側表面時，以及一 構成扁平顯示器面板主體之表面的玻璃平板與透明基底係 藉由一黏著劑層而被接合時，則從觀看者之側所施加的一 外力可由透明基底及扁平顯示器面板主體之玻璃平板所支 撐，且一極高的硬度被加入扁平顯示器面板之觀看者側， 因而可提供一不易斷裂之扁平顯示器面板。 日本專利申請案編號2001-221794 (申請 日爲2 0 0 1年七月2 3日）及日本專利申請案編號 2001 — 245176 (申請日爲2001年八月13 曰），其包含說明書、申請專利範圍、圖形及槪述，被倂 入於此以利參考其整體性。 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS)A4規格（210X 297公釐） -44-