TW476763B - Photoresist cross-linking monomers, photoresist polymers and photoresist compositions comprising the same - Google Patents

Photoresist cross-linking monomers, photoresist polymers and photoresist compositions comprising the same Download PDF

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Jae-Chang Jung
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Description

9 476763 A7 B7 五、發明說明（ί ) 發明領域 本發明係關於一種用於光阻聚合物的交聯單體’光阻 聚合物及含此聚合物的光阻組成物。更特別地’其係關於 一種交聯單體，其可顯著地改善光阻共聚合物的聚合反應 產率，及一種使用此光阻單體以製備光阻共聚合物的方法 〇 發明背景 最近，已證明一種脂環族單體被引入主鏈或支鏈之光 阻共聚合物在獲得超微米圖案上爲有用的。然而，由脂環 族單體所組成的光阻共聚合物典型地具有低聚合反應產率 ，因此合成此共聚合物需要高的生產成本。 此外，當聚合反應裡所使用的單體量增加時，聚合反 應產率顯著地降低，因此光阻聚合物很難以大量製備。 發明摘述 本發明的目的是要解決上述說明的問題，及提供一種 交聯單體，其可藉增加聚合反應之產率以降低光阻聚合物 的生產成本及因此使該聚合物之大量生產成爲可能。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明的另一目的是提供一種使用該交聯單體的光阻 聚合物，及製備其之方法。 仍然是本發明的另一目的是提供一種使用上述的光阻 聚合物的光阻組成物，其可應用於使用極短波長光源的微 影程序中。 圖式簡單說明 圖1表示一種由實施例17得到的光阻圖案。 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 476763 A7 B7 五、發明說明（> ) 圖2表示一種由實施例18得到的光阻圖案。 發明詳述 爲了達成上述的目的’本發明提供一種交聯單體，其 表示如下列化學式1 : <化學式1>
R· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -«I ϋ I .^1 >1 I I^OJ· ϋ ϋ ϋ n ϋ I * 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中，V代表CH2，CmCH2，氧或硫；Y是選自由直 鍵或支鍵的C 1 · Πί院基’氧’及直鍵或支鏈的醚所組成《的族 群中；R’及R”分別代表Η或CH3 ; i是1到5 ;及η是從0 到3。 爲了達成本發明的另一目的’提供一種光阻共聚合物 ，其使用化學式1代表的交聯單體作爲一種共單體。 另外，提供一種光阻組成物，包括⑴上述的光阻共聚 合物，（η)光酸產生劑，及(m)有機溶劑。 闲於合成光阻聚合物的交聯單霞 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476763 A7 _ B7 五、發明說明（>]) 本發明人完成了徹底的硏究以達成上述發明的目的， 且發現由化學式1所代表的化合物藉使光阻聚合物交聯至 另一光阻聚合物上時以改良聚合物的聚合反應產率。根據 本發明的交聯單體對改善具有脂環族烯烴主鏈之共聚合物 的聚合反應產率係特別地有效。 由化學式1所代表的交聯單體的性質係說明如下： (1) 交聯單體包括含雙鍵之脂環族化合物。在聚合反應 中，雙鍵斷裂以與參與聚合反應中的其它共單體形成交聯 ，藉此得到較高的聚合反應產率。 (2) 因爲一個交聯單體具有兩個羧基，其可適當地調整 在微影程序的顯影步驟期間，顯影溶液在曝光區與未曝光 區之間的溶解度差異。 (3) 因爲交聯單體的脂環族結構構成光阻聚合物的主鏈 ，可得到一種具有極佳抗蝕刻的光阻聚合物。 (4) 因爲交聯單體具有兩個具親水性質及對矽有親和性 之羧基，在光阻圖案和基板間可保留極佳的黏著性。因此 ，當形成高積聚度之圖案時，可避免圖案崩潰，故可製造 高可靠度的半導體元件。 (5) 在一種藉具有自由羥基之單體與馬來酐的共聚合反 應以製備光阻聚合物之例中，存在聚合物貯存之安定性的 問題，因爲羥基易於與馬來酐反應。然而，藉使用根據本 發明的交聯單體，羥基與馬來酐的反應可因交聯而避免， 藉此可改善所得聚合物的貯存安定性。 (6) 另外，本發明的交聯單體爲無臭及容易地藉由結晶 7 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----β-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
訂---------線I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 476763 t . A7 B7 五、發明說明（斗） 作用以從混合有機溶劑（例如，苯/己烷）中合成爲純物 質狀態，而不需使用複雜的分離步驟’例如蒸餾或管式色 層分析法。 光阻聚合物的合成 根據本發明的光阻共聚合物的製備係藉由添加化學式 1的交聯單體到合成傳統光阻共聚合物方法中的其它光阻 單體上。 尤其，根據本發明的交聯單體在改善脂環族單體的聚 合反應產率上係有用的，當光阻共聚合物的製備是藉由溶 解一或多種脂環族單體於有機溶劑中，添加由化學式1所 代表的交聯單體，然後添加一自由基聚合反應之引發劑或 金屬催化劑至最終混合物中以引發聚合反應。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 大量聚合反應或溶劑液合反應可被使用爲聚合反應的 方法。作爲聚合反應之引發劑，可使用2,2-偶氮異丁腈 (AIBN)，過氧化苯醯，乙醯化過氧，月桂基過氧化物，特 丁基氧化物，雙疊氮類之化合物，或類似物。可使用四氫 呋喃’二甲基甲醯胺，氯仿，乙酸乙酯，丙酮，乙基甲基 酮i ’苯’甲苯，二甲苯或類似物以作爲聚合反應溶劑。四 氧呋喃、二噁烷或二甲基甲醯胺爲最佳之聚合反應溶劑。 若可獲得爲固體之聚合物，可使用二乙醚，石油醚，正己 院’環己烷，甲醇，乙醇，丙醇或異丙醇以作爲聚合反應 溶劑’使用二乙醚，石油醚或正己烷爲最佳。 拫據本發明的聚合反應方法是在50。(：到120。(：，較佳 在50°C到80°C之氮氣或氬氣下進行4到24小時。然而， 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵〇 χ 297公爱） 9 476763 A7 丨―———_ B7 ............ 1 . ________________ . .一 五、發明說明（< ) 本發明並不被該聚合反應條件所限制。 依上述方法製備的光阻共聚合物較佳地包含⑴具有酸 不安定基的脂環族化合物，其作爲第一共單體，（ii)根據本 發明的交聯單體，其作爲第二共單體及(iii)馬來酐及/或 由化學式16所代表的化合物以作爲第三共單體： <化學式16>
Q 其中’ Z代表CH2 ’ CH2CH2，氧或硫。 可使用特丁基，2-四氫顿喃基，2-四氫呋喃基或類似 物作爲酸不安定基。 馬來酐使每個共單體間之鍵結強，且適當地調整聚合 物的分子量（較佳地14,000到30,000)以助長聚合反應比 例的增加。另外，聚合反應因添加由化學式16所代表的化 合物而更加便利，因爲該化合物避免於第一及第二單體的 大側基間的立體阻礙。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉由使用本發明的聚合反應方法所製備的較佳光阻聚 合物係由化學式17所代表： 〈化學式17> 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 476763 A7 __ B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（l〇 R"
o^o^o viy R· c=o
I 〇
I
R 其中，Z，W，及v分別地代表CH2，CH2CH2，氧或硫 ;R代表一種酸不安定基；Y是選自由直鏈或支鏈的 烷基，氧，及直鏈或支鏈的醚所組成的族群中；R’及 R”分別地代表Η或CH3，η是從〇到3，i是從1到5，及a ，b，c，及d分別地代表參與聚合反應中的每一個共單體 的聚合反應比例。較佳地a : b : c : d比例是50% : 0-30% 莫耳％ : 10-40莫耳％ : 0.M0%莫耳％。 、本發明的較佳的光阻聚合物之分子量是在3,000到 30,000的範圍。 光阻組成物的合成 光阻組成物可根據本發明以製備，其係將由化學式17 所代表的光阻共聚合物及光酸產生劑混合於有機溶劑中。 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱了 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476763 A7 B7 五、發明說明（1) 可使用硫化物或鎗類化合物作爲光酸產生劑，例如，二苯 基碘六氟磷酸塩，二苯基碘六氟砷酸塩，二苯基碘六氟鍊 酸塩，二苯基對-甲氧苯基三氟甲烷磺酸塩，二苯基對-甲 苯基三氟甲烷磺酸塩，二甲苯對-異丁苯基三氟甲烷磺酸塩 ，二苯基對4寺丁基苯基三氟甲烷磺酸塩，三苯基毓六氟磷 酸塩，三苯基銃六氟砷酸塩，三苯基銃六氟銻酸塩，三苯 基銃三氟甲烷磺酸塩或二丁基萘基毓三氟甲烷磺酸塩。光 酸產生劑的量較佳是0.05到10重量％，其以光阻聚合物 爲基準。若量小於〇·〇5重量％時，光阻劑的光敏感度則不 佳。若量是10%或更多，可得到具有不佳輪廓之圖案，因 爲光酸產生劑吸收太多紫外光。 可使用乙基3-乙氧基丙酸酯，甲基3-甲氧基丙酸酯， 環己酮，丙二醇甲醚醋酸酯，環戊酮或其它傳統有機溶劑 以作爲有機溶劑。使用溶劑的量較佳爲200到1,000重量 %光阻聚合物。根據發明者的實驗，發現當溶劑的量是 600重量％時，可得到具有0.5微米厚度的光阻膜。 一種使用本發明光阻組成物以形成光阻圖案的方法係 說明如下： 首先，根據本發明的光阻組成物被旋轉塗佈於矽晶圓 上以形成一薄光阻膜，然後“軟烤”，然後藉著使用深紫 外光曝光器或準分子雷射曝光器以曝露於圖案光中。可使 用ArF，KrF，VUV，EUV，E-束，X-射線或類似物以作爲 光源，且曝光的能量較佳從1到30mJ/cm 2。 然後，該薄光阻膜在70°C到200°C下“後烘烤”約1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再 --- 本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 476763 ， Α7 __ Β7 五、發明說明（又） 到2分鐘，然後該光阻膜在碱性顯影溶液中進行顯影，例 如，TMAH (四甲基氫氧化鏡）水溶液，以得到〇·15微米 或更小的微圖案。 根據本發明的交聯單體係藉在參與聚合反應的共單體 之間形成交聯以增加聚合反應比率。如此，光阻共聚合物 可以低生產成本被大量生產。 較佳县體實施例詳沭 本發明將依以下實施例以更詳細說明，但應注意本發 明不侷限於該實施例。 實施例1 :乙二醇二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯） 的合成 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 乙二醇（〇·1莫耳）係加入四氫呋喃（100毫升）中在 攪拌。在攪拌混合物之後，5-原冰片烯二羧酸酐（0.2 莫耳）被加入混合物中，且攪拌所得混合物直到完全溶解 。將硫酸（0.1毫升）慢慢地加入，混合物在室溫下反應 48小時。在反應完全後，蒸餾去除四氫呋喃。殘餘溶液用 500毫升乙酸乙酯萃取，以硫酸鎂乾燥後，再過濾。在真 空中蒸發濾液以得到白色固體之粗產物，然後從丙酮/石 油醚中再結晶，以得到純的如化學式2之化合物（34克/ 產率：95% ) <化學式2> 12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公ίΤ 9476763 A7 __B7 五、發明說明（1 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
實施例2: 1,3-丙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸 醋）的合成 重覆根據實施例1的合成及處理步驟，但使用1，3-丙 二醇代替乙二醇，以得到如化學式3的無色固體化合物（ 35.7 克/產率：96% )。 〈化學式：3>
實施例3 : M-丁二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸各羧酸 塩）的合成 重覆實施例1的步驟，但使用1,4-丁二醇代替乙二醇 ，以得到如化學式4的無色固體化合物（36.3克/產率： 94% )。 <化學式4> 13 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） L------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線. 476763 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（π )
實施例4 : 1,5·•戊二醇-二（5·原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸 醋）的合成 重覆如實施例1之合成及處理步驟，但使用1，5-戊二 醇以代替乙二醇作爲反應物，以得到如化學式5之無色固 體化合物（36.8克/產率：92% )。 <化學式5>
實施例5 : 2,2-二甲基-1,3-丙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例1的步驟，但使用2,2-二甲基-1，3-丙二醇 代替乙二醇，以得到如化學式6之無色固體化合物（38.8 克/產率：97% )。 <化學式6> 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）
476763 A7 _B7 五、發明說明（1丨）
實施例6 : 2,2-二乙基-1,3-丙二醇-二（5-原冰片烯-2· 羧酸-3-羧酸酯）的合成 重覆如實施例1之步驟，但使用2,2-二乙基-1，3-丙二 醇代替乙二醇，以得到如化學式7之無色固體化合物（ 41.5 克/產率：97% )。 <化學式7>
Ο Ο Η Ο ==/ jt=〇 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂---------線 ·! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 w 實施例7 :二乙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯 )的合成 重覆根據實施例1之相同的合成及處理步驟，但使用 二乙二醇代替乙二醇，以得到如化學式8之無色固體化合 物（36.6克/產率：91% )。 <化學式8> 15 本紙張尺適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) 476763 Α7 _________ Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（A ) 0
ο OH Ο
實篮例8 :乙.._二醇二（噁^雙環mi辛丄烯_2_羧酸_3_ 羧酸酯）的合成 將乙二醇（〇·1莫耳）加入四氫呋喃（1〇〇毫升）。在 攪拌混合物後，外向-3,6-環氧-1，2,3,6-四氫肽酐（0.2莫耳 )被加入混合物中，且攪拌所得混合物至完全溶解。慢慢 加入硫酸（0.1莫耳）至溶液中，混合物在室溫下反應24 小時。在反應完全後，蒸餾去除四氫呋喃。殘餘溶液以 500毫升乙酸乙酯萃取，再以硫酸鎂乾燥，並過濾。濾液 在真空中蒸發以得到白色固體粗產物，其然後在丙酮/石 油醚中再結晶，以得到純的化學式9之化合物（34.2克/ 產率：95% )。 <化學式9>
16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再坤寫本頁) il宜
I
476763 A7 B7_ 五、發明說明（A ) 實施例9 : L3-丙二醇-二（噁雙環『2,2,11辛-5-烯-2-羧 酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8的步驟，但使用1，3-丙二醇代替乙二醇 ，以得到如化學式10之無色固體化合物（35.2克/產率： 94% ) <化學式1〇>
實施例10 : M-丁二醇-二（噁雙環「2111辛-5·烯-2-羧 酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8之步驟，但使用1，4-丁二醇代替乙二醇 ，以得到如化學式11之無色固體化合物（36.1克/產率： 93% )。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 <化學式11> 17 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476763 A7 B7 五、發明說明（A)
酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8的步驟，但使用1-5-戊二醇代替乙二醇 ，以得到如化學式12之無色固體化合物（36.2克/產率： 90%)。 <化學式12>
Ο OH 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0廿( 0 實施例12 : 2J-二甲某-L3-丙二醇-二（噁雙璟mi 辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8的步驟，但使用2,2-二甲基-1,3-丙二醇 代替乙二醇，以獲得如化學式13的無色固體化合物（38.6 克/產率·· 96% )。 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 476763 A7 B7 五、發明說明（、<) <化學式13>
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 實施例13 : 2,2-二乙基丙二醇-二（噁雙環『2111 辛-5-烯_2_羧酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8的步驟，但使用2,2，-二乙基-1，3-丙二醇 代替乙二醇，以獲得如化學式14的無色固體化合物（41.3 克/產率：96% )。 <化學式14>
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例14 :二乙二醇-二（噁雙環「2,2,11辛-5-烯-2-羧 酸-3-羧酸酯）的合成 重覆實施例8的步驟，但使用二乙二醇代替乙二醇， 以獲得如化學式15的無色固體化合物（35.2克/產率：87 19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^/0763
五、發明說明（仏） % )。 <化學式15>
1施例15 :聚〔乙二醇二（5-原冰片輝-2-錢酸-3-錄p 來酐/原冰片烯/特-丁某4原冰片烯-2-羧酪齡 丄的合成 將乙一^醇一^ ( 5-原冰片儲-2-竣酸-3-竣酸醋）（1〇毫莫 耳），馬來酐（100毫莫耳），原冰片烯（20毫莫耳）， 特-丁基-5-原冰片嫌-2-殘酸醋（70笔莫耳）和AIBN (0.30 克）溶於25毫升四氫呋喃中，再將此混合物於仏^下反 應10小時。在反應完全後，反應混合物倒入石油醚中以得 到純固體，其然後過濾、及乾燥以得到如化學式18之化合物 (17·9克/產率：62% )。在200毫升四氫呋喃中，加入1 克聚合物，而聚合物的分子量在藉由GPC (凝膠滲透色層 分析法）量測時爲7400。 <化學式18> 20 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -f ·.
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱） 476763 A7 五、發明說明（/7 )
其中a : b : c : d爲50莫耳％ : 1〇莫耳％ : % :5莫耳％。 實應例16 :聚「丨，3·丙燦-2-羧酸-3-
酸塩酯Ί的合戚. 、 重覆實施例15的步驟，但使用丨，3-丙二醇-二（5-原冰 片烯-2-羧酸-3-羧酸酯）代替乙二醇二（5-原冰片烯-2-羧酸 -3-羧酸酯）以得到如化學式19之無色固體化合物（18.9克 /產率：65% )。在200毫升四氫呋喃中，加入1克聚合 物’而聚合物的分子量在藉由GPC (凝膠滲透色層分析法 )量測時爲7700。 <化學式19> 21 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
476763 _ _B7
A7 五、發明說明（J ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 :5莫耳％。 實施例17 將由實施例15得到的光阻共聚合物（1〇克）及作爲 光酸產生劑之三苯基銃三氟甲烷磺酸塩（〇.丨2克）溶於乙 基3-乙氧基丙酸酯溶劑（60克），且經由〇·1〇微米過濾器 過濾最終的混合物以製備光阻組成物。 因此製備的光阻組成物（1毫升）係旋轉塗佈於砂晶 圓上，並於11(TC下軟烤90秒。在烘烤完後，使用ArF雷 射曝光器曝光，再於1KTC下後烘烤90秒。當後烘烤完全 後，於2.38重量％的TMAH水溶液中顯影40秒，以得到 0.13微米L/S圖案（圖示1)。 實施例18 重覆根據實施例Π的步驟，但使用由實施例16得到 的光阻共聚合物（10克），以製備光阻組成物。 22 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） "" 476763 A7 B7 五、發明說明（j ) 使用如此製備的光阻組成物以重覆實施例17的微影步 驟，以得到〇· 13微米L/S圖案（圖2 )。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 23 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

  1. 476763 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    六、申請專利範圍
    遇先1 1·一種用於光阻聚合物之交聯單體，其由下列化學式 1所代表： <化學式1>
    (CH2)i (CH2)i
    其中，V代表ch2，ch2ch2，氧或硫；Y是選擇自由直鏈 或支鏈的Cmo烷基，氧和直鏈或支鏈的Cmo醚所組成的 族群中；R’和R”分別代表Η或CH3 ; i是從1到5 ;及η 是從〇到3。 2.根據申請專利範圍第1項之交聯單體，其是選擇自 由乙二醇二（5-原冰片烯-2_羧酸-3-羧酸酯），1，3-丙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯），1，4-丁二醇-二（5-原 冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯），1，5-戊二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-竣酸酯），2,2，-二甲基-1，3-丙二醇-二（5-原冰片儲 -2-羧酸-3-羧酸酯），2,2-二乙基-1，3-丙二醇-二（5-原冰片 烯-2-羧酸-3-羧酸酯），二乙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸- I紙張尺度適用巾_家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線： 476763 C8 D8 六、申請專利範圍 3-羧酸酯），乙二醇-二（噁雙環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯），1，3-丙二醇-二（噁雙環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯），1，4-丁二醇-二（噁雙環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯），1，5-戊二醇-二（噁雙環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯），2,2-二甲基-1，3-丙二醇-二（噁雙環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯），2,2-二乙基-1，3-丙二醇-二（噁雙環 [1,1，1]辛烯羧酸羧酸酯），及二乙二醇-二（噁雙 環[2,2，1]辛-5-烯-2-羧酸-3-羧酸酯）所組成的族群中。 3. —種光阻共聚合物，其包括根據申請專利範圍第1 項之交聯單體。 4. 一種光阻共聚合物，其包括⑴一或多個脂環族單體 及(Π)根據申請專利範圍第1項之交聯單體。 5. —種光阻共聚合物，其包括⑴具有酸不安定基的脂 環族單體，以作爲第一共單體，及(ii)根據申請專利範圍第 1項之交聯單體以作爲第二共單體。 6. 根據申請專利範圍第5項之光阻共聚合物，其包括 (iii)馬來酐及/或一或多個由化學式16所代表的化合物， 以作爲額外的共單體： <化學式16> Q 其中，Z 代表 CH2，CH2CH2，0 或 S。 7·根據申請專利範圍第5項之光阻共聚合物，其由化 學式17所代表： (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線 » 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公髮1 476763 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 <化學式17>
    c=o I ο I R rtt先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 其中，Z，W及v分別代表CH2，CKCH2，氧或硫；R代 表一種酸不安定基；γ是選擇自由直鏈或支鏈Ci^的烷基 ，氧，及直鏈或支鏈的Cl_1Q醚；R，及R”分別代表H或 CH3 ; η是從〇到3 ; i是從i到5 ;及a，b，c及d分別代 表參與聚合反應中每一共單體的聚合反應比例，其中a : b :C : d的比例是50莫耳％ ·· 1_30莫耳％ : 10-40莫耳％ : 0.1-10 莫耳％。 * 8·根據申請專利範圍第7項之共聚合物，其中分子裊 是 3,000 到 30,000。 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210><297公^7 訂---------線_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 476763 A8 i D8 六、申請專利範圍 9·根據申g靑專利範圍桌7項之共聚合物’其是選擇自 由聚〔乙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯）/馬來 酐/原冰片烯/特丁基-5-原冰片烯-2-羧酸酯〕及聚〔13-丙二醇-二（5-原冰片烯-2-羧酸-3-羧酸酯）/馬來酐/原 冰片烯/特丁基-5-原冰片烯-2-羧酸酯〕所組成的族群中。 10· —種製備光阻共聚合物之方法，其包含下列步驟： (a) 溶解一或多個丙烯酸單體及根據申請專利範圍第1項之 交聯單體於有機溶劑中，及(b)添加聚合反應引發劑至最後 之溶液以引發聚合反應，其中步驟(b)是在氮或氬大氣，50 到120°C下完成。. 11·根據申請專利範圍第10項之方法，其中該聚合反 應溶劑是選擇自由四氫呋喃，二甲基甲醯胺，二甲基亞硼 ，二噁烷，苯，甲苯及二甲苯所組成的族群中。 12·根據申請專利範圍第10項之方法，其中該聚合反 應引發劑是選擇自由2,2-偶氮異丁腈（AIBN)，過氧化苯 醯，乙醯化過氧，月桂基過氧化物，特丁基氧化物，雙疊 氮類之化合物所組成的族群中。 13· —種光阻組成物，其包括⑴8-25重量％之包括根據 申請專利範圍第1項之交聯單體之光阻共聚合物，（ii)0.8-3 重量％光酸產生劑，及(iii)70-92重量％有機溶劑。 14·一種形成光阻圖案之方法，其包括下列步驟··（a)塗 佈根據申請專利範圍第13項之光阻組成物於矽晶圓上， (b) 使用曝光器以使晶圓曝於圖案光下，及(c)將曝光過的圓 圓顯影。 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 476763 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 15. 根據申請專利範圍第14項之方法，其進一步在步 驟(b)前及/或後包括烘烤步驟。 16. 根據申請專利範圍第14項之方法，其中步驟(b)的 進行是藉由使用 ArF(193nm)，KrF(248nm)，VUV(157nm) ，EUV(13nm)，E-束或X-射線光源。 17. 根據申請專利範圍第14項之方法，其中步驟(c)是 使用碱性顯影溶液來進行。 18. 根據申請專利範圍第14項之方法，其係用於製造 半導體元件。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）
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