507269 A7 __^___B7_____一 五、發明說明（/ ) 【技術領域】 本發明係關於一種掃描曝光方法及掃描型曝光裝虞’ 其係將光罩與基板沿既定方向作同步移動來使得已形成於 光罩的圖案曝光於基板，特別是，此掃描曝光方法及掃描 型曝光裝置應用在將基板的曝光領域作部分的重複曝光# 頗爲適用。 【習知技術】 近年來，普遍以可輕薄化的液晶顯示板，作爲個人^ 腦或電視等的顯示元件。此類型之液晶顯示板，乃是藉由 微影（photo lithography)方式，在俯視爲矩形狀的感光基 板（例如玻璃基板）上，將透明薄膜電極形成所欲形狀的 圖案而製造者。又，此種微影裝置’係透過投影光學系’統 將形成於光罩（標線片，reticle)上的圖案曝光於玻璃基板 上的光阻層之曝光裝置。 前述之液晶顯示板，乃基於觀賞的便利性而朝大面積 化進展。符合此種需求之曝光裝置’例如，日本專利特開 平7-57986號公報所示般，其係揭示一種之掃描型曝光裝 置，將光罩的圖案以正立像投影於基板上的複數個投影光 學系統予以組合，使光罩與玻璃基板沿著既定方向同步移 動，藉著對投影光學系統的掃描’使得與同步移動方向垂 直的方向具有大的曝光領域，亦即’將形成於光罩的LCD (Liquid Crystal Display)等圖案依序轉印至玻璃基板上的曝 光領域。 此時，爲獲得即使投影領域變大亦不致造成裝置的大 3 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —^----^ I------------—訂 --------- C請先閲讀背面之注意事項存填寫本頁) A7 B7 5Q2m 口!，6· i年；^ L— 五、發明說明（l) 型化，並具有良好的成像特性之投影光學系統，乃配置複 數個投影光學系統，設定俾使相鄰的曝光領域沿掃描方向 進行既定量移位，且使相鄰的曝光領域的端部彼此之間在 垂直於掃描方向的方向部份重複。此種場合時，將各投影 光學系統的視野光圏設定爲例如梯形狀，使掃描方向的視 野光圏的開口幅度的合計常保持相等。因此，前述之掃描 型曝光裝置，相鄰的投影光學系統的接合部係重複曝光， 使得投影光學系統的光學像差或曝光照度呈現出平順地變 化的優點。 【本發明所欲解決的課題】 但是，以上所述之習知的掃描曝光方法及掃描型曝光 裝置，存在有以下的問題。 對複數個投影光學系統而言，雖將其分別校準來使得 其成像位置在玻璃基板上的曝光面趨於一致，然而，亦有 因各投影光學系統的調整誤差、玻璃基板本身的歪斜、水 平度原因、或塗布於玻璃基板之光阻層的膜厚分布不均等 ’而造成複數個投影光學系統之間對曝光面的成像位置有 所偏差。在此情形下，在複數個投影光學系統所對應的投 影領域之間，被賦予的曝光能量產生差距。因此，在以相 鄰之投影光學系統所曝光的接合部產生色不均，乃造成製 造出的元件品質低下的問題。 此種問題之產生，並不侷限在使用具有複數個投影光 學系統之曝光裝置者，例如，採用具有單一照明領域的投 影光學系統，同步移動光罩與玻璃基板來進行第1掃描曝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--------铢| 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 507269 A7 _ B7____ 五、發明說明（） 光。之後，將光罩與玻璃基板沿著垂直於同步移動的方向 來步進移動相當於照明領域之長度份量之同等距離，且再 度同步移動光罩與玻璃基板來進行第2掃描曝光。藉著將 該第2道掃描曝光進行一次或重複數次’使複數個分割圖 案在彼此有部份重複的狀態下接合，即使在此種情況時， 仍可能使得第1掃描曝光與第2掃描曝光之成像面的位置 有所偏移，因此，同樣可能發生前述之色不均現象。 另一方面，爲解決前述的問題之方法’乃是改變玻璃 基板的焦點位置來進行複數次的掃描曝光。此種方法，例 如，使得相對於投影光學系統之成像面位置的玻璃基板之 曝光面，沿光軸方向降低既定量來進行第1次掃描曝光， 之後，使得相對於投影光學系統之成像面位置的玻璃基板 之曝光面，沿光軸方向上升前述之既定量來進行第2次掃 描曝光，使得圖案重複曝光於基板。藉由此種方法，因提 升焦點深度，可減少複數個曝光領域間的曝光能量差，因 此，可抑制色不均的發生。 但是，運用此方法時，必須在改變玻璃基板之焦點位 置的狀態下進行複數次的掃描曝光，因而，其曝光時間變 長，乃造成曝光製程的產能降低之問題。 本發明乃考量了以上所述之各點，其目的係提供即使 將曝光領域的一部份重複曝光仍不會造成元件品質的降低 ，並且防止曝光製程的產能降低之掃描曝光方法及掃描型 曝光裝置。 【解決課題之手段】 5 尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) ·~ -*- — IH---：------0^--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _____B7__ 五、發明說明（> ) 爲達成前述目的，本發明所示係採用對應於表示實施 形態之圖1至圖11之以下構成。 本發明之掃描曝光方法，係同步移動光罩(M)及基板 (P)，透過投影光學系統(3、3a〜3e)，將光罩(M)的圖案曝 光於基板(P)上，其特徵在於：在將投影光學系統(3、3a〜 3e)所曝光之基板(P)的曝光領域的一部份予以重複曝光時 ，使基板(P)與光罩(M)的圖案之成像面，沿著大致與基板 (P)垂直的方向之既定範圍進行相對移位。 又，本發明之掃描型曝光裝置（1)，係同步移動光罩 (M)及基板(P)，透過投影光學系統(3、3a〜3e)，將光罩(M) 的圖案曝光於基板(P)上，其特徵在於：具有移位調整裝置 (17)，在將投影光學系統(3、3a〜3e)所曝光之基板(P)的曝 光領域的一部份予以重複曝光時，使基板(P)與光罩(M)的 圖案之成像面，沿著大致與基板(P)垂直的方向之既定範圍 進行相對移位。 因此，本發明之掃描曝光方法及掃描型曝光裝置，係 使光罩(M)的圖案的成像位置與基板(P)，以成像面的位置 爲中心沿著大致與基板(P)垂直的方向之既定範圍進行既定 週期的相對移位，乃延長了在移位之端部的曝光時間，故 而，焦點位置之曝光能量的分布比移丨立之端部具有較大値 ，而與重複曝光時同樣地使其焦點深度實質上變深。藉此 ，即使曝光領域的一部份重複曝光時仍可縮小其接合部的 曝光能量差而抑制色不均的發生。又，由於光罩(M)之圖案 的成像位置與基板(P)的相對移位，是在一次的曝光動作中 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） ---r---：--1----------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 B7 五、發明說明（t) 來進行，故可防止曝光製程之產能降低。 【發明之實施形態】 以下將參照圖1至圖8，來說明本發明之掃描曝光方 法及掃描型曝光裝置之第1實施形態。在此例，將採用製 造液晶顯示板之方形的玻璃基板作爲本實施形態之基板， 說明將光罩上所形成之液晶顯示元件的電路圖案轉印至玻 璃基板上的例子。再者，此處係使用投影光學系統由5個 投影系統模組所構成之例加以說明。 圖1所示係用來表示本發明之掃描型曝光裝置1的槪 略構成之立體圖。掃描型曝光裝置1之主體結構，係包含 有：照明光學系統2、由複數個投影系統模組3a〜3e所構 成的投影光學系統3、用來保持光罩（標線片）Μ之光罩 台4、以及用來保持玻璃基板（基板）Ρ之基板台5。又， 使光罩Μ及玻璃基板Ρ沿ΧΥ平面而配置，在ΧΥ平面中 ，設定掃描方向（同步移動方向）爲X方向，設定垂直於 X方向之非掃描方向爲Υ方向。再者，垂直於ΧΥ平面且 通過被投影光學系統3投影於玻璃基板Ρ之梯形視野的大 致中心之主光線作爲光軸，與玻璃基板Ρ大致垂直的光軸 方向設爲Ζ方向。 如圖2所示，照明光學系統2，係將超高壓水銀燈等 之光源6所射出的光束（曝光用光），照明於光罩Μ。又 ，照明光學系統2，係由：二向分光鏡(dichroic mirro〇7、 濾光片8、光導(light guide)9、以及分別對應於投影系統模 組3a〜3e而配置之照明系統模組10a〜10e (但是，爲便 7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂----- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 507269 A7 ___B7___ 五、發明說明（6 ) 於說明起見，圖2之中，僅表示與照明光學系統l〇a相對 應者）所構成。 又，由光源6所射出之光束，藉由橢圓鏡6a聚光之後 ，射入於二向分光鏡7。二向分光鏡7，乃是將曝光所需之 波長的光束予以反射，而讓其他的波長之光束可透過者。 由二向分光鏡7所反射的光束，射入於濾光片8，使得投 影光學系統3成爲具適當的曝光用波長（通常爲g線、h 線、i線內之至少一種帶域）的光束，射入至光導9，光導 9係將射入的光束分束爲5束，透過反射鏡11射入至各照 明系統模組l〇a〜10e者。 各照明系統模組l〇a〜10e，其大致由照明光閘12、中 繼透鏡13、複眼透鏡14、以及聚光透鏡(condenser lens)15 所構成。又，在本實施形態中，係沿著X方向與Y方向之 一定間隔，配置與該照明系統模組l〇a爲相同結構之照明 系統模組l〇b〜10e。又，來自各照明系統模組l〇a〜10e 的光束，係照射於光罩Μ上之相異的照明領域。 照明光閘12係配置在光導9的後方，使其相對於光束 的光程可進退自如。照明光閘12，在遮蔽光程時將該光程 前往光罩Μ及玻璃基板Ρ的光束予以遮光，在開放光程時 乃解除對光束的遮光動作，使光束照射於光罩Μ及玻璃基 板Ρ。再者，照明光閘12具光閘驅動部16，來驅使該照明 光閘12對前述光程作進退移動。光閘驅動部16，藉控制 裝置17來控制其驅動。 另一方面，各照明系統模組10a〜10e，另設有光量調 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---j—--^--------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 ____B7______ 五、發明說明（7 ) 整機構18。光量調整機構18，乃是藉著對個別光程設定其 光束的照度，來調整個別光程的曝光量，又，光量調整機 構18，係由：半反射鏡19、檢波器(detector)20、濾光片 21、以及濾光片驅動部22。半反射鏡19，係配置在濾光片 21與中繼透鏡13之間的光程中，使透射過濾光片21的光 束之一部份射入於檢波器20者。檢波器20，係用以檢測 射入光束的照度，將檢測之照度信號輸出至控制裝置17者 〇 瀘光片21，乃是藉由鉻等在玻璃基板上所構成之簾狀 圖案者。其透射率係沿著Y方向之某種範圍內呈線性的漸 次變化，且配置在各光程中的照明光閘12與半反射鏡19 之間者。此等半反射鏡19、檢波器20、以及濾光片21， 係各自配設於複數個光程。濾光片驅動部22，係根據控制 裝置17的指示，使濾光片21沿Y方向移動者。 因此，控制裝置17藉由根據檢波器20所檢測的光束 之照度來控制濾光片驅動部22，可調整各光程的光量來使 在各光程之玻璃基板P上的照度成爲既定値。 透射過光量調整機構18的光束，透過中繼透鏡13到 達複眼透鏡14。在該複眼透鏡14的射出面側形成二次光 源，藉由聚光透鏡15可對光罩Μ的照明領域照射出均一 的照度。 透射過光罩Μ的光束，分別射入於投影系統模組3a 〜3e。之後，照明領域之光罩Μ的圖案係根據其既定的成 像特性，轉印在塗有光阻的玻璃基板Ρ上。各投影系統模 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---1---·-------------訂 ----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 __ B7___ 五、發明說明（& ) 組3 a〜3 e係由:使光罩Μ的圖案像朝X方向偏移或Y方向 偏移的圖像偏移機構；形成光罩Μ的層案之中間像的反射 -折射型光學系統；在玻璃基板Ρ上設定爲梯形狀的投影領 域之視野光圈；以及，用來變化光罩Μ的圖案像之倍率的 倍率調整機構（各項均未圖示）所構成。 圖3係表示藉由投影系統模組3a-3e所投影在玻璃基 板P上之投影領域34a〜34e的俯視圖。如該圖所示，各投 影領域3如〜34e，乃是在X方向之寬度爲L0之梯形狀， 在X方向以間距(pitch)L作分隔，將投影領域群區分爲： 由投影領域34a、34c、34e所構成之第1投影光學群23、 以及由投影領域34b、34d所構成之第2投影光學群24， 投影領域34a、34c、34e與投影領域34b、34d，其配置係 以短邊之側爲對向邊。 進而，如同圖中該二點虛線所不，投影領域34a〜34e 之中，其相鄰之投影領域的端部間(35a與35b、35c與35d 、35e與35f、35g與35h)其係並列配置成沿Y方向重複， 且設定使X方向的寬度之總合大致相等。亦即，各投影領 域34a〜34e包含有：端部35a〜35k，投影於玻璃基板上 之重複曝光的重複領域36a〜36d、以及中央部41a〜41e， 投影於非重複曝光之非重複領域33，沿X方向進行掃描曝 光時，其重複領域之曝光量的和，與非重複領域之曝光量 相等。 如此，藉著在玻璃基板P上設置投影領域34a〜34e所 重複的重複領域36a〜36d，可以使重複領域36a〜36d之 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)Ai規格（210 X 297公釐） _ "- ----------I-----------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 ___B7__ 五、發明說明（？） 光學像差的變化或照度變化更平順。再者，本實施形態的 投影領域34a〜34e的形狀雖爲梯形，然而，亦可爲六角形 、稜形、或平行四邊形等。 光罩台4，係用來保持光罩Μ者，包含有:χ方向的長 行程（stroke)來進行一維的掃描曝光，以及，垂直於掃描 方向的Y方向之數mm程度的微量行程。如圖2所示般 ，光罩台4具有光罩台驅動部37，使該光罩台4沿X方向 或Y方向驅動。此光罩台驅動部37，係藉由控制裝置17 來控制。 如圖1所不，在光罩台4上的端緣，沿垂直方向分別 設置有移動鏡38a、38b。在移動鏡38a，對向配置雷射干 涉計39a。又，在移動鏡38b，對向配置雷射干涉計39b。 此等雷射干涉計39a、39b，係藉由以雷射光分別射向移動 鏡38a、38b，來測量此等雷射干涉計39a、39b與該移動 鏡間38a、38b之間的距離，藉此而可以高解析度、高精度 來檢測光罩台4的X方向、Y方向的位置，亦即，光罩Μ 的位置。又，雷射干涉計39a、39b之檢測結果，係輸出至 控制裝置17(未圖示於圖1)。 基板台5，係用來保持玻璃板P並將其移動者，與光 罩台4同樣地，包含有:台X方向的長行程來進行一維的掃 描曝光、以及在垂直於掃描方向的Y方向具有長行程用來 進行步進式移動。又，基板台5具有基板台驅動部40(參 照圖2)，使該基板台5沿X方向及Y方向驅動。此基板台 驅動部40，係藉由控制裝置17來控制。進而，基板台5， 11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------y--------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 __________B7_______ 五、發明說明（P ) 係藉由基板台驅動部40的控制’使其亦可沿Z方向移動 自如。又，基板台5，具有測量機構（未圖示），來測量 光罩Μ的圖案面與玻璃基板P的曝光面之z方向的位置， 將藉由測量機構所測得之結果輸出至作爲移位調整裝置的 控制裝置17。此外，實際作業中，基板台5之沿Ζ方向移 動’雖藉由保持器(用以保持被基板台5所支撐之玻璃基板 Ρ)來進行台，但是，爲方便起見，在此說明藉由基板台5 來進行沿Ζ方向之移動。又，在基板台5沿Ζ方向之移動( 未圖示），例如，設有致動器(actuator)或楔形凸輪來將支撐 基板台的支撐點沿Z方向驅動。又，可用馬達、壓電性元 件、或電磁石，作爲致動器。 又’基板台5上的端緣，沿垂直方向分別設有移動鏡 42a、42b。移動鏡42a，係與雷射干涉計43a對向設置。 又’移動鏡42b，係與雷射干涉計43b對向設置。此等雷 射干涉計43a、43b，係分別對移動鏡42a、42b射出雷射 光來測量雷射干涉計43a、43b與該移動鏡42a、42b之間 的距離’藉此，能夠以高解析度、高精度來檢測基板台5 的X方向、Y方向的位置，亦即，玻璃基板P的位置。又 ，雷射干涉計43a、43b的檢測結果，係輸出至圖1所未圖 示之控制裝置17。 在光罩Μ的上方，配設有對準(alignment)系統49a、 49b，用來檢測形成於光罩μ之光罩對準標記（mask alignment mark)(未圖示），以及形成於玻璃基板ρ之基 板對準標記（未圖示）。對準系統49a、49b之結構，乃是 12 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 瞻言111 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（210 X 297公楚） 507269 A7 _____B7__ 五、發明說明（η ) 以檢測光照射於光罩對準標記，並藉由接收光罩對準標記 之反射光，以及接收透射過光罩對準標記及外側的投影系 統模組3a或3e之基板對準標記之反射光，來測量光罩Μ 與玻璃基板Ρ之位置偏移量。再者，如圖2所示般，對準 系統49a、49b的測量結果，係輸出至控制裝置17。又， 對準系統49a、49b具有沿X方向移動之驅動機構（未圖 示），在掃描曝光時可從照明領域內退離之構成。 控制裝置17，係藉由雷射干涉計39a、39b的輸出來 監測光罩台4位於XY平面內的位置，並控制光罩台驅動 部37，以便將光罩台4移動至所欲的位置，同時，藉由雷 射干涉計43a、43b的輸出來監測基板台5位於XY平面內 的位置，並控制基板台驅動部40，以便將基板台5移動至 所欲的位置。亦即，控制裝置17，乃是監測光罩台4以及 基板台5的位置並同時控制著兩驅動部37、40，藉此，使 得光罩Μ與玻璃基板P相對於投影系統模組3a〜3e，能以 任意的掃描速度（同步移動速度）沿X方向作同步移動。 進而，控制裝置17之構成，係根據測量機構所測得之 玻璃基板P的曝光面位置來控制基板台驅動部40，使得基 板台5的曝光面相對於投影系統模組3a〜3e的成像面位置 ，以既定週期進行移位。 以下說明藉由上述構成之掃描型曝光裝置1來使LCD 圖案掃描曝光於玻璃基板P上之進行順序。又，以下，光 罩台4、基板台5的移動，以及在各照明系統模組10a〜 l〇e之照明光閘12的驅動，係透過光罩台驅動部37、基板 13 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂--- 507269 A7 __B7 五、發明說明（卜） 台驅動部40、以及光閘台驅動部16來進行，其各驅動乃 是根據控制裝置17對各驅動部37、40、16之控制而進行 〇 首先，在進行曝光處理之前，先進行測試曝光等，先 測量出當測量用的玻璃基板之曝光面位在投影系統模組3a 〜3e的成像面位置時之焦點位置（最佳焦點位置）Z0。 之後，藉由對準系統49a、49b來測量光罩對準標記及 基板對準標記，求得光罩Μ與玻璃基板P的位置偏移量， 根據其結果來微動光罩台4或基板台5以使其對準，同時 ，算出各投影系統模組3a〜3e對光罩Μ與玻璃基板Ρ之 相對移位(shift)、旋轉、定標(scaling)補正量，再根據此補 正量，對各投影系統模組3a〜3e之像移位機構、倍率調整 機構、以及反射折射型光學系統進行補正。 接著，驅動光罩台4及基板台5，使光罩Μ及玻璃基 板Ρ移動至掃描開始位置。進而，使光罩Μ與玻璃基板Ρ 以同樣速度V及同一方向（例如-X方向）對投影系統模組 3a〜3e作同步移動。又，使光罩Μ與玻璃基板Ρ沿-X方 向作同步移動的同時，一邊藉測量機構來測量玻璃基板Ρ 之曝光面位置，一邊使基板台5沿Ζ方向之(ΖΟ+b)與(Ζ0-b)之間以週期Τη對投影系統模組3a〜3e之成像面位置進 行相對且連續性的移位。又，（ΖΟ+b)與(Z0-b)，係設定在玻 璃基板P的焦點深度內。 此週期Τη，係表示在玻璃基板P上的任意位置通過寬 度L0的投影領域期間，玻璃基板Ρ沿Ζ方向進行η次行 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --J----^-- -----------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 ^___B7 --- --------------------------------- 五、發明說明（/今） 程移位之意（η爲1次以上的整數）。換言之’玻璃基板P 沿Z方向相對移位之週期Τη，乃是設定爲當玻璃基板P上 的任意位置通過寬度L0的投影領域之時間的1/η ° 此處，將寬度L0的投影領域通過玻璃基板Ρ上的任 意位置所耗的時間Τ0，以下式來表示。 T0=L0/V...............(1) 因此，在時間το之間，使玻璃基板P沿z方向進行 相對移位的週期Τη，係以下式來表示。
Tn = (1/n) x TO =(l/n) x (LO/V)·····..(2) 又，對第1投影光學群23與第2投影光學群24之間 的間距L的設定，若是以m爲1以上的整數値’則其設定 値爲下式所示之數値。
L = m X Τη X V =m χ (L0/n).........(3) 由式(3)可得知，間距L之設定値，係在週期Tn之期 間光罩Μ與玻璃基板Ρ之同步移動距離的整數倍。亦即’ 當通過第1投影光學群23的投影領域時玻璃基板Ρ的週期 Τη的相對移位，係與當通過第2投影光學群24的投影領 域時玻璃基板Ρ的週期Τη的相對移位’其相位係一致。 以下，將舉具體例來詳細說明。 <在η=1，週期Τ1+Τ0之情況> 在此例中，基板台5之移位，亦即玻璃基板P沿Z方 向之移位，使其週期Τη與式（1)之時間T0 —致。亦即’ 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公釐） —-—j.------------—訂-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 ____B7____ 五、發明說明（作） 使Τη=Τ1=Τ0，當寬度L0的投影領域3如〜34e通過玻璃 基板P上的任意位置期間，如圖4所示般，使玻璃基板P 沿z方向移位1個彳了程(η=ι)。 在此先參照圖5，針對玻璃基板P上的點61a與點 61b予以考量，點61a係位於曝光領域內的非重複領域33 之玻璃基板P上的點，而點61b係位於曝光領域之重複領 域36c內，且由投影領域34c的端部35e及投影領域34d 的端部35f雙方所重複曝光之玻璃基板P上的點。 如圖6所示，點61a、61b在掃描露光時’在以最佳焦 點位置Z0爲基準之焦點位置Z+b、Z-b之間’相對於投影 系統模組3a〜3e的成像面位置以週期T1沿Z方向進行相 對移位。此時，點61a，係藉投影領域34c的中央部41c 以時間T1的曝光時間進行曝光。 另一方面，點61b之曝光時間，係由投影領域34c的 端部35e來進行時間Ta的曝光作業，由投影領域34d的端 部35f來進行時間Tb的曝光作業。因Ta+Tb=Tl，故點 61b與點61a的曝光時間相同。又’當通過玻璃基板P上 的任意位置投影領域34c與34d時’其相對移位的相位係 一致，因此，當點61b被端部35e、35f曝光期間，沿Z方 向作相對移位之全行程，係與點61b被中央部41c曝光時 沿Z方向作相對移位之全行程一致，皆爲1個行程。藉此 ，重複曝光的點61b係與點61a同樣地，在相對移位的端 部之焦點位置(ΖΟ+b)及(ΖΟ-b)具較長的曝光時間，使曝光能 量增大，可加深其實質的焦點深度。 16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------------· I------訂----I--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 __…一-—____B7_______ _ 五、發明說明（<) <n=2，週期T2=(T0/2)之情況） 在此例中，基板台5之移位，亦即玻璃基板ρ沿Ζ方 向之移位，使其週期Τη與式（1)的時間(Τ0/2)—致。亦即， Τη=Τ2=(Τ0/2)，當玻璃基板Ρ的任意位置通過寬度L0的投 影領域34a〜34e之時間Τ0，如圖7所示，使玻璃基板P 沿Z方向移位2個行程(n=2)。 此時，如圖8所示，點61a、61b在掃描曝光時，在以 最佳焦點位置Z0爲基準之焦點位置Z+b、Z-b之間，相對 於投影係模組3a〜3e的成像面位置以週期T2沿Z方向進 行相對移位，點61a藉投影領域34c的非重複領域41c以 時間T0的曝光時間來進行曝光。 另一方面，點61b的曝光時間，係藉由投影領域34c 的端部35e來進行時間Ta的曝光作業，藉由投影領域34d 的端部35f來進行時間Tb的曝光作業。因Ta+Tb=T0，故 點61b與點61a的曝光時間相同。又，當通過投影領域 34c與34d時之玻璃基板P上的任意位置，其相對移位的 相位係一致，因此，當點61b被端部35e、35f曝光期間其 沿Z方向之相對移位的全行程，係與點61a被中央部41c 曝光期間其沿Z方向之相對移位的全行程一致，皆爲2個 行程。藉此，重複曝光的點61b係與點61a同樣地’在相 對移位的端部之焦點位置(ΖΟ+b)及(ΖΟ-b)具較長的曝光時間 ，使曝光能量增大’可加深其實質的焦點深度。 在本實施形態之掃描曝光方法及掃描型曝光裝置，即 使將投影領域34a〜34e的一部份重複曝光，因爲藉著使投 17 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210>< 297公釐） ~ —«—--------------訂---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _________ _B7 ___ 五、發明說明（U ) 影系統模組3a〜3e的成像面位置與玻璃基板沿光軸方向進 行相對移位，故使由非重複領域或重複領域所曝光之玻璃 基板p上之曝光領域兩者其焦點深度變大，可以縮小複數 個曝光領域間、重複領域、非重複領域間的曝光能量差， 能夠抑制色不均的發生，防止元件品質的降低。又，在本 實施形態，無須進行複數次的掃描曝光，而係以既定週期 將玻璃基板P連續移位來加深上述焦點深度，因此，所需 之曝光時間不會變長，可防止曝光製程的產能降低。 再者，本實施形態之掃描曝光方法及掃描型曝光裝置 中，由非重複領域所曝光的點61a之相對移位的全行程’ 與被重複領域所曝光的點61b之相對移位的全行程一致’ 因而，消除了各領域間的曝光能量差，即使採用了投影領 域有部份重複之複數個投影系統模組3a〜3e，可排除因爲 各模組間的曝光能量差所造成色不均之情況，能使元件的 品質提高。 又，本實施形態中，當玻璃基板P上的任意位置通過 寬度L0的投影領域期間，玻璃基板P係以整數次沿Z方 向移位，因而，曝光能量的分布係以最佳焦點位置Z0爲 中心在Z方向呈對稱分布，可獲取無偏移之焦點深度。 又，上述實施形態中，係藉由將具有焦點位置調整機 能之基板台5沿Z方向移動，來使圖案的成像面位置與玻 璃基板P沿Z方向相對移位，因而，無須另設昇降機構等 ，可實現裝置的小型化及降低成本。 再者，上述第1實施形態中，雖已說明當玻璃基板p 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---Ί---；--------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 __B7 五、發明說明（) 上的任意位置通過寬度L0的投影領域期間，使玻璃基板P 沿Z方向進行η次行程的移位，然而’其並非必須滿足此 關係，只要能使第1投影光學群23與第2投影光學群24 的間距L，與玻璃基板Ρ的相對移位的週期Τη滿足上述之 式(3)，可使得通過第1投影光學群23的投影領域時之玻 璃基板Ρ的相對移位，與通過第2投影光學群24時之玻璃 基板Ρ的相對移位之相位一致，因此，可使位於非重複領 域的點之相對移位的全行程，與位於重複領域的點之相對 移位的全行程一致。此時，玻璃基板ρ上的住意位置，至 少經過相對移位的1個週期之70%以上爲佳。 圖9至圖11係本發明之掃描曝光方法及掃描型曝光裝 置的第2實施形態。在這些圖中，與圖1至圖8所示之第 1實施形態的構成要素爲同一要素者係付予同一符號’且 省略其說明。第2實施形態與前述第1實施形態之相異點 在於，先以第1曝光將第1圖案曝光於玻璃基板Ρ之後， 再以第2曝光將第1圖案的一部份重複來曝光第2圖案。 如圖9所示，曝光於玻璃基板Ρ上之LCD圖案LP係 由：藉由第1曝光而曝光於第1曝光領域51的第1圖案、 以及藉由第2曝光而曝光於第2曝光領域52的第2圖案所 構成，且第1曝光領域51與第2曝光領域52係在重複領 域53重複。曝光領域51、52，係藉由使光罩台4沿Y方 向移動後，移動相對於光罩Μ的照明領域，並且，亦使基 板台5沿Υ方向移動後，移動相對於投影領域34a〜34e 之玻璃基板P的位置而設定。 19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---^ I ---Γ-----------1--訂------丨！ si (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _________B7___ 五、發明說明（β ) 進行上述LCD圖案LP的曝光時，首先，係採取與前 述第1實施形態之相同順序將第1圖案曝光於第1曝光領 域51。又，在此設定Τη=Τ1=Τ0，當玻璃基板P上的任意 位置通過寬度LD的投影領域34a〜34e期間，使玻璃基板 P沿Z方向移位1個行程(n=l)。 此時，玻璃基板上的重複領域53，係由投影領域34e 的端部35K所投影曝光。又，如圖10所示，當重複領域 53內的點K(圖10中，係表示此點之移動軌跡）到達投影 領域34e之-X側端部（圖10中，在左側端部）時，乃以 最佳焦點位置Z0爲起點，隨著掃描曝光的進行而朝焦點 位置Z+b前進。 另一方面，如圖9所示，將第2圖案曝光於第2曝光 領域之際，玻璃基板P上的重複領域53，係由投影領域 34a的端部35j所投影曝光。此時，使玻璃基板P沿Z方 向作相對移位，俾當點K到達投影領域34a的-X側端部時 ，以最佳焦點位置Z0爲起點，隨著掃描曝光的進行而朝 焦點位置Z-b前進，亦即，使玻璃基板P的第2曝光時的 相對移位與第1曝光時的相對移位呈逆相位關係。 藉此，點K之曝光時間係，由投影領域34e的端部 35K進行Ta時間的曝光，由投影領域34a的端部35j進行 Tb時間的曝光。由於Ta+Tb=Tl，因此使得點K與位於非 重複領域的其他點以相同的曝光時間曝光。又’當點K被 端部35k、35j所曝光期間，其沿Ζ方向作相對移位的全行 程，係與位於非重複領域的其他點之相對移位的全行程一 20 ---j.---j-------------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 507269 A7 _B7__ 五、發明說明（f?) 致，皆爲1個行程。 再者，藉由第1曝光及第2曝光，使位於重複領域53 的任意點之相對移位的全行程與位於非重複領域的其他點 之相對移位的全行程一致的作法，並非僅侷限於上述形態 ，只要第1曝光領域51之曝光開始時或曝光終了時的相對 移位，與第2曝光領域之曝光開始時或曝光終了時的相對 移位的至少一方大致相同即可。 本實施形態之掃描曝光方法及掃描型曝光裝置，除了 可獲致與上述第1實施形態之相同效果，並且，當第1曝 光終了後以步進方式進行第2曝光，亦即藉所謂的步進掃 描方式(step and scan)使曝光領域予以重複曝光時，由非重 複領域或重複領域所曝光之玻璃基板P上的曝光領域兩者 之焦點深度皆加深，除了可抑制色不均的發生之外，同時 ，不會使曝光時間超過所需時間，可防止曝光製程的產能 降低。 又，前述第2實施形態中，雖然以由投影系統模組3a 〜3e所構成的投影光學系統來進行第1曝光及第2曝光， 然而，其不在此限，例如，如圖11所示般，亦可使用具有 單一梯形之投影領域34f之投影光學系統。此時，位在玻 璃基板P上的重複領域53之任意點，雖係分別由投影領域 34f的端部35m、35η所投影曝光，然而，其第1曝光及第 2曝光時的玻璃基板Ρ的相對移位，係與第2實施形態相 同。 亦即，只要重複領域之第1曝光時的投影領域之形狀 21 I氏張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 一 ~ ' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 訂· — 507269 A7 ____B7____ 五、發明說明（尸） 及第2曝光時的投影領域之形狀，當線對稱於掃描方向之 平行軸，則以第2實施形態來進行，而線不對稱於掃描方 向之平行軸時，則以第1實施形態來進行。如上述，對應 於使重複領域曝光之投影領域的形狀，來設定使第1曝光 與第2曝光之移位爲同相位或逆相位的關係。 又，上述實施形態中，雖然透過基板台5來使玻璃基 板P呈正弦波狀移位，然而，其作法並不在此限，例如， 使其成爲階梯狀的移位亦可。又，使玻璃基板P沿Z方向 移位之際，亦可不使用焦點位置調整機能，例如，藉壓電 元件沿Z方向昇降亦可。 又，上述實施形態中，雖使基板台5相對於投影系統 模組3a〜3e的成像位置往Z方向移動，然而，其作法並不 在此限，例如，亦可固定住基板元件5的Z方向位置，並 且設置使光罩台4沿Z方向移動的昇降機構台，使得在掃 描曝光中，透過光罩台4使光罩Μ沿Z方向作相對移位。 在此狀況下，可獲致同等於使玻璃基板Ρ作相對移位時之 作用及效果。 進而，欲使光罩Μ的圖案之成像位置與玻璃基板Ρ沿 Ζ方向進行相對移位的方法，除了使玻璃基板ρ及光罩Μ 移位之外，亦可以使投影系統模組3a〜3e (亦即投影光學 系統）的成像位置的本身移位。此種作法，可經由例如壓 電元件等的既定週期，將設於投影系統模組3a〜3e內的複 數個光學透鏡間的距離進行移位來實現。 如以上所述，使投影系統模組3a〜3e之成像位置在各 22 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公楚)一 ---j.---^---------------訂---------^9— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _ B7____ 五、發明說明（yi ) 模組產生移位時，若使被第1投影光學群23的投影領域之 端部及第2投影光學群24的投影領域之端部所曝光的玻璃 基板P上的點（任意位置），所經過之相對移位的全行程 ，與被各投影光學群23、24的投影領域之中央部的所曝光 的點所經過之相對移位的全行程一致’則各投影光學群23 、24的配置間距L，不必滿足上述之式(3)的絕對必要性。 又，圖4、圖6〜圖8、圖10，雖以正弦波狀來表示相對移 位的行程，然而，亦可採既定的移位週期，從zo+b至Z〇-b之間以大致直線移位方式的三角波狀、梯形狀來表示相 對移位的行程。 再者，作爲本實施形態的基板，並非僅侷限於液晶顯 示元件用的玻璃基板P，亦適用於半導體元件用的半導體 晶圓、薄膜磁頭用之陶瓷晶圓，或是用於曝光裝置的光罩 或標線片的原版（合成石英、矽晶圓）等。 又，作爲投影光學系統3，可採如圖13所示之投影光 學系統。圖13所示者，乃是將2組變形的戴森(Dyson)型 光學系統組合後，作爲圖1所示之投影光學系統3a〜3e的 一例。再者，因各投影光學系統3a〜3e分別具有相同的結 構’因此，以下將以其中一個投影光學系統爲代表，說明 其結構。 此投影光學系統具有：第1部分光學系統61〜64、視 野光圈65、及第2部分光學系統66〜69，此等之第1及第 2部分光學系統，乃是分別將戴森型光學系統予以變形而 得者。 23 度顧巾_家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐Γ ~ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------· 507269 A7 _ B7___ 五、發明說明（β) 第1部分光學系統具有：直角稜鏡61，與光罩呈對向 關係;平凸透鏡62，係以凸面朝向直角稜鏡61的反向側;凹 凸透鏡(meniscus lens)63，係以凹面朝向平凸透鏡62;以 及直角稜鏡64，係配置在直角棱鏡61的下方。 由照明光學系統所射出的光通過光罩Μ後，藉由直角 稜鏡61將光程偏向90°後，射入於凸透鏡62。通過凸透 鏡62的光，由接合面62a折射而到達反射面63a。由反射 面63a反射的光，藉由接合面62a再折射，而到達與凸透 鏡62接合的直角稜鏡64。此光藉由直角稜鏡64而使光程 偏向90° ，將光罩Μ的1次像形成在該直角稜鏡64的射 出面。此處，在第1部分光學系統61〜64所形成之光罩 Μ的1次像係等倍像，其X方向（光軸方向）的橫倍率爲 正，而Υ方向的橫倍率爲負。 來自1次像的光，透過第2部分光學系統66〜69，將 光罩Μ的2次像形成於玻璃基板ρ上。又，因第2部分光 學系統的結構與第1部分光學系統61〜64相同，故省略其 說明。此第2部分光學系統66〜69，係同於第1部分光學 系統，形成X方向爲正而Υ方向爲負之橫倍率的等倍像。 因而’形成於玻璃基板Ρ上之2次像，乃成爲光罩Μ的等 倍正立像。又，本文中雖省略其詳細說明，然而投影光學 系統（弟1及第2部分光學系統）係兩側遠心(telecentric) 光學系統。又，配置在第1部分光學系統61〜64所形成的 1次像位置之視野光圈65，係例如具有梯形狀的開口部。 藉由該視野光圏65，將玻璃基板ρ上的各個曝光領域限制 24 尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 2—97公爱) —I —.--------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 ___B7__ 五、發明說明（θ ) 爲梯形狀。 如以上所述，即使採用戴森型光學系統之情況，若將 通過投影於玻璃基板P之梯形狀的大致視野中心的主光線 作爲光軸，沿著大致垂直於玻璃基板P之Z方向使玻璃基 板P以既定週期在既定範圍內進行移位，藉此，使光罩Μ 的圖案之成像面與玻璃基板沿光軸方向進行相對移位。 作爲掃描型曝光裝置1的種類，非僅侷限於將液晶顯 示元件的圖案曝光於玻璃基板Ρ之用來製造液晶顯示元件 的曝光裝置，亦可廣泛適用在其他範圍，例如，使半導體 元件圖案曝光於晶圓之用來製造半導體元件的曝光裝置、 薄膜磁頭、攝影元件(CCD)、或是標線片等之曝光裝置。 又，作爲光源6，可採用：從超高壓水銀燈產生的光 線（g 線(436nm)、h 線(404.7nm)、i 線（365nm) )、KrF 準分子雷射（248nm)、ArF準分子雷射（193nm)、F2雷射 (157nm) ° 投影系統模組3a〜3e的倍率並不侷限於等倍系統者， 縮小系統及放大系統之任一種皆可。又，作爲投影系統模 組3a〜3e，在使用準分子雷射等遠紫外線時，使用石英或 螢石等之遠紫外線可透過之材料作爲硝材；使用F2雷射或 X射線時，可採反射折射系統或折射系統的光學系統（光 罩Μ亦採反射型）。又，亦可不使用投影系統模組3a〜3e ，而採用使光罩Μ與玻璃基板P緊密接觸來曝光光罩圖案 的近接式(proximity)曝光裝置。 將線性馬達(linear motor)用於基板台5或光罩台4時 25 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚) ' --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 訂i 507269 A7 ____— B7_____ 五、發明說明（姘） (參照USP5,623,853或是USP5,528，118)，可用具空氣軸 承之氣浮型線性馬達，或是使用洛倫兹(Lorentz)力或電抗 力(reactance)之磁浮型線性馬達。又，亦可使各台4、5沿 導引部移動之方式或不設導引部之無導引部之方式來移動 者。 作爲各台4、5的驅動機構37、40，可使用以二維配 置磁石的磁石元件（永久磁石），與二維配置其線圏的電 樞元件互爲對向，藉由電磁力來驅動各台4、5的平面馬達 。在此狀況下，可將磁石元件與電樞元件的任一方連接於 台4、5，將磁石元件與電樞元件的另一方設於各台4、5 的移動面側（基座）。 爲避免因基板台5的移動所造成之反作用力傳導至投 影光學系統3，可採特開平8-166475號公報 (USP5,528，118)所載之作法，用框架(frame)構件以機械方 式釋放至大地。本發明亦可適用於具該種結構之曝光裝置 〇 爲避免因光罩台4的移動所造成之反作用力傳導至投 影光學系統3，可採用特開平8-330224號公報(US S/N 08/416,558)所載之作法，藉使用框架機構而以機械方式釋 放至大地。本發明亦可適用於具該種結構之曝光裝置。 如以上所述，本實施形態之基板處理裝置的掃描型曝 光裝置1，乃是藉由組裝含本發明之申請專利範圍內所列 舉之各種構成要素的各種子系統，並在滿足既定的機械精 度、電氣精度及光學精度的製造條件下所製造者。爲確保 26 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公楚) ""—- ----- .---Γ--I ---*1111111 ^ . I I--I--I ί請先閱讀背面之ii意事項再填寫本頁} ^07269 A7 五、發明說明（β) 各種精度，在組裝製程的前後，須進行對各種光學系統之 光學精度的g周整、對各種機械系統之機械精度的調整、對 各種電氣系統之電氣精度的調整。由各種子系統組裝成曝 光裝置之組裝製程，包含了各種子系統的相互連接、機械 連接、電子電路的配線連接，氣壓迴路的配管連接等。當 然，在進行由各種子系統組裝成曝光裝置之組裝製程前， 包含了對各子系統的組裝製程。〜旦完成了從各種子系統 組裝爲曝光裝置之組裝製程，再進行整合性的調整，以確 保曝光裝置整體的各種精度。又，使曝光裝置的製造能在 溫度及潔淨度等管理良善的潔淨室（無麈室）進行爲佳。 如圖12所示，對於液晶顯示元件或半導體元件等之元 件的製造，係經由以下步驟： 步驟201，液晶顯示元件等之機能、性能設計；步驟 202，根據該設計步驟而製作光罩M(標線片步驟2〇3，以 石英等來製作玻璃基板P或以矽材料來製作晶圓;步驟204 ’藉著前述實施形態之掃描型曝光裝置1將光罩Μ的圖案 曝光於玻璃基板Ρ (或晶圓）；步驟205，組裝液晶顯示元 件寺（組裝對象爲晶圓時，包含切割步驟、打線步驟、封 裝步驟）；以及，步驟206，進行檢查作業。 【發明效果】 如以上所述，申請專利範圍第1項之掃描曝光方法係 ，係將基板的曝光領域的一部份予以重複曝光之時，使基 板與光罩圖案的成像面在大致沿垂直於基板的方向的既定 範圍內作相對移位。 27 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) "" (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --- I------^ · I---I I I · 507269 A7 _ _B7__ 五、發明說明（>〇 藉此，以此種掃描曝光方法，可加深基板上的焦點深 度，且縮小了複數個曝光領域間，或是重複領域、非重複 領域間的曝光能量差，因此，可抑制色不均的發生，防止 元件品質的降低，同時，並可防止曝光製程的產能下降。 申請專利範圍第2項之掃描曝光方法，係在進行相對 移位時至少使光罩與基板的其中一方的位置沿著大致與基 板呈垂直的方向進行移位。 藉此，若運用此種掃描曝光方法，由於使圖案的成像 位置與基板沿著光軸方向進行相對移位，因而，可加深焦 點深度，減少基板上的曝光能量差，抑制色不均的發生。 申請專利範圍第3項之掃描曝光方法，係藉由形成重 複曝光之第1曝光及第2曝光來進行相對移位之動作。 藉此，若運用此種掃描曝光方法，即使對基板進行複 數次的掃描曝光，亦即藉所謂步進掃描方式將曝光領域予 以重複曝光時，仍可加深基板上的焦點深度，抑制色不均 的發生，同時，使曝光時間不會超過所需時間，可防止曝 光製程的產能降低。 申請專利範圍第4項之掃描曝光方法，係使相對移位 的動作連續性變化且以既定週期進行之。 藉此，若運用此種掃描曝光方法，可使曝光時間不會 超過所需時間，可防止曝光製程的產能降低。 申請專利範圍第5項之掃描曝光方法，係使重複領域 的任意位置之相對位置所移位的全行程，與非重複領域的 任意位置之相對位置所移位的全行程一致。 28 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） I----------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 __B7____ 五、發明說明（d) 藉此，若運用此種掃描曝光方法，可消除各領域間的 曝光能量差，即使是採用投影領域係部份重複的複數個投 影光學系統之情況，仍可排除因各投影光學系統間的曝光 能量差所產生的色不均現象，可提高元件的品質。 申請專利範圍第6項之掃描曝光方法，係使重複領域 之任意位置的第1曝光時的移位週期與第2曝光時的移位 週期呈同相位或逆相位的關係。 藉此，若運用此種掃描曝光方法，即使對基板進行複 數次的掃描曝光，亦即藉所謂步進掃描方式來對曝光領域 重複曝光，仍可消除重複領域與非重複領域之間的曝光能 量差，可排除因曝光能量差所產生的色不均現象，可提高 元件的品質。 申請專利範圍第7項之掃描曝光方法，係使重複領域 的任意位置之中，其第1曝光領域的曝光開始時或曝光終 了時的相對移位，與第2曝光領域的曝光開始時或曝光終 了時的前述相對移位的至少一方一致。 藉此，若運用此種掃描曝光方法，第1曝光領域與第 2曝光領域之重複領域及非重複領域之間，並無曝光能量 差，可排除因曝光能量差所產生的色不均現象，得以提高 元件的品質。 申請專利範圍第8項之掃描型曝光裝置，係當以投影 光學系統所投影曝光的曝光領域的一部份予以重複曝光時 ，移位調整裝置係使基板與光罩圖案的成像面沿著大致與 基板垂直的方向以既定範圍進行相對移位。 29 、 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------r ------------丨丨訂---------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 —____B7__—— 五、發明說明（β ) 藉此，若運用此種掃描曝光裝置，可加深基板上的焦 點深度，縮小複數個曝光領域間，或是重複領域、非重複 領域間的曝光能量差，因而，可抑制色不均的發生，防止 元件品質的降低，同時，可防止曝光製程的產能降低。 申請專利範圍第9項之掃描型曝光裝置’其移位調整 裝置係根據第1投影光學群與第2投影光學群之既定間距 ，來設定相對移位的週期。 藉此，若運用此種掃描曝光裝置，藉由第1投影光學 群及第2投影光學群之重複領域與非重複領域所曝光的各 點，其相對移位的全行程係一致，因此消除了各領域間的 曝光能量差，即使採用投影領域部份重複的複數個投影光 學系統，仍可排除因各投影光學系統間的曝光能量差所產 生的色不均現象，可提高元件的品質。 申請專利範圍第10項之掃描型曝光裝置’係設定相對 移位的週期，俾使既定間距與既定週期之間基板同步移動 的移動距離保持m倍的關係（m爲1以上的整數）° 藉此，若運用此種掃描曝光裝置，第1投影光學群的 投影領域與第2投影光學群的投影領域之基板的相對移位 形成同相位，可獲得在重複領域與非重複領域的被曝光各 點的相對移位的全行程一致的效果。 [圖式之簡單說明] 圖1係表示本發明之實施形態之圖’其係表示掃描型 曝光裝置的槪略結構之外觀立體圖。 圖2係該掃描型曝光裝置的槪略結構圖。 30 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） r--------------------------^^9. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _^B7_____ 五、發明說明（灯） 圖3係本發明之實施形態之圖’其係表示藉投影系統 模組所設定的投影領域的俯視圖。 圖4係玻璃基板沿光軸方向進行相對移位時其位置與 時間的關係圖。 圖5係本發明之實施形態之圖’其係表示投影系統模 組的投影領域與玻璃基板的俯視圖。 圖6係表示在通過投影領域期間使玻璃基板進行1個 行程的相對移位之關係圖。 圖7係玻璃基板沿光軸方向進行相對移位’其位置與 時間的關係圖。 圖8係表示在通過投影領域期間使玻璃基板進行2個 行程的相對移位之關係圖。 圖9係本發明之第2實施形態之圖，其係表示具有第 1曝光領域、第2曝光領域之玻璃基板與投影系統模組的 投影領域之關係的俯視圖。 圖10係表示本發明之第2實施形態之圖’在通過投影 領域期間使玻璃基板進行1個行程的相對移位之關係圖。 圖11係本發明之另一實施形態之圖，其係表示具有第 1曝光領域、第2曝光領域的玻璃基板與單一的投影領域 之關係的俯視圖。 圖12係表示液晶顯示元件之製造步驟之一例的流程圖 〇 圖13係表示組合戴森型光學系統後之投影光學系統之 一^例之槪略結構圖。 31 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） ------------Ψ-----II —訂--------- 線# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 507269 A7 _ B7 五、發明說明（丨。） [元件符號說明] L 間距 Μ 光罩（標線片） Ρ 玻璃基板（基板） 1 掃描型曝光裝置 3 投影光學系統 17 控制裝置（移位調整裝置） 23 第1投影光學群 24 第2投影光學群 33 非重複領域 36a-36d、 53 重複領域 51 第1曝光領域 52 第2曝光領域 -------------------I--訂--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 32 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐〉