TW478082B - Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
TW478082B
TW478082B TW089127408A TW89127408A TW478082B TW 478082 B TW478082 B TW 478082B TW 089127408 A TW089127408 A TW 089127408A TW 89127408 A TW89127408 A TW 89127408A TW 478082 B TW478082 B TW 478082B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
contact piece
contact
contactor
insulating base
electrode
Prior art date
Application number
TW089127408A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeyuki Maruyama
Hirohisa Matsuki
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW478082B publication Critical patent/TW478082B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/325Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor
    • H05K3/326Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor the printed circuit having integral resilient or deformable parts, e.g. tabs or parts of flexible circuits
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49147Assembling terminal to base
    • Y10T29/49151Assembling terminal to base by deforming or shaping
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49204Contact or terminal manufacturing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49204Contact or terminal manufacturing
    • Y10T29/49208Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49204Contact or terminal manufacturing
    • Y10T29/49208Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts
    • Y10T29/49217Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts by elastic joining
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49204Contact or terminal manufacturing
    • Y10T29/49208Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts
    • Y10T29/49218Contact or terminal manufacturing by assembling plural parts with deforming

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
  • Multi-Conductor Connections (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Connecting Device With Holders (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)

Description

478082 ^___I__ 經濟部智慧則產局P'工消费合作社印製 A7 B7 發明說明(1 ) 本發明之背景資斜 1·本發明之技術領域 本發明大致上係有關於一種用以測試半導體元件之接 觸器’並且更特別係有關於一種用以測試含有精細端子 (fine terminals)或以精細間距(fine pitch)排列的端子的大 型積體電路(LSI circuit)的接觸器,以及其製造方法。 在半導體元件(例如大型積體電路)製造程序中測試該 半導體元件時’是使用接觸器電性接觸該大型積體電路的 知子。在測试具有連接插槽(c〇nnecti〇n s〇cket)的習知半導 體元件時,該插槽可被當成接觸器。但是,以尚未封裝的 赤裸晶片或CSP(晶片尺寸封裝,Chip Size Package)形式被 測試的大型積體電路(例如所謂的良裸晶KGD,Known Good Die)並沒有插槽。因此需要為這類大型積體電路準備 測試用的接觸器。 近來已發展晶圓級封裝(wafer-level packaging)技術, 並允許封裝晶圓形式之半導體晶片。這使得晶圓形式的多 數半導體元件的測試是需要的。因此本發明欲開發低成 本、容易製造,以及方便於測試的測試接觸器。 2·相關技術之說明 使用接觸器的測試有預燒測試(burn-in test),和如高 速測試(high-speed test)的終端測試(finai test)。 由於預燒測試過程需要一段長時間,因此在晶園級測 試時,晶圓上所有的大型積體電路必須同時測試。為了達 成此目的,晶圓上所有的大型積體電路的端子必須和探針 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公发) ---------------------^---------^ 1^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 478082 A; B7 五、發明說明( ㈣be)接觸’而與探針連接的導線需伸出測試板(預燒板) 之外。這類的預燒板有數萬個端子。 ^--- 請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由於在預燒測試時大型積體電路會置於高溫中(範圍 由攝氏125度至15G度),因此測試接觸器需有高抗熱性。依 循慣例很難製造符合這些需求的接觸器,而且即使可製造 出此接觸器,其代價可能非常高且壽命不長。 為了執行晶圓形式的高速測試為終端測試,接觸器的 探針必須短小。也就是說,由於探針的長度和接觸器的阻 抗(impedance)大致上成正比,因此高速測試不能用具有長 探針的接觸器來執行。所以高速測試使用的接觸器的探針 需愈小愈好。 由於為了在預燒測試時同時測試多數半導體元件,許 多的探針需被緊密排列。依循慣例很難製造出符合這些需 求的接觸器,而且即使可製造出此接觸器,其代價可能非 常南。 --線 經;§部智.^財產局8-工消^-、合作社印製 第1圖為使用異方性導電彈性體(anisotropic conductive elastomer)的習知接觸器之橫截面圖。在第】圖 中所不的接觸器使用異方性導電橡膠2為異方性導電彈性 體。疏異方性導電橡膠2是沉積在被測試的大型積體電路6 和測5式版8之間。該測試版§含有電極,並將會電性連接 至大型積體電路6的端子6a。 薄膜(membrane)4是被沉積在異方性導電橡膠2和大型 積體電路6之間,以確保異方性導電橡膠2接觸大型積體電 路6的端子6a。因此,若可確定彼此有接觸,該薄膜則不是 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇χ 297公釐) 經濟部智-u?財產局員工消費合作社印製 478082 A7 ----B7 五、發明說明(3 ) 必要的。另外,雖然第!圖顯示大型積體電路6的端子仏形 成在凹陷部份,但不必然如此,端子6a也可形成在平面表 面上。 異方性導電橡膠2中含有多個導電部份2b和其餘的絕 緣部份2b。大型積體電路6的每個端子6a電性接觸所對應的 電極8a。在此結構中,異方性導電橡膠2的彈性可確保大型 積體電路6的每個端子6a和所對應的測試版8的電極8a之間 的接觸壓力。 以上所提及使用異方性導電橡膠的接觸器的結構簡 單,並且常被用在習知的晶圓級測試中。異方性導電橡膠 的好處是有小的電感值(inductance)。而且,當異方性導電 橡膠退化和損壞時可單獨替換,而並不需要替換測試板。 除了以上所提及使用異方性導電物質的接觸器外,還 有另一種使用彈性型態接觸針(spring-type contact pin)的 接觸器。第2圖是使用彈性針的習知接觸器部份的側視圖。 第2圖中所示的接觸器含有於測試板12上作為探針(接 觸針)的彎曲導線1〇。辉線(bonding wire)(如金線)被用作為 導線10。導線10是用銲線機(wire bonder)形成。具體地說, 在導線10—端銲接至測試版12的電極12a後,導線10被切斷 並且彎曲如第2圖所示。彎曲的部份使得導線1〇可在垂直測 試板12平面的方向彈性變形(deform elastically)。將導線1〇 的另一端壓至大型積體電路6的端子6a,並利用導線1〇的彈 性變形(elastic deformation)將導線10確定接觸端子6a。 在以上所提及使用彈性針的接觸器中,導線1〇(探針) 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公爱) 6 -I I I I I I I « — — — — — — I— I 請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) € 478082 A7 B7 五、發明說明(4 ) 經 濟 智 產 局 消 費- 社 印 製 的見範圍彈性變形(由100仁111至300 em)可給予有足夠的 接觸壓力。另外,即使許多導線10的高度有某些差異,每 個導線10也可確定接觸所對應的端子6a。並且,導線1〇的 耐久性比異方性導電橡膠好,並可重複使用大約十萬次。 又,若將導線10放置在如預燒測試中的高溫狀態,導線1〇 並不會因此退化。 另一種習知接觸器的例子是懸臂式探針卡(cantilever probing card)。懸臂式探針卡含有如鎢(tungsten)的物質組 成的探針。該探針傾斜於測試板表面上。該探針比以上提 及的彎曲導線來得大,並是為了提供探針本身柔韌性。也 就疋說,傾斜排列方式和此探針的柔韌性可給予足夠的彈 性,以確定有接觸壓力。 以上所提及使用異方性導電物質的接觸器有以下問題 待解決:(1)彈性變形範圍狹小;以及(2)耐用性不高。 (1)彈性變形範圍狹小的問題 厚度為200 m的異方性導電橡膠的彈性變形範圍狹 小,大約由25/z m至1〇〇以m。因此,若大型積體電路含端 子表面不夠平坦,彈性變形的狹小範圍並不能確保接觸。 因此,大型積體電路必須要使用具有很平坦的表面但昂貴 的基座,例如陶瓷基座(ceramic substrate)或玻璃基座 substrate)。另外,若這類的大型積體電路是使用大銲錫珠 (solder ball)的晶圓級CSP,由於在晶圓上的銲錫珠高度彼 此相異大約100//m,而使得異方性導電橡膠不能確保接 觸0 --------------裝--- (請先閱讀背面之i意事項再填寫本頁) 線·
經濟部智慧財產局8工消費合作社印剔私 478082 A7 B7 --—----- 五、發明說明(5 ) (2)耐用性不高的問題 在高溫狀態中,異方性導電橡膠非常容易退化,並且 不能承受重複的接觸。特別是在如預燒測試的高溫狀態中 (由攝氏125度至150度),基礎橡膠會經歷塑形變形 deformation)而使得不能重複被使用。為此情况時,退化的 異方性導電橡膠可單獨替換,且不需替換測試版。但是, 一塊為晶圓尺寸的異方性導電橡膠價值數萬曰幣,因而提 高了晶圓測試成本。 以上所提及使用彈性針的接觸器有以下的問題待解 決:(1)特別高的製造成本;以及(2)無法替換的接觸針。 (1) 特別高的製造成本的問題 如第2圖中所示的彎曲接觸針是用焊接器一個接一個 形成的。所以,形成的探針數量越多,接觸器的製造成本 會越南。晶圓級大型積體電路有時會有50,000端子。在此 狀況下,接觸器也相對地需要有50,000個探針。另外,接 觸器的壽命目前縮短至大約1 80天,必然也因此限制了在冗 長的預燒測試中重複使用接觸器的次數。例如,若預燒測 試每晶圓需要24小時(一天),接觸器只可被使用大約18〇次 左右。所以,用於晶圓的接觸器的折舊費用會非常地高。 因此,這類的接觸器不可能實際被使用。 (2) 無法替換的接觸針的問題 即使只有一支接觸針(探針)損壞而不能使用,整個接 觸器也會變得不能使用。事實上,在大型積體電路測試中, 很難避免接觸針在預燒測試中被閉鎖(latch-up)(電流過量) 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------.%------- 丨訂---------線—^1^· (請先閱讀背νέ之注意事項再填寫本頁) 478082 J—i 經濟部智^^7產局^'工消費合作社印製 A7 B: 五、發明說明(6 ) 燒毀或被機械性震盪損壞。但是,由於接觸針直接焊接至 測試板的電極,很難只將損壞的針由其他針之中取下,重 新形成新的針。因此,即使只損失一支針也可能導致破壞 整個接觸器,而造成巨大的財務損失。 1 同樣地,懸臂式探針卡有一個問題待解決:高阻抗。 懸’式操針卡的探針通常被形成長度2〇mm至30mm, 以獲得一些彈性變形。一般而言,長度2〇至3〇mni的針會有 20至3〇1111(1^11〇1^111^5,奈亨利)的阻抗,也因此使得整個 抵針卡會有高阻抗。使用具有高阻抗的探針卡無法執行高 速測試。例如,設計用以執行大約2〇至30MHz運算的元件 可用長度20至30mm的針測試,並且不會有問題。但是,設 計用在高於200MHz運算的高速元件不能在高速中測試,因 為懸臂探針卡有高阻抗。 本發明之概要說明 本發明大致的目的就是提供經改良並有實際用途之用 以測試半導體的接觸器,並解決以上提及的接觸器的問題。 本發明特定的目標是提供用以測試半導體的接觸器, 當該接觸器用在晶圓級預燒測試時:(1)是低成本並且可含 有許多探針;(2)探針損壞時可單獨被替換,不需替換其他 接觸器;以及(3)有高抗熱性和有使用數百次的機械壽命, 當該接觸器用在終端測試時··(1)可承受高速測試,由於其 探針短小;(2)探針損壞時可單獨被替換,不需替換其他接 觸器,本發明並提供該接觸器之製造方法。 為了達成以上提及的目標,依據本發明其中一方面, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^--------^--------- (請先閱讀背面之;i音?事項再填寫本頁) 9 478082 五、發明說明(7 提供介於半導體元件和測試板之間,並將該半導體元件電 性連接至測試板的接觸器,其包含有: 一個絕緣基座;和 一個用絕緣層上的導電層所形成的接觸電極,該接觸 電極包含有接觸半導體元件的端子的第一接觸片(first contact piece)、接觸測試板的電極的第二接觸片(sec〇ncl contact piece)以及電性連接該第一和第二接觸片的連接部 份(connecting portion) 〇 ▲ 依據本發明,該接觸片是用絕緣層上事先準備好的導 電層所形成的,並接觸半導體元件和測試板。因此,使用 傳統製造半導體元件的技術,可同時在絕緣基座上形成許 夕接觸電極。並且由於導電層的彈性提供了每個接觸片接 觸壓力,所以可形成一種具有簡單結構的低成本接觸電 極。另外,該接觸片並沒有焊接至測試板,而只是在測試 時接觸測試板的電極。所以,當接觸電極損壞時,只有接 觸益需要破替換。又,該用導電層形成的接觸器有寬範圍 的彈f生隻形,所以接觸電極的長度可更短。這使得半導體 元件在測試時可在高速執行。 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 t 合 作 社 印 製 另外,在本發明中,接觸器也可包含在位於絕緣基座 形成接觸電極的位置上的開σ,經由此_,第一和第二 接觸片自絕緣基座的一表面延伸至另一表面。 依據本發明,因為第一和第二接觸片經由此開口自絕 j基座的-表面延伸至另_表面,而使得該接觸器結構簡 單並可使接觸片延伸至絕緣層二個表面。 1本纸張尺度3財_家標準(cns)A4^^χ视公^ 478082 經濟部智-n,?財產局P/工消f-合作社印製
7; A7 發明說明(8 ) 另外,依據本發明的接觸器中,第一接觸片和第二接 觸片可彼此分開放置,並且連接部份可電性連接該第一接 觸片和該第二接觸片,形成具有預定形狀的相互連接圖案 (interconnection pattern)。 依據本發明,由於第-接觸片和第二接觸片形成相互 連接圖案,該第二接觸片可形成在任何位置。這使得排列 第二接觸片時有更大的自由空間,也因此使得排列第二接 觸片所接觸的測試板電極時有更大的空間。 另外’在依據本發明的接觸器中,第一接觸片和第二 接觸片都可被放置使其縱向方向(longitudinal directi〇n)與 絕緣基座中心的半徑方向(radiai direeti〇n)對齊。 依據本發明,第一接觸片和第二接觸片都可被放置使 其縱向方向(longitudinal direction)與絕緣基座中心的半徑 方向(radial direction)對齊。這使得該接觸器、半導體元件 和測試板在經熱膨脹時,可避免接觸片的尖端由半導體元 件的端子脫離,或由測試板的電極脫離。 為了達成以上提及的目的,提供了依據本發明另一方 面的接觸器製造方法,其中接觸器被放置在半導體元件和 測試板之間並電性連接該半導體元件至該測試板,此方法 之步驟包含有: 在絕緣基座上形成導電層; 將導電層加以處理成為接觸電極,並包含有接觸半導 體元件端子的第一接觸器、接觸測試板電極的第二接觸器 和電性連接該第一接觸片和第二接觸片的連接部份;以及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】〇χ 297公爱) ^--------^---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 11 478082 五、發明說明(9 濟 部 智 4. 財 產 局 消 t 合 作 社 印 製 將第一接觸片朝絕緣基座第一表面的方向弯曲預定的 角度,以及將第二接觸片朝與絕緣基座第一表面相反的第 二表面方向彎曲預定的角度。 依據本發明,接觸器是用絕緣層上事先預備的導電層 所形成的,並接觸半導體元件和測試板。所以,使用傳統 製造半導體元件的技術,可同時在絕緣層上形成許多接觸 電極。另外,反方向彎曲的兩個接觸片和導電層的彈性提 供了接觸片接觸壓力。因此可形成具有簡單結構的低成本 接觸器。另外,該接觸片並不焊接至測試板而只在測試時 接觸測試板電極。因此,當接觸電極損壞時,只有接觸器 需被替換。該用導電層形成的接觸片尚可提供寬範圍的彈 性變形,並因此使得接觸電極可更為短小。這使得半導體 元件在測試中可在高速執行。 另外’在依據本發明的方法中,形成導電層的步驟可 包括將導電物質構成的薄膜物質形成在絕緣基座表面之上 的步驟;和 處理步驟包括將形成在絕緣層上的該導電層部份移 除,以形成第一接觸片、第二接觸片和連接部份。 依據本發明,該導電層是用如銅片(copper plate)或銅 箔(copper foil)的薄膜物質形成在絕緣基座上所形成的。該 導電層可輕易地被處理並用如蝕刻(etching)的方法形成接 觸電極。 另外’在根據本發明的方法中,形成導電層的步驟可 包括將導電物質沈積在絕緣基座的表面上以形成導電層的 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱)
12 A7
绥濟部智丛財產局^:工消費合作社印製
外/_2 五、發明說明(10 ) 步驟;和 處理步驟可包括將沈積在絕緣基座上的導電層部份移 除以形成第一接觸片、第二接觸片和連接部份的步驟。 根據本發明’該導電層是用如錢錢(sputtering)或沈積 的方法沈積導電物質於絕緣基座上所形成的。該導電層可 輕易地被處理,並用如蝕刻的方法形成接觸電極。 另外’依據本發明的方法尚可包含形成開口的步驟, 其中該開口形成在絕緣基座上形成第一接觸片和第二接觸 片位置的地方。 依據本發明,由於該開口形成在絕緣基座上形成第一 接觸片和第二接觸片位置的地方,第一接觸片或第二接觸 片可被彎曲穿過開口至反面。另外,可使用彎曲模板 (bending template)將接觸片彎曲並穿過開口。由此可輕易 形成接觸電極。 為了達成以上提及的目的,提供依據本發明的接觸器 製造方法,其中該接觸器被放置於半導體元件和測試板之 間’並電性連接該半導體元件至該測試板;此製造方法步 驟包含有: 處理絕緣基座的部份成為接觸半導體元件端子的第一 接觸片’和成為接觸測試板電極的第二接觸片; 在第一接觸片和第二接觸片上形成導電層,並將該導 電層部份形成電性連接第一接觸片和第二接觸片的連接部 份; 將第一接觸片朝絕緣基座第一表面方向彎曲預定的角 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) ^-------I -------· ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 13 478082 A: B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(11 度,並且將第二接觸片朝與絕緣基座第一表面相反的第二 表面方向彎曲預定的角度。 依據本發明,在絕緣基座上形成接觸片後,將導電層 形成在接觸片上以形成接觸電極。因此,使用傳統製造半 導體元件的技術,可在絕緣基座上同時形成許多接觸電 極。另外,反方向彎曲的兩個接觸片和導電層的彈性提供 了接觸片接觸壓力。因此可形成具有簡單結構的低成本接 觸器。另外,該接觸片並不焊接至測試板而只在測試時接 觸測試板電極。因此,當接觸電極損壞時,只有接觸器需 被替換。該用導電層形成的接觸片尚可提供寬範圍的彈性 變形,並因此使得接觸電極更為短小。這使得半導艘元件 在測試中可在高速執行。 另外,在依據本發明的方法中,處理步驟可包括在絕 緣基座上形成開口的步驟,以形成第一接觸片和第二接觸 片° 依據本發明,由於第一接觸片和第二接觸片的形狀是 以在絕緣基座上形成開口所形成的,因此可輕易地形成該 接觸片。 另外’在依據本發明的方法中,第一接觸片或第二接 觸片可為一屈曲面(curved Plane)或彎曲面(bent plane),並 且該方法尚可包含彎曲第一接觸片或第二接觸片的步驟, 其中彎曲位置在連接部份和第一接觸片或第二接觸片會合 的地點,並朝絕緣基座反方向彎曲預定的角度。 依據本發明,由於接觸片含有屈曲面或彎曲面,該屈 . — — — — — — — — — — * I------^ ·1111111· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) > I MMMm n ϋ <
478082
五、發明說明(l2 Ο 經 慧 財 產 局 工 合 作 社 印 製 曲面或彎曲面達成了寬範圍的彈性變形。 另外’依據本發明的方法尚可包含在導電層上形成至 少一表面層以改變接觸電極特質的步驟。 依據本發明,在導電層上形成表面層可改變接觸電極 的特質,例如彈性和電性特質。 另外,依據本發明的方法尚可包含在連接部份和第— 接觸片會合的位置以及在連接部份和第二接觸片會合的位 置上形成一補強物質。 依據本發明,該補強物質可形成在連接部份和第一接 觸片連接的位置以及在連接部份和第二接觸片連接的位 置。也就是只有接觸片承受最大壓力的部份有被補強。這 可避免接觸片永久變形或被損毀。 由以下的詳細說明和附帶圖式,本發明的其餘目的、 特點和優點將顯而易見。 置式之簡要說明 第1圖為使用異方性導電彈性體的傳統接觸器一部份 之橫截面圖; 第2圖為使用彈性針的傳統半導體一部份之側視圖; 第3圖為如本發明第一實施例的接觸器一部份之橫載 面圖; 式; 第4圖為第3圖中所示的接觸電極之平面圖; 第5圖為第3圖中所示的接觸電極之橫截面圖; 第6圖為說明第5圖中所不的接觸電極的形成步驟之圖 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 裝 請先閲讀背面之;i意事項再填寫本頁) --線· 15 經濟部智身財產局員工消費合作社印製 478082 A7 B7 五、發明說明(I3 ) 第7圖為用於接觸器彎曲程序中的彎曲模板之橫載面 圖; 第8圖為有最上層的接觸電極之橫截面圖; 第9A圖為有補強物質的接觸電極之平面圖; 第9B圖為有補強物質的接觸電極之橫截面圖; 第10圖為第3圖中所示的接觸電極的變化之平面圖; 第11圖為第3圖中所示的接觸電極的另一種變化之平 面圖; 第12圖為含有形成在測試板側面的接觸電極的結構之 橫截面圖; 第13圖為形成在如本發明第二實施例的接觸器之上的 接觸電極之橫載面圖; 第14圖為形成在如本發明第三實施例的接觸器之上的 接觸電極之平面圖; 第15圖為第14圖中所示的接觸電極之橫載面圖; 第16圖為第14圖中所示的接觸電極被放置在大型積體 電路和測試板之間時之橫戴面圖; 第17圖為第14圖中所示的接觸電極的變化之橫載面 圖; 第18圖為形成在如本發明第四實施例的接觸器之上的 接觸電極之平面圖; 帛19圖為說明第18圖中所示的接觸電極形成步驟之圖 式; 第20圖為形成在絕緣基座上的開口之平面圖; , I I I I ·1111111 « — — — — — — II — — — — —---I----_ ΙΓ I I I I . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
16 經濟部^祛时產局^工消費合作社印製 478082 A7 五、發明說明(14 ) 第21圖為說明第18圖中所示的接觸電極形成步驟之圖 式, 第22圖為說明如本發明第五實施例的接觸器之圖式。 _ 第23圖為第22圖中所示的接觸器的變化之圖式。 • 第24圖為第22圖中所示的接觸器的另一種變化之圖。 第25圖為如本發明第六實施例的接觸器一部份之橫截 面圖; &第26圖為第25圖中所示的接觸器之平面圖; 第27圖為第25圖中所示的接觸器之橫截面圖; 第28圖為形成在如本發明第七實施例的接觸器之上的 接觸電極之平面圖; 第29圖為第28圖中所示的接觸電極之側視圖; 第30圖為第28圖中所示的接觸電極之延伸部份的形狀 範例之平面圖; 第31圖為未彎曲前的接觸電極之平面圖,該接觸 丨電極是形成於如本發明第八實施例的接觸器之上; 第32圖為形成於如本發明第八實施例的接觸器之上的 接觸電極之正視圖; 第33圖為第32圖中所示的接觸電極之側視圖; 第34圖為第32圖中所示的接觸電極的變化之正視圖; 第35圖為第32圖中所示的接觸電極的變化之正視圖; 第36圖為大型積體電路側接觸片由延伸部份變曲小於 9〇度的預定角度(但並非直角)的範例之圖式; 第3 7圖為形成在如本發明第九實施例的接觸器之上的 本纸張&度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝--------訂---------線 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 17 經濟部智慧則產局員工消費合作社印製 478082 A7 ___________B7 五、發明說明(I5 ) 接觸電極之平面圖; 第38圖為第37圖中所示的接觸電極之側視圖; 第39圖為說明如本發明第十實施例的接觸器之圖式; 第40圖為形成在如本發明第十一實施例的接觸器上接 觸電極排列方式之圖式; 第41圖為說明第4〇圖中接觸電極排列方式的效應之圖 式; 第42圖為如本發明第十二實施例的接觸器的部份之橫 截面圖; 較佳實施例之詳細說明 現說明並以圖式解說本發明第一至第十二較佳實施 例0 第3圖為依據本發明第一實施例的接觸器一部份之橫 截面圖。第4圖為第3圖中所示的接觸電極之平面圖。如本 發明第一實施例的接觸器20形成為板狀或片狀型態的基 座,並包含多數接觸電極22,如第3圖和第4圖所示。 如圖3所示,在測試大型積體電路6時,接觸器20被放 置在大型積體電路6和測試版8之間並電性連接大型積體電 路6和測試版8 ^大型積體電路6含有紹塾(aluminum pad)形 式的多數端子6a。該測試板含有多數電極8a,並沈積在所 對應的大型積體電路6的端子6a的位置。電極8a是平墊(flat pads)形式,並且每個電極8a都有金層(gold layer)在其表面 上。 每個接觸電極22被放置在所對應的大型積體電路6的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------------1---^-------1 1^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 18 478082 Λ7 B7 <1 Ο 經 濟 智 U 產 局 r X 消 費- 合 社 印 製 五、發明說明(I6 端子6a和所對應的測試板8的電極8a之間。該接觸電極22 接觸及電性連接端子6a和電極6a。在本實施例中,接觸電 極22是在絕緣基座24上用銅片或銅箔(Cu)所形成的。 第4圖中所示的接觸電極22含有一環狀部份(annuiar P〇rti〇n)22a、一大型積體電路側接觸片22bl和一測試板側 接觸片22b2。絕緣基座24含有一圓形開口 24a,其直徑大體 上與環狀部份22a的内直徑相等。 大型積體電路側接觸片22bl由環狀部份22a的内圓周 延伸至環狀部份22a的中心,並在大型積體電路側接觸片 22b 1和環狀部份22a連接點附近,被朝上彎曲預定的角度。 測試板側接觸片22b2由環狀部份22a的内圓周延伸至環狀 部份22a的中心,並在測試板側接觸片22b2和環狀部份22a 連接點附近,被朝下彎曲預定的角度。也就是,測試板側 接觸片22b2穿過形成在絕緣基座24上的開口,朝大型積體 電路側接觸片22bl的反方向彎曲。 大型積體電路側接觸片22b 1和測試板側接觸片22b2可 用銅片或銅箔形成,並不需改造。但是,若其表面是用銅 所形成,該表面則可能被氧化並導致連接不良。並且,一 個單純的銅片或銅箔可能無法提供所需的接觸壓力(大約 每斜10克)。因此,較佳方式是在接觸電極22表面上形成導 電薄膜層(conductive thin film layer)22cl(如第 5圖所示), 如此可避免該表面被氧化,也可增加接觸電極22的承受 力,並可改良其彈性。 該薄膜層22cl可用電鍍(plating)形成。在此情況下, 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) ^--------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 19 經脅部智慧吋產局_工消費合作社印製 478082 A7 ______B7__ 五、發明說明(l7 ) 可使用金屬物質形成該薄膜層22c 1的物質,如鎳(nickei, Ni)、鈷(cobalt,Co)和鐵(iron,Fe)是較佳的,其中鎳(Ni) 是特別適合的。含有鎳(Ni)、鈷(Co)、鐵(Fe)或銅(cu)的合 金也可用來形成該薄膜層22cl。另外,金(g〇ld,Au)、銀 (silver,Ag)、铑(rhodium,Rh)、鈀(paiiadium,pd)、鉑 (platinum,Pt)和其合金也可被作為物質。還有,鎢 (tungsten ’ W)、鉬(molybdenum,Mo)和其合金也可被使用。 還有,鈹(berylllium,Be)和銅(Cu)的合金也可用來形成該 薄膜層22cl。 現在,說明接觸電極22的形成方法,並參照第6圖。 第6圖為形成接觸電極22的步驟之圖式。首先,一銅片 或銅箱形成在含有開口 24a的絕緣基座24上,並用如蝕刻的 方法形成如第6-(A)圖中所示的接觸電極22的原型。該開口 可用雷射加工(laser machining)、加壓加工(press w〇rking) 或蝕刻形成。另外,在銅片或銅箔形成在絕緣基座24上後, 也可使用蝕刻來形成開口 24a。並且,與其使用銅片或銅 箱’接觸電極22的原型也可用如銅層電鍍或銅層沉積的方 式形成。 接著’如第6-(A)圖中所示的接觸電極的原型被電鑛並 形成一薄膜層22cl,如第6-(B)圖中所示。該薄膜層22cl的 厚度可能由一些因素決定,例如接觸器2〇所需的耐久性、 運作溫度以及形成大型積體電路6的端子仏的物質。 在電鍍程序完成後,接著執行接觸片22b 1和22b2的彎 曲‘序,如第6-(C)圖中所示。使用如第7圖中所示包含上 中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) --------------I--^ 1^ (請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 20 478082 A7 B7 經濟部智慧削產局ΡΓ工消#-合作社印製 五、發明說明(I8 模板26A和下模板26B的彎曲模板,接觸片22bl*22b2可同 時朝反方向彎曲。接觸片22b 1和22b2的彎曲角度可先確 定,而使得該接觸片22bl和22b2個別的尖端處於所相對的 大型積體電路6的端子6a和所相對的測試板8的電極8a的預 定的位置(大致上是在中間),並將如彈回(spring back)的因 素加入考量。 若製造晶圓級大型積體電路所用的測試接觸器,將所 有接觸電極同時執行彎曲程序是較佳的。但是,由於彎曲 程序只需很短的時間,可將晶圓上大型積體電路可分成一 組一組執行彎曲程序。 在薄膜層22c 1形成在接觸片上後,有時會很難彆曲太 大的角度。若如此,可在彎曲程序之後執行薄膜層22c〗的 電鍍程序。在電鍍程序中,接觸片的彎曲角度和形狀的改 化可能會有影響。若如此,彎曲程序可在電鍍一些薄膜層 22c 1後執行,之後再繼續電鍍程序。另外,也可在彎曲程 序之刚執行鎳(Ni)電鍍,以增加該接觸片的機械強度 Onechanica! strength),並在彎曲程序之後,可執行不易氧 化的金(Au)或鉑(Pd)的電鍍。 即使為測試晶圓級大型積體電路而需要形成許多接觸 電極(接觸針),製造以上提及的接觸器2〇也只需大致上相 同的製造程序和製造成本。因此,有越多接觸針,就會使 接觸針的單位價越低,如此可製造低成本的接觸器。 另外,如第8圖所示,另一薄膜層22c2可形成在薄膜層 22cl表面上而成為最上層(uppermost layer)。該薄膜層22c2 本纸張尺度適用中國國家規格⑵〇 x 297公爱)-—-- • 21 - ^--------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧討產局員工消費合作社印制衣 478082 A7 B: 五、發明說明(19) 可用電鍍形成,並且是為了減少整個接觸電極的電阻性。 若用電鍛形成該薄膜層,則使用如金(Au)和始(Pd)的白金 金屬(platinum metal)是較佳的。 將接觸電極的最上層表面某程度粗链化,即是在將最 上層表面成不規則狀,以使得電性接觸較易。也就是說, 當大型積體電路側接觸片22bl和測試板側接觸片22b2各自 壓在所對應的端子6a和所對應的電極8a時,最上層表面的 不規則狀會使端子6a和電極8a上的氧化膜破裂,而有益於 電性接觸。電鍍時將電流波動可使得最上層表面粗糙。例 如,使用如正弦波般的電壓為電鍍電壓可改變電鍍狀況, 並因此在電鍍層表面上產生不規則狀。 另外’當接觸電極與銲錫端子(solder terminal)接觸 時,最好是使用用铑(Rh)所形成的接觸電極最上層,因為 其較不容易被銲錫(solder)黏著,並且最好是使用用纪(pd) 或鉑(Pt)所形成的接觸電極最上層,因為其較不容易含有 銲錫合金(solder alloy)。 例如,具有如第8圖中所示結構的接觸電極22含有形成 在絕緣基座24上厚度為18//m的銅箔;形成在該銅箔上厚 度為25//m的鎳(Ni)鍍層;以及厚度為1至3em的金(An)或 纪(Pd)鍍層的最上層,具有此結構的接觸電極22在高溫攝 氏125度中,以每針10克的接觸壓力,可被使用超過lQ,〇〇〇 次接觸。以上提及的接觸電極22也可在彎曲程序前,用厚 度大約12 // m的鎳(Ni)鍍層形成;在彎曲程序後,再形成另 一厚度大約為12#m的鎳(Ni)鍍層;並且之後形成厚度為j 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -n ϋ ·ϋ ϋ MW— I n I ϋ n n · ϋ tmmt ϋ I 1 n ϋ 一· n ϋ ϋ ϋ n n i-i I ·1 ‘ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 22 478082 A7 B7 ♦ 經濟部智丛財產局|-工消#-合作社印製 五、發明說明(2〇 至3#m的金(Au)或鈀(Pd)鍍層。 如以上說明,改變鍍層、電鍍物質、電鍍程序和電鍍 程序之時間控制可達成預定機械和電性特質。 另外,在形成以上提及的接觸電極22之後,可在每個 大型積體電路側接觸片22bl和測試板側接觸片22b2的根部 加上補強物質,如第9A圖和第9B圖所示。該補強物質28 可輕易地形成,例如用封填方式(potting)塗抹環氧樹脂 (epoxy resin)之後準備(CUring)該環氧樹脂❶在每個接觸片 根部形成補強物質28可防止接觸片被損壞並使接觸器有更 長的壽命。 在以上提及的接觸電極22中,大型積體電路側接觸片 22b 1和測試板側接觸片22b2在相同直徑上延伸。但是,接 觸片22b 1和22b2可如第10圖所示左右錯開。若如此,接觸 片22bl和22b2可加長而使得接觸片22bl和22b2有更寬範圍 的彈性變形。 同樣地’接觸片22b 1和22b2的長度並不一定需要相 等。如第11圖所示,接觸片22b2可以比接觸片22bl長。這 是因為接觸片22b2(如第3圖中所示)需要穿過絕緣基座24 的開口 24a至反面。 如以上所述,接觸片的長度可被調整,以實現可提供 必須接觸的結構。注意到該接觸電極22可形成在朝測試板8 的絕緣基座24側面之上,如第12圖所示。 另外’選擇熱膨脹係數(coefficients 〇f thermal expansion)與大型積體電路6的熱膨脹係數大致上相等的絕 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公爱) ---------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 23 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^/8082 A7 B7__ i、發明說明(21 ) 緣基座24的物質,可防止接觸片22bl因溫度變化而由大型 積體電路6的端子6a脫離。並且,擇熱膨脹係數與大型積體 電路6的熱膨脹係數大致上相等的絕緣基座24的物質,可防 止接觸片22b2因溫度變化由測試板8的電極8a脫離。該絕緣 基座24可用絕緣膠帶基座(insuiating tape substrate)形成, 例如表面有絕緣氧化膜的聚醯亞胺(p〇lyimide)、陶瓷基座 (ceramics substrate)、玻璃基座(glass substrate)或矽(Si)基 座(silicon substrate)。陶瓷基座、玻璃基座和矽(Si)基座比 絕緣膠帶基座(例如聚酿亞胺)較少彈性,但卻有卓越的平 坦度。於是’大型積體電路側接觸片22bl和測試板側接觸 片22b2的彈性變形可使接觸片在高度變化下仍各自穩當接 觸大型積體電路6和測試板8。 接著說明依據本發明的第二實施例,並參照第13圖。 第13圖為如本發明第二實施例的接觸器上的接觸電極 32之橫截面圖。該接觸器的整個結構與以上提及如本發明 第一實施例的接觸器20結構相同,因此其說明將在此省略。 第13圖中所示的接觸電極32是在銅片或銅箔形成在絕 緣基座24二個表面上後形成的。該接觸電極32,如同接觸 電極22 ’含有環狀部份32a和大型積體電路側接觸片32b 1。 該環狀部份32a和大型積體電路側接觸片32bl是用形成在 絕緣基座24 —側面(朝大型積體電路6的面)上的銅片或銅 %所形成的。於是,該環狀部份32&和大型積體電路側接觸 片32bl形成在絕緣基座24—側面(朝大型積體電路6的面)。 但是’不像以上提及的接觸電極22,測試板側接觸片 本纸張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(2】0 297公釐) • n ϋ n ϋ ϋ n I n I n n ϋ I · ϋ n ϋ ϋ —9 i^i ^ J 9 l_i n ϋ n I n I t— e 言 矣 一 (請先閱¾背面之注意事項再填寫本頁) 24 經濟部智祛財產局8-工消#-合作社印製 478082 A7 B7_ 五、發明說明(22 ) 32b2是用形成在測試板8 —側面上的銅片或銅箱所形成 的。所以,測試板側電極片32b2可不經開口 24a而延伸至朝 測試板8的側面。(譯註:原文說明與圖式不符合,應為: 但是,不如以上提及的接觸電極22,測試板側接觸片32b2 是用形成在絕緣基座24另一側面上的銅片或銅箱所形成 的。所以’測試板側電極片32b2可不經開口 24a而延伸至朝 測試板8的側面) 測試板側電極片32b2經由盲孔(via hole)34電性連接至 在絕緣基座24另一面上的環狀部份32a。於是,測試板側電 極片32b2經由盲孔34和環狀部份32a電性連接至型積體電 路側接觸片32bl。 如具有本實施例的接觸電極32的接觸器,將相等長度 的接觸片32bl和32b2形成,並將該接觸片32bl和32b2臀曲 相等角度,可在朝大型積體電路的側面上和朝測試板的側 面上形成相同結構的接觸片。 接著說明依據本發明的第三實施例,並參照第丨4圖至 第17圖。第14圖為如本發明第三實施例的接觸器上的接觸 電極42之平面圖。第15圖為第14圖中所示的接觸電極42之 橫戴面圖。 第14圖中所示如本發明第三實施例的接觸電極42,是 為了因應當大型積體電路6的端子是突出電極6b(例如銲 球’如第16圖所示)時使用的接觸電極。為了避免大型積體 電路側接觸片42bl因為與銲球6b的接觸壓力而成為永久變 形’該二個大型積體電路側接觸片42bl被排列在銲球❿中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)a4規格(210 X 297公釐) 裝--------訂·-----11 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25 478082 A7 B7 五、發明說明(23 ) 線的兩側,以避開銲球6b的中心點。在第15圖中,大型積 體電路側接觸片42b 1是水平的,並沒有朝大型積體電路6 方向彎曲。 第16圖為被放置在大型積體電路6和測試板8之間的接 觸電極42之橫截面圖。被銲球6b施壓的大型積體電路側接 觸片4 2 b 1朝測试板8的方向彈性變形,並變曲至開口 24a。 此彈性變形使得大型積體電路側接觸片42bl和銲球6b之間 的有穩當接觸(sure contact) 〇 必須注意到大型積鱧電路側接觸片42bl不一定為水 平,並可事先朝測試板8的方性小幅彎曲,這使得大型積體 電路側接觸片42bl在其彈性變形範圍之内變形。另外,如 第17圖所示,事先將大型積體電路側接觸片42bl依銲球6b 的形狀屈曲,可使得大型積體電路側接觸片42bl和銲球6b 之間的有更穩當的接觸。 接著說明依據本發明的第四實施例,並參照第1 8圖至 第21圖。第1 8圖為如本發明第四實施例接觸器上的接觸電 極之平面圖。 如同如本發明第一實施例的接觸電極22,第18圖中所 示的接觸電極52含有環狀部份52a、大型積體電路側接觸片 52bl以及測試板側接觸片52b2。但是,依據本實施例的接 觸電極52是如以下方式形成:預先在絕緣基座24上形成一 個具有和接觸電極54相同形狀的開口 24b;用電鍍或濺鍍方 式在開口 24b的周邊上形成導電膜。也就是說,接觸電極本 身就是用電鍍或濺鍍方式所形成的。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】〇 χ 297公釐) (請先閱讀背面之i意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -^aJI n ^ |_1 n n n n I ϋ I ϋ ϋ ϋ I ϋ I H ϋ I mmb n H 1*11 1· I I ϋ a 26 478082 A7 B7 經濟部智慧財產局P-、工消f-合作社印製 五、發明說明(24 第19圖為接觸電極52形成步驟之圖式❶首先,如第 19·(Α)圖所示,將具有和接觸電極54相同形狀的開口 24b 形成在絕緣基座24上。由於絕緣基座24是由如聚醯亞胺樹 月曰薄片(polyimide resin sheet)的樹脂薄片(resin sheet)所形 成的’開口24b可使用如加壓加工或蝕刻方式輕易地形成。 第20圖為形成在絕緣基座上的開口 24b之平面圖。 之後’在絕緣基座24所有的表面上形成導電膜54,如 第19-(B)圖中所示。導電膜54是用如鉻(Cr)濺鍍或鎳(Ni)電 鍍的方式所形成的。接著,如第29-(C)圖所示,用如蝕刻 的方式將部份的導電膜54移除,而使得剩餘在絕緣基座24 上的部份成為接觸電極5 2。之後,如同第一實施例的接觸 電極22 ’使用彎曲模版彎曲大型積體電路側接觸片52b 1和 測試板側接觸片52b2。如此即形成接觸電極52。 第21圖為接觸電極52形成步驟之另一圖式。如同第19 圖中的步驟,在第21圖中所示的步驟中,首先將具有和接 觸電極54相同形狀的開口 24b形成在絕緣基座24上,如第 21-(A)圖所示。接著,如第21·(β)圖所示,將遮罩56放置在 絕緣基座24上,並裸露接觸電極52的形狀。 接著,將導電膜54形成在絕緣基座24上。之後,如第 21-(C)圖所示,將遮罩56和形成在其之上的部份導電膜54 移除。之後,如第21 -(D)圖所示,使用彎曲模版彎曲大型 積體電路側接觸片52bl和測試板側接觸片52b2。 在如本實施例的接觸器的接觸電極52中,大型積體電 路側接觸片52bl,和測試板側接觸片52b2可具有相等的長 ------------I -------—訂 — — — — —--I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
27 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478082 A7 B7 五、發明說明(25 ) 度。 接著說明依據本發明的第五實施例,並參照第22圖至 第24圖。 如本實施例的接觸器包含表面具有鍍層的接觸電極, 該鍍層是用電鍍形成的。第22圖至第24圖顯示以第5圖中的 接觸電極22為例的接觸電極。 在本實施例中,預先形成用在電鍍程序的電流供應圖 案(electric supply pattern)60,並將其用來在尚未被電鍍的 接觸電極22上形成導電膜圖案(conductive film pattern)。也 就是,在接觸電極22尚未鍍有薄膜層22cl的狀態時(如第 6-(A)圖中的狀態),形成之後將用在電鍍程序的電流供應 圖案60,如第22圖至第24圖所示。電流供應圖案60被連接 至每個接觸電極22,並提供電鍍電流(plating current)至接 觸電極22,用電鍍形成薄膜層22cl。電流供應圖案60可使 用形成在絕緣基座24上的銅片或銅箔,在接觸電極22原型 形成時同時形成。 在電鍍程序中提供電鍍電流之後,電流供應圖案60的 預定部份會被如雷射切割(laser cutting)或雷射穿孔(laser punching)的方式分割。如第23圖所示,將電流供應圖案60 橫越形成在接觸電極22附近的開口 62,電流供應圖案60會 在開口 62處輕易地被穿孔方式分割。並且,如第24圖所示, 將多數電流供應圖案60移至某處,之後在該處形成開口 64,多數電流供應圖案60會輕易地被穿孔方式分割。 如以上所述,依據本實施例的接觸器製造方法,電鍍
本、’氏度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ilill蠢 (請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁)
訂---------線J 28 經濟部智^財產局8-'工消«-合作社印:^ 478082 A7 B7 五、發明說明(26) 層可輕易地在接觸電極的表面形成,並使得接觸器的製造 成本降低。 接著說明依據本發明的第六實施例,並參照第25圖至 第27圖。 如同以上提及的第五實施例,依據本實施例的接觸器 含有電鍍程序中使用的電流供應圖案70。但是,該電流供 應圖案70形成在形成接觸電極22表面的反面,如第25圖所 •示。 也就是說,在本實施例中,在銅片或銅羯形成在絕緣 基座24二個表面上之後,用形成在其中一面上的銅片或銅 形成接觸電極22 ’並且在另一方面,用形成在反面上的 銅片或銅箔形成電流供應圖案70。接觸電極22和電流供應 圖案70經由盲孔72電性連接。接觸電極22含有一個突出片 (protruding piece)74,並在其之上形成盲孔72。 在本實施例中,在完成電鍍程序之後,可用蝕刻移除 丨 電流供應圖案70或用脫離法(pelling method)(如第27圖所 示)一次性移除電流供應圖案70。因此,被使用後的電流供 應圖案70可輕易地被移除。 接著說明依據本發明的第七實施例,並參照第28圖至 第30圖。 第28圖為形成在如本發明第七實施例的接觸器之上的 接觸電極之平面圖。第29圖為第28圖中所示的接觸電極之 側視圖。 如第28圖所示,依據本實施例的接觸電極82包含有延 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)Ai規格(2】〇χ297公釐) -------------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 29 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^ 478082 A7 B7__ 五、發明說明(27 ) 伸部份(extending portion)82a、大型積體電路側接觸片82bl 和測試板側接觸片82b2。在以上提及如第一實施例的接觸 電極22,大型積體電路側接觸片22bl和測試板側接觸片 22b2是經由環狀部份22a連接的。但是,在本實施例中,大 型積體電路側接觸片82bl和測試板側接觸片82b2是經由延 伸部份82a連接。雖然第28圖中的延伸部份82a為直線狀, 但延伸部份82a也可有其他形狀,如彎曲狀(bent shape)或 屈曲狀(curved shape)。 在延伸部份82a的一端形成大型積體電路側接觸片 82bl。隨著,在絕緣基座24對應延伸部份82a這一端的位置 上形成開口 24c 1。大型積體電路側接觸片82b 1可經由開口 24cl輕易地朝大型積體電路6方向彎曲。 在延伸部份82a的另一端形成測試板側接觸片82b2。隨 著,在絕緣基座24對應延伸部份82a這一端的位置上形成開 口 24c2。測試板側接觸片82b2可經由開口 24c2朝測試板8 方向彎曲。 第30圖為延伸部份82a的形狀範例之平面圖。在第3〇 圖中’延伸部份82a由大型積體電路側接觸片82bl延伸至測 試板8的電極8a,並充分地延長了端子6a之間的間距 (pitch)P1。也就是說,若間距P1太窄,電極8a之間的間距 P2可被延長。另外,將延伸部份82a往預定的方向延伸,可 谷許’則5式板的電極8 a自由排列。 例如,若大型積體電路6的外圍排列了二列端子6a,利 用延伸部份82a可容許測試板8的電極8a如矩陣狀排列在對 本紙尺度適用中國國家標準(CNS)A:1規格(210 X 297公釐) — — — — — — 1— « — — — — — — I— I — — — — — — — — — — — — —ΓΙΙΓ — — — — I (請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 30 &濟^:智^,〕財產局員工消費合作社印Φ衣
478082 A7 ______ B7 五、發明說明(28 ) 應整個大型積體電路6的區域上。如上所述,如本實施例的 接觸器可提供很大自由排列測試板的電極8a。 接著說明依據本發明的第八實施例,並參照第3 1圖至 第36圖。 第31圖為未彎曲前的接觸電極92之平面圖,該接觸電 極92是形成於如本發明第八實施例的接觸器上。第32圖該 接觸電極92之正視圖。第33圖為該接觸電極92之側試圖。 如以上提及第七實施例的接觸電極82,依據本實施例 的接觸電極92包含有延伸部份92a和連接該延伸部份92a — 端的測試板側接觸片92b2。但是,大型積體電路側接觸片 92bl被形成為彎曲或屈曲平面,如第31圖的平面圖所示。 在使用時,大型積體電路側接觸片92b 1會被彎曲並與延伸 部份92a呈直角,如第32圖的正視圖。 第31圖至第33圖中所示的大型積體電路側接觸片92b 1 有個大致上為U形部份。因此,利用此部份的彈性變形的 優點(如第33圖中雙虛線所示),可輕易地形成具有很大彈 性變形的接觸電極。 第34圖和第35圖為如第31圖至第33圖中所示的接觸電 極92的各種變化之正視圖。第34圖中的接觸電極92A包含 具有大致上為水平S形部份的大型積體電路側接觸片 92Abl,此部份提供了寬範圍的彈性變形。該大型積體電 路側接觸片92Ab 1呈站立狀,並朝延伸部份92a延伸的方向 垂直彎曲。第34圖中的接觸電極92B包含具有大致上為垂 直S形部份的大型積體電路側接觸片92Bbl,並取代如第34 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A‘l規格(210x 297公釐) --— — — — —— ^ «— — — — — I — (請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 31 478082 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____ B7____ 五、發明說明(29 ) 圖所示的在接觸電極92 A中具有大致上為水平S形部份的 大型積體電路側接觸片92Abl。 將接觸片形成如上提及的S形,可使得在彈性變形 時’水平方向接觸片尖端的位移(displacement)較垂直方向 接觸片尖端的位移小。這可避免當接觸片接觸大型積體電 路的端子時,損壞大型積體電路的端子。 第36圖為大型積體電路側接觸片92bi對延伸部份92a 彎曲小於90度的預定角度α (但並非直角)的範例之圖式。 由於接觸片的彎曲,此結構達成了彈性變形;並同時由於 接觸片的斜坡,此結構達成了彈性變形。 如以上所提及,由於接觸片有寬範圍彈性變形,如本 實施例的接觸器的接觸電極在接觸片彈性變形時可減少壓 力。因此,可承受多次變形的接觸片可輕易地形成。 另外,由於接觸片有寬範圍彈性變形,當大型積趙電 路的端子高度有差異時,接觸片的變形可因應如此的高度 差。例如,在測試晶圓級大型積體電路時,大型積體電路 的端子高度相差大約100 y m。如本實施例的接觸片可輕易 地調整至不同高度。 在本實施例中的大型積體電路側接觸片形成為大致為 U形或大致為S形。但是,大型積體電路側接觸片並不侷限 於這些形狀,並也可使用其它屈曲形狀的變化。另外,在 本實施例中的大型積體電路側接觸片形成為屈曲狀。但 是,測試板側接觸面也可形成為屈曲狀。又,如同第一實 施例,本實施例中的薄膜層可用電鍍法形成在接觸電極的 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) , --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 32 478082 A7 B7 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費· 合 社 印 製 五、發明說明(3〇 ) 表面上,並改良了接觸片的機械和電性特性。 接著說明依據本發明的第九實施例,並參照第37圖至 第38圖。第37圖為形成在如本發明第九實施例的接觸器上 的接觸電極102之平面圖。第38圖為第37圖中所示的接觸電 極102之側視圖。 接觸電極102與如第28圖和第29圖中第七實施例的接 觸電極82有相同的基本結構。但是,如本實施例的接觸電 極102的大型積體電路側接觸片1〇2bl是和絕緣基座24 一同 被彎曲,如第38圖所示。雖然在第37圖和第38圖中的大型 積體電路側接觸片1 〇2b 1和絕緣基座24 —同被彎曲,但也可 被取代成將測試板側接觸片1 〇2b2和絕緣基座24 —同被變 曲。 依據本實施例,利用絕緣基座的彈性可實現接觸電極 的接觸片的彈性變形。 接著說明依據本發明的第十實施例,並參照第39圖。 如本貫施例的接觸器含有如以上提及的實施例的接觸 器的接觸電極,以及形成在絕緣基座24上的配線圖案 (wiring pattern)110。該配線圖案11〇將以上提及的多個接 觸電極中預定的某些接觸電極連接起來。 第39圖中所示的配線圖案no連接多個接觸電極,其中 每個接觸電極都會接觸至每個晶圓級大型積體電路上的特 定端子。隨後,將配線圖案110的尾端連接至電源後,電壓 可經由接觸器到達晶圓級大型積體電路上的特定端子。另 外’晶圓級大型積體電路上的特定端子可同時經由接觸器 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】〇χ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 33 478082 A7 B7 五、發明說明(31 ) 接地。又’可同時經由接觸器偵測到大型積體電路上的特 定端子的電性狀況(electrieal c〇nditi〇n) 〇 接著說明依據本發明的第十一實施例,並參照第4〇圖 至第41圖。 第40圖為形成在如本發明第十一實施例的接觸器上的 接觸電極排列方式之圖式。第41圖為說明形成在如本發明 第十一實施例的接觸器上的接觸電極排列方式的效應之圖式。 如本實施例的接觸器使用了如以上提及的實施例的接 觸器的接觸電極。但是,每個接觸電極被排在預定的位置。 第40圖和第41圖顯示以上提及如第一實施例中的接觸電極 22的範例。 具體地說’如第40圖所示,排列每個接觸電極22而使 得接觸片22b 1和22b2依半徑方向朝接觸器中心〇對齊。此 種排列可應付大型積體電路的端子和測試板的電極的移動 (shifting),此移動是因為大型積體電路(晶圓)、接觸器的 絕緣基座和測試板的熱膨脹係數相異所造成的。 也就是說’大型積體電路(晶圓)、接觸器的絕緣基座 和測試板的熱膨脹係數相異造成大型積體電路的端子或測 試板的電極的對接觸電極的接觸片移動。由於接觸片以預 定的壓力壓在端子或電極上,若該端子或電極移動並透成 接觸片彎曲的角度增加,該接觸片的尖端可能刺入端子或 電極,而造成該端子或電極變形或損壞。 在本實施例中’如第41圖所示,每個接觸電極22被排 列成:當大型積體電路的端子或測試板的電極對接觸片移 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
^ ·1111111· I — — — — — — — — — — —— —-— — If — —III 34
♦ 經濟部智慧財產局昏工消篦合作社印製 時,該端子或電極移動的方向會使的>f曲角度減少。這 使侍接觸片的尖端在端子或電極上順暢地移動,並可避免 該接觸片刺進端子或電極内。 另外,依據以上提及的接觸電極排列法,當溫度升高 時’接觸電極的接觸片熱膨脹後伸長的方向和大型積體電 路的端子或測試板電極因熱膨脹移動的方向相同。這使得 接觸片#尖端熱膨脹後的㈣方向和端子或電極的移動方 向相同,而避免接觸片的尖端從端子或電極脫離。 接著說明依據本發明的第十二實施例,並參照第42圖。 第42圖為如本發明第十二實施例的接觸器12〇一部份 之橫截面圖。依據本實施例的接觸器使用如以上提及的實 轭例的接觸電極。第42圖顯示如第一實施例的接觸電極22 範例。 依據本實施例的接觸器120含有位朝在測試板8的側面 上的間隔(spacer)122。該間隔122的厚度是預定的,使得接 觸器120壓向測試板8時,接觸器12〇和測試板8之間的距離 可維持(在間距120的厚度)。當接觸器12〇被過量施壓時, 這可避免接觸電極22的接觸片被過度壓擠而受到永久變形 或損壞。 本發明並不侷限於在此特別揭露的實施例,而且可在 本發明範圍之内做變化和更改。 本申請是根據2000年3月22曰的曰本優先權適用 (Japanese priority application)第 2000-080974號,該完整内 容在此一並編入以供參考。 --------------^—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •線- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】0 X 297公釐) 35 478082
經濟部智慧財產局員工消費合作社印制农 五、發明說明(33 ) 元件標號對照 2.·.異方性導電橡膠 觸片 4...薄膜 52b2 ···測試板側接觸片 6···大型積體電路 52…接觸電極 6a"·端子 52a…含有環狀部份 6b…鲜球 54···接觸電極 8...測試版 56···遮罩 8a…電極 6 0…電流供應圓案 10…導線 70…電流供應圖案 20.··接觸器 72.··盲孔 22.··接觸電極 82a…延伸部份 22bl···大型積體電路側接 82bl ···大型積趙電路側接 觸片 觸片 22b2··.測試板側接觸片 82b2…測試板側接觸片 22cl…薄膜層 92···接觸電極 2 2 c 2…薄膜層 92a…延伸部份 2 4…絕緣基座 92Abl··.大型積體電路側 24a···圓形開口 接觸片 26A.··上模板 92Bbl···大型積體電路側 26B···下模板 接觸片 32···接觸電極 102···接觸電極 42···接觸電極 l〇2bl···大型積體電路側 42bl···大型積體電路側接 接觸片 觸片 102b2···測試板側接觸片 52bl·.·大型積體電路側接 no··.配線圖案 -------------— »ϋ —-i i-i 1 n 一-0,t ϋ ϋ n ϋ ϋ ϋ I ϋ I ϋ ^1 ^1 ·ϋ ^1 i^i n H ϋ n ϋ ϋ H ϋ ϋ ^1 ϋ ^1 ϋ · (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 36

Claims (1)

  1. 六、申請專利範圍 1 · 一種放置在半導體元件和測試板之間的接觸器,並以電 性連接該半導體元件和測試板,該接觸器包含: 一絕緣基座;和 一由導電層所形成的接觸電極,其係設置在該絕緣 層上’該接觸電極包含一個接觸該半導體元件的端子的 第一接觸片、一個接觸該測試板的電極的第二接觸片以 及一個電性連接該第一接觸片和該第二接觸片的連接 部份。 2·如申請專利範圍第1項之接觸器,其進一步包含一個位 置在該絕緣基座形成該接觸電極的地點的開口,該第一 接觸片或該第二接觸片經由該開口自該絕緣基座的一 表面延伸至其另一表面。 3·如申請專利範圍第丨項之接觸器,其中該第一接觸片和 該第二接觸片是分開放置,並且該連接部份以具有預定 形狀的相互連接圖案電性連接該第一接觸片和該第二 接觸片。 4·如申請專利範圍第1項之接觸器,其中每個該第一接觸 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 片和該第二接觸片被放置得使該縱向方向朝該絕緣基 座中心的半徑方向對齊。 5· —種製造接觸器的方法,該接觸器被放置在半導體元件 和測試板之間並以電性連接該半導體元件和該測試 板,該方法包含下述步驟: 在絕緣基座上形成導電層; 處理該$電層形成接觸電極,並包含有一個接觸該 AS B8 C8 D8 經濟部智慧財產局I-工消氰合作社印製 六、申請專利範圍 半導體元件的端子的第一接觸片、一個接觸該測試板的 電極的第二接觸片以及一個電性連接該第一接觸片和 該第一接觸片的連接部份; 將該第一接觸片朝該絕緣基座的第一表面方向彎 曲預定的角度,並將該第二接觸片朝與該第一表面相反 的該絕緣基座第二表面方向彎曲預定的角度。 6·如申請專利範圍第5項之方法,其中形成導電層的步驟 包括在該絕緣基座上形成導電物質構成的膜物質的步 驟;和 處理步驟,其包括將形成在絕緣基座上導電層部份 移除,而形成該第一接觸片、該第二接觸片和該連接部 份的步驟。 7.如申請專利範圍第5項之方法,其中形成導電層的步驟 包括將導電物質沉積在該絕緣基座上,而形成該導電層 的步驟;和 處理步驟,其包括將沉積在絕緣基座上導電層部份 移除,而形成該第一接觸片、該第二接觸片和該連接部 份的步驟。 8·如申印專利範圍第5項之方法,進一步包含在絕緣基座 形成该第一接觸電極和該第二接觸電極的位置形成一 個開口的步驟。 9· 一種製造接觸器之方法,該接觸器被放置在半導體元件 和測試板之間並以電性連接該半導體元件和測試板,該 方法包含下述的步驟: — — — — — — — — — — — — — ·1111111 ·1111111 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    -38 - I OUOZ I OUOZ
    ASBSC8D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    處理絕緣基座的部份形成一個接觸該半導體元件 的端子的第一接觸片和一個接觸該測試板的電極的第 二接觸片; -在該第一接觸片和該第二接觸片上形成導電層,並 將該導電層的部份形成一個電性連接該第一接觸片和 該第二接觸片的連接部份;和 將該第一接觸片朝該絕緣基座的第一表面方向彎 曲預定的角度’並將該第二接觸片朝與該第一表面相反 的該絕緣基座第二表面方向彎曲預定的角度。 〇·如申叫專利範圍第9項之方法,其中該處理步驟包括在 該絕緣基座上形成開口,因而形成該第一接觸片和該第 一接觸片的步驟。 Π·如申請專利範圍第5項之方法,其中該第一接觸片或該 第二接觸片中至少一者是屈曲面或彎曲面;和 該方法進一步包含下述步驟:將該第一接觸片或該 第二接觸片在該連接部份和該第一接觸片或該第二接 觸片接和的地點,朝該絕緣基座反方向彎曲預定的角 度。 12 ·如申叫專利範圍第5項之方法,進一步包含下述步驟: 在該導電層的表面上形成至少一層表面層』因而改變該 接觸電極的特性。 13.如申請專利範圍第5項之方法,進一步包含下述步驟: 在該連接部份和每個第一接觸片和該第二接觸片接合 位置的地方形成一補強物質。
    39
TW089127408A 2000-03-22 2000-12-20 Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof TW478082B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000080974A JP4323055B2 (ja) 2000-03-22 2000-03-22 半導体装置試験用コンタクタ及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW478082B true TW478082B (en) 2002-03-01

Family

ID=18597976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW089127408A TW478082B (en) 2000-03-22 2000-12-20 Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof

Country Status (7)

Country Link
US (2) US6939142B2 (zh)
EP (1) EP1136827B1 (zh)
JP (1) JP4323055B2 (zh)
KR (1) KR100691680B1 (zh)
CN (1) CN1204612C (zh)
DE (1) DE60035667T2 (zh)
TW (1) TW478082B (zh)

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6462568B1 (en) * 2000-08-31 2002-10-08 Micron Technology, Inc. Conductive polymer contact system and test method for semiconductor components
JP4173306B2 (ja) 2001-11-30 2008-10-29 東京エレクトロン株式会社 信頼性評価試験装置、信頼性評価試験システム及び信頼性評価試験方法
US7114961B2 (en) 2003-04-11 2006-10-03 Neoconix, Inc. Electrical connector on a flexible carrier
US8584353B2 (en) 2003-04-11 2013-11-19 Neoconix, Inc. Method for fabricating a contact grid array
US7758351B2 (en) 2003-04-11 2010-07-20 Neoconix, Inc. Method and system for batch manufacturing of spring elements
US7244125B2 (en) 2003-12-08 2007-07-17 Neoconix, Inc. Connector for making electrical contact at semiconductor scales
US6890185B1 (en) * 2003-11-03 2005-05-10 Kulicke & Soffa Interconnect, Inc. Multipath interconnect with meandering contact cantilevers
US20050227510A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-13 Brown Dirk D Small array contact with precision working range
JP4383843B2 (ja) * 2003-12-18 2009-12-16 アルプス電気株式会社 電気的接触構造体及びその製造方法
TWI309094B (en) 2004-03-19 2009-04-21 Neoconix Inc Electrical connector in a flexible host and method for fabricating the same
US7347698B2 (en) * 2004-03-19 2008-03-25 Neoconix, Inc. Deep drawn electrical contacts and method for making
US6972470B2 (en) * 2004-03-30 2005-12-06 Texas Instruments Incorporated Dual metal Schottky diode
WO2005119848A1 (en) 2004-05-28 2005-12-15 Molex Incorporated Flexible ring interconnection system
US7284991B2 (en) * 2004-05-28 2007-10-23 Molex Incorporated Flexible scrub ring contact
US7335979B2 (en) * 2004-06-28 2008-02-26 Intel Corporation Device and method for tilted land grid array interconnects on a coreless substrate package
US7220132B2 (en) * 2004-06-28 2007-05-22 Intel Corporation Tilted land grid array package and socket, systems, and methods
WO2006008799A1 (ja) * 2004-07-16 2006-01-26 C & N Inc 磁気センサ組立体、地磁気検出装置、素子組立体および携帯端末装置
JP2006088451A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Rikogaku Shinkokai 耐経年劣化特性に優れたPt基導電性被覆材料
JP2006242774A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Tokyo Electron Ltd プローブ及びプローブカード
US7408367B2 (en) * 2005-06-22 2008-08-05 Paricon Technologies Corporation Micro Kelvin probes and micro Kelvin probe methodology with concentric pad structures
US7462035B2 (en) 2005-07-27 2008-12-09 Physical Optics Corporation Electrical connector configured as a fastening element
JP4962929B2 (ja) * 2005-09-19 2012-06-27 軍生 木本 プローバ装置及びこれに用いるプローブ組立体
US20070090849A1 (en) * 2005-10-24 2007-04-26 Romi Mayder Method and apparatus for a DUT contactor
JP4605031B2 (ja) * 2006-01-25 2011-01-05 パナソニック電工株式会社 基板間接続コネクタとそれに用いる絶縁基板
JP2007328996A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Fujikura Ltd ソケットとその製造方法及び半導体装置
US8177561B2 (en) 2006-05-30 2012-05-15 Fujikura Ltd. Socket contact terminal and semiconductor device
JP4988363B2 (ja) * 2007-01-24 2012-08-01 日立オートモティブシステムズ株式会社 トルクセンサ
JP5392693B2 (ja) * 2007-05-15 2014-01-22 上野精機株式会社 テストコンタクト
JP4658998B2 (ja) * 2007-06-04 2011-03-23 東京エレクトロン株式会社 シェル
JP5038816B2 (ja) * 2007-08-15 2012-10-03 日本碍子株式会社 ソケット
CN101437360B (zh) * 2007-11-12 2011-12-21 富葵精密组件(深圳)有限公司 柔性电路基板、柔性电路基板的制作方法及固定方法
TW200922009A (en) * 2007-12-07 2009-05-16 Jye Chuang Electronic Co Ltd Contact terminal
KR101008881B1 (ko) * 2008-04-25 2011-01-17 심영모 원터치로 설치되는 등기구
US8308489B2 (en) * 2008-10-27 2012-11-13 Physical Optics Corporation Electrical garment and electrical garment and article assemblies
US8063307B2 (en) * 2008-11-17 2011-11-22 Physical Optics Corporation Self-healing electrical communication paths
LU91561B1 (en) * 2009-04-30 2010-11-02 Univ Luxembourg Electrical and opto-electrical characterisation oflarge-area semiconductor devices.
JP5325085B2 (ja) 2009-12-24 2013-10-23 日本碍子株式会社 接続装置
CN102263350B (zh) * 2010-05-26 2013-11-27 欣兴电子股份有限公司 连接器及其制作方法
US8884640B2 (en) * 2011-04-28 2014-11-11 Mpi Corporation Integrated high-speed probe system
JP5794850B2 (ja) * 2011-07-26 2015-10-14 新光電気工業株式会社 接続端子構造の製造方法
US8641428B2 (en) 2011-12-02 2014-02-04 Neoconix, Inc. Electrical connector and method of making it
WO2014113508A2 (en) 2013-01-15 2014-07-24 Microfabrica Inc. Methods of forming parts using laser machining
US9680273B2 (en) 2013-03-15 2017-06-13 Neoconix, Inc Electrical connector with electrical contacts protected by a layer of compressible material and method of making it
CN106885687B (zh) * 2015-12-16 2019-11-12 上海机动车检测认证技术研究中心有限公司 一种车用灯具光通量测试装置
CN105866654A (zh) * 2016-05-25 2016-08-17 上海华岭集成电路技术股份有限公司 晶圆测试的控制方法
PH12017000234A1 (en) * 2016-09-02 2018-07-23 Knight Auto Prec Engineering Pte Ltd Handling assembly of semiconductor test equipment
CN110797820B (zh) * 2019-10-23 2021-06-11 山东达驰阿尔发电气有限公司 一种离相封闭母线导体抱瓦的制作方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4548451A (en) * 1984-04-27 1985-10-22 International Business Machines Corporation Pinless connector interposer and method for making the same
US5917707A (en) 1993-11-16 1999-06-29 Formfactor, Inc. Flexible contact structure with an electrically conductive shell
JPH0483355A (ja) * 1990-07-25 1992-03-17 Fujitsu Ltd 半導体素子の実装方法
US5139427A (en) * 1991-09-23 1992-08-18 Amp Incorporated Planar array connector and flexible contact therefor
US5228861A (en) * 1992-06-12 1993-07-20 Amp Incorporated High density electrical connector system
US6029344A (en) 1993-11-16 2000-02-29 Formfactor, Inc. Composite interconnection element for microelectronic components, and method of making same
US5802699A (en) * 1994-06-07 1998-09-08 Tessera, Inc. Methods of assembling microelectronic assembly with socket for engaging bump leads
US5613861A (en) 1995-06-07 1997-03-25 Xerox Corporation Photolithographically patterned spring contact
US5994152A (en) 1996-02-21 1999-11-30 Formfactor, Inc. Fabricating interconnects and tips using sacrificial substrates
US5759047A (en) * 1996-05-24 1998-06-02 International Business Machines Corporation Flexible circuitized interposer with apertured member and method for making same
US6179624B1 (en) * 1999-11-05 2001-01-30 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Land grid array connector

Also Published As

Publication number Publication date
DE60035667T2 (de) 2008-05-21
JP4323055B2 (ja) 2009-09-02
EP1136827A2 (en) 2001-09-26
KR100691680B1 (ko) 2007-03-09
KR20010092660A (ko) 2001-10-26
US20010024890A1 (en) 2001-09-27
DE60035667D1 (de) 2007-09-06
CN1314703A (zh) 2001-09-26
US7240432B2 (en) 2007-07-10
JP2001266983A (ja) 2001-09-28
US20050225342A1 (en) 2005-10-13
US6939142B2 (en) 2005-09-06
EP1136827B1 (en) 2007-07-25
EP1136827A3 (en) 2003-07-16
CN1204612C (zh) 2005-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW478082B (en) Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof
TW440696B (en) Probe contactor formed by photolithography process and method for producing the same
JP4980903B2 (ja) 膜懸垂プローブを具えるプローブヘッド
US7403024B2 (en) Contactor having contact electrodes of metal springs embedded in a plate-like structure
US7217139B2 (en) Interconnect assembly for a probe card
US20020153912A1 (en) Compliant probe apparatus
JP2003207523A (ja) コンタクタ及びその製造方法並びにコンタクト方法
KR100980369B1 (ko) 프로브 카드의 프로브 니들 구조체와 그 제조 방법
JPWO2007072789A1 (ja) 異方導電性コネクター、及びこの異方導電性コネクターを備える検査装置用変換アダプタ及び検査装置、並びにこの異方導電性コネクターの製造方法
JP2007309682A (ja) 伝送回路、接続用シート、プローブシート、プローブカード、半導体検査装置、および半導体装置の製造方法
JP2004095547A (ja) 異方導電性コネクターおよび導電性ペースト組成物、プローブ部材並びにウエハ検査装置およびウエハ検査方法
JP2012173263A (ja) 電気的接触子及び電気的接触子ユニット
US20060148285A1 (en) Anisotropic conductive connector and probe member and wafer inspecting device and wafer inspecting method
KR100340754B1 (ko) 커넥터 장치
JP5643476B2 (ja) 二重弾性機構プローブカード
JP2004053409A (ja) プローブカード
JP4999398B2 (ja) 配線基板
JP2001099863A (ja) プローブ及びそれを用いたプローブカード
JP3879464B2 (ja) 回路装置検査用異方導電性シートおよびその製造方法並びにその応用製品
TWI274165B (en) Probe card interposer
WO2001096894A1 (en) Compliant probe apparatus
JP2000162238A (ja) 分割型プローブカード
JP4385767B2 (ja) 異方導電性コネクターおよびその製造方法並びに回路装置の検査装置
JP2000321303A (ja) プローブカード及びコンタクタ
US20240110948A1 (en) Method for producing a probe card

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees