TW538321B - Device for exposure of peripheral area of thin film circuit board - Google Patents

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經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 538321 Α7 Β7 五、發明説明（1 ) 【發明所屬技術領域】 本發明係關於將塗抹於T A B磁帶等之薄膜電路基板 周邊部之無用抗蝕劑予以曝光之周邊曝光裝置。 【習知技術】 液晶基板，攜帶電話，攝影機，桌上型電子計算機， I C卡等、乃使用在厚度25//m〜125//m左右之聚 酯薄膜或聚亞胺薄膜等上、安裝積體電路之薄膜電路基板 〇 圖5 (a )爲顯示薄膜電路基板之一之TAB磁帶一 部分。TAB磁帶TP爲例如幅度3 5〜7 Omm，長度 數百m之帶狀工作物，卻通常被捲繞於捲盤。 T A B磁帶T P上之電路製造、則在上述絕緣性薄膜 上粘貼導電體（例如銅箔）、藉反覆抗蝕劑塗敷工程，轉 印所盼電路圖案之曝光工程、抗蝕劑之顯像工程、除去無 用導電體之腐蝕工程等予以進行。在各工程、薄膜電路基 板即自捲盤被予以捲出，經過處理.加工、再被予以捲取 〇 T A B磁帶T P (以下有時稱爲磁帶）係在其兩側以 等間隔（例如4 · 7 5 m m間距）設有被稱爲孔眼P Η ( 有時稱爲鏈輪孔）之孔洞。該孔眼Ρ Η被使用於上述各工 程之磁帶Τ Ρ定位或搬運。例如，將具卡扣於孔眼ρ Η之 凸起之滾輪予以轉動以搬送磁帶Τ Ρ、或在曝光處理時， 將裝置所定位置裝設之插銷穿入於孔眼Ρ Η而進行磁帶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210'〆297公釐) 4 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

538321 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（2 ) T P之定位。 如上述、在腐蝕工程予以除去不需要之導電體（以下 有時稱爲銅箔Cu) °導電體之除去不完成時、有時即發 生絕緣不良成爲製品不佳。又、外觀上亦不揚。 圖5 (b )爲顯示TAB磁帶TP之銅箔Cu上塗敷 抗鈾劑R之狀態。該圖亦爲圖5 ( a )之剖面顯示圖。 如上述、銅箔C u乃被粘貼於絕緣薄膜上。銅箔之邊 緣（以下有時稱爲周邊部）由於表面張力致塗敷之抗蝕劑 R隆起，厚度變爲比其他部分厚。 通常、電路圖案係避開銅箔C u周邊部加以形成。形 成電路圖案之領域在圖5 ( a )即以圖案形成領域表示。 通常，銅箔C u周邊部由腐蝕工程予以除去。 惟、如上述銅箔周邊部之抗蝕劑R較厚、致爲完成曝 光，其曝光量需比其他部分（圖案形成領域）爲多。僅一 次曝光（圖案形成時之曝光）卻曝光量不足。於是，顯像 時周邊部會殘留未曝光之抗蝕劑、在腐鈾工程無法完全除 去銅范。 因此、有僅對銅箔周邊部進行曝光之周邊曝光方法之 提案。以下，就本案申請人先前提案之周邊曝光裝置（特 願2 0 0 0 — 1 8 7 6 4 6號）加以說明。 在圖6 ，圖7顯示上述周邊曝光裝置。圖6爲將周邊 曝光裝置由直交於薄膜電路基板搬運方向之方向予以觀看 之圖、圖7爲由薄膜電路基板搬運方向予以觀看之圖。 周邊曝光裝置係在薄膜電路基板（以下稱爲T A B磁 本紙張尺度適用中國國家標奉（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

538321 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（3 ) 帶）顯像裝置上游側（顯像前階段）、沿每一磁帶兩側被 設兩台、T A B磁帶T P卻對應顯像速度以1 . 0〜 3 · Om/分被連續搬運。且在該搬運中、進行銅箔周邊 部之抗鈾劑曝洸。 在圖6 ，圖7、TAB磁帶TP即如圖6所示、由搬 運滾輪R 1 ， R 2沿如同圖箭頭方向予以搬運於載台3上 〇 曝光T A B磁帶T P上抗蝕劑之曝露光（紫外光）則 自具燈泡1 a及聚光鏡1 b之光源部1、由石英光導向構 件1 c介未圖示之掩模予以導至投影透鏡單元2 。投影透 鏡單元2乃將由上述掩模遮住一部分之曝露光予以聚光於 載台3上之T A B磁帶T P之銅箔周邊部。即，曝露光照 射領域由上述掩模加以形成、並藉投影透鏡單元2予以投 影於T A B磁滯T P上。 T A B磁帶T P上所粘貼銅箔之邊緣卻由發光部4 a 及聚光部4 b所構成之光感測器4加以檢測。自發光部 4 a發射之感測光係介上述銅箔之邊緣部分及載台3所設 之缺口部分由聚光部4 b予以聚光。 光感測器4則可使用例如半導體雷射之平行光線性感 測器。自平行光線性感測器之發光部4 a照射之感測光（ 曝露光）爲直進性良好之雷射光、對平面物體予以垂直投 影時，光之形狀卻呈薄長方形。聚光部4 b乃能將自發光 部4 a發射之光在所定距離予以全部聚光、且可檢測聚光 量之變化。 本^張尺度適用中國國家標参（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·

、1T 線 538321 A7 B7 五、發明説明（4 ) 光感測器4之發光部4 a及聚光部4 b係被設置於光 感測器裝設構件6、光感測器裝設構件6被配設於滑動台 5 。滑動台5卻由驅動馬達7予以驅動於圖7之箭頭方向 (TAB磁帶TP搬運方向之直交方向）。而滑動台5則 裝設有上述投影透鏡單元2、致以驅動馬達7促使滑動台 5移動於圖7之箭頭方向時、投影透鏡單元2及光感測器 4隨之亦同向移動。 圖7所示控制部8乃被輸入對應於光感測器4之聚光 部4 b聚光量之大小之信號。即，控制部8驅動該驅動馬 達7俾使光感測器4移動、且將上述聚光量經常保持於一 定地令滑動台5移動。由於滑動台5裝設有包括投影透鏡 單元2之可放射周邊曝露光之放射部（含有投影透鏡）、 致隨滑動台5之移動、上述放射部所放射曝露光之照射領 域位置亦變動。即，光感測器4促使聚光量經常保持於一 定地移動、而曝露光照射領域對應感測器之移動方向，移 動量、僅以同方向，同量移動於與TAB磁帶T P搬運方 向呈直交之方向。 【發明欲解決之課題】 上述T A B磁帶等薄膜電路基板係在有機化合物之薄 膜粘貼銅箔予以構成。銅箔之粘貼由於施加熱或壓力所進 行、故因銅箔與薄膜之熱膨脹係數之不同等、致粘貼後、 如圖8所示磁帶幅度方向有時會發生彎翹。 又、如爲具孔眼之T A B磁帶、則在前工程將鏈滾輪 本紙張尺度適用中國國家標參（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538321 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（5 ) 卡扣於孔眼以搬運T A B磁帶時、由於形成有孔眼之磁帶 周邊部有時伸張變形致產生皺紋。 如圖8所示，磁帶周邊部有彎翹或有皺紋、且進行該 周邊部之抗蝕劑曝光時、進行曝光之磁帶周邊部位置可會巨 自周邊曝光裝置之投影透鏡之曝露光焦點位置沿所照射曝 露光之光軸方向錯移。 因此，投影於磁帶周邊部之掩模邊緣像會模糊、而減 低曝光之精確度。 爲防止之、雖矯正薄膜電路基板之平面即可、惟乃需 解決下述條件。 (1 ) 在周邊曝光中、矯正曝露光照射之其真正領 域。 無論如何矯正照射領域近邊、關鍵之曝光部份平面度 亦難轉好。因此、推押手段非能使曝露光能透過不可。 (2 ) 需將T A B磁帶以習知原來之所定速度予以 搬運、並能進行彎翹或皺紋。 周邊曝光裝置係被裝設於以所定速度搬運磁帶而進行 顯像之顯像機。致爲推押磁帶而暫停磁帶搬運或延緩搬運 速度時、非變更顯像之諸條件不可。且生產率亦會下降。 本發明即爲解決上述問題所開發者、乃以提供一種在 薄膜電路基板之周邊曝光裝置、雖薄膜周邊部有彎翹或有 皺紋、亦能予以滿足上述（1 ) ( 2 )條件、且以良好精 確度進行薄膜周邊部之曝光爲目的。 本紙張尺度適用中國國家標举（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

538321 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（6 ) 【課題解決之手段】 本發明則如下述進行解決上述課題。 係在具有將發光部發出之感測光由聚光部加以聚光之 光感測器所構成邊緣檢測手段、與藉該邊緣檢測手段之輸 出、促使上述曝露光照射領域及上述薄膜電路基板相對性 移動、並控制曝露光照射於上述薄膜電路基板周邊部之控 制手段之薄膜電路基板的周邊曝光裝置、將氣體，例如空 氣吹向薄膜電路基板之進行周邊曝光之領域、而予以推押 於薄膜電路基板背面側所設平面度良好之載台。該薄膜電 路基板由於被氣體推押於上述載台進行搬運、致在搬運中 、該載台能避免薄膜電路基板背面受擦傷以進行平面度良 好之加工。 又、爲上述邊緣檢測手段之聚光感測器可聚集發光感 測器之感測光、乃將被推押薄膜之上述載台由可透過或反 射感測光之材料予以構成。 如上述，本發明係以氣體吹押薄膜電路基板、致能在 薄膜電路基板搬運中不遮住曝露光、予以矯正曝露光照射 領域之薄膜電潞基板之彎翹及皺紋。 且，由於推押動作可避免薄膜電路基板表面產生擦傷 、又，如將載台表面予以加工呈良好之平面度、則亦可防 止磁帶背面受傷。 【發明之實施形態】 圖1 ，圖2爲顯示本發明實施例之周邊曝光裝置構成 本紙張尺度適用中國國家標準* (CNS ) A4規格（210'〆297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 538321 A7 B7 五、發明説明（7 ) 。其中，圖1爲將周邊曝光裝置由直交於薄膜電路基板搬 運方向之方向予以觀看之圖、圖2 ( a )爲由薄膜電路基 板搬運方向予以觀看之圖、且對與上述圖6 ，圖7所示相 同構件即予以附上相同符號。又、以下說明雖就薄膜電路 基板以使用T A B磁帶之情形加以說明、然，本發明亦可 同樣適用於未具有孔眼之薄膜電路基板。 在圖1 ，圖2、爲曝光TAB磁帶TP上之抗蝕劑所 需之曝露光係自具燈泡1 a ，聚光鏡1 b之光源部1、由 石英光導向構件1 c如上述介未圖示之掩模予以導至投影 透鏡單元2。該投影透鏡單元2乃將由上述掩模遮住一部 分之曝露光予以聚光於載台3上之TAB磁帶T P之銅箔 周邊部。 T A B磁帶T P上所粘貼之銅箔邊緣、卻藉由發光部 4 a及聚光部4 b所構成光感測器4予以檢測。 載台3之被發光部4 a之感測光予以照射之部分、則 如圖3所示設有石英板3 a。感測光即投射於石英板3 a 之T A B磁帶T P (以虛線顯不於同圖）上、介T A B石啟 帶TP周邊部及該石英板3 a由載台3底側之聚光部4 b 予以聚光。又、替代上述石英板3 a、亦可使用如丙烯基 等由曝露光無法劣化之其他透明構件。 光感測器4乃如上述可使用例如半導體雷射之平行光 線性感測器。 回至圖1 ，圖2所示、光感測器4之發光部4 a及聚 光部4 b係被設於光感測器裝設構件6、光感測器裝設構 ---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

538321 A7 B7 五、發明説明（8 ) 件6被配設於滑動台5。滑動台5卻由驅動馬達7予以驅 動於圖2 (a )之箭頭方向（TAB磁帶TP搬運方向之 直交方向）。 而滑動台5則裝設有上述投影透鏡單元2、致以驅動 馬達7促使滑動台5移動於圖2之箭頭方向時、對應之， 投影透鏡單元2及光感測器4亦隨之同向移動。 圖2 ( a )所示控制部8乃被輸入對應於光感測器4 之聚光部4 b所聚光之聚光量大小之信號。控制部8即驅 動該驅動馬達7俾使光感測器4移動、且將上述聚光量經 常保持一定地令滑動台5移動。由於滑動台5裝設有包括 投影透鏡單元2之可放射周邊曝露光之放射部（含投影透 鏡）、致隨滑動台5之移動、上述放射部所放射曝露光之 照射領域位置會變動。即，光感測器4促使聚光量經常保 持於一定地移動、而曝露光放射部，即曝露光照射領域對 應感測器之移動方向移動量、僅以同方向同量移動於與 T A B磁帶丁 P搬運方向呈直交之方向。 上述投影透鏡單元2係介裝設構件9 a設有噴嘴9、 將例如2 0 0 k P a〜3 0 0 k P a之空氣供給該噴嘴9 、對TAB磁帶TP之進行周邊曝光之領域、自磁帶TP 內側向外側予以噴吹空氣。 噴嘴9之空氣噴吹口 9 b卻如圖2 ( b )所示、爲符 合周邊曝露光之照射領域之形狀、而呈沿T A B磁帶T P 搬運方向較長，沿其直交方向較窄之裂縫狀開口。藉由該 噴吹口 9 b自T A B磁帶T P內側向外側以斜向予以噴吹 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210'〆297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538321 A7 B7 五、發明説明（9 ) 空氣、自該噴吹口 9 b噴吹之空氣即擴展到周邊曝露光之 照射領域、發生彎翹及皺紋之T A B磁帶Τ P周邊部乃被 空氣壓力予以雅押於載台3表面。 載台3之感測光透過附近如上述設有石英板3 a、且 如將該石英板3 a及其近旁之載台3表面予以加工呈具良 好平面度、則T A B磁帶Τ P周邊部雖有灣翹或有皺紋、 該丁 A B磁帶Τ P周邊部亦仿照載台3表面呈平面。 因此、只要將載台3表面與曝露光焦點位置予以對正 、掩模之邊緣像即不致模糊、可進行精確度良好之曝光。 在本實施例、由於T A B磁帶Τ P之彎翹及皺紋之矯 正手段爲氣體（空氣）、故不會遮住曝露光、可予以噴吹 丁 A B磁帶Τ P之曝露光照射部位、促使T A B磁帶Τ P 周邊部確實一致於曝露光之焦點位置。 又、能在矯正彎翹及皺紋同時、進行搬運T A B磁帶 TP。且，藉推押致TAB磁帶TP表面亦不會擦傷、只 要將受推押之載台3表面加工呈良好平面度、則亦可防止 磁帶T P背面受傷。 上述周邊曝光裝置、由於將TAB磁帶TP粘貼之銅 箔邊緣藉設於載台3上側之發光部4 a與設於載台3下側 之聚光部4 b所成之光感測器加以檢測、致如圖3所示， 載台之感測光照射部分材質需由玻璃或丙烯基等之感測光 透過性構件充當之。 其次、說明替代設成感測光透過性構件、在載台3之 聚集感測光部分使用鏡子之實施例。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X297公釐） I---------裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538321 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（10) 圖4爲在感測光照射部分使用鏡子之本發明第二實施 例顯示圖。該圖爲將周邊曝光裝置自直交於薄膜電路基板 搬運方向之方向加以觀看之圖、其中與圖1 ，圖2所示構 件相同者即附上相同符號。 本實施例之周邊曝光裝置之構成及動作雖與上述圖1 ，圖2相同、但，本實施例卻在感測光照射部分使用鏡子 同時、尙將邊緣檢測感測器之聚光部4 b配置於載台3之 上側。 在圖4、TAB磁帶TP上粘貼之銅箔邊緣乃由設於 載台3上側之發光部4 a ’與聚光部4 b ’所構成光感測 器4予以檢出之。 載台3之發光部4 a ’發射之感測光照射部分係設有 鏡子3 b、自發光部4 a ’之感測光即被投射於上述鏡子 3 b部分之T AB磁帶TP上、並在鏡子3b，TAB磁 帶TP表面反射、由聚光部4b’加以聚光。由在TAB 磁帶TP表面與在鏡子3 b面之反射率不同、故可利用此 種反射率之不同、與上述第一實施例一樣、檢出T A B磁 帶T P之銅箔邊緣。 如同第一實施例、光感測器4之發光部4 a與聚光部 4 b則被設置於滑動台（未圖示）、滑動台及投影透鏡單 元2卻由驅動馬達加以驅動。且，如上述、對應光感測器 4之聚光部4 b所聚集聚光量多寡之信號被輸入於控制部 (未圖示）、該控制部即保持聚光量經常呈一定地促使滑 動台及投影透鏡單元2移動。藉此、可變移曝露光照射領 本紙張尺度適用中國國家標參（CNS) A4規格（210X297公釐） _ 13_ ' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

538321 A7 B7 五、發明説明（彳巧） 域之位置、將紫外光聚集於T A B磁帶T P之銅箔周邊部 、以進行曝光周邊部。 上述投影透鏡單元2係如上述設有噴嘴9、且將該噴 嘴9之空氣噴吹於T A B磁帶T P之在進行周邊曝光領域 、以空氣壓力予以推押於載台3表面。藉此、如同第一實 施例、雖T A B磁帶T P周邊部有彎翹或有皺紋、亦能促 使丁 A B磁帶T P周邊部呈平面。 又、上述實施例、雖使投影透鏡單元2移動以相對性 移動曝露光之照射領域與上述薄膜電路基板、惟促使掩模 移動亦可。此時、如上述特願2 0 0 0 — 1 8 7 6 4 6號 所示、卻需將掩模移動方向與光感測器4移動方向設成互 相呈反向。且，使載台3移動促使曝露光之照射領域與上 述薄膜電路基板相對性移動亦可。 【發明之效果】 如上所作說明、在本發明可獲得如下效果。 (1 ) 進行周邊曝光位置不致與曝露光焦點位置（ 曝光周邊部之曝露光光軸方向）錯移。故由於掩模之邊緣 像不致模糊投影於薄膜周邊部、而可進行精確度良好之曝 光。 (2 ) 可在矯正彎翹及皺紋同時、進行搬運薄膜電 路基板。且不需變更習知之薄膜搬運速度、予以進行周邊 曝光、故不必改變顯像機之顯像條件。又、亦能防止生產 率之下降。 本紙張尺度適用中國國家標參（CNS ) A4規格（210X297公釐） —--------涛-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 538321 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（12 ) (3 ) 載台之被推押薄膜電路基板部分係由感測光 可透過或可反射之構件加以構成、故藉由光感測器所構成 邊緣檢測手段能檢出在進行周邊曝光部分之銅箔邊緣。因 此，可仿照該鏝緣進行精確度良好之周邊曝光。 【圖示之簡單說明】 圖1爲本發明第一實施例之周邊曝光裝置構成顯示圖 (1 ) ° 圖2爲本發明第一實施例之周邊曝光裝置構成顯示圖 (2 )。 圖3爲本潑明第一實施例之載台所設石英板顯示圖。 圖4爲本發明第二實施例之周邊曝光裝置構成顯示圖 〇 圖5爲在薄膜電路基板之一之ΤΑ B磁帶一部分及銅 箔上塗敷抗蝕劑之狀態顯示圖。 圖6爲習知周邊曝光裝置之構成顯示圖（1) ° 圖7爲習知周邊曝光裝置之構成顯示圖（2)。 圖8爲丁 A B磁帶周邊部發生彎翹之狀態顯示圖。 【符號說明】 1 光源部 la 燈泡 lb 聚光鏡 1c 石英光導向構件 ---- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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五、發明説明（ 2 3 3 a 3 b 4 4 a 4 b 5 6 7 8 9 9 a 9 b TP 13 4a’ 4b’ 投影透鏡單元 載台 石英板 鏡子 光感測器 發光部 聚光部 滑動台 光感測器裝設構件 驅動馬達 控制部 噴嘴 噴嘴裝設構件 噴吹口 T A B磁帶 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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Claims (1)

1. A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1，一種薄膜電路基板的周邊曝光裝置、係將薄膜電 路基板搬運於所定方向同時、藉對該薄膜電路基板周邊部 之抗蝕劑予以照射光照射手段之曝露光、而曝光上述周邊 部之抗蝕劑、其特徵則在設有： 將發光部發出之感測光由聚光部加以聚光之光感測器 所構成邊緣檢測手段、與 藉該邊緣檢測手段之輸出、促使上述曝露光照射領域 及上述薄膜電路基板相對性移動、並控制曝露光照射於上 述薄膜電路基板周邊部之控制手段、與 在上述光照射手段對上述周邊部進行照射曝露光時、 將氣體噴吹於曝露光所照射上述周邊部之氣體噴出手段、 以及 位於被噴吹氣體之上述周邊部背面側、可使上述感測 光透過或予以反射之載台。 裝 訂 絲 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局3工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210x297公釐） -17 -