TW505647B - Structured pigment coating and its preparation and use - Google Patents

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John Zambounis
Manfred Hofmann
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Ciba Geigy Ag
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Description

505647 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 本發明有關一製備含基材及顏料塗層(用可溶解之顏 料先質產生)之材料之方法,有關用此方法製備之一些材 料及其作爲濾色片或在數位資訊之永久儲存上之用途。 由專利案號 EP648770、EP648817、Angewandte Chemie 68/4, 133 -150 (1956)以及 J· Org· Chem·这,127 - 132 (1957)得知,有機顏料 可轉化成其它顏色之可溶解之衍生物。這些衍生物包含螢 光染料,或包含甕染料(還原染料),然而,其性質對許 多著色目的不利,例如其不良的光安定性、高移動趨勢、 低熔點或螢光。此類溶於基材中之染料可轉化回最初的顏 料,或可轉化成有不同晶體改變之顏料。. 與之相反地,高級顏料擁有好的光安定性,僅非常少 量或完全不溶於要著色之基材中。依照A.B. Mardiant, "Optical
Recording”,306 - 371 (Addison-Wesley Publ· Co·,1990)、W· Kem & L. Vossen,"Thin Film Processes”(1978)及 JP-88/118098,雖然有機顏料 可直接昇華在基材上(利用蒸汽沉積法實施),其有限之 熱女定性表不要如此做需要有局眞空[H. Nakazumi et al.,J. Soc. Dyers + Col. 106/11, 367 (1990)]。 所以’昇華是一種非常緩慢、費事且不經濟的塗層技 術,其不適合有效地大量生產著色之產物。此外,因爲晶 體成長不容易控制,所以昇華得到之塗層常常包含不想要 之尺寸之顔料粒子,或無法均勻或均一地著色到期望之程 度。昇華方法不能用於生產高解析度圖案,並有顏料粒子 的問題,即其在基材或設備上不希望之位置上沉積。 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS ) M規格(mx297公羡) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·#
-4- 505647 4 9 ' 1, Α7 Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明() 因此,顏料幾乎總是僅用於大量著色,即將其簡單地 分散在一適當基材中,例如分散在塑膠粒、膜或纖維、塗 層組成物或印刷油墨中。然而,大量著色會產生缺點,像 流動學問題,特別是在非常細顏料粒子情況中,顏料對基 材光安定性之負效果、或有關基材性質不滿意之顏料安定 性。 再者,均勻著色需要有機顏料能以高剪力能量及/或 高溫作廣遠之分散。如在顏料製劑或母體混合物之製備, 這可直接、在倂入基材期間或甚至在倂入之前發生。 再者,在大量著色中,視預期之用途及需要之結果而 定,必須採用已知發色基之不同顔料(像透明或不透明形 式、不同的表面處理或不同的晶體改變)。這可使必須儲 存之範圍不必要且不經濟地擴寬。 此外,當使用一結合劑時,其中含之先質可經長時間 不必要的反應而形成有色產物。 所以迄今尙不可能不用結合劑而滿足一簡單塗層方法 之需要。 本發明提供製備一種含基材之材料之方法,該基材表 面上至少有由一或多種式(I)或(II)之顏料或其衍生物組成之 顔料塗層, A(D1)(D2)x (I) Pc (II) 式φ中A爲一喹吖啶酮、笸、蒽輥、靛藍、偶氮基、喹喏 酞酮、異二氫吲哚酮、異二氫吲哚、二呷畊、酞花靑或二 酮吡咯幷吡咯系列之發色基之自由基,其含與個02連 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訾
、一\5 Γ
本紙·張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 505647 A7 B7 五、發明説明() 接之氮原子,存在於A中之每一個氮原子可各自獨立地與 0、1或2個D1*D2基連接,
DiSDa爲氫,X爲一從0到4之整數,及 Pc爲一酞花靑系列之發色基, 該方法包括 ⑻用至少一式(III)之潛隱顏料或其衍生物之溶液或熔融物塗 層基材, A(D3)(D4)X (III), 或用至少一式(IV)之潛隱顏料或其衍生物或其位置異構物之 溶液或熔融物塗敷基材, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 式(III)中之A及X具有與式(I)相同之意義,a含與D3及X個D4 連接之氮原子,及存在於A中之每一個氮原子可各自獨立 地與0、1或2個03或04基連接,及 D3及04各自獨立,爲式(Va)、(Vb)或(Vc)之基 〇 J-o-/3 —C-O—(X)—(Z)—Q (Vb), \r4 (Vc), 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 505647 # t ^ 4 A7 B7 五、發明説明() 及式(IV)中1^及1^2各自獨立,爲鹵素、crc18院氧基、c2-c18= 烷胺基、crc18環烷胺基、六氫吡啶基或嗎啉基, 及Μ爲兩個氫或一至少二價金屬原子, (b)用浪去仏及04基並將其用氫取代,或消去1^及1^2基之方 法,將潛隱顏料部份或完全轉化成其不溶解之顏料形式, 其中,在式(Va)、(Vb)及(Vc)中, m、η及p各自獨立,爲0或1, X 爲烷基、〇:2尤14伸烯基、c2-c14伸炔基、〇(:12伸 環烷基或c4-c12伸環烯基, Y 爲一-V-(CH2)q-基, Z 爲一-V-(CH2)r 基, V 爲C3-C6伸環烷基, q 爲一從1到6之數及 r 爲一從0到6之數, 艮及R2各自獨立,爲氫、CrC6烷基、CrC4烷氧基、鹵素、 CN、N02、未被取代之或被CrC4烷基、CrC4綜氧基或 鹵素取代之苯基,或爲苯氧基, Q 爲氫、CN、SKRA、一 CXRsXKXH)基,其中 R5、仏及 R7 各自獨立,爲氫或鹵素及至少一自由基R5、及化7爲 鹵素、 一 S02—基,其中之&及化2如上定義、 一 S02R8或SR8之基,其中之^爲匕义院基、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
505647
及 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 一 aHKRA基,其中之^爲未被取代之或被Crc4院基 CrC4院氧基或鹵素取代之苯基、 或一下式之基
N.
N =\
N
JJ
R3及R4各自獨立,爲氫、CrC18垸基或一下式之基, -¾⑺ irQ:1, K2 其中之X、Y、Ri、R2、m及η如上定義,或r3及仏連同與它 們連接之氮原子形成一吡咯啶基、六氫吡啶基或嗎啉基自 由基。 在染料自由基A中,每一個與D!、D2、D3或D4連接之氮 原子最好與至少一幾基直接相鄰,或每一個氮原子與一幾 基共軛。染料自由基之所有氮原子與D,、D2、03或04連接 是不必要的,且常常是不適當的;而,需要時,A(D〇(D2)x 及A(D3)(D4)x可在自由基A內含另外之、/、=N-、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-8 505647 A7 B7 五、發明説明() •NH-或-NH2 基。 與之相反地,多於一個之A、D2、D3或D4基(例如兩 個,若發色基包含一基-NH2)可與一單獨氮原子連接,以使 其自由基A可爲-NH‘或-N:。 A爲有下列基本結構之已知發色基自由基, A(H)(H)X, 例如 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _ 訂
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(.2!0Χ297公釐) -9- 505647 t 氟 % A7 B7 五、發明説明() Ο 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -10- 505647 $ ^ ^ ’ A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 505647 五、發明説明() 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 Ο
h3c
式中之Μ如上定義 < 或爲
式中之仏及〇2各自獨立,爲一下式之基,
或,對每一結構,爲其任何已知之衍生物。 Pc爲一下面基本結構之酞花靑, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4說格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-12- 505647 A7 B7 五、發明説明()
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 式中之 Μ 爲,例如 ’ H2、Mg、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、 Cu、Zn、Zr、Pd、 Cd、 Sn、Ce、Hg、Pb 或 Bi,特別是一二價 金屬, 或爲其任何已知之衍生物。 可能之衍生物實例爲單-或多取代之上述基本結構之發 色基,及,特別是在酞花靑之情況,爲那些其中之金屬爲 金屬氧化物、金屬鹽或金屬複合物(例如-Ti(0>、-v(o)_、 -Fe(OH)-或-[Co+(NH3)2]Cr〇之形式者。需要時,碳架構上之取 代基可,例如,爲經由一直接鍵或羰基、羰氧基、氧羰 基、颯基或亞砜基連接之鹵素、硝基、胺基、羥基、CrC18 烷基、(:5-(:6環烷基、CrC4烷氧基、CrC18烷硫基、CrC18烷胺 基、C2-CI8二烷胺基或CrC18環烷胺基。 (^-(^伸烷基或〇(:12伸環烷基X爲一直鏈或支鏈之伸烷 基或伸環烷基,例如亞甲基、二亞甲基、三亞甲基、1-甲亞 甲基、1,1-二甲亞甲基、1-乙二亞甲基、U-二甲二亞甲基、 1-乙小甲二亞甲基、1,1-二甲三亞甲基、2,2-二甲三亞甲基、 四亞甲基、U-二甲四亞甲基、六亞甲基、十亞甲基、U-二 甲十亞甲基、U-二乙十亞甲基、十四亞甲基、〗,2-伸環丁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨〇><297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
505647 五 ___I_ 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 發明説明() 基、1>伸環戊基、1,2·伸環己基、1,4-伸環己基或2,2,6-三甲-1,4-伸環己基。 作爲C2-C14伸烯基、C2-C14伸環炔基或CrC12伸環烯基之X 爲直鏈或支鏈之伸烯基、伸炔基或伸環烯基,例如伸乙烯 基、伸烯丙基、伸甲烯丙基、1-甲-2-伸丁烯基、1,1-二甲-3-伸 丁烯基、2-伸丁烯基、2-伸己烯基、3-伸己烯基、1-甲-2,6-伸 丁-3-炔基或1,4-伸環己烯基。 任何鹵素取代基爲,例如,碘或氟,特別是溴,且最 好是氯。 (VC6烷基爲,例如,甲基、乙基、正丙基、異丙基、 正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、第三戊基或己基 及,在(^(:18院基情況,額外之實例爲庚基、辛基、2_乙基 己基、壬基、癸基、十二基、十四基、十六基及十八基。 〇5,0:6環烷基爲,例如,環戊基及特別是環己基。 CVC6伸環烷基爲,例如,伸環丙基、伸環丁基、伸環 戊基及特別是伸環己基。 CVC4烷氧基爲,例如,甲氧基、乙氧基、正丙氧基、 異丙氧基或丁氧基,及氧基爲,例如,額外之己氧 基、癸氧基、十二基氧基、十六基氧基或十八基氧基。 ^:^^烷硫基爲,例如,甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁 硫基、辛硫基、癸硫基、十六基硫基或十八基硫基。 (^(:18烷胺基爲,例如,甲胺基、乙胺基、丙胺基、己 胺基、癸胺基、十六基胺基或十八基胺基。 本紙張尺度適用中_國家榡準(CNS ) A4規格(2!〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-14- 505647 A7 B7 五、發明説明( c2-c18二烷胺基爲,例如,二甲胺基、二乙胺基、甲基 丙胺基、乙基己胺基、甲基癸胺基、二辛胺基或乙基十六 基胺基,兩個烷基自由基之碳原子合計在一起。 CrC18環烷胺基爲,例如,N-吡咯啶基、N-六氫吡啶 基、甲吡咯啶基、甲六氫吡啶基、二甲-N-吡略啶基、 二甲六氫吡啶基、十二基-N-吡咯基、十二基-N-六氫吡啶 基,偏愛者爲N-六氫吡啶基、4_甲·^-六氫吡啶基、4-乙-N-六 氫吡啶基、4-丙六氫吡啶基及4-丁六氫吡啶基。 特別有興趣者爲上述之方法,其中使用式(ΠΙ)之潛隱顏 料者,其中X爲〇或1,D3及〇4各自獨立,爲式(Va)、(Vb)或
(Vc)之基 〇 II —c-o-WfY^co) (Va) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 O II A γ —C—Ο—N、 —C—Ο—(X)—(Z)—Q (Vb) ^ R4 (Vc) n及p 皆爲0, m 爲0或1, Q 爲氫、CN、CC13、基 s〇2-
、so2ch3ssch3 x 爲crc4伸烷基或c2-c5伸烯基, 心及化各自獨立,爲氫、crc4院基、甲氧基、氯或no2 及 及R4各自獨立,爲氫、CrC4院基或基
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -15- 505647 A7 B7 五、發明説明() 或R3及R4—起形成一六氫吡啶基自由基, 及特別是那些式(III)之潛隱顏料,其中X爲1,D3及D4相同 爲下式之基,
〇-C(CH3)2CH2CH3 :h3 或 。 o—ch2
N (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 特別有興趣者亦爲上述之方法,其中使用式(IY)之潛隱 顔料者,其中1^及1^2各自獨立,爲C2-Cl8:烷胺基或^^環 烷胺基。 式(III)及(IV)之潛隱顏料爲已知之物質,其合成方法述 於’例如,EP 648770、EP648817、Angewandte Chemie 68/4,133 -15〇 (1956)或 J· Org· Chem·这,127 - 132 (1957)中。若一些也是新穎 的,其可利用類似於一般已知之方法製備。若不用式(IV)之 潛隱顏料(其中之1^及1^在5/19位者),另外可能性爲其位 置異構物(其中之及L在,例如,5/6、5/13、5/26、5/28、 6/13或6/20位者)或一位置異構物之混合物。在許多情況, 位置異構物不適合在上述合成反應中產生。 偏愛之式(I)化合物爲 i)式(VI)之2>二氫吡咯幷[3,4-c]l壮咯,
(VI) 訂
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- 505647 I « • A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明() 式(VI)中之仏及仏各自獨立,爲下式之基
N 其中之 G3 爲-0-、-NR14-、·Ν=Ν-或-S02-, Rio^Rn 各自獨立,爲氫、氯、溴、Q-C4烷基、CrC6烷氧 基、〇0:6院胺基、CN或苯基, Rl2及Rl3爲氫及 Rl4 爲氫、甲基或乙基; ii)式(Vila)或(Vllb)之E羧醯亞胺,
〇 (Vila)或 (Vllb) 其中R!5爲氫、crc6烷基、未被取代之、鹵素-取代之或crc4 烷基-取代之苯基、苄基或苯乙基; iii)式(YIII)之喹喏吖啶酮
r17 (VIII) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -17, 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 505647 A7 B7 五、發明説明() 式(VIII)中R16及r17各自獨立,爲氫、鹵素、Crc18院基、crc4 烷氧基或苯基; iv)式(IX)之二 of 畊
式(IX)中之R18爲氫、鹵素或基; V)式(Xa)、(Xb)或(Xc)之異二氫吲哚,
其中之R2。、R21、RW及R21’各自獨立,爲氫、〇>(:18烷 基、crc4院氧基、鹵素或三氟甲基; vi)式(XI)之靛藍衍生物, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-18- 505647 A7 B7 五、發明説明(
(XI) 式(XI)中R22 爲氫、CN、CrC4垸基、CrC4踪氧基或鹵素 vii)式(XII)之苯幷咪唑酮偶氮基化合物 〇
(XII) 式(XII)中R23及R24各自獨立,爲氫 院氧基; viii)式(XIII)之蒽醌型化合物 鹵素、crc4院基或crc4
(XIII);及 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ix)式(XIV)之酞花靑
-HR^NH-R^y 式(XIV)中 (XIV) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 505647 » 氣 Α7 Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明() Μ 爲 H2、Zn、Cu、Ni、Fe、TiO 或 VO, 爲-CH(R27)-或-so2-, 爲氫、CVC4烷基、-nhr27、_nhcor28c( V26 -c〇R28 或
爲氫或crc4院基, 爲(>(:4烷基, 爲氨、齒素、C1-C4垸基或C1-C4焼氧基 爲0或1,及 爲一從1到4之數。 偏愛之式(Π)化合物爲 X)式(XV)之酞花靑 ^28 V29
Z y
式(XV)中 Μ 爲 H2、Zn、C11、Ni、Fe、TiO 或 V0。 (XV) 特別偏愛之吡咯幷吡咯爲那些式(VI)之化合物,其中之 G與G2相同者,特別是那些Q與G2同爲式 基者,其中之R1()及Rn各自獨立,爲氫、甲基、第三丁基、 氯、溴、CN或苯基,及非常特別偏愛者爲那些其中之〜爲 氫者。
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -20- 505647 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明() 在酞花靑中,特別優先選取者爲那些式(XIV)之化合 物,其中之Μ爲H2、Cu或Zn,R25爲-CH2-或-SOr,R26爲氫、 -NHCOCH3或苄醯基,R27爲氫及z爲1者,及特別爲那些式 (XV)之化合物,其中之Μ爲H2、Cil或Zn者。 要塗覆之基材在其化學組成及形式毫不重要。其可, 例如,包含金屬、金屬氧化物、塑膠、非金屬或複合材 料,像玻璃、瓷器、亮面鋼、塗漆鋼或塗層鋼、鋁、矽、 銦/氧化錫、砷化鎵、聚氯乙烯、聚對酞酸乙二酯、聚丙 烯、聚醯胺、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、及其混合物、合金 或共聚物。這些可包括任何物品及物體,例如,平板、金 屬板、膜、管、纖維、織布、瓶、薄板或片狀之物品。 在塑膠組成之基材或含塑膠基材之情況,塑膠可爲任 何需要之高分子量有機材料,如乙烯型聚合物,像聚苯乙 烯、聚-α-甲基苯乙烯、聚對甲基苯乙烯、聚對羥基苯乙 烯、聚對羥苯基苯乙烯、聚(丙烯酸甲酯)及聚(丙烯醯胺)及相 當之甲基丙烯酸化合物、聚(順丁烯二酸甲酯)、聚(丙烯腈)、 聚(甲基丙烯勝)、聚(氯乙烯)、聚(氟乙烯)、聚(氯亞乙烯)、聚 (氟亞乙烯)、聚(醋酸乙烯酯)、聚(甲基乙烯基醚)及聚(丁基乙 烯基醚)、由CrC6·(像甲醛及乙醛)及一雙環或最好是單 環酚(其爲未被取代或被一或二個CrC9烷基、一或二個鹵 素原子或苯環取代者,像鄰-、間-或對-甲苯酚、二甲苯、對 第三丁酚、對氯酚或對苯酚、鄰-、間_或對-壬酚)或有不只 一個酚基之化合物(像間苯二酚、雙(4-羥苯)甲烷或2,2-雙(4_ 羥苯)丙烷)衍生之酚醛樹脂、由順丁烯二醯亞胺及/或順 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 505647 A7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 B7五、發明説明() 丁烯二酸酐衍生之聚合物,像順丁烯二酸酐及苯乙烯之共 聚物、聚(乙烯吡咯啶酮)、生物聚合物及其衍生物,像纖維 素、澱粉、殼糖、聚葡萄胺糖、明膠、玉米蛋白、乙基纖 維素、硝基纖維素、醋酸纖維素及丁酸纖維素、天然樹脂 及合成樹脂,像橡膠、酪蛋白、聚矽氧及聚矽氧樹脂、 ABS、脲-及三聚氰胺-甲醛樹脂、醇酸樹脂、酚樹脂、聚醯 胺、聚醯亞胺、聚醯胺/醯亞胺、聚諷、聚醚楓、聚氧化 伸苯基、聚胺甲酸乙酯、聚脲、聚碳酸酯、聚伸芳基、聚 硫化伸芳基、聚環氧化物、聚烯及聚二烯。 偏愛之高分子量有機材料爲纖維素醚及纖維素酯,像 乙基纖維素、硝基纖維素、醋酸纖維素或丁酸纖維素、天 然樹脂或合成樹脂,像加成聚合樹脂或縮合樹脂,如胺基 樹脂(特別是脲-及三聚氰胺-甲醛樹脂)、醇酸樹脂、酚樹 脂、聚碳酸酯、聚酯、聚烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚醯 胺 '聚胺甲酸乙酯、ABS、聚氧化伸苯基、聚矽氧及聚矽氧 樹脂、及其混合物。 作塗層時,只須將潛隱顏料簡單地熔化或最好是溶於 一適當溶劑中。亦可使用潛隱顏料混合物,各別成分一起 熔化或連續熔化,或溶於一適當溶劑中,因此相當低的混 合熔點或相當高的濃度是可能的。潛隱顏料宜在一稍高溫 度,最好是在介於30°C及溶劑沸點間之溫度下攪拌溶解。 適當溶劑都是慣用之溶劑,尤其是像烴、醇、醯胺、 勝、硝基化合物、N雑環、醚、酮及酯,需要時,其亦可 爲單-或多不飽和者或氯化者,例如甲醇、乙醇、異丙醇、 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -22- 505647 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明() 乙醚、丙酮、甲基乙基酮、1,2-二甲氧乙烷、1,2-二乙氧乙 烷、2-甲氧乙醇、醋酸乙酯、四氫呋喃、二噚烷、乙腈、苯 甲膪、硝苯、N,N_:甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲 亞諷、N-甲吡咯啶酮、吡啶、甲吡啶 '喹啉、三氯乙烷、 苯、甲苯、二甲苯、甲氧苯及氯苯。另外之溶劑實例描述 在許多表列及參考文獻中。若不用單一溶劑,亦可使用二 或多個溶劑之混合物。 優先選取者爲那些毫不或僅非常緩慢溶解要塗層之基 材,且沸點介於40°C與170°C間之溶劑,特別是芳烴、醇、 醚、麵及酯。特別優先選取者爲甲苯、甲醇、乙醇、異丙 醇、1,2-二甲氧乙烷、1,2-二乙氧乙烷、丙酮、甲基乙基酮、 醋酸乙酯、四氫呋喃及二哼烷,及其混合物。 潛隱顔料在溶劑中之濃度偏愛爲大約80-99%之飽和濃 度,而在不會有溶劑化物過早沉澱之情況,亦可使用過飽 和之溶液。對許多式(ΙΠ)及(IV)之潛隱顏料,最佳濃度爲〜0.1 -50%重量百分比,常用者爲1-20%重量百分比。 溶劑及最佳濃度之選擇應考慮選擇之塗層技術對溶液 之物理性質之要求,如密度、蒸汽壓力及特別是黏度。 在溶液包含不溶解粒子(例如灰塵、顏料粒子或其它 不純物)之情況,或在使用複雜塗層技術(例如旋轉塗 層)之情況,在進一步使用前宜先將此溶液過濾,使用非 常小孔隙之濾紙特別有利。無塵環境(例如乾淨空氣之房 間)亦是適當的。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 505647 Α7 Β7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明() 塗層可利用任何希望用之已知技術進行,像利用液浸 法、噴霧法、印刷法、簾塗布法、刮刀塗層法或旋轉塗層 法。此慣用技術以及其優點及缺點非常詳細地描述在許多 刊物中。利用旋轉塗層法可得到特別好及均勻的塗層。 在塗層期間,基材可全部塗層,或最好是僅在部份表 面上塗層,形成著色圖案。一些塗層技術自動產生圖案, 像在印刷之情況,其中圖案係依印刷板之圖案產生,而用 其它塗層技術時,可使用慣用之圖案輔助物,像噴霧時之 模版。在本發明方法之步驟⑻中,基材最好是僅在其部份 表面上塗層。 塗層過後,很容易在,例如,0.1至1.0巴下利用蒸發而 將溶劑部份或全部去除。溶劑宜在一低於溶劑發火點1-50 °C之溫度及0.7 - 1.0巴之壓力下,在排氣罩下蒸發至S 50% (重量百分比)之殘留量,以潛隱顏料爲準。 然後將塗在基材上之潛隱顏料塗層部份或完全轉化成 其不溶解之顏料形式。在此情況中,必須去除式(ΠΙ)中之D3 基及,適當時,去除D4基或,分別去除式(IV)中之1^及1^ 基。在式(III)之潛隱顏料之情況,此步驟容易發生,D3基 及,適當時,D4基碎裂並在發色基自由基上被氫原子取 代。在式(IV)之潛隱顏料之情況,此步驟同樣容易發生,雖 然^及匕不留下任何氫原子(換言之,正式消除發生)。 潛隱顏料之(b)步驟轉化成其不溶解形式之反應可非常 容易地利用熱處理(在例如介於50至400°C之溫度,較適宜 者爲在100至200°C之溫度下加熱,特別是利用接近之熱源或 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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本紙張又度適用悄國家揉準(_ Μ規格(2丨GX297公幻善 505647 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明() 用紅外光照射)、光解處理(例如,用波長5375塵米之紫 外光照射)或化學處理(暴露在一有機或無機布忍斯特 (Br0nsted)酸或路易士 (Lewis)酸或一鹼之蒸汽下,像暴露在鹽 酸、二氟乙酸、三氟化硼、氨或4-二甲胺卩比陡之蒸汽下)進 行。提到之轉化方法亦可合併進行,例如在光照射情況用 未聚焦或特別適宜者爲用聚焦雷射光束,例如用488及5M 塵米線之氬離子雷射光束、〜10微米線之c〇2雷射光束或一 1064塵米主線之Nd:YAG雷射光束(頻率加倍或不加倍)。 利用步驟(b)中潛隱顏料轉化成其不溶解形式之條件之 選擇,可再現地影響顏料塗層之結構,特別是在顏料粒徑 上。例如,在不同條件下,可得到不同粒子,細(直徑2〇1 微米)、中等(直徑〜0.1-1微米)或粗(直徑U微米)顏 料粒子。在許多情況,已發現,在轉化期間將基材本身加 熱至一稍高溫度(〜50-80°C )有利。 在本發明之方法步驟(b)中,潛隱顔料可全量地及全面 上轉化成其不溶解之顏料形式。然而,步驟(b)最好僅在選 擇區發生,其可非常容易地得到結構顏色圖案。此結構之 解析度視轉化反應所用工具之大小而定,例如視用作熱源 之熱電偶大小而定,或視用作照射工具之聚焦或未聚焦光 束直徑而定。 若於選擇性轉化反應用雷射光束,則可得到結構顔色 圖案中特別高解析度之結構顏色圖案,例如從1微米到 米,較適宜者爲5-2〇0微米,特別適宜者爲1〇_5〇微米。此 解析度意指兩條連續線間之最小間隔。使用雷射光 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 * ·ϋ 505647 « * 4 t A7 B7 五、發明説明() 電偶可以簡單及快速的方式得到結構顔色圖案,例如用一 雷射印記裝置或利用類似於已知之雷射印表機或熱感印表 機之技術。此操作最好使用程式控制引導,自 動操作’最好是用記憶程式控制或用有固定或可變資料之 電腦操作。結構顔色圖案之選擇是任意的;其可包含連續 像素(pixel),例如排列成螺旋、條碼、字母或文字筆劃及幾 何或美術設計形式,例如商標符號。 在不需要高解析度之情況’例如用於裝飾目的,亦可 採用一種程序’即在其中如上述之步驟(a)中產生之有色圖 案在步驟⑻中在全面上轉化成不溶解之顔料形式。然而, 其亦可在步驟⑻中產生所需之一般有色圖案之輪廓,然後 在步驟⑻中將所需之高解析度有色圖案轉化成不溶解$自 料形式。又,有好解析度之結構亦可利用一固定或可程式 化之屛蔽照射產生,例如經由一模版或液晶幕。 步驟(b)僅在選擇區實施時,其不僅留下有顔料塗層之 區域,也留下含未變化之潛隱顏料區域。若潛隱顏料轉化 成不溶解顏料形式之條件是溫和的(與潛隱顏料之安定 比較),則有時其亦可僅進行一些潛隱顏料之部份轉化, 以使顏料塗層仍包含可溶解之部份。在兩種情況,在步驟(a) 及(b)後最好進行包括去徐殘留之潛隱顏料之額外步驟⑷。 殘留之潛隱顔料最好是用溶劑去除,例如利用浸洗 (如逆流式)、或利用洗滌(如用壓力注射器或冷凝蒸 汽),使用(或不用)機械輔助像刷子、攪動或超音波。 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS ) A4規格(210Χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
五 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 505647 I » 1 A7 B7 發明説明() 優先選用者爲與塗層操作相同之溶劑。回收之殘留潛隱顏 料之溶液可直接或在淸潔(例如過濾)後再利用。 利用本發明之方法將顏料塗層塗在基材上後,可利用 相同方式塗上另一顏料塗層,使得基材有二或多層顏料塗 層。原則上,此程序可隨需要重覆進行。 本發明因此亦提供一種將二或多層顏料塗層塗在基材 表面上(連續塗覆這些顔料塗層)之方法,塗每一顔料塗 層時 > 重覆步驟⑻至(C)。 本發明之方法驚訝地能製成非常均勻,均一及透明之 高安定性塗層。在一有色圖案之外緣有一狹窄區域,其寬 度,視轉化方法之解析度及基材之導熱性而定,爲例如55-10微米(用一良好之聚焦雷射)。顏料塗層厚度之均一性 相當於潛隱顔料厚度之均一性;視塗層方法而定,其變化 率低於25%,通常爲低於10%,在精密塗層技術像離心法之 情況,其變化率甚至降至低於1%。在品質上,在所有點上 之反射光譜有相等的不透明度;在量上,其僅視塗層厚度 而定。 除此之外,在潛隱顔料已轉化成其不溶解之顏料形式 之區域上,顏料塗層實質上是均一的。也可能得到非常均 勻分佈之細顏料粒子(直徑爲,例如,0.1微米者),產生 特別透明及光亮的顔色。顏料塗層完全不存在於未經處理 (將潛隱顏料轉化成其不溶解之顏料形式)之區域,因此 這些區域之透光度相當於裸露基材之光透明度。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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A7 —____ _B7_ 發明説明() 〜 本發明因此亦提供一含基材之材料,其表面塗有至少 〜由一或多種式(I)或如申請專利範圍第i項之式(11)之顏料 組成之顏料塗層,該塗層在基材部份表面上實質上是均一 的’在基材之其餘表面上是不均一的。 爲了防止外在影響,可額外地提供有保護層之本發明 材料,例如有一塗層材料,其含前述之一塑膠,需要時, 也含進一步改進顏料性質之添加物,例如光安定劑像空間 位阻胺、或紫外光吸收劑,·像羥二苯基酮、羥苯基苯幷三 哩、經本基二阱或胺苯草醯脲。在二或多個顔料塗層之情 況,在各別塗層間也可提供一保護層,以使後續之顏料塗 層不直接塗在基材上,而是塗在此中間層上。 本發明之材料可有一或多個顔料塗層。在有二或多個 顔料塗層塗在一基材上之情況,優先選取者爲含式①或(11) 之顔料或其混合物之塗層,其有不同的吸收,像一寬廣或 尖銳之吸收帶,或不同的最大吸收,像45〇塵米及/或55〇 塵米或650塵米。在每一情況,每一顏料塗層宜形成一獨立 圖案,其覆蓋範圍與其它顏料塗層之圖案之覆棻範圍不 同,結果產生多色圖案。本發明因此亦提供—材料,其中 之基材上塗有多數顏料塗層,其不會形成相等瓊棻範圍之 圖案’且有不同的吸收及/或不同的最大吸收。 特別優先選取者爲一種材料,在此種材料中之顏料塗 層含有顔料’此種顏料之性質及排列係產生藍、綠及紅色 區域’且在此種材料中之基材爲透明的。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-28- 505647 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 除不同顏色之多數顏料塗層外,亦可有多數不同厚度 之含相同的或同一顏色顏料之塗層。這些塗層重疊,然後 視重疊之性質而產生不同顔色強度之圖案。在每至少有一 顏料塗層之像素上,所有重疊之顏料塗層強度加成產生之 總吸收最好是最小吸收之倍數。最小吸收爲最薄顏料塗層 之吸收且發生在此最薄塗層未與任何其它顏料塗層重疊之 像素上。有利之顔料塗層爲那些相對塗層厚度(或其相對 吸收度)之比値爲1、2、4、8…2n者,因此亦可能利用控制 之重疊得到中間値。不同的塗層厚度亦可與不同顏色之顔 料塗層組合。 本發明之材料可作裝飾著色用。然而,優先用於數位 資訊之永久儲存,及特別優先用作濾色片,一種特別適合 之上述材料之應用,該材料由一透明基材及有藍、綠及紅 色顏料塗層之區域組成。此材料用作濾色片或用於儲存數 位資訊時,其特別優點爲高解析度、高透明度、優良的顏 料安定性(與相當之可溶染料比較)及很薄之塗層(相對 於大量著色)。 當本發明之材料用於儲存數位資訊時,可利用一光源 照射材料而將資訊記錄,例如用聚焦雷射光束照射,及利 用測量反射或透射光束之強度而將資訊讀取,光源偏愛爲 實質上低能量之光束。顏料塗層之均勻性及安定性可使頻 繁精確之讀取操作在不降低讀取品質下進行。具有多數相 同,重疊之不同厚度顏料塗層之材料產生不同強度之訊 號,以使每一像素可儲存許多位元。因此,本發明額外提 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 505647
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 供一讀出儲存在本發明之材料上之數字資訊之方法,該方 法係用一光源照射及測量反射或透射光束之強度而讀出。 以下之實施例說明本發明: 實施例1 在lOOOrpm下,將一 100毫克式(XVIa)之N,N,-雙(第三丁氧 羰)-3,6-二苯-1,4-二嗣比略幷-[彡,4-印比咯溶於2毫升二噚院之溶 液用旋塗法塗在一 38x26x 1毫米玻璃撐體上。
在90°C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。黃色塗層之厚度爲〜 360塵米,在= 塵米之光密度爲0.90。然後將塗層之撐 體在一已預熱至200°C之板上加熱5分鐘,此時顔色改變成 式(XVIb)之2,5·二氫-3,6-二苯-1,4-二酮吡咯幷[3,4-c]吡略之特徵紅 色。形成之塗層之厚度爲〜250塵米,及在1 = 540塵米之光 密度爲0.80。熱處理後得到之吸收光譜與2,5-二氫-3,6-二苯-1,4-二酮吡咯幷[3,4-c]吡咯之吸收光譜相同。塗層展現優良的透 明度及均勻性。 實施例2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-30· 505647 I 五 _^^_I 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製
A7 B7 _ 發明説明() 在1000 rpm下,將一 100毫克式(XVHa)之白酞花靑溶於2 毫升二Of烷之溶液用旋塗法塗在一 38 x26 XI毫米玻璃撐體 上。
在90°C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。淡微黃色塗層之厚度 爲〜320塵米,在1^ = 311塵米之光密度爲1.05。然後將塗層 之撐體在一已預熱至200°C之板上加熱5分鐘,此時顔色改 變成式(xvnb)之銅肽花靑之特徵藍色。形成之塗層之厚度 爲〜300塵米,在λ^χ = 620塵米之光密度爲0.87。熱處理後得 到之吸收光譜與銅酞花靑之吸收光譜相同。塗層展現優良 的透明度及均勻性。 實施例3 在lOOOrpm下,將一 100毫克式(XVIa)之Ν,Ν’-雙(第三丁氧 幾)-3,6-二苯-1,4_二酮-吡咯幷-[3,4»〇]吡咯溶於2毫升二噚烷之溶 液用旋塗法塗在一 38 x26x 1毫米玻璃撐體上。在90°C下, 將形成之塗層乾燥2分鐘。黃色塗層之厚度爲〜360塵米,在 1 = 430塵米之光密度爲0.9(^然後在25°C下,將塗層之撐 體儲存在氯化氫蒸汽中30分鐘,此時顔色改變成式(XVIb)之 本紙張大度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-31 - 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 505647 f _ , A7 B7 五、發明説明() 2,5-二氫-3,6«二苯-1,4-二酮吡咯幷[3,4-c]吡咯之特徵紅色。形成 之塗層之厚度爲〜250塵米,在= 540塵米之光密度爲 〇.8〇。熱處理後得到之吸收光譜與2,5-二氫-3,6-二苯-1,4-二酮吡 咯幷[3,4-c]吡咯之吸收光譜相同。塗層展現優良的透明度及 均勻性。 實施例4 在lOOOrpm下,將一M00毫克式(XVDIa)之二Pf阱衍生物 溶於2毫升二噚烷之溶液用旋塗法塗在一38X26X 1毫米玻璃 撐體上
在90°C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。紅色塗層之厚度爲〜 120塵米,在4^ = 561塵米之光密度爲0.56。然後將塗層之撐 體在一已預熱至200°C之板上加熱5分鐘,此時顏色改變成 式(XVIIIb = 3 7 號紫色顏料(C. I· Pigment Violet 37))之二 Df 阱顏料 之特徵紫色 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-32- 505647 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 Α7 Β7 發明説明()
形成之塗層之厚度爲〜80塵米,及在1^^ = 553塵米之光密度 爲0.43。熱處理後得到之吸收光譜與37號紫色顏料(C. I. Pigment Violet 37)之吸收光譜相同。塗層展現優良的透明度及 均勻性。 實施例5 在lOOOrpm下,將一 100毫克式(XVffla)之化合物溶於2毫 升二噚烷之溶液用旋塗法塗在一 38 X 26 XI毫米玻璃撐體 上。在90°C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。黃色塗層之厚度 爲〜120塵米,在λ^ = 561塵米之光密度爲0.56。然後將有塗 層之撐體暴露在一聚焦急離子雷射光束(可見光,全光譜 線;主要爲488及514塵米)下。在此操作中,雷射光束係 利用一可移動鏡(雷射標示設備),在電腦控制下以一預 定之速度引導至塗層上。在1.5瓦雷射輸出,寫入速度設定 在75至400毫米/秒下,記錄區之顔色改變成式(xvmb =色 指數PigmentVi〇lent37)之二Pf阱顏料之特徵紫色。接著將撐 體用20毫升乙醚淸洗,而只有記錄之(不溶解之)結構仍 輪廓明顯地在玻璃撐體上。解析度爲$50微米。 實施例6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-33 - 505647 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 重覆實施例5之程序,但使用〜5〇><75χ2毫米之聚碳酸 酯片(®Makrolon,Bayer公司)爲撐體,並在hl瓦輸出下記 錄。結果與實施例5相同。 實施例7 重覆實施例1之程序,但用聚焦氬離子雷射光束,用紫 外光鏡(紫外光’全光譜線;主要爲351及364塵米),在 〇-4瓦輸出下進行曝光。結果與實施例5相同。 實施例8 如實施例1,在lOOOrpm下,將一 1〇0毫克式(XVIa)2N,N,_ 雙(第三丁氧羰)-3,6-二苯-I,4·二酮比咯幷-oc]吡咯溶於2毫升 二口署院之溶液用旋塗法塗在一 38 X 26 XI毫米玻璃撐體上。 在90 °C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。黃色塗層之厚度爲〜 360塵米,在U = 430塵米之光密度爲〇,9〇。然後將塗層之撐 體暴露在聚焦Μ離子雷射光束(可見光,全光譜線;主要 爲488及5U塵米)下。在Μ瓦雷射輸出,寫入速度設定在 75毫米/秒下,記錄區之顏色改變成式(χνι^)之二酮卩比咯幷 吡咯顏料之特徵紅色。 實施例9 重覆實施例8之程序,但用聚焦氬離子雷射光束,用紫 外光鏡(紫外光,全光譜線;主要爲351及364塵米),在 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·
-34- 505647 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明() 0.8瓦輸出及5毫米/秒之寫入速度下進行曝光。結果與實 施例8相同。 實施例10 如實施例2,在1000 rpm下,將一 100毫克式(XVIIa)之白 酞花靑溶於2毫升二Df烷之溶液用旋塗法塗在一38X26X 1毫 米玻璃撐體上。在90°C下,將形成之塗層乾燥1分鐘。淡微 黃色塗層之厚度爲〜320塵米,及在Ux = 311塵米之光密度爲 1.05。然後將塗層之撐體暴露在聚焦氬離子雷射光束(可見 光,全光譜線;主要爲488及514塵米)下。在2.5瓦雷射輸 出及75至200毫米/秒之寫入速度下,記錄區之顔色改變成 式(XVIIb)之酞花靑顔料之特徵藍色。 實施例11 重覆實施例10之程序,但用聚焦氬離子雷Ιί光束,用 紫外光鏡(紫外光,全光譜線;主要爲351及364塵米), 在〇·8瓦輸出及5至60毫米/秒之寫入速度下進行曝光。結 果與實施例10相同。 實施例12 重覆實施例10之程序,但用式(XlXa)之Ν,Ν’·雙(新戊氧羰) 二呷阱取代式(XVIIa)之產物 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-35- 川5647 A7 B7
五、發明説明()
(XlXa) 式(XlXa)之化合物係利用專利案號砂648817中描述之方法製 備。然後將塗層之撐體暴露在聚焦氬離子雷射光束(可見 光’全光譜線;主要爲488及514塵米)下。在2.5瓦雷射輸 出及75至200毫米/秒之寫入速度下,記錄區之顏色改變成 式(XlXb)之二哼阱顏料之特徵紫色, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
(XlXb) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 接著將撐體用20毫升乙醚淸洗,只有記錄之(不溶解之) 結構仍輪廓明顯地在玻璃撐體上。解析度爲<50微米。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -36-

Claims (1)

  1. 505647 A8 B8 C8 [)8 11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲式00之基 (v). 六、申請專利範圍 一種製備濾色片或數位資訊存儲材料之方法, 該濾色片或數位資訊存儲材料包括一基材,其 上塗有一顏料層,該顏料層係由一種式(1)之顏 料或其顏料混合物或其取代之衍生物或其位置 異構物組成, A(Dl)(D2)x (I) 式(I)中A爲一喹吖啶酮、笸、蒽醌、靛藍、偶 氮基、喹喏酞酮、異二氫吲哚酮、異二氫吲 哚、二Of阱、酞花青或二酮吡咯并吡咯系列之 發色基之自由基,其含與Dl&x個D2連接之氮 原子’存在於A中之每一個氮原子可各自獨立 地與0、1或2個Di或D2基連接,及 Di及D2爲氫,X爲一從〇到4之整數, 該方法包括 ⑻用一式(III)之潛隱顏料或其取代之衍生物或其 位置異構物之溶液或熔融物塗敷基材, A(D3)(D4)X (III), 式(III)中之A及X具有如式(I)中相同之意義,A 含與D3及X個D4連接之氮原子,及存在於A中之 每一個氮原子可各自獨立地與〇、1或2個D3或D4 基連接,及 D3及D4各自獨立 0 —^-0—(x)m—Q 本紙張尺度適用士國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -n n VI n ϋ n ϋ ϋ ϋ n I ϋ I ϋ ·ϋ ί ϋ ϋ ϋ y^v Β n n n n ϋ n I >1 n ϋ _ _ A _ % (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -37- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 505647 Ah BcS C8 1)8 六、申請專利範圍 式(V)中之X爲Cl-Cl4伸’1兀基、C2-C14伸烯基、C2-C14伸 炔基、C4-Cn伸環院基或C4-C12伸環儲基,m爲〇或 1 ’及Q爲氫, (b) 利用消去D3及D4基並將其用氫取代,將潛隱 顔料部份或完全轉化成不溶解之顏料形式,及 (c) 藉由一溶劑去除殘留之潛隱顏料。 2·如申請專利範圍第1項之方法,其中之基材係 在步驟⑷中實施部份表面塗層。 3·.如申請專利範圍第1項之方法,其中步驟⑻係 利用液浸法、噴霧法、印刷法、簾塗法、刮塗 法或旋塗法達成。 4·如申請專利範圍第3項之方法,其中步驟(a)係 利用旋塗法達成。 如申請專利範圍第1項之方法,其中步驟⑼係 使用一聚焦雷射光束達成。 6.如申請專利範圍第1項之方法,其中步驟⑼係 利用熱源之接近作用達成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A〗規格(210 x 297公釐) (請先/«讀背靣之注意事項再填寫本頁) I i n t§ ϋ I ϋ n-*,« n n n n n in MmMt I n n β—i ϋ n aammm ϋ nf n n I n 兮口 ^ -38- 505647 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 ---——_________ 、申請專利範圍 7·如申請專利範圍第1項之方法’其中步驟⑻係 利用暴露在一有機或無機布忍斯特(Br0nsted)或路 易士(Lewis)酸或一 _之蒸汽下達成。 8.如申請專利範圍第1項之方法,其中步驟(b)僅 在選擇區達成。 9·如申請專利範圍第8項之方法,其中步驟(b)係 用一程式化控制達成。 10. ·如申請專利範圍第1項之方法,其中之基材表 面用連續塗層方法塗上兩種或多層顏料層,每 塗一次要重覆步驟⑷至⑷。 11. 一種濾色片,該濾色片包括一基材,其上塗有 一顏料層,該顏料層係由一種式(I)之顏料或其 顏料混合物或其取代之衍生物或其位置異構物 組成, A(Di)(D2)x (I) 式(I)中A爲一喹吖啶酮、笸、蒽醌、靛藍、偶 氮基、喹喏酞酮、異二氫吲哚酮、異二氫口引 哚、二喟畊、酞花青或二酮吡略并吡咯系列之 發色基之自由基’其含與Di及X個D2連接之氮 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】〇 X 297公f ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •-------丨訂· 線丨i -39- 505647 Λ8 Β8 C8 DS 申請專利範圍 原子’存在於Α中之每一個氮原子可各自獨& 地與〇、1或2個Di或D2基連接, D!及D2爲氫,x爲一從〇到4之整數, 該塗層在基材之部份表面上實質上是均勻的, 而在其餘表面上則沒有該顏料塗層。 12.如申請專利範圍第u項之濾色片,其中—_ 塗層有一解析度爲10 - 5〇微米之結構化顔色 案0 料_ 江如申請專利範圍第11項之濾色片,其具有〜額 外保護層。 / I4.如申請專利範圍第11項之濾色片,其中基材塗 有多數顏料塗層,該多數顏料塗層不會形成相 等覆蓋範圍之圖案,而具有不同之吸收及 不同之最大吸收。 睛 閱 η 背 意 事 項 再 填 寫 本 頁 訂,
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15·如申請專利範圍第W項之濾色片,其中之顏料 塗層含有因其性質及排列能產生藍、綠及紅色 區域之顏料,其中之基材爲透明的。 16.如申請專利範圍第η項之濾色片,其中不同厚 度’含相同顔料或同一顏色顏料之多數顏料塗 本紙張尺度適用由國β冢標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -40- 505647 A8 g _____ ί)8 六、申請專利範圍 層形成圖案,該圖案使在每一有一顔料塗層之 像素上,由所有重疊之顏料塗層強度總和產生 之總吸收爲最小吸收之倍數。 17·如申請專利範圍第11項之濾色片,其係用作於、 色器。 居、 18. —種數位資訊存儲材料,該數位資訊存儲材料 包括一基材,其上塗有一顏料層,該顏料層係 由一種式(I)之顏料或其顏料混合物或其取代之 .衍生物或其位置異構物組成, A(Di)(D2)x (I) 式(I)中A爲一喹U丫陡酮、匡、蒽爾、靛藍、偶 氮基、Π奎U若駄酮、異二氫吲哚銅、異二氨口弓丨 哚、二噚畊、酞花青或二酮吡咯并吡咯系列之 發色基之自由基,其含與Di及X個連接之胃 原子,存在於A中之每一個氮原子可各自獨立 地與0、1或2個R或D2基連接, Di及D2爲氫,X爲一從0到4之整數, 該塗層在基材之部份表面上實質上是均g自勺, 而在其餘表面上則沒有該顏料塗層。 本紙張尺'f適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公f ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0 ϋ n I II ϋ I II 一口 Y n I ϋ n ϋ n I ϋ i ϋ ϋ 1 m n n ϋ II— ϋ I n n n n m mmMMg m ϋ n -41 - 505647
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 19·如申請專利範圍第is項之數位資訊存儲材料, 其中一顏料塗層有一解析度爲10- 5〇微米之結梅 化顏色圖案。 20·如申請專利範圍第is項之數位資訊存儲材料, 其具有一額外保護層。 21·如申請專利範圍第is項之數位資訊存儲材料 其中基材塗有多數顏料塗層,該多數顏料 層 不會形成相等覆蓋範圍之圖案,而具有不h .吸收及/或不同之最大吸收。 22·如申請專利範圍第18項之數位資訊存儲枝 Μ料, 其係用來永久存儲數位資訊。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x29了公g ) (請元閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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