TW487932B - Dielectric composite for integrally included in printed circuit boards and its preparation method - Google Patents
Dielectric composite for integrally included in printed circuit boards and its preparation method Download PDFInfo
- Publication number
- TW487932B TW487932B TW089108386A TW89108386A TW487932B TW 487932 B TW487932 B TW 487932B TW 089108386 A TW089108386 A TW 089108386A TW 89108386 A TW89108386 A TW 89108386A TW 487932 B TW487932 B TW 487932B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- dielectric
- composite
- layer
- ferroelectric
- resin
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/162—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2311/00—Metals, their alloys or their compounds
- B32B2311/18—Titanium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/16—Capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0209—Inorganic, non-metallic particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0242—Shape of an individual particle
- H05K2201/0257—Nanoparticles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0302—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0317—Thin film conductor layer; Thin film passive component
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/0929—Conductive planes
- H05K2201/09309—Core having two or more power planes; Capacitive laminate of two power planes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4688—Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Description
487932 五、發明說明(1) 本申請案聲明1999年5月4曰提出之美國專利申請案序號 09/458, 363 ,發明名稱”Dielectric Material Including Particulate Filler” ,及1999年5月4日提出之美國專利 申請案序號09/305, 253,發明名稱’’Integral Capacitance for Printed Circuit Board Using Dielectric Nanopowders’’ 之益處,其均由William F· Hartman "Kirk M· Slenes 、及Kristen J. Law 提出,而 且其說明書在此併入作為參考。 之背景 發明之領域(拮術領域): 本發明係關於用於印刷線路板製造之介電基材,其中介 電基材包含至少一種具有大於約丨4 〇 C之\之有機聚合物_ 及至少一種填料物質。本發明之介電基材具有在—55至125 °C之溫度範圍變化小於1 5%之介電常數。本發明亦包括多 層印刷電路板,其包括本發明之介電基材,特別是其中在 印刷電路板使用本發明之介電基材形成内部分配電容器之 印刷電路板。 本發明進:步關於在印刷電路板提供電容,更特別是一 種使用”電$微粉末在印刷電路板提供積體電容之方法及 裝置。 背景技藝: 似多=印刷,路板(PWB,S)廣泛地用於電子裝置,如電 ,細:Ϊί具、汽車等。多層印刷線路板一般包括具有 夕1 ;丨“土材層分離之絕緣導電線路層。由於更小又更
487932 五 、發明說明(2) 小之電子裝詈之^> +、 置之而求,已努力將電路裝置直接 爺々:例如,美國專利5, 010, 641揭示一種Π八印刷線 配二容器之多層印刷線路類似 G括内部分 5,1 5 5,6 5 5及5,m,〇6〇揭示用於電容性印^利 電容器層合物。 刷、、泉路板製造之 :印刷線路板中之電容器一般包括 =屬接地層及帶電金屬4。印刷線路板電:;材層分 電:通常為聚合片,其可以如玻璃、㈣中之介 近來,已有朝向減小印刷線路板中 3強化。 路板電路密度之趨勢4趨勢生 4谷1§之介雷J®r屑由 、 σ線路板 度之問題為,;電;二::,減小電容器介電層厚-造成不欲之多;同之溫度變化太大, 廣泛、、四声r円= 仍有可用於形成薄且具有在 介電:之ί Ϊ極小之介電常數之印刷線路板電容器的 中=呼3;:板(PCB’S) 一般以層合形式構成。在板 電連接。這二^ 提供位於板表面上之各種襄置問之 ,^ 二^面裝置包括積體電路及分離之被動聿置, 容器、電阻與感應器等。分離之被動裝置佔據=例 :全棚表面積。因此,為了增加PCB,s之可用面;J 已有許多在板内以嵌入(或表面下)組態安置被動裝置 :括電谷器)之努力。在被動裝置為此種組態肖’其在此 姜中概括地及個別地以"積體被動器"而眾所周知。設計 於PCB内(層合物之間)之電容器稱為"積體電容器"且提
487932 I ——^___ I五、發明說明(3) I供丨丨積體電容丨丨。如果雷六 〜 |成重大貢獻,目丨丨、土 Λ 令裝置對積體電路之她電力# |成垔人貝獻,則造成這些裝置之At旦=之〜電力操作造 |過去已有提供積體電容之一此里儲存力之進步。 ! ^Howard 在導電片之間以提供積體電 ,二,其中介電片夾 括習知PCB層合物樹脂,如環曰。目前此種組態之物質包 常数^則^山之厚度/此“^^約以之介電 5 0 0皮可法拉第之平面電容值。練為了美供母平方英吋約 於每平方英吋500皮可法拉第許多應用需要遠大 須提供具有更高平面電容值之^谷值,因此其他方法必 對於固定電容器面積,僅兩種^可用 器之平面電容(電容/面積)。 方法了用以增加積體電容— 物質。其次,減小介電物厚度’可:用較高介電常數 容之這些限制反映在下式中· 云已知根據面積之電
Cp/A=( ε £〇)/t 其中··(:〆電容,電容器面積, V真空之介電常數,及卜介電物厚曰度口。之介電常數, 先前關於此點之努尋求使用具有高介電 物提供咼電容核心。至於實例,美國專利5 Η 、二之層合 如何使用預燃及研磨陶瓷毫微粉末增加介带^ 9J7建議 且聲稱教示如_何產生比僅使用環氧基介電’並 電f值。然而,在介電層中使用預燃及研 争刀末呈現形成通路(使層合之pCB層間電子夕、是笔微 礙。預燃及研磨陶瓷毫微粉末顆粒具有5〇 S)之障 乙u,UUO nm 範 五、發明說明(4) ^^ 圍之典型尺寸。此外,在此範圍之 “ 表示1 0, 0 0 0 nm顆粒與5 0 0 nm顆粒.刀、吊相當廣, 存在,介電層内不同大小之顆粒之分子右婉較大顆粒之 成之主要障礙。另-個伴隨預燃陶;古;:^現微,路形 電層承受層中發生之高電壓而不崩 '生笔丄:之問題為介 PCB内之電容層預期保持至少3〇〇伏二你二般而言, 之可靠組件。電容層内預燃陶瓷毫微:;::Β構造 在阻止使用超薄層,因為連續大顆粒之 亦可藉由減小介電心:=,其因較大之平面電容 形成較相容之電i; 成與所需微通路 .^ 私谷層,而且可使較薄層承受高電壓。 藉適;電粉末’如鈦酸金屬鹽為主粉末,為 ^例如’碳酸鹽、氣氧化物或破酸鹽)之混合物之高溫、 應製ί °將生成漿料乾燥及在高溫燃燒,如高達 c,而得到所需之固態反應。然後研磨燃燒產以 造粉末。 、雖然固相反應製造之預燃及研磨介電配方對許多電應用 為可接文的、其遭受許多缺點。首先,研磨步驟成為可負 1也〜a兒性質之污染物來源。其次,研磨產物包括不規 則形,之破碎凝集體,其大小為大的且呈現5 0 0 -2 0, 0 00 nm之見粒度分布。結果,使用言些粉末製造之膜限於大於 五、發明說明(5) 一'一~-- :大: = ;]、之厚度。第三’由於伴隨大顆粒之高沈積速 ί在;:燃研磨陶曼粉末製造之粉末懸浮液或複合物必 使用。大_之顆粒之鈦酸鋇之安定 ::。目”'、四方晶,而且在尚溫由於相轉移而發生介電常數 仍有提供積體電容器之方法及裝置之需求,其使 二質而可製造較薄、較純之介電層,以增進電容及 可罪地製造微通路。 又 發明j概要(發明_之揭示) 極t H =要目的為提供一種具有在廣泛溫度範圍變化 J之介電常數之介電基材。 介電i月之另一個目的為提供一種包括非燒結粒狀物質之 電箔層之 卜目的為提供電容器層合物,其包括位於導 本發明:之具有本質上不變介電常數之介電片。 丁之有主要優點為包含至少一種具有大於約140 °c之 選择有機取人 及至少一種鐵電性顆粒填料之複合物。 -55至]=合物及鐵電性顆粒以製造在複合物接受範圍為 本發明之f時變化小於15%之介電常數之複合物。 物可i成i s 了 r優點為包含本發明複合物之電容器層合 結合複人/、 表面及下表面之片。此電容器層合物包括 第—口物上表面之第一導電層,及結合複合物下表面之 〜導電層。 X明之頭外優點為造成多層印刷線路板,其中至少一
Η 第12頁 487932 修正 案號 89108386 五、發明說明(6) 層包含本發明之電容器層合物。 圖式之簡要說明 加入且形成本發明之一部份之附圖描述許多本發明具體 實施例,而且與說明一起用以解釋本發明之原理。圖式僅 為描述本發明較佳具體實施例之目的而不視為限制本發 明。在圖式中: 圖1為依照本發明製備之積體電容器裝之橫切面圖; 圖2為圖1所示裝置之介電層部份之放大橫切面,其描述 毫微粉末在黏合物質基質中之分散; 圖3為圖2所示組件之進一步放大圖; 圖4為描述本發明方法之具體實施例之一些原理步驟之 略示流程圖; 圖5為描述本發明方法之另一個具體實施例之一些原理 步驟之略示流程圖;及 圖6為描述本發明方法之另一個具體實施例之一些原理 步驟之略示流程圖。 圖7為顯示範圍為-5 5至1 2 5 °C之溫度對依照實例1製備之 複合物之測量介電常數之效應之繪圖;及 圖8為描寫藉非耐火方法製造且具有約5 0 nm之均勻粒度 之鈦酸鋇顆粒之電子顯微鏡相片;及 圖9為以耐火方法製造之研磨鈦酸鋇顆粒之電子顯微鏡 相片。 圖式之符號說明 10 表導電層; 11 表介電層;
O:\64\64114.ptc 第13頁 2001.07. 23.013 487932
O:\64\64114.ptc 第13a頁 2001.07. 23.014 487932 五、發明說明(7) 本發明為包含至少一種有機聚合物及至少一種填料之介 電基材物質,其中在複合物接受範圍為-5 5至1 2 5 °C之溫度 -時,層合物之介電常數變化小於1 5 %。本發明包含電容器 層合物及多層印刷電路板,其包括由本發明介電基材物質〜 製備之電容器層合物。 ~ 介電層之電容依照以下方程式視如層介電常數、厚度及 > 面積之因素而改變:
Cp/ A = ε / τ 因為面積(Α)通常為固定的,改變電容Cp之唯一方式為 改變基材介電常數(ε )或厚度(τ )。此外,由於減小層合 物之厚度(τ)至低於約1 mil為困難的,藉由選擇具所需 _ 介電常數之介電基材組合物而控制電容變為重要的。 - 更複雜之因素為基材介電常數(ε),因此及Cp,隨溫度 範圍而大為不同。在介電常數在-55至-125 °C之180 °C溫度 範圍中變化± 1 5%時,介電基質被視為具有性能或” X7Rn性 能。本發明之重要狀態為包括非耐火鐵電性顆粒之介電基 材在廣泛範圍之溫度呈現高且非常安定介電常數之發現。 在此使用名詞π非耐火鐵電性顆粒"表示由一或更多種鐵 電性物質製造之顆粒。較佳之鐵電性物質包括鈦酸鋇、鈦 酸鳃、鈦酸鈥、鈦酸鋇勰、锆酸鎂、二氧化鈦、鈦酸鈣、 鈇酸鋇鎮、鈦酸斜錯及其混合物。 用於本發明之鐵電性顆粒可具有範圍為約2 0至1 5 0毫微 鲁 米之粒度。較^佳為,顆粒本質上為全毫微顆粒,其表示顆 粒具有小於1 0 0毫微米之粒度而且較佳為約5 0毫微米之粒
O:\64\64114.ptd 第14頁 五、發明說明(8)
度。亦車交H 1〇〇毫微 马至少80%之鐵電性顆粒具有範圍為約5至約 卩米而且較佳為4〇一6〇毫微米之大小。 、 用於本蘇Ba 沈澱法。^鐵電性顆粒較佳為以非财火方法製造,如 酸鋇锶毫科ί之非耐火顆粒為了1^, Inc製造之50毫微米鈦 火鐵雷柹ΐ 加熱或燒結法製造之顆粒不包括於非耐 火鐵電性顆粒之範圍内。 μ f電性顆粒組合至少一種聚合物以形成介電層。鐵電性 顆粒可以餘阁$ 圍為;丨電層之約10至約60體積%而且較佳為約 呈體積%而且最佳為約20至40體積%之量存在於介電層 餘之"電層包含一或更多種樹脂系統。 ^鐵電性顆粒較佳為組合一或更多種常用於製造介電印刷 ,,巧層之樹脂。樹脂包括如矽酮樹脂、氰酸酯樹脂、環 氧=^、聚醯胺樹脂、K ap t ο η物質、貳順丁烯二醯亞胺三 哄树脂、胺甲酸酯樹脂、樹脂之混合物、及用於製造介電 ^材f質之任何其他樹脂之物質。此樹脂較佳為高Tg樹 脂。高Tg表示使用之樹脂系統應具有大於約1 4〇 π之硬化 Tg。更佳為樹脂Tg超過丨6 〇它而且最佳為超過丨8 〇它。較佳 之树脂系統為A 1丨i e d S i g n a 1 I n c ·製造之4 0 6 - N樹脂。 本發明之介電層藉由組合適量之鐵電性顆粒及所需之樹 脂而製造。然後將樹脂/鐵電性顆粒樹脂混合物塗覆於導 電金屬層上。含樹脂之鐵電性顆粒然後乾燥以自樹脂去除 溶劑。 本發明之t電基材用於製造電容器層合物。本發明之電 容器層合物包括上述包含鐵電性顆粒之介電層、結合介電
第15頁 487932 五、發明說明(9) 層上表面之 導電金屬層 造,例如, 在另一種方 電金屬表面 製造:(i )將 之表面上; 將含鐵電性 第二鐵電性 性顆粒之樹 粒之樹脂位 度及壓力夾 硬化溫度及 約 1 5 0 0 p s i 可藉藉由 片上表面及 上表面及下 可修改或粗 層對介電層 具有範圍為 導金屬層為 米之厚度之 屬層為銅箔 造之雙重處 第一導電金屬層、及結合介電層下表面之第二 。電容器層合物可藉任何此技藝已知之方法製 美國專利5,1 5 5,6 5 5,其在此併入作為參考。 法中,具有以含鐵電性顆粒之樹脂分離之上導 及下導電金屬表面之電容器層合物藉由以下而 含鐵電性顆粒之樹脂混合物塗佈在導電金屬箔 及(i i )將第二層導電金屬塗佈於暴露樹脂上以 顆粒之樹脂夾在導電金屬層之間。或者,可將 顆粒/塗樹脂之導電金屬塗佈於塗第一含鐵電 脂之導電金屬層以製造夾層,其中含鐵電性顆 於兩個導電金屬層之間。一旦形成,在適當溫 住電容器先質以將含鐵電性顆粒之樹脂硬化 壓力範圍為約250至約350 °C且壓力為約100至 〇 將導電金屬膜或箔喷鍍、電鍍、或黏附於介電 下表面,而將導電金屬層塗佈於介電基材片之 表面。為了確定導電層與介電層之間之黏附, 化導電金屬之表面或介電層之表面以改良金屬 之上及下表面之黏附。第一及第二導電層一般 9至約1 0 5微米之厚度。較佳為,第一及第二電 具有17至約70微米之厚度,而且最佳為約35微 銅箔層。較佳為,用於電容器介電物之導電金 層_。最佳為,導電金屬層為Oak Mi tsui公司製 理銅结層,Gould 或Circuit Foils 。
O:\64\64114.ptd 第16頁 487932 五、發明說明(ίο) 介電層可包括選用之第二填料物質以賦與介電層強度。 第二填料物質之實例包括紡織或非織物質,如石英、矽石 玻璃、電子級玻璃與陶曼,及聚合物,如芳族聚醯胺、液 晶聚合物、芳族聚醯胺、或聚酯,粒狀物質,如陶瓷聚合 物,及常用於製造印刷線路板基材之其他填料與強化物 質。選用之第二填料物可以範圍為約2 0至7 0重量%之量, 而且較佳為範圍為約3 5至約6 5重量%之量,存在於介電 層。 本發明之介電物質可包括其他常用於介電層製造之選用 成份。例如,介電顆粒及/或第二填料物質可包括黏合劑 以包括填料及樹脂物質間之黏合,以強化介電層。此外, 用於本發明之樹脂組合物可包括1¾合劑,如石夕烧搞合劑^ 銼酸酯及酞酸酯。此外,用於本發明之樹脂組合物可包括 界面活性劑及濕潤劑以控制顆粒黏聚合塗覆表面外觀。 本發明之組合物可製成各種物件。例如,此複合物可形 成膜、片、板、碟及其他平坦形狀,其在如印刷線路板之 電子產品作為基材特別有用。此複合物亦可製成三維形 狀。複合物可藉任何此技藝已知之方法形成,如擠製、注 射模塑及壓縮模塑。 使用本發明之樹脂/鐵電性顆粒製造之介電層較佳為具 有約5至約6 0微米之厚度。層在這些厚度具有約2 1 0 0至約 25000 pF /平方英吋之電容。較佳之介電層具有範圍為約 2 0至約4 0微也之厚度,而且電容基於標準面積為約3 1 0 0至 約6 3 0 0 p F /平方英吋。
O:\64\64114.ptd 第17頁 487932 丨五、發明說明(11)
I I 本發明電容器層合物之重要性質為崩潰電壓。比較先行 ί技藝之充填及非充填電容器層合器,本發明之電容器層合 ! I物具有相當高之崩潰電壓。較佳為,本發明之電容器層合 物具有超過2000伏特/ mii之崩潰電壓,而且較佳為其超過 I 25 00 伏特/ mil。 | 使周本發明之介電物質製造之電容器層合物可堆疊及交 丨連,使得多層存在於印刷線路板中。層可具有不同之介電 常數,不同之電容值,及不同之厚度,以形成用於高密度 電子包裝之基材,如單晶片及多晶片組。 體電容之方法。 路板中之高電容、 質物質及包含水 備複合物混合. 電層配置於兩個 步包含將水熱地 。分散水熱地製 約20%至約40%之 含將毫微粉末與 與溶劑之步驟。 〇 合聚合物以形成 發明亦可進一步 體積為約4 0 %至 中之積 印刷電 黏合基 料而製 及將介 地進一 之步驟 體積為 法亦包 微粉末 與溶劑 包含混 液。本 有基於 本發明進一步為提供印刷線路板 本發明提供一種製造整合地包括於 核心元件之方法,其包含藉由混合 熱地製備之毫微粉末之懸浮液之聚 物;將複合物混合物形成介電層; 導電層之間之步驟。此方法視情況 製備之宅微粉末分散於有機溶劑中 備之毫微粉末之步驟可包含以基於 粉末之起始體積比分散粉末。此方 溶劑超音波振盪之步驟,及研磨毫 此外’界面活性劑可混合毫微粉末 混合黏合基一質物質之步驟較佳為 均勻之毫微粉末-聚合物—溶劑懸浮 包含將複合物混合物硬化以製造具 約5 5%之粉末之介電層之步驟。
第18頁 五、發明說明(12) ,將複合物混合物形成介 s' 、、一·- I氣合物浸潰坡璃纖維片,丄^步驟較佳為包八、 I之步驟可包含撰M勺 且將複合物混八 3以複合物 丨禕人&擇包括擠裳、嘖、、# Γ合物形成介雷居 设合物混合物之一員。 T,麗、輥壓、&、主κ ”電層 I 配置導雷居々止 反>η、及鑄製 ί電岸f 步驟較佳為包含將道+ I兒層上。或者,配置 將V電箔層合 人仏52 、. 子电禮之步碑A人 更化之介 «物置於導電箔上知匕含步驟:將 , 層之步驟可包含蔣人币將7,電層硬化。或者π 口物;昆 或化學基氣介電層側面金屬化,如置導電 干…、巩將導電物質 如猎瘵發、喷铲、 經㈣尤積在介電^。 噴鑛、 二貴,超薄介電層(其以;;入:或更多個抗不欲之電壓崩 内整合地提供高效::裝置最佳地果所周知),可― 七、—種方法以在津 羊私夺。因此,在本發明中, 末而供應積體電Ϊ5:内使用非常薄、均勾之介電毫微於 保有所需之試驗電使仵仵到較薄之較高電容層。這些^ 在本發明中 私楚而仍可成功地使微通路穿透。 α 度分布之粉末。j ^細之介電粉末,一種具有非習知窄粒 造。除了用於積w ί細粉末較佳為使用低溫化學沈澱法製 為"水熱法”之方肢電容器之介電物質製造,在此技藝已^ 造。因此,製、生八巳用於製造,例如,特定之工業水泥製 自,例如,^广粉束之一般水熱法對熟悉此技藝者可得 熱地製備之等人之美國專利4, 764, 493。然而,水 複合介電芦 束先前並未以在此揭示之方法用於製造 電容器構^技^且其在本發明之用法避免許多伴隨常用^ 為之預燃及研磨毫微粉末之缺點。
五、發明說明(13) 例如,在酞酸鋇之愔报 ^ 、 鎖溶劑以制> 〇 氣化鈇或烧氣化欽反應氫氧化 4 a衣:^王現冥实译 ^ 度及窄粒产分希+二⑴又、向純度、控制化學計量、小粒 行,以製2具立方曰=。反應一般在低於100 t之溫度實 圍為10 —2 0 0㈣且大小爷差物之如末,其平均主要粒度範 水熱地製備之粉末提供許 點’其與積體電容器之關係密;。、=衣之優 與粉末粒度成正比,而+ 0 先 口為複3物膜厚 之柃t T刹 私奋比與膜厚成反比,具較小輪择 二:可製造具較高電容比之膜。其:欠 丄:度 20,〇⑽㈣,在加入水熱地製 k接近- 此種通路為可能的。第三,/:毫二末末之/上膜製造 J ::立方結構,因此在此溫度不進行相轉 : …*微粉末充分地小以保留在均勻懸浮液或複人f U水 而不沈積,可無關製造介電層而發生物質勢備I水料中 本發:包括製造用於整合地包括於PCB、裝置 ί二t之替代方法。較佳為在所有之具體實施例中使用 : 1 0 - 2 0 0 nm粒度之水熱地製備之粉末,較佳為鈦酸钥吏用 =在-個具灃實施例中,本發明之方法包括形成包二 負载宅微粉末之黏合複合物浸潰之玻璃纖維片之介 ^ 泰末之複合物置於導電基材上,並且藉由將導體塗覆在2
第20頁 =將介電層失在兩個導電層之間。《者,可將 ^微 487932 ___________ 五、發明說明(14) 層i?藉金屬化(例如二經金屬蒸發),而形成 、 或者,可形成包含負載宅微粉末之複合物之八 電層然後藉金屬化(如經蒸發)將兩個導電層沈" 上。 κ丹兩側 地體ΐ施例中…將毫微粉末,較佳為水熱 質相容之有機^佳為鈦酸鋇*微粉末,分散在與黏合物 實務之適合水性溶Γ而製備聚料。用於本發明 合。較佳為,甲乙酮或二甲基甲醯胺,或兩者之組 此分離及抑制為膠體懸洋液’其中製備粉末以維持彼 將粉末混合至顆粒交作用。使用超音波振盈或研磨 塗佈以使粉末ς劑中’並且以表面活性分子(界面活性劑)— 非離子性碟酸gt f聚最小°界面活性劑較佳為但未必為 形成粉末-聚:物物基f物質然後加入膠體懸浮液以 為黏合物質之複。在本發明極適合作 4〇β产气执匕。物衣乳基為A1 11 ed Signal公司萝袢 4〇6 %虱樹脂,雖然其他之樹脂亦夠用。 』衣造之 哭然J =用複合物混合物製造高介電常數層〜 ^體積為約議至約德之粉末之起刀末^具有 末肢積生成增加之黏度。因此可控 ^ 、、,幸又鬲之粉 組合物適合不_周之可能塗佈方法,例如又溶劑/粉末 溶劑/粉末漿料混合黏人物質, 〇,鑄製相對擠製。 除溶劑且固定基質。^照本發明之生成^合物硬化以驅 較佳為具有基於體積為約4〇%至約5 ^ (硬化)介電層 0之私末之體積粉末/
487932 五、發明說明(15) '~~ -- 基:比例。可經由改變粉末與黏 ^ 之"電常數’較高之體截產生增加之介Λ積比例控制膜 降低之機械強度。超過約5 一 兒吊數而代價為 脆度。 以之宅微粉末體積%呈現不欲之 在本發明之一個具體實施例中,萨 璃纖維片然後將浸潰片層合在兩個^帝试3物質浸潰玻 而製造整合至PCB中之電容器。、、夺、主电㈢(如銅箔)之間, 有範圍為2. 0 mi 1至6. 〇 mi芦又危貝之玻璃纖維片一般具 浸入且通過複合物混合物 子又。較佳為,玻璃纖維片 至玻璃纖維片之間隙空間中,、文^ ^粉末顆粒穿透 本發明之優點為毫微粉末充 ^複合物混合物浸漬之。 進入,完全地將玻璃纖維片:Μ:在坡螭纖維之間自由, 乃鲍和。如it卜>4 4、… 性之介電層,其亦為適合之介兩口π ,成所需強度及彈 用於複合物混合物之針人 〇〇貝之特點。 之陶瓷為使用水熱法製造:::ί ^環氧樹月旨,而使用 圖1,其描述依照本發明之積體電Υ ,酸鋇粉末。參考 12,如鋼箱,具有介電層u配置於苴置15。導電層10與 之玻璃纖維片。圖2為複合介電層丨/之0如經複合物浸潰 顯示個別水熱地製備之鈦酸鋇毫^微 大橫切面圖,其 基質U,其具有浸潰之;;=:勻地分散 ”…、坡螭纖維-片之介電物1 1之一部份 2。圖3顯 水熱地製備之鈦酸鋇毫微粉末1 3,1 3,以,^ 其中個別 平均分離距離配置於環氧基質丨4内。 可提供微通路之 设合物浸潰之坡璃纖
第22頁 在本發明之此第一具體實施例中 487932 五、發明說明(16) 維片包含介電層11。在製造上述之介電層11之後,將導電 層10與12配置於介電層之一或通常為二側。其可在層合壓 機中完成,其中針對介電層11壓迫導電層1 0,1 2 (例如,各 為約1或2 mils厚之銅片),而且將全部夾層組合加熱以造 成介電層11中之聚合物基質黏合至導電片。希望使用具相 當低玻璃轉移溫度之聚合物,使得習知層合壓機可誘發層 1 1與導電片1 〇,1 2之間之黏合。除了以上之將導電層配置 於介電層上之層合方法,如使用其他黏著物質將導電層連 接介電層之替代模式在本發明之範圍内。 進一步參考圖4解釋製造此第一具體實施例之裝置之方 法。再度在一個步驟中藉由將水熱地製備之毫微粉末分散 於溶劑中而製備漿料。分散可以超音波振盪或藉任何其他 適合之方式完成。較佳為,將界面活性劑供應至懸浮液以 製造毫微粉末在溶劑中之膠體懸浮液。較佳為,黏合物質 (較佳為環氧基)混合漿料以製備溶劑與毫微粉末及黏合物 質之複合物混合物。生成之複合物混合物然後浸潰於多孔 性支撐層合物中,其較佳為玻璃纖維片,使得複合物混合 物及玻璃纖維片有效地形成介電層。一旦複合物變硬(如 藉硬化),將導電層配置於介電層之一或較佳為兩側。较 佳為,在本方法之此具體實施例中,導電層之配置藉層合 完成,其中在高溫及壓力之條件下將三層壓在一起。 本發明之優點為使用毫微粉末可使用微雷射在介電層1 1 鑽穿微通路。__典型之微雷射束在遭遇毫微粉末顆粒時破壞 或移去小顆粒,因而維持微通路之直線性及品質。在包括
O:\64\64114.ptd 第23頁 487932 五、發明說明(17) 習知粉末之已知介電層中,陶瓷顆粒之大小可干擾使用微 雷射之微通路鑽孔。雷射束被較大直徑顆粒散射,阻礙鑽 孔,並且影響微通路之品質。 在本發明之第二具體實施例中,藉由以包括黏合基質物 質、溶劑、及水熱地製備之毫微粉末之複合物混合物塗覆 導電箔或片1 2而製造積體電容。複合物混合物之製備通常 與前述相同,即,將毫微粉末懸浮在溶劑中以製造懸浮液 漿料,而且黏合物質(通常為聚合物)混合漿料。塗覆如銅 之導電箔基材1 2藉由將複合物混合物物理地放置在箔上, 繼而去除溶劑而實行。例如,未硬化之複合物混合物可擠 製於導電層1 2上,然後將複合物及導電層置入約1 8 0 °F之 硬化烤箱中約1 0分鐘。在此具體實施例中,介電層中未包 括玻璃纖維片,而是複合物混合物本身硬化形成介電層 1 1。介電層1 1因此不為機械地強硬,但是在使用具有小於 5 0 nm直徑之粉末時,可得薄至一微米之介電層。因此, 藉此具體實施例可構成產生相當高平面電容(例如,每平 方英吋至少1 2 0,0 0 0皮可法拉第)之積體電容器。未硬化複 合物混合物之塗佈較佳為藉由將複合物混合物擠製,或經 喷灑、輥壓、浸潰、或鑄製於導電基材12上而完成。 亦參考圖1描述裝置之此第二具體實施例。將形成介電 膜之複合物介電層11置於或塗覆於自撐導電層12上,如銅 箔。繼而,將第二導電層1 0塗佈於介電層1 1之另一側,如 藉壓機層合策_二箔,或藉金屬蒸發,以完成積體電容器構 造。圖2再度顯示介電複合物層1 1之橫切面,個別水熱地
O:\64\64114.ptd 第24頁 / 五、發明說明(18) 製備之毫微粉末丨3 i 3顯示介電層11之放大句勻地分散於全部黏合基質14。圖 末1 3, 1 3,配置於勘人|圖,其中個別水熱地製備之毫微粉 ., 3基質1 4内。 芩考圖5,其提供 4内 額外資訊。如所述,·發明方法之第二具體實施例之 之毫微粉末之漿料之木/、體貝施例包括製備分散於溶劑中 此方法包括混合黏合^ L其^^為亦^有界面活性劑。 -溶劑懸浮液。在萨由:(再又較佳為裱氧基)與毫微粉末 混合物之後,藉由9擠制把合黏合物質與襞料而製備複合物 複合物混合物,同時噴灑壓、浸漬或鑄製未硬化 導電層上,如鋼箔,:將合物混合物置於自撐 形成。此方法然後涉將入^-於其上而完成介電層 之溶劑,使得介電層ί = = =物硬化以排除大部份 示,將第二導電層(如鋼然後,如圖5所 層起初未置於第—導電居二二笔層之另一側,即, 广,:施例特“由直接對:ί此基本方法。因 (如金屬泊)擠製H親壓、浸一個自樓導電層 物。此方法可形成非f薄之介電層。(缉製複合物混合 在本發明之另一個具體實施例中, 電層1K包括黏合基質物質及水熱地製:由將自撐複合物介 化而製造積齓電容器。藉擠製或鑄製,:微粉末2金屬 11,其較佳為具有至2. 0微米之厚度形成複合物"電層 實施例之-般方法類所述第二具體實本發明之此具體 使用金屬沈積法,如蒸發、嗔錢或化學蒸氣沈積,將導電
第25頁 48/932 五、發明說明(19) 一' -*-— 層1 0與1 2至少之一 g己置於介電層丨丨上,而取《 i _ 個自撐導%箔。因此,第三具體實施例包括至少一個,,金 屬導電層12,而且視情況地層丨〇,12均為金屬化之層、。 =…化導電層1 〇或丨2之優點為導電層可沈積成相當薄之厚 :接^ ^ ’ 一微米或更小。這些使用金屬化(如蒸氣沈積) 電層u上之較薄導電層1〇,12降低將用於特定積 體^谷器之電極圖案化所需之蝕刻量。再度參考圖丨,藉 而喷鍍W造導電層1〇與丨2。圖2顯示介電膜I〗之橫切 甶’其中個別水熱地製備之亳 ” 全部黏合基質“。 如末3,13均勻地分散於 之:ii:圖6」其大致地描寫方法之此第三具體實施例-同1 ί非二::兩個基本步驟再度與其他具體實施例相 懸浮r。繁2 f水熱地製備之鈦酸鋇毫微粉末之 硬化开4 質,而且生成之複合物混合物可 體實;r在此具體實施例中,不似方法之第二具 之;相丨導電層不需配置於介電層。而是將介電層 為介電層之兩側。如此可加入“、、孔沈積),其視情況地 圖%所示,將第二導電層配置於介電之導電層。最後,如 :導電層可為自撐金屬箔,或如所^曰之另一侧上。此第 -- 了為第二金屬化表 單2此可見到,如果其中使用玻璃編, 取i 1谷 且具有各約1至2 mil ^ 主約6 mil之複合物 予度之導電層1 0,1 2, 而 電容器裝置一般具有厚度約 m、准片,依照本發明之 介電層n , 子又w 一 五、發明說明(20) —'^ ~ -----—- =置厚度為約4 nni至約1Q mU。在不包括強化玻璃纖 、准=而構成之替代具體實施例中,特別地由於均勻小直徑 f笔微粉末包括於電容器之介電層中,複合物介電層丨丨可 =溥,接近1 mU之厚度,而藉蒸氣沈積等製造之金屬化 ^电層1 0,1 2亦可更薄,其對應地生成總厚度戲劇性降低 U列如,下降至約6微米)之積體電容器。 一 在=多應用中,亦希望”堆疊”許多個依照本發明之任何 二肢貝%例製造之電谷器,例如,5至1 〇個,以製造多電 容,組件。例如,可將5個電容器(例如,在6個導電層:
間父替地堆疊之5個介電層)層合在一起以包括於pCB +在此實例中製備具有不同樹脂'及不同填料組合物之介 電基材並且試驗之。特別地,基材不包括填料、燒結及研 磨鈦酸鋇填料顆粒,及非耐火鈦酸鋇填料顆粒。 ,1 ledSignal 406樹脂單獨或組合50重量%之鈦酸鋇顆 粒使用以形成介電層。使用兩種形式之鈦酸鋇顆粒;紐約 州 Niagara Falls 之 TAM Ceramics, lnc·製造之燒結鈦酸 鋇顆粒’及新墨西哥州Albuquerque之TPL, Inc·製造之非 耐火鈦酸鋇顆粒。燒結鈦酸鋇顆粒具有1微米之主要粒 度’3·3平方米/克之bet表面積,及3000之介電常數。非 耐火鈦酸鳃鋇顆粒具有約〇 · 〇 5微米之粒度,2 6 · 〇平方米/ 克之BET表面積,及3〇〇〇之介電常數。 藉由塗覆1盘斯之Oak Mitsui公司製造之Double Treat (DT)銅箱,塗佈第二層1盎斯銅箔以將樹脂/顆粒組合夾在 Ηδ/932
製備包括35體積%之非耐火鈦酸鋇之介 ::1之方法試驗。繪製在—55。。至125。。之溫产3依: 電常數變化且報告於圖7。由圖7可清楚見到又:之圍| 約,之介電常數變化。因此,組合物中之非:度欽:圍: 之$並未戲劇性地改變生成介電組合物之介電常數安定、 實例3 製^包括35體積%之非耐火鈦酸頷之電容器層合物並且 依照實例1之方法試驗。然而,使用之樹脂系^ 、
A1HedSlgnal 40 2 樹脂,其具有14(TC2Tg。在—^工至 125 C之溫度範圍之介電常數變化為27.5%。 IΪ =括地或特別地取代用於以上實例之本發明所述 反應物及/或操作條件而重複以上實例I類似地成功。
、雖$ :I明已特別苓考這些較佳具體實施例而詳細敘 述’ J t具體實施例亦可得到相同之結果。本發明之變
第28頁 487932 五、發明說明(22) 化及修改對熟悉此技藝者為明顯的且所附之申請專利範圍 意圖涵蓋所有此種修改與等致物。上列所有參考資料、申 請案、專利、及刊物之全部揭示在此併入作為參考。
第29頁
Claims (1)
- 487S32 修正 嶺號 89108386 1 . 一種介電複合物,其包含至少一種有機聚合物,及至 少一種鐵電性顆粒填料,其中介電複合物之介電常數在複 合物接受-5 5至1 2 5 °C之溫度時變化小於1 5 % ;及 其中該鐵電性顆粒包含選自鈦酸鋇、鈦酸錄、及其混 合物之顆粒;及 其中該鐵電性顆粒包含非耐火顆粒,其具有1 0 uni至 6 0 n m之平均粒子大小;及 其中介電複合物具有大於140 °C之Tg ;及 其中至少一種樹脂為熱固性樹脂,其選自環氧樹脂、 氰酸酯樹脂、矽酮樹脂、聚醯胺樹脂、貳順丁烯二醯亞胺 三畊樹脂、胺基甲酸酯樹脂、及其混合物;及 其中組合物崩潰電壓大於2 0 0 0伏特/mi 1。 2 . —種包含根據申請專利範圍第1項之介電複合物之電 容器層合物,其呈片形狀,具有上表面及下表面,結合複 合物上表面第一導電層,及結合複合物下表面第二導電 層。 3 . —種多層印刷線路板,其中至少一層包含根據申請專 利範圍第2項之電容器層合物。 9 4. 一種整合地包括於印刷電路板中之介電物質,該介電 物質包含使用低溫化學沈積法製備之鐵電性毫微粉末,及 以膜形式斷續地分散之黏著劑,該膜配置於兩個導電層之 間,其中該鐵電性顆性包含選自鈦酸鋇、鈦酸鏍,及其混 合物之陶瓷顆性;及其中該鐵電性顆性具有1 0 nm至6 0 nm之 平均粒子大小。O:\64\64114.ptc 第1頁 2001.07. 24.032 487932 案號 89108386 c年//月曰 修正 六、申請專利範圍 5.根據申請專利範圍第4項之介電物質,其中該鐵電性 毫微粉末包含鈦酸鋇。 6 .根據申請專利範圍第4項之介電物質,其中該介電物 質具有每平方英吋至少100, 〇〇〇皮可法拉第之平面電容。 7. 根據申請專利範圍第4項之介電物質,其進一步包含 非離子性鱗酸g旨。 8. 根據申請專利範圍第4項介電物質,其中該鐵電性毫 微粉末具有範圍為1 0至2 0 0奈米之粒子大小,其中該黏著 劑為聚合物樹脂,及其中該介電毫微粉末為鈦酸鋇。 9 · 一種製造整合地包括於印刷電路板中之介電物之方 法,其包含步驟: a) 將鐵電性毫微粉末懸浮在溶劑中以形成懸浮液; b) 藉由將黏合劑加入懸浮液而製備複合物混合物; c ) 將複合物混合物形成層; d) 將複合物混合物層硬化以形成介電膜;及 e) 將導電層配置在介電膜之平面表面上。 10. —種製造整合地包括於印刷電路板中之介電物之方 法,其包含步驟: a) 將使用低溫化學沈積法製備之鐵電性毫微粉末懸 浮在有機溶劑中以形成懸浮液; b) 藉由將聚合物樹脂,加入懸浮液而製備複合物混 合物; c ) 將複合物混合物形成層; d) 將複合物混合物層硬化以形成介電膜;及O:\64\64114.ptc 第2頁 2001.07. 24. 033 487932 修正 案號 89108386 々、申請專利範圍 e) 將導電層配置在介電膜之平面表面上。 1 1 .根據申請專利範圍第1 0項之方法,其中該聚合物樹 脂為環氧聚合物。 1 2.根據申請專利範圍第1項之介電複合物,其中該複合 物具大於1 80 °C之Tg。 1 3.根據申請專利範圍第1項之介電複合物,其中該組合 物崩潰電壓大於2 5 0 0伏特/mi 1。 t fO:\64\64114.ptc 第3頁 2001.07.24.034
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/305,253 US6616794B2 (en) | 1998-05-04 | 1999-05-04 | Integral capacitance for printed circuit board using dielectric nanopowders |
US09/458,363 US6608760B2 (en) | 1998-05-04 | 1999-12-09 | Dielectric material including particulate filler |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW487932B true TW487932B (en) | 2002-05-21 |
Family
ID=26974508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089108386A TW487932B (en) | 1999-05-04 | 2000-06-26 | Dielectric composite for integrally included in printed circuit boards and its preparation method |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6608760B2 (zh) |
EP (1) | EP1198532A4 (zh) |
AU (1) | AU4694400A (zh) |
CA (1) | CA2373172A1 (zh) |
DE (1) | DE1198532T1 (zh) |
ES (1) | ES2184657T1 (zh) |
TW (1) | TW487932B (zh) |
WO (1) | WO2000066674A1 (zh) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040109298A1 (en) * | 1998-05-04 | 2004-06-10 | Hartman William F. | Dielectric material including particulate filler |
EP1755161A3 (en) * | 2001-08-24 | 2007-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Interconnect module with reduced power distribution impedance |
US6847527B2 (en) | 2001-08-24 | 2005-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Interconnect module with reduced power distribution impedance |
SG107103A1 (en) * | 2002-05-24 | 2004-11-29 | Ntu Ventures Private Ltd | Process for producing nanocrystalline composites |
US6737364B2 (en) * | 2002-10-07 | 2004-05-18 | International Business Machines Corporation | Method for fabricating crystalline-dielectric thin films and devices formed using same |
JP4700332B2 (ja) | 2003-12-05 | 2011-06-15 | イビデン株式会社 | 多層プリント配線板 |
US20060074164A1 (en) * | 2003-12-19 | 2006-04-06 | Tpl, Inc. | Structured composite dielectrics |
US20060074166A1 (en) * | 2003-12-19 | 2006-04-06 | Tpl, Inc. Title And Interest In An Application | Moldable high dielectric constant nano-composites |
US20080128961A1 (en) * | 2003-12-19 | 2008-06-05 | Tpl, Inc. | Moldable high dielectric constant nano-composites |
EP1578179A3 (en) | 2004-03-16 | 2006-05-03 | E.I. du Pont de Nemours and Company | Thick-film dielectric and conductive compositions |
KR100586963B1 (ko) * | 2004-05-04 | 2006-06-08 | 삼성전기주식회사 | 유전체 형성용 조성물, 이로 제조된 캐패시터층 및 이를포함하는 인쇄회로기판 |
US7495887B2 (en) * | 2004-12-21 | 2009-02-24 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Capacitive devices, organic dielectric laminates, and printed wiring boards incorporating such devices, and methods of making thereof |
US20070004844A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Clough Robert S | Dielectric material |
KR100665261B1 (ko) * | 2005-10-13 | 2007-01-09 | 삼성전기주식회사 | 온도변화에 따른 정전용량변화가 작은 복합 유전체 조성물및 이를 이용한 시그널 매칭용 임베디드 캐패시터 |
EP1949769B1 (en) * | 2005-11-14 | 2011-05-11 | Lawrence Livermore National Security LLC | Cast dielectric composite linear accelerator |
US20090168391A1 (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-02 | Kouichi Saitou | Substrate for mounting device and method for producing the same, semiconductor module and method for producing the same, and portable apparatus provided with the same |
TWI447155B (zh) * | 2007-12-28 | 2014-08-01 | Ind Tech Res Inst | 撓曲性、低介電損失組成物及其製造方法 |
US10176162B2 (en) * | 2009-02-27 | 2019-01-08 | Blackberry Limited | System and method for improved address entry |
WO2010127245A2 (en) * | 2009-05-01 | 2010-11-04 | 3M Innovative Properties Company | Passive electrical article |
CA2830269A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-10-26 | The Curators Of The University Of Missouri | High dielectric constant composite materials and methods of manufacture |
CN102757229A (zh) * | 2012-07-03 | 2012-10-31 | 深圳光启创新技术有限公司 | 一种共形陶瓷超材料及其制备方法 |
BR112018002077B1 (pt) | 2015-08-19 | 2023-02-28 | Chevron U.S.A. Inc. | Sistema de perfuração de fundo de poço e capacitor de alta voltagem |
WO2017154167A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 三井金属鉱業株式会社 | 多層積層板及びこれを用いた多層プリント配線板の製造方法 |
Family Cites Families (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2803553A (en) * | 1953-07-03 | 1957-08-20 | Erie Resistor Corp | Barium titanate ceramic dielectrics |
US3290756A (en) | 1962-08-15 | 1966-12-13 | Hughes Aircraft Co | Method of assembling and interconnecting electrical components |
US3304475A (en) | 1965-06-07 | 1967-02-14 | Scionics Corp | Miniature capacitor and method of making the same |
US3593107A (en) | 1969-08-19 | 1971-07-13 | Computer Diode Corp | High voltage multiplier circuit employing tapered monolithic capacitor sections |
US3673092A (en) | 1970-06-05 | 1972-06-27 | Owens Illinois Inc | Multilayer dielectric compositions comprising lead-barium borosilicate glass and ceramic powder |
US4000054A (en) | 1970-11-06 | 1976-12-28 | Microsystems International Limited | Method of making thin film crossover structure |
US4087300A (en) | 1974-01-07 | 1978-05-02 | Edward Adler | Process for producing metal-plastic laminate |
DE2737863C2 (de) | 1977-08-23 | 1983-11-03 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Imprägnierter elektrischer Wickel- oder Stapelkondensator |
FR2435883A1 (fr) | 1978-06-29 | 1980-04-04 | Materiel Telephonique | Circuit integre hybride et son procede de fabrication |
JPS589877A (ja) | 1981-07-08 | 1983-01-20 | 松下電器産業株式会社 | 高誘電率磁器組成物 |
JPS5817651A (ja) | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | 多層回路板とその製造方法 |
JPS5945928A (ja) | 1982-09-08 | 1984-03-15 | Sony Corp | チタン酸ストロンチウム微粒子の製造方法 |
US4827377A (en) | 1982-08-30 | 1989-05-02 | Olin Corporation | Multi-layer circuitry |
US4536451A (en) * | 1983-12-27 | 1985-08-20 | International Business Machines Corporation | Rigid magnetic recording media coating composition |
DE3674034D1 (de) | 1985-03-27 | 1990-10-18 | Ibiden Co Ltd | Substrate fuer elektronische schaltungen. |
US4808315A (en) | 1986-04-28 | 1989-02-28 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Porous hollow fiber membrane and a method for the removal of a virus by using the same |
US4863883A (en) | 1986-05-05 | 1989-09-05 | Cabot Corporation | Doped BaTiO3 based compositions |
US4829033A (en) | 1986-05-05 | 1989-05-09 | Cabot Corporation | Barium titanate powders |
US4764493A (en) * | 1986-06-16 | 1988-08-16 | Corning Glass Works | Method for the production of mono-size powders of barium titanate |
GB2193713B (en) | 1986-07-14 | 1990-12-05 | Cabot Corp | Method of producing perovskite-type compounds. |
JPH0821266B2 (ja) | 1987-03-11 | 1996-03-04 | 株式会社村田製作所 | 誘電体ペ−スト |
US4775573A (en) | 1987-04-03 | 1988-10-04 | West-Tronics, Inc. | Multilayer PC board using polymer thick films |
JP2608288B2 (ja) | 1987-06-19 | 1997-05-07 | キヤノン株式会社 | セラミツク及びこれを用いた回路基体と電子回路基体 |
JP2568204B2 (ja) | 1987-07-02 | 1996-12-25 | キヤノン株式会社 | セラミツク及びこれを用いた回路基体と電子回路基体 |
JP2568208B2 (ja) | 1987-07-09 | 1996-12-25 | キヤノン株式会社 | セラミツク及びこれを用いた回路基体と電子回路基体並びにセラミツクの製造方法 |
JPS6461087A (en) | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Sumitomo Chemical Co | Resin composition for printed wiring board |
DE3739853A1 (de) | 1987-11-25 | 1989-06-08 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von bariumtitanat in pulverform |
US4908258A (en) | 1988-08-01 | 1990-03-13 | Rogers Corporation | High dielectric constant flexible sheet material |
USRE35064E (en) | 1988-08-01 | 1995-10-17 | Circuit Components, Incorporated | Multilayer printed wiring board |
US5112433A (en) | 1988-12-09 | 1992-05-12 | Battelle Memorial Institute | Process for producing sub-micron ceramic powders of perovskite compounds with controlled stoichiometry and particle size |
US4999740A (en) | 1989-03-06 | 1991-03-12 | Allied-Signal Inc. | Electronic device for managing and dissipating heat and for improving inspection and repair, and method of manufacture thereof |
US5010641A (en) | 1989-06-30 | 1991-04-30 | Unisys Corp. | Method of making multilayer printed circuit board |
US5445806A (en) | 1989-08-21 | 1995-08-29 | Tayca Corporation | Process for preparing fine powder of perovskite-type compound |
US5155655A (en) | 1989-08-23 | 1992-10-13 | Zycon Corporation | Capacitor laminate for use in capacitive printed circuit boards and methods of manufacture |
US5161086A (en) | 1989-08-23 | 1992-11-03 | Zycon Corporation | Capacitor laminate for use in capacitive printed circuit boards and methods of manufacture |
US5079069A (en) | 1989-08-23 | 1992-01-07 | Zycon Corporation | Capacitor laminate for use in capacitive printed circuit boards and methods of manufacture |
US5604017A (en) | 1990-04-12 | 1997-02-18 | Arlon, Inc. | Multi-dielectric laminates |
US5256470A (en) | 1990-10-11 | 1993-10-26 | Aluminum Company Of America | Crystal growth inhibitor for glassy low dielectric inorganic composition |
JP3019541B2 (ja) * | 1990-11-22 | 2000-03-13 | 株式会社村田製作所 | コンデンサ内蔵型配線基板およびその製造方法 |
US5162977A (en) * | 1991-08-27 | 1992-11-10 | Storage Technology Corporation | Printed circuit board having an integrated decoupling capacitive element |
US5261153A (en) | 1992-04-06 | 1993-11-16 | Zycon Corporation | In situ method for forming a capacitive PCB |
US5800575A (en) | 1992-04-06 | 1998-09-01 | Zycon Corporation | In situ method of forming a bypass capacitor element internally within a capacitive PCB |
JP3225583B2 (ja) | 1992-04-10 | 2001-11-05 | 株式会社村田製作所 | チタン酸バリウム薄膜形成方法 |
US5428499A (en) | 1993-01-28 | 1995-06-27 | Storage Technology Corporation | Printed circuit board having integrated decoupling capacitive core with discrete elements |
JPH0715101A (ja) | 1993-06-25 | 1995-01-17 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 酸化物セラミック回路基板及びその製造方法 |
JPH0730257A (ja) * | 1993-07-13 | 1995-01-31 | Fujitsu Ltd | コンデンサ内蔵薄膜多層配線板 |
IT1270828B (it) * | 1993-09-03 | 1997-05-13 | Chon Int Co Ltd | Processo per la sintesi di polveri ceramiche cristalline di composti di perovskite |
JP3363651B2 (ja) | 1994-04-21 | 2003-01-08 | キヤノン株式会社 | プリント配線板およびその設計方法 |
US5504993A (en) | 1994-08-30 | 1996-04-09 | Storage Technology Corporation | Method of fabricating a printed circuit board power core using powdered ceramic materials in organic binders |
US5469324A (en) | 1994-10-07 | 1995-11-21 | Storage Technology Corporation | Integrated decoupling capacitive core for a printed circuit board and method of making same |
US5555486A (en) | 1994-12-29 | 1996-09-10 | North Carolina State University | Hybrid metal/metal oxide electrodes for ferroelectric capacitors |
US5638252A (en) | 1995-06-14 | 1997-06-10 | Hughes Aircraft Company | Electrical device and method utilizing a positive-temperature-coefficient ferroelectric capacitor |
US5796587A (en) * | 1996-06-12 | 1998-08-18 | International Business Machines Corporation | Printed circut board with embedded decoupling capacitance and method for producing same |
WO1998021272A2 (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Holl Richard A | Manufacture of composites of inorganic powder and polymer materials |
US6268054B1 (en) * | 1997-02-18 | 2001-07-31 | Cabot Corporation | Dispersible, metal oxide-coated, barium titanate materials |
JP3926880B2 (ja) | 1997-03-31 | 2007-06-06 | 富士通株式会社 | 多層プリント板 |
DE69832444T2 (de) * | 1997-09-11 | 2006-08-03 | E.I. Dupont De Nemours And Co., Wilmington | Flexible Polyimidfolie mit hoher dielektrischer Konstante |
US5972231A (en) | 1997-10-31 | 1999-10-26 | Ncr Corporation | Imbedded PCB AC coupling capacitors for high data rate signal transfer |
-
1999
- 1999-12-09 US US09/458,363 patent/US6608760B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-05-03 ES ES00928757T patent/ES2184657T1/es active Pending
- 2000-05-03 AU AU46944/00A patent/AU4694400A/en not_active Abandoned
- 2000-05-03 EP EP00928757A patent/EP1198532A4/en not_active Withdrawn
- 2000-05-03 WO PCT/US2000/012002 patent/WO2000066674A1/en active Application Filing
- 2000-05-03 DE DE1198532T patent/DE1198532T1/de active Pending
- 2000-05-03 CA CA002373172A patent/CA2373172A1/en not_active Abandoned
- 2000-06-26 TW TW089108386A patent/TW487932B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU4694400A (en) | 2000-11-17 |
EP1198532A4 (en) | 2003-04-02 |
CA2373172A1 (en) | 2000-11-09 |
ES2184657T1 (es) | 2003-04-16 |
DE1198532T1 (de) | 2003-08-14 |
US20010036052A1 (en) | 2001-11-01 |
EP1198532A1 (en) | 2002-04-24 |
US6608760B2 (en) | 2003-08-19 |
WO2000066674A1 (en) | 2000-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW487932B (en) | Dielectric composite for integrally included in printed circuit boards and its preparation method | |
US6616794B2 (en) | Integral capacitance for printed circuit board using dielectric nanopowders | |
US20040109298A1 (en) | Dielectric material including particulate filler | |
US5623724A (en) | High power capacitor | |
US5870274A (en) | Capacitive PCB with internal capacitive laminate | |
DE69008963T2 (de) | Elektronisches Schaltungssubstrat. | |
US20010052425A1 (en) | Printed circuit board and method of manufacturing the same | |
US6245171B1 (en) | Multi-thickness, multi-layer green sheet lamination and method thereof | |
WO1992018213A1 (en) | High dielectric constant flexible ceramic composite | |
US4835656A (en) | Multi-layered ceramic capacitor | |
US6258192B1 (en) | Multi-thickness, multi-layer green sheet processing | |
KR102496228B1 (ko) | 양면 동장 적층판 | |
Alam et al. | Embedded capacitors in printed wiring board: A technological review | |
US6618238B2 (en) | Parallel plate buried capacitor | |
US4633366A (en) | Laminar electrical component with magnesium orthoborate | |
US5976286A (en) | Multi-density ceramic structure and process thereof | |
JP4207517B2 (ja) | 素子内蔵基板 | |
TWI258203B (en) | Embedded capacitors using conductor filled vias | |
Peng et al. | Low‐Fire Processing and Properties of Ferrite+ Dielectric Ceramic Composite | |
TWI238026B (en) | Structure and fabricating method of a high-dielectric film formed on an organic substrate | |
TWI290778B (en) | Soft piezoelectric plate structure and synthetic method | |
JP4650119B2 (ja) | 積層型電子部品 | |
JP2007184386A (ja) | 誘電体層付導電性基材、その製造方法、キャパシタ及びプリント配線基板 | |
KR20060123052A (ko) | 마이크로파 소결장치 | |
JP2001303102A (ja) | 複合誘電体材料とこれを用いた成形材料、圧粉成形粉末材料、塗料、プリプレグおよび基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |