KR100671768B1 - 띠 형상 워크의 노광 장치 및 마스크와 워크 스테이지의평행 설정 방법 - Google Patents

Abstract

주변부에 휘어짐이나 웨이빙이 발생한 띠 형상 워크가 워크 스테이지 상에 존재하여도, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 할 수 있는 띠 형상 워크의 노광 장치와, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법을 제공하는 것이다.

띠 형상의 워크를 순차 반송하여 노광하는 띠 형상 워크의 노광 장치에서, 띠 형상 워크를 유지하는 워크 스테이지와, 마스크에 대하여 워크 스테이지의 경사를 평행하게 설정하는 간격 설정 기구와, 마스크와 워크 스테이지의 간격을 설장하는 스페이서와, 이 스페이서를 마스크와 워크 스테이지 사이에 삽입 퇴피시키는 기구를 설치한다. 마스크와 워크 스테이지 간에, 서로 높이가 같은 다수의 스페이서를 삽입하고, 마스크와 워크 스테이지의 워크를 유지하지 않는 부분을 스페이서를 통해 접촉시켜, 양자의 간격이 일정하게 되도록 마스크의 경사에 대하여 워크 스테이지의 경사를 맞춰 고정한다. 그 후, 상기 스페이서를 퇴피시킨다.

Description

띠 형상 워크의 노광 장치 및 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법{EXPOSURE APPARATUS OF BAND-SHAPED WORK AND PARALLEL SETTING METHOD OF MASK AND WORK STAGE}

도 1은 본 발명의 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다.

도 2는 본 발명의 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치의 캘리브레이터의 구성을 도시하는 도면이다.

도 3은 본 발명의 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치의 워크 스테이지를 상면으로부터 본 도면이다.

도 4는 본 발명의 실시예의 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정의 순서를 설명하는 도 (1)이다.

도 5는 본 발명의 실시예의 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정의 순서를 설명하는 도 (2)이다.

도 6은 도 4(b)의 마스크와 워크 스테이지의 부분을 띠 형상 워크의 반송 방향에 대하여 직각 방향으로부터 본 도면이다.

도 7은 본 발명의 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치에 워크 스테이지와 마스크의 간격을 측정할 수 있는 갭 센서를 장착시킨 구성을 도시하는 도면이다.

도 8은 종래의 띠 형상 워크의 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다.

도 9는 종래의 마스크와 워크 스테이지의 노광 순서를 설명하는 도면이다.

도 10은 띠 형상 워크의 주변부에 휘어짐이나 웨이빙이 발생하는 상태를 도시하는 도면이다.

도 11은 띠 형상 워크의 주변부에 발생하는 웨이빙의 부분이 마스크와 워크 스테이지에 끼어 있는 상태를 도시하는 도면이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1: 송출 릴 2 : 권취 릴

3: 광 조사부 31 : 램프

32: 집광 거울 4 : 마스크 스테이지

5: 워크 스테이지 6 : 롤러

7: 간격 설정 기구 8 : XYθ스테이지

9: Z 스테이지 10 : 캘리브레이터

11: 스페이서 12 : 에어 실린더

13: 유지 부재 20 : 제어부

21: 캘리브레이터 구동 기구 40 : 갭 센서

41: 반사부재 M : 마스크

W: 띠 형상 워크 C : 동박

F: 수지 필름 BP : 베이스 플레이트

본 발명은 워크 스테이지 상의 장척의 필름 회로 기판에 마스크를 통해 광을 조사하여 마스크에 형성되어 있는 회로 등의 패턴을 노광하는 띠 형상 워크의 노광 장치와, 이 노광 장치에서 마스크와 워크 스테이지를 평행하게 설정하는 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법에 관한 것이다.

액정 등의 디스플레이 패널, 휴대 전화, 디지털 카메라, IC 카드 등에서는, 두께 25㎛∼125㎛ 정도의 폴리에스테르나 폴리이미드 등의 수지 필름 상에 집적 회로를 실장한 필름 회로 기판이 사용되고 있다.

필름 회로 기판은 그 제조 공정에서, 예컨대 폭 250mm, 두께 1OO㎛, 길이 수백 m의 띠 형상의 워크이고, 통상적으로 릴에 감겨 있다.

필름 회로 기판의 제조는 상기의 수지 필름 상에 도전체(예컨대 동박)가 부착되어, 이 도전체에 레지스트를 도포하는 공정, 소망의 회로 패턴을 레지스트에 전사(轉寫)하는 노광 공정, 레지스트의 현상 공정, 불필요한 도전체를 제거하는 에칭 공정 등을 반복함으로써 행해진다. 각 공정에서는 필름 회로 기판은 릴로부터 인출하고, 처리 가공되며, 다시 릴에 권취된다.

또한, 상기 제조 공정에서는 레지스트 대신에 드라이 필름이 사용되는 경우도 있다.

도 8은 띠 형상의 필름 회로 기판(이하 띠 형상 워크(W)라고 한다)을 노광하는, 종래의 띠 형상 워크의 노광 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다.

도 8에서, 1은 노광 전의 띠 형상 워크(W)가 롤 형상으로 감겨진 송출 릴, 2는 노광 후의 띠 형상 워크(W)를 권취하는 권취 릴, 6은 띠 형상 워크(W)를 반송하는 롤러, 5는 워크 스테이지이고, 워크 스테이지(5)는 도시 생략한 진공 흡착 기구를 구비하고 있으며, 띠 형상 워크(W)를 상기 진공 흡착 기구로 흡착 유지한다.

3은 노광 광을 조사하는 광 조사부이고, 내부에 광원인 램프(31) 및 집광 거울(32) 등의 광학 소자를 구비하고 있다. 4는 마스크 스테이지이고, 마스크 스테이지(4)에는 회로 등의 패턴(이하 마스크 패턴이라고 한다)이 형성된 마스크(M)가 장착되어 있다.

띠 형상 워크(W)는 롤러(6)에 의해 송출된 릴(1)로부터 소정 양씩 인출되어, 워크 스테이지(5) 상에 반송되고, 소정의 패턴 영역마다 노광된 후에 권취 릴(2)에 권취된다.

7은 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)를 소정 간격으로 평행 상태로 설정하기 위해 설치된 간격 설정 기구이다. 간격 설정 기구는 워크 스테이지(5)의 하부에 설치되고, 후술하는 Z 스테이지(9)에 의해 워크 스테이지(5)를 마스크(M)에 가압했을 때, 띠 형상 워크(W)와 마스크(M)가 전체 면에서 밀착하여 워크 스테이지(5)의 경사가 마스크(M)의 경사에 일치하도록 높이가 변위하고, 그 변위한 위치를 유지하는 기구이며, 예컨대 특허 문헌 1에 나타낸 간격 설정 기구를 사용할 수 있다. 8은 XYθ스테이지이고, 도시하지 않은 구동 기구에 의해 구동되며, 워크 스테이지(5)를 XYθ방향(X는 도 8의 좌우 방향, Y는 도 8의 전후 방향, θ는 워크 스테이지면에 수직인 축을 중심으로 한 회전)으로 이동시킨다. 9는 Z 스테이지이고, 도시하지 않은 구동 기구에 의해 구동되어 워크 스테이지(5)를 Z 방향(Z는 도 8의 상하 방향)으로 이동시킨다.

(특허 문헌1)

일본국 특허 제2889126호 공보

도 9는 상기 띠 형상 워크의 노광 장치에서의 노광 순서를 도시하는 도면이고, 도 8, 도 9에 의해 띠 형상 워크(W)로의 노광 순서를 설명한다.

(1) 레지스트가 도포 또는 드라이 필름이 부착된 띠 형상 워크(W)를 송출 릴(1)로부터 인출하여 반송하고, 띠 형상 워크(W) 상의 소정의 노광 영역을 워크 스테이지(5)의 소정 위치에 위치 결정한다(도 8).

(2) 워크 스테이지(5)에 의해 띠 형상 워크(W)를 진공 흡착하여 유지한다(도 8)

(3) Z 스테이지(9)를 구동하여 워크 스테이지(5)를 상승시켜, 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)를 접촉시킨 후, 워크 스테이지(5)를 더욱 상승시킨다. 이에 따라 간격 설정 기구(7)가 변위하여, 마스크(M)의 전체 면이 띠 형상 워크(W)의 표면에 접촉하여, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 경사가 일치한다(도 9(a)).

이하, 이 마스크와 워크 스테이지의 경사를 일치시키는 것을 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정이라고 한다.

(4) 간격 설정 기구(7)의 변위 상태를 유지한 채, Z 스테이지(9)를 구동하여 워크 스테이지(5)를 미소량(예컨대 100㎛) 하강시킨다. 이것에 의해 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)는 평행하게 또한 그 간격이 일정하게 설정된다(도 9(b)).

(5) 이 상태에서, 도시하지 않은 얼라이먼트계를 사용하여 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)의 위치 맞춤(얼라이먼트)을 행한다.

즉, 도시하지 않은 얼라이먼트 현미경에 의해 마스크(M)에 형성된 얼라이먼트 마크(마스크 마크)와, 워크에 형성된 얼라이먼트 마크(워크 마크)를 검출하여, 양 얼라이먼트 마크가 일치하도록 XYθ스테이지(8)를 XY 방향으로 구동함으로써 워크 스테이지(5)를 이동하여 마스크 마크와 워크 마크의 위치를 일치시킨다.

(6) Z 스테이지(9)를 구동시켜, 띠 형상 워크(W)의 표면으로부터 마스크(M)까지의 거리가 소정의 노광 간격(예컨대 30㎛∼60㎛)이 되도록 워크 스테이지(5)를 미소 상승시키고, 광 조사 장치(3)로부터 노광 광을 마스크(M)를 통해 띠 형상 워크(W)에 조사하여, 마스크 패턴을 띠 형상 워크(W)의 소정의 노광 영역으로 노광시킨다.

(7) 띠 형상 워크(W) 상의 다음의 노광 영역을 노광하기 위해서 상기한 바와 같이, 송출 릴(1)로부터 띠 형상 워크(W)를 인출하고, 띠 형상 워크(W) 상의 다음 노광 영역을 워크 스테이지(5)의 소정의 위치에 위치 결정하고, 상기 (2)∼(6)의 공정을 반복한다.

이상과 같이 노광된 노광이 끝난 워크는 권취 릴(2)에 권취된다.

그러나, 상기한 바와 같이, 띠 형상 워크인 필름 회로 기판은 수지 필름 상에 동박(銅箔) 등을 부착한 것이다. 통상적으로, 동박의 부착은 열이나 압력을 부가하여 행해지므로, 동박과 수지 필름의 팽창 계수의 차이, 즉 늘어나는 양의 차이 로부터, 부착한 후, 도 1O에 도시하는 바와 같이, 패턴을 형성하는 노광 영역인 동박(C)의 부분은 평면이지만, 수지 필름(F)의 주변부가 휘어짐이나 웨이브와 같은 변형(이하, 웨이빙이라고 한다)이 발생하는 경우가 있다.

띠 형상 워크에 휘어짐이나 웨이빙이 발생하면, 상기한 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 행할 때, 다음과 같은 문제가 생긴다.

도 11에 도시하는 바와 같이, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 행하기 위해서, 워크 스테이지(5)를 마스크(M)에 접근시켰을 때, 띠 형상 워크(W)의 주변부에 발생하는 웨이빙의 부분이 마스크(M)와 워크 스테이지(5)에 끼워져 접히듯이 겹쳐진다. 따라서 부분적으로 띠 형상 워크(W)의 두께가 변하여, 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)를 전체 면으로 접촉시킬 수 없게 된다.

또한, 웨이빙이 겹치지 않더라도, 간격 설정 기구(7)가 띠 형상 워크(W)를 마스크(M)에 가압하는 힘보다, 띠 형상 워크(W)의 휘어짐이나 웨이빙의 탄성력이 강한 경우에는, 띠 형상 워크(W)를 평면으로 연장하여 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 끼울 수 없어, 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)가 전체 면에서 접촉할 수 없다.

이와 같이, 마스크(M)가 전체 면에 걸쳐 띠 형상 워크(W)와 접촉할 수 없으면, 마스크(M)와 띠 형상 워크 스테이지(5)를 평행하게 또한 그 간격을 소망의 거리로 일정하게 설정할 수 없다. 따라서, 노광 시에 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)의 간격을 소정의 노광 간격으로 설정할 수 없으며, 해상도가 저하하여 불량 발생의 원인이 된다.

띠 형상 워크(W)는 하나의 릴을 1 로트(lot)로서 연속적으로 처리시킨다. 그런데, 연속하여 띠 형상 워크(W)의 노광 처리가 행해지고 있는 도중에(이하 로트의 도중이라고 한다), 예컨대 마스크(M)와 띠 형상 워크(W) 사이에 분진이 있어 소정의 노광 간격을 설정할 수 없다는 트러블이 발생한 경우나, 장치에 외적인 충격이 가해진 경우 등은, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 간격이 어긋날 수 있으므로, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 평행 설정 작업을 다시 하는 것이 바람직하다.

그러나, 휘어짐이나 웨이빙이 발생한 띠 형상 워크가 워크 스테이지 상에 있으면, 그대로로서는 상기한 바와 같이 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 행할 수 없다. 평행 설정을 하기 위해서는, 처리 도중의 띠 형상 워크를 송출 릴과 권취 릴마다 장치로부터 제거하고, 휘어짐이나 웨이빙이 없는 평행 설정용의 워크를 워크 스테이지에 세트하여 평행 설정 작업을 행하고, 다시 처리 도중의 띠 형상 워크를 세트하는 것이 된다. 이러한 작업은 많은 시간이 걸리므로 생산량의 저하의 원인이 된다.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 고려하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 주변부에 휘어짐이나 웨이빙이 발생한 띠 형상 워크가 워크 스테이지 상에 존재하여도, 마스크와 워크 스테이지를 평행 설정할 수 있는 띠 형상 워크의 노광 장치와, 이 장치에서의 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법을 제공하여, 로트의 도중이더라도 처리 중의 띠 형상 워크를 장치로부터 제거하여 휘어짐이나 웨이빙이 없는 워크로 교환하지 않고, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 작업을 행할 수 있도록 하는 것이다.

본 발명에서는 상기 과제를 다음과 같이 하여 해결한다.

띠 형상의 워크를 순차 반송하여 노광하는 띠 형상 워크의 노광 장치에서, 띠 형상 워크를 유지하는 워크 스테이지와, 마스크에 대하여 워크 스테이지의 경사를 평행하게 설정하는 간격 설정 기구와, 마스크와 워크 스테이지 사이에 마스크와 워크 스테이지의 간격을 설정하는 스페이서와, 이 스페이서를 삽입 퇴피시키는 삽입 퇴피 기구를 설치한다.

그리고, 상기 노광 장치에서 마스크와 워크 스테이지와의 평행을 설정하는 데 있어서, 마스크와 워크 스테이지 사이에 서로 높이가 같은 다수의 스페이서를 삽입 퇴피 수단에 의해 삽입하여, 마스크와 워크 스테이지를 상대적으로 접근시키고, 마스크와 워크 스테이지의 워크를 유지하지 않은 부분을 상기 스페이서를 개재하여 접촉시켜 마스크와 워크 스테이지의 간격이 일정하게 되도록 마스크의 경사에 대하여 워크 스테이지의 경사를 맞춰서 고정하고, 그 후 마스크와 워크 스테이지를 이격시켜 상기 스페이서를 삽입퇴피 수단에 의해 퇴피시킨다.

(작용)

본 발명의 띠 형상 워크의 노광 장치 및 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법에 의하면, 마스크와 워크 스테이지가 서로 높이가 같은 다수의 스페이서를 개재하여 접촉하여 마스크와 워크 스테이지의 경사가 일치되어, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정이 행해진다.

(실시예)

도 1은 본 발명의 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치의 구성을 도시하는 도면이다. 도 1은 본 실시예의 띠 형상 워크의 노광 장치를 띠 형상 워크의 반송 방향으로부터 본 도면이고, 도 4에 도시한 것과 동일한 것에는 동일한 부호를 사용하였다. 본 실시예에서는 도 4의 장치에 대하여, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 평행 설정을 행하기 위한 캘리브레이터(calibrator)(10)가 추가되어 있다.

도 2에 캘리브레이터(10)의 구성을 확대하여 도시한다.

11은 마스크와 워크 스테이지의 간격을 설정하는 스페이서이고, 평행 설정시에, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)는 이 스페이서(11)를 개재하여 접한다. 본 실시예에서, 스페이서(11)는 띠 형상 워크(W)에 발생한 휘어짐이나 주름이 마스크(M)에 접촉하지 않도록, 직경 3mm에서 1㎛ 이내의 정밀도로 완성시킨 세라믹제의 구(球)를 사용하고 있다.

13은 스페이서(11)를 유지하는 유지 부재, 12는 스페이서(11)를 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 삽입 퇴피시키는 삽입 퇴피 기구인 에어 실린더이고, 스페이서(11)를 유지하는 스페이서 유지 부재(13)가 장착되어, 에어 실린더(12)가 동작함으로써 스페이서(11)는 도 2에 화살표로 표기한 좌우 방향으로 이동한다.

스페이서(11)인 강철 구는 스페이서 유지 부재(13)의 일단에 열린 강철 구의 외경보다 약간 큰 구멍에 끼워지고, 상하로부터 이 외경보다도 작은 구멍이 열린 부재에 의해 끼워져 유지된다.

또한, 스페이서 유지 부재(13)는 스페이서(11)가 마스크(M)나 워크 스테이지(5)에 접촉할 때, 스페이서(11)에 상하 방향이나 비틀림 힘이 부가되어도 용이하게 이동할 수 있도록 판 용수철을 사용하여 마스크(M)나 워크 스테이지(5)에 여분의 힘이 부과되지 않도록 하고 있다.

또, 도 2는 구조를 알기 쉽도록, 에어 실린더(12)의 크기에 대하여 스페이서(11)와 유지 부재(13)의 크기를 극단적으로 크게 나타내고 있다.

여기서 스페이서(11)를 구 형상으로 한 이유는, 스페이서(11)를 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 삽입하였을 때, 구 형상이라면 어떠한 방향으로 삽입하여도 마스크(M)와 워크 스테이지(5)에 대하여 점으로 접촉할 수 있어, 유지 부재(13)에 다소의 비틀림이 발생하여도 문제없으며, 또한 구는 같은 직경의 것을 가공 제작하기 쉽기 때문이다.

스페이서(11)를 직육면체나 원기둥 등의 형상으로 하여 그 상하의 평면이 마스크와 워크 스테이지에 접하도록 해도 되지만, 그 경우, 스페이서의 상면 또는 하면과 측면이 만드는 에지가 마스크나 워크 스테이지의 표면에 상처를 내지 않도록, 마스크나 워크 스테이지의 면에 대하여 스페이서의 평면이 평행하게 되도록 삽입해야 한다.

도 1로 돌아가서 캘리브레이터(10)는 장치의 베이스 플레이트(BP)에 고정된 지지대가 장착되어, 워크 스테이지(5)의 주변부에 다수 개소에 설치된다.

입력부(22)로부터의 신호에 기초하여, 장치의 제어부(20)는 스페이서 삽입 신호 또는 퇴피 신호를, 캘리브레이터(10)를 구동시키는 캘리브레이터 구동 기구(21)로 보낸다. 캘리브레이터 구동 기구(21)는 이 신호에 기초하여 에어 실린 더(12)로 에어를 공급한다.

이에 따라 에어 실린더(12)의 실린더가 구동하여, 다수의 서로의 높이가 같은 스페이서(11)가 동시에 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 삽입되며, 또한 그 사이로부터 퇴피된다.

도 3은 워크 스테이지(5)를 상면으로부터 본 도면이다. 마스크(M)는 마스크 스테이지(4)에 유지되기 위해 유지부가 필요하고, 따라서, 마스크(M)의 크기는 도 3에서 점선으로 도시하는 바와 같이, 통상적으로 띠 형상 워크(W)의 폭보다도 커진다. 마스크 스테이지(4)에 유지되는 부분에는 마스크 패턴은 형성되지 않는다.

캘리브레이터(10)의 스페이서(11)는 워크 스테이지(5)의 띠 형상 워크(W)를 유지하지 않는 부분과, 마스크(M)의 마스크 패턴이 형성되어 있지 않은 부분 간에 이루어지는 위치에 삽입된다.

또, 캘리브레이터(10)의 개수는 도 1에서는 2개밖에 도시하지 않지만, 평면은 3점으로 결정되므로, 도 3에 도시하는 바와 같이 적어도 3개가 필요하다.

다음에 도 4, 도 5를 이용하여 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 평행 설정의 순서를 설명한다.

(1) 로트의 도중에서 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 평행 설정 작업이 필요할 경우, 일련의 노광 처리를 일단 중단한다. 주변부에 휘어짐이나 웨이빙이 발생한 띠 형상 워크(W)를 워크 스테이지(5)에 흡착 유지한 상태에서, 입력부(22)로부터 평행 설정 작업 개시를 입력한다.

(2) 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 스페이서(11)가 삽입되도록, Z 스 테이지(9)가 구동하여 워크 스테이지(5)가 하측으로 이동한다(도 1).

(3) 3개의 캘리브레이터(10)의 에어 실린더(12)가 구동하여 스페이서(11)가 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이에 삽입된다(도 4(a)).

(4) Z 스테이지(9)가 구동하여 워크 스테이지(5)가 상승한다. 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 띠 형상 워크(W)를 유지하고 있지 않은 부분이 각각의 스페이서(11)를 개재하여 접촉한다.

워크 스테이지(5)는 더 상승하여 간격 설정 기구(7)가 변위한다. 각각의 스페이서(11)의 높이는 같으므로 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 경사가 일치하고 간격 설정 기구(7)가 변위를 유지한 채로 고정된다(도 4(b)).

도 6은, 도 4(b)의 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 부분을, 띠 형상 워크(W)의 반송 방향에 대하여 직각 방향으로부터 본 도면이다. 띠 형상 워크(W)의 두께는 1OO㎛이고, 스페이서(11)의 직경은 3mm로 충분히 크므로, 띠 형상 워크(W)의 주변부에 발생한 휘어짐이나 웨이빙에 영향을 받지 않으며, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)는 스페이서(11)에 접하여 평행 설정을 행할 수 있다.

(5) 간격 설정 기구(7)의 변위 상태를 유지한 채로, Z 스테이지(9)를 구동시켜 워크 스테이지(5)가 하강한다. 띠 형상 워크(W)는 워크 스테이지(5)에 흡착 유지되어 있으므로, 마스크(M)에 대하여 띠 형상 워크(W)의 동박 상의 패턴이 형성되는 노광 영역은 평행하게 된다. 3개의 캘리브레이터(10)의 에어 실린더(12)가 구동하여, 스페이서(11)가 퇴피한다(도 5(a)).

(6) 간격 설정 기구(7)의 변위 상태를 유지한 채로, Z 스테이지(9)를 구동시 켜 워크 스테이지(5)를 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)의 위치 맞춤을 행하는 간격(약 100㎛)으로까지 상승시켜, 도시하지 않은 얼라이먼트계를 사용하여, 마스크(M)와 띠 형상 워크(W)의 위치 맞춤(얼라이먼트)을 행한다.

위치 맞춤 후, Z 스테이지(9)를 구동시켜, 띠 형상 워크(W)의 표면으로부터 마스크(M)까지의 거리가 소정의 노광 간격(예컨대 30㎛∼60㎛)이 되도록 워크 스테이지(5)를 미소 상승시키고, 광 조사 장치(3)로부터 노광 광을 마스크(M)를 통해 띠 형상 워크(W)에 조사하여, 마스크 패턴을 띠 형상 워크(W)의 소정의 노광 영역에 노광한다. 이것에 의해 노광 처리가 재개된다(도 5(b)).

스페이서(11)는 에어 실린더(12)에 의해, 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이를 삽입 퇴피 가능하게 이동한다. 따라서, 스페이서(11)의 직경을, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정에 영향이 없도록, 띠 형상 워크(W)의 주변부에 발생하는 휘어짐이나 웨이빙의 크기보다 충분하게 크게 하여도, 노광 처리를 행할 때에는 마스크(M)와 워크 스테이지(5) 사이로부터 퇴피시켜 양자를 위치 맞춤이나 노광을 위한 소정의 간격으로까지 접근시킬 수 있다.

상기 실시예에서는, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 평행 설정은, 입력부(22)에 평행 설정 작업 개시를 입력함으로써 행하였으나, 도 7에 도시하는 바와 같이, 워크 스테이지(5)에, 워크 스테이지(5)와 마스크(M)의 간격을 측정할 수 있는 갭 센서(40)를 고정하고, 이 센서(40)로부터의 출력을 장치의 제어부(20)에 입력하여 모니터하고, 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 노광 간격이 소정값으로부터 멀어졌을 때, 자동적으로 상기 평행 설정 작업을 행하도록 해도 된다.

상기의 구성에서, 갭 센서(40)는 반사형 센서를 사용하여, 마스크(M)의 마스크 패턴이 형성되어 있지 않은 부분의 표면에 크롬 등의 센서 광을 반사하는 부재(41)를 도금한다. 갭 센서(40)는 이 반사 부재(41)로부터 반사되는 센서 광을 수광함으로써 마스크(M)와 워크 스테이지(5)의 거리를 검출할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이, 스페이서를 통해 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 행하도록 했으므로, 주변부에 휘어짐이나 웨이빙이 발생한 띠 형상 워크가 워크 스테이지 상에 존재하더라도, 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정을 정밀하게 행할 수 있다. 따라서, 로트의 도중이더라도 평행 설정 작업을 행할 수 있다.

또한, 노광 시에는 스페이서를 에어 실린더에 의해 퇴피시킴으로써, 마스크와 워크 스테이지를 위치 맞춤이나 노광을 위한 소정의 간격으로까지 접근시킬 수 있다.

Claims (2)

1. 띠 형상의 워크를 순차 반송하여 노광하는 띠 형상 워크의 노광 장치에 있어서,

   띠 형상 워크를 유지하는 워크 스테이지;

   마스크에 대하여 워크 스테이지의 경사를 평행하게 설정하는 간격 설정 기구;

   마스크와 워크 스테이지의 간격을 설정하는 스페이서; 및

   상기 스페이서를 마스크와 워크 스테이지 사이에 삽입 퇴피하는 삽입 퇴피 기구를 설치한 것을 특징으로 하는 띠 형상 워크의 노광 장치.
2. 노광 장치에서의 마스크와 워크 스테이지와의 평행을 설정하는 평행 설정 방법에 있어서,

   마스크와 워크 스테이지 사이에 서로 높이가 같은 다수의 스페이서를 삽입 퇴피 수단에 의해 삽입하고,

   마스크와 워크 스테이지를 상대적으로 접근시키고,

   마스크와 워크 스테이지의 워크를 유지하지 않는 부분을 상기 스페이서를 개재하여 접촉시키고, 간격 설정 기구에 의해 마스크와 워크 스테이지의 간격이 일정하게 되도록 마스크의 경사에 대하여 워크 스테이지의 경사를 맞춰서 고정시키고,

   그 후, 마스크와 워크 스테이지를 이격시켜 상기 스페이서를 삽입 퇴피 수단 에 의해 퇴피시키는 것을 특징으로 하는 띠 형상 워크의 노광 장치의 마스크와 워크 스테이지의 평행 설정 방법.

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