經濟邨智慧財產局員工消费合作社印裝 4 256 1 8 A7 —___B7_ 五、發明說明（！) 〔發明的背景〕 本發明涉及在制造液晶顯示裝置（以下將液晶顯示裝 置簡稱為「LCD」）工序上，將光阻液等處理劑塗敷在LCD 玻璃基板上的塗敷裝置及塗敷方法。 以前，要將光阻液等處理劑塗敷在LCD玻璃基板（以 下將該LCD用玻璃基板簡單地稱為「玻璃基板」）上，一 般採用一種叫「旋塗法」的方法。採用這種旋塗法，就是 將玻璃基板水平高速旋轉，並在旋心處加入光阻液體，然 後通過玻璃基板的離心力，將光阻液體塗敷在玻璃基板上 ，再通過離心力將多餘的光阻液體甩掉，同時在玻璃基板 上形成薄膜。 採用這種旋塗法，雖然具有利用簡易構造的塗敷設備 就可完成塗敫作業的優點，但是，由於光阻液遍及整個玻 璃基板，就連不需要塗敷的部位也塗敷上了光阻液，與需 要塗敷光阻液的面積相比，則需要較多的光阻液體，這也 是該方法存在的問題。 另外，伴隨基板上半導體元件集成度的增加，要求光 阻膜具有更高的薄膜化程度，但是，採用旋塗法所形成的 光阻薄膜後則取決於所使用光阻液的黏度和玻璃基板的旋 轉速度’從而在控制薄膜厚度方面，設備本身就受到了限 制。 為了解決這種旋塗法本身所存在的問題，研制出了多 種塗敷方法。 例如，在日本公報特開平4-118073號就曾發表過塗敷 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) a ϋ ϋ al·* ϋ ϋ t^i t ·ϋ ·_1 t^i n 身 -言 - 4 A7 B7 4 2 56 五、發明說明（2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝置’該塗敷裝置内部裝有槽式塗敷機和旋轉式塗膜調整 機構。槽式塗敷機本身帶有一個可將塗料嘴塗在需要塗敷 工件的塗敷面上’而且該工件在槽中與該槽延展方向成正 交進行相對移.動，旋轉式塗膜調整機構則與上述槽式塗敷 機並列設置’可將塗敷面上塗敷有塗料的工件，在保護該 塗敷面基本水平的狀態下高速旋轉。 採有此種方法的優點是，可利用少量的塗料進行高效 % 率塗敷a 但是，上述塗敷裝置存在以下問題。 即，第一個問題是，由於槽與工件（基板）之間間隙的 變動將造成膜厚的變化，以及在實施嗔射塗料時，塗槽中 央和端部也會產生不等的膜厚，因此，為了縮短槽與基板 之間的間隙並保持穩定，需要有高精度的控制技術。 另外，採用該塗敷裝置時，為了使塗料在液膜狀態下 ’由塗槽喷向工件，需要採用能形成液膜狀的高黏度塗料 、。由於這種溶解濃度較高且易乾，因此容易引起塗槽網眼 堵塞問題 這種黏度較高的液體，由於溶劑含量低，黏度容易變 動’因此*存在的問題是需要對這種黏度進行高精度管理 〇 為了使基板表面喷塗有高黏度的塗料旋轉，達到使塗 膜均勻'薄膜化的目的，需要高速度旋轉。但是，要使屏 幕較大的LCD高速旋轉是相當困難的，因此，所存在的問 題是不適用於大型的LCD。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經 濟 部 智 慧 財 產 局 貝 工 消 f 合.. 作 社 印 製 1 δ a? __Β7___ 五、發明說明（3 ) 另外，還有一個問題是，採用高黏度塗料旋轉時，多 餘的塗料因離心力而產生飛濺，並黏附在旋轉罩的内壁上 ，由於黏度高，旋轉罩内壁上附著的塗料很難清除掉。 另外，構成塗槽的槽採用連續作業，其規格較大，因 此，在保証膜具強度的同時，存在模頭大型化的問題。 〔發明概要〕 本發明的目的是在於提供能緩解制約喷嘴與基板之間 間隙機械精度及作業精度條件的塗敷設備以及塗敷方法。 另外，本發明的目的在於提供可以使用低黏度處理劑 的塗敷設備以及塗敷方法。 本發明的目的之一是將處理劑的供給和處理劑的薄膜 化作業均單獨分開，處理劑的供給採用處理劑供給手段來 完成，而處理劑的薄膜成形則採用薄膜成形手段完成。從 而使上述各作業段限定的機械精度和作業精度的條件得以 緩解。 即，即使在上述連續塗槽作業情況下，也無需對嘴嘴 的形狀、大小、處理劑喷嘴與被處理基板的間隙等進行嚴 格控制。 另外，由於是將處理劑供給被處.理基板表面的各位置 處，因此可使用黏度較低的處理劑β為此，由於其溶劑含 量高，處理劑不易乾，因此，噴嘴不易引起堵塞。 由於處理劑黏度對膜厚的影審程度低，因此，易對處 理劑的黏度進行管理》 由於可使用低黏度處理劑，因此，處理後在進行旋轉 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝—l·—Vi.-------象 6 425618
Jr- ，嫩濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（4 ) 及薄膜成形作業時，可在低速旋轉條件達到薄膜成形，而 且適用於處理大型LCD基板》 由於黏度低，旋轉罩内的附著物易清除。 另外，由於採用多個位置分別供給處理劑，所以不需 使用塗槽那樣的開口度較大的處理劑喷嘴，不需加大處理 劑噴嘴。 、由於是在密閉狀態下，通過旋轉形成薄膜，所以氣流 不會發生紊亂.，而且可獲得均句膜厚。 另外’本發明中，作為上述薄膜成形手段，由於採用 搖動上述被處理基板的手段，因此，不僅結構簡單，而且 可使薄膜準確成形。 這裏所提到的「搖動」一詞的含義，包括採用振動裝 置（振子）等直線振動以及在較小的角度範圍内，以較短的 周期正反轉動旋轉失具進行角部振動兩種作業β另外，作 為上述薄膜成形手段，由於採用旋轉上述被處理基板的薄 '膜成形手段，因此’不僅結構簡單，而且也可使薄膜準確 成形。 採用旋轉夹具時，可以直接利用原有設備，不需增加 新的部件及元件’因此不需追加新的設備投資，並且不會 提高生產成本。 另外’採用旋轉失具時’在較小角度内，通過角振動 對處理劑的塗敷搖動後，經高速旋轉旋轉夾具還可清除多 餘的處理劑。 另外，本發明通過上述薄膜化手段，在上述被處理基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------I----裝--- (請先閱諫背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 5 6 1.8 五、發明說明（5 ) 板表面上，可使各點處理劑形成一整體薄膜的間隔，供給 上述毗連供給的處理劑《由於可使供給被處理基板上的處 理劑準確形成整體性薄膜，因此，形成的塗膜更加薄而且 均勻。 另外，具有在供給上述處理劑之前，在被處理基板表 面預先塗敷溶劑的手段。通過供給溶劑，用溶劑預先使被 處理基板表面濕潤，這樣，處理劑與被處理基板不僅易吸 附，而且可以借助溶劑層，使處理劑在被處理基板表面迅 速向外蔓延，從而可以使徐膜更加均勻〇 本發明在臨近上述失持機構和旋轉夾具處設有待機位 置，並在位於該待機位置處的上述處理劑喷嘴的對面設置 有壓力傳感器，採用該壓力傳感器檢測各處理劑喷嘴的喷 射壓力。並設有依据檢測出的喷射壓力，監測上述各處理 喷嘴作業狀態的監視裝置。由於採用該監視裝置常時監視 各處理劑喷嘴的作業狀態，無論任何一個處理劑發生堵塞 ，都能盡快發現所堵塞的喷嘴，防止處理劑喷嘴工作不暢 ，以提高成品率，保証生產率，降低生產成本》 由於處理劑的供給和處理劑的成形為單獨作業，處理 劑的供給採用處理劑供給手段進行作業，而處理劑薄膜成 形則採用薄膜成形手段進行作業。從而可使上述各作業段 限定的機械精度和作業精度的條件得以緩解。 另外，由於是將處理劑供給被處理基板表面的多個位 置上，.從而可以採用黏度較低的處理劑。由於處理劑溶劑 含董高，處理劑不易乾，因此喷嘴堵塞的現象可以得到控 本紙張尺度適用令國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 裝-----„---1·訂-1·! 經濟部智慧財產局W工消费合作社印數 425618
T 變濟部智慧財產局員工消費合.作社印製 五、發明說明（6 制。 由於處理劑的黏度對膜厚影響較小，因此，處理劑的 黏度容易控制。 另外，由於可以使用低黏度處理劑，因此，在處理後 的旋轉、膜成形時，採用低速旋轉，即可達到薄膜成形， 而且適用於大型LCD基板處理。 由於黏度低，即使黏附在旋轉罩上，也很容易清除。 另外，由於採用多點供給處理劑，所以不需使用塗槽 那樣的開口較大處理劑喷嘴β 並且由於在密閉狀態下’通過旋轉形成薄膜，不僅不 會發生氣流紊亂’而且可獲得塗敷均勻的薄膜。 「發明的實施形態」 下面，以具有在液晶顯示裝置（LCD)玻璃基板G(以下 稱其為基板G。並且不只侷限於玻璃基板，也適用於如半 導禮晶想板等板狀基板）的表面上形成光敏光阻膜的光阻 處理系統的洗淨裝置為例，閣述本發明所希望的實施形態 下面採用圖示詳細說明本發明的實施形態。 第1圖為與本發明實施形態有關的塗敷、顯像裝置的 斜視圖，第2圖為其平面圖。 在塗敷、顯像裝置的一端設有基板箱平台C/S。另外 ，在塗敷、顯像裝置1的另一端設有在曝光裝置（無圔示） 内對LCD用玻璃基板G(以下簡稱LCD用玻璃基板為「基板 」》)進行基板傳送的接口單元I/F裝置。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐） 9 n i^I n n n ^^1 ^^1 I ^^1 —i ^^1 -ia·- emt 一10、· Bn 1^1 n .^1 n HI I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 4 eL t) [ 〇 Α7 ____ Β7 五、發明說明（7 ) 在基板箱平台C/S處裝有多個，即4組能容LCD用基板 等的導基板G的箱體2。在基板箱平台C/S的箱體2的正面 處，在搬送屬於被處理基板的基板G及確定位置的同時， 為了夾持基板G，在主機械手3之間還設置了用於基板傳 送的辅助機械手4» 在接口單元I/F處，為了在曝光裝置内（無圖示）傳送基 板G設有輔助機械手^ 另外’為.了在主機械手3之間進行基板G的傳送，在接 口單元I/F上還設有擴充平台6及基板G待機狀態用的緩衝 裝置7 « 在塗敷、顯像裝置1的中間並列配置有兩個可縱向移 動的主機械手3，並在各主機械手3搬運通道的兩側分別設 有第1處理單元群A和第2處理單元群B〇在第1處理單元群 A和第2處理單元群B之間設有暫時存放基板G同時冷卻基 板G的中繼裝置8。 在第1處理單元群A中並列設置有可在基板箱平台C/S 的一側清洗基板G的清洗處理單元SCR和用於顯像處理的 顯像處理單元DEV。另外，隔著主機械手3的搬運通道， 在清洗處理單元SCR及類像處理單元DVE的對面並列設有 按上下二級配置的加熱處理單元HP和按上下二級配備的 UV處理單元UV及冷卻處理單元COL » 在第2處理單元群B中設置有用於光阻液塗敷處理及端 面除淨處理的塗敷處理單元COT。另外，隔著主機械手3 的搬運通道》在塗敷處理單元COT的對面，並列設置有分 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公笼） 10 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) a n 1^1 al·· n n If J f 負 ϋ t ϋ ϋ 荖 •言 B7 425618 B7 425618 t 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（8 ) 上下二層安裝的’對基板G進行疏水處理的黏著性處理單 元AD及冷卻處理單元c〇l和按下二層配置的加熱處理單 元HP以及冷卻處理單元c〇l，以及按上下二層配置的2組 加熱處理單元HP。當加熱處理單元HP和冷卻處理單元c〇l 按上下一層配置時，將加熱處理單元HP裝在上層，將冷 卻處理單元COL裝在按下層，這樣可以避免相互間的熱干 擾。從而實現更加準確的溫度控制。 主機械手.3上設置有X軸驅動機構、γ軸驅動機構、z 轴驅動機構’並分別配有以Z轴為中心旋轉的旋轉驅動機 構*主機械手3沿著塗敷、顯像裝置1的中央通道，任意行 走’在各處理單元之間運送基板Ga主機械手3用於將處 理前的基板G送入各處理單元内，並將處理後的基板〇運 出各處理單元。 該實施形態的塗敷、顯像裝置1集各種處理裝置於一 體，從而實現了節省空間，提高處理效率的目的。 在由以上各裝置構成的塗敷、顯像裝置上，首先將基 板箱2内的基板G ’借助輔助機械手4及主機械手3被運入 清洗處理單元SCR内，並進行清洗處理。 然後’再通過主機械手3、中繼裝置8以及主機械手3 運入黏桌性處理單元AD，並進行疏水處理β通過此作業 ，可以提高光阻的穩定性。 然後’再通過主機械手3將基板G運入冷卻處理單元 COL，並冷卻。 接著再由主機械手3將基板運入塗敷處理單元c〇T並 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------------..----訂--------- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 11 經濟部智慧財產局貝工诮費合作社印製 4 2 5tM8 a： B7 五、發明說明（9 ) 進行光阻液的塗敷。 基板G通過主機械手3被裝入加熱處理單元HP中，並 進行預烘烤處理。然後’由主機械手3運入冷卻處理單元 COL·冷卻後，再由主機械手3以及接口裝置Ι/F運人曝光褒 置，在曝光裝置中用所定圈形進行曝光。 經曝光的基板G再次通過接口裝置I/F，運入裝置1内 ，並通過主機械手3搬入加熱處理單元HP中，進行曝光處 理後的烘烤處理。 然後，基板G通過主機械手3、中繼裝置8及主機械手3 被運入冷卻處理單元裝置COL，並冷卻。再通過主機械手 3裝入顯像處理單元DEV中進行顯像處理，最終形成所需 電路圖形。經顧像處理後的基板G通過主機械手3被裝入 後烘烤處理單元HP内進行後烘烤處理。 經後烘烤處理後的基板G，通過主機械手3以及輔助 機械手4被裝入基板箱平台C/S上所定的基板箱2内。 下面對與該實施形態有關的塗敷處理單元（COT)加以 說明。 第3围為與該實施形態有關的塗敷處理單元（C0T)的平 面圖，第4囷為側視圖，第5圖為斜視圖。 如第3圖所示，在該塗敷處理單元（COT)内並列設置有 光阻液塗敷單元RC和端面除淨單元ER*光阻液塗敷單元 RC是一台在經過清洗處理及預烘烤等前處理的基板〇表面 上塗敷光阻液等處理劑的塗敷裝置，端面除淨處理單元Er 是在當光阻塗敷單元中，對基板G表面上塗敷好光阻膜後 本紙張尺度適用中圉國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------------^ -----»----^--^llm— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 12 A7 4 256 1 8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（⑴） :為了清除邊緣部(端面)不需塗敷的光阻塗膜而設置的除 ， 淨處理單元。 另外，當基板G表面只是部分有選擇地塗敷光阻液形 成塗膜時，這種端面除淨處理單元£11未必需要，可以不 裝。 光阻塗敷單元RC由以下各部分組成。作為可旋轉基 ^ 板夾持裝置，支撐夹持被處理基板G的旋轉罩1〇;從被夾 . 持在旋轉罩内的基板G上面供給光阻液及溶劑的塗敷液供 給裝置60 ;沿旋轉罩1〇的方向，移動塗敷液供給裝置6〇的 移動裝置70。 旋轉罩10的外觀由1個帶垂直軸的圊柱狀外壁11和1 個封住外壁11頂部的上蓋12组成，在上蓋12上裝配有保証 升降機械手Π對其實施裝卸的機構β 第3圖為表示關閉塗敷處理單元（c〇T)上蓋12狀態的平 面圖，第4圖為塗敷處理單元（COT)垂直斷面圖。 在旋轉罩10内配設有可旋轉並夾持基板G的旋轉夾具 15和為旋轉該夹具而設計的旋轉驅動機構。 在旋轉罩10内設有環狀筒CP，筒内設有旋轉夾具15。 旋轉夾具丨5通過真空吸附，夾持住基板G，在此狀態下， 再通過驅動馬達16的旋轉動力進行旋轉。 另外*在與旋轉夾具15上面的基板G接觸的面上，為 了搖動基板G，設置有振動裝置（振動體）AC。該振動裝置 AC通電後，是一個振動的振動裝置，並可通過後面所述 的控制裝置100控制附加電壓，經附加電壓達到振動’並 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 13 . 裝----------訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Α7 Β7 425618 I、發明說明（u ) 使旋轉夾具15夾持的基板G搖動》 驅動馬達16通過齒輪17將旋轉動力傳導給旋轉轴18, 另外，旋轉軸18則通過升降驅動裝置19沿升降導向裝置20 ，並能按田中上下能移動的狀態進行安裝。 光阻塗敷時，如圖4所示，旋轉夾具15下降到的環筒CP 上端低的位置。另外，當把基板G從旋轉革10搬出裝入時 ，以及在旋轉失具15與主機械手4之間交換基板G時，升 降驅動裝置19可將旋轉轴18和旋轉夾具15向上提起，旋轉 失具15定位應高於環筒CP的頂部》 另外，可將光阻液喷射在被上述旋轉夹具15夾住的基 板G上的塗敷液供給裝置60,按Y方向橫跨旋轉罩進行設 置。 塗敷劑供給裝置60由以下部分組成，與旋轉罩10的頂 端面平行設置，沿Y方向橫跨基板G配置的光阻液配管61 和封堵光阻液配管61兩端的同時，還起支撐光阻液配管61 的支架64及65，該支架64及支架65分別與後述的移動裝置 70的導軌71及導輪72相連。 移動裝置70為細長箱型結構，在旋轉罩10的Y方向兩 側採取一機一台，且分別沿X方向，從旋轉罩10位置處到 端面除淨單元ER位置處配置有該移動裝置β在該移動裝 置70的上面，沿X方向，每個分別設置兩條、細長槽》 該細長槽分別為與塗敷液供給裝置60的支架64及支架 65相連的導軌71、導軌72以及與搬送設備80、81相連的導 執73、導軌74 » 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公« ) f ------------Γ ---i----，‘訂·—*'—--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 14 A7 B7 4 2 56 1 8 -C1·'· -t. .經濟部智慧財產局員工消費+作社印製 五、發明說明（12 ) 在這些移動裝置70内部裝有以環型皮帶輪馬達為驅動 力的皮帶驅動機構等已知移動機構（圖示略），利用這些驅 動馬達的驅動力，可使支架64、65及搬送設備80、81沿X 方向，進行各自獨立的移動。 另外，如第3圖所示，沿X方向，在光阻液配管61兩 侧分別設有溶劑配管62和導氣配管63。以上所述光阻配管 61、溶劑配管62、導氣配管63均為中空管構造，在下面， 即在被旋轉夾具15夾住的基板的對面，沿Y的方向，按所 定間隔分別開設多個孔口，分別構成光阻液喷嘴6U、62b 、61c、溶劑喷嘴62a、62a.......氣體喷嘴63a ' 63a。在 這些光阻液配管61、溶劑配管62、氣體配管63上分別配有 光阻液供給管66、溶劑供給管67、氣趙供給管68，並分別 與無圖示的光阻液供給系統、供氣系統、溶劑供給系統相 連，並由這些供給系統分別向上述光阻液配管61、溶劑配 管62、氣體配管63提供包括光阻液、溶劑、溶劑蒸汽在内 的氣體。 第6圖表示分別將基板G和塗敷液供給裝置6〇的垂直斷 面圖的局部放大圖’第7圊為上述光阻液配管61、溶劑配 管62、氣體配管63的仰視圖。 如第6圖所示’光阻液配管61，如在與矩型配管下端 的相交處，形成了錐狀的梯形或不規則六角形的斷面形狀 ’在與基板G的對面’沿Y方向分別按所定間隔配有上述 多個光阻液噴嘴’本例中沿Y方向按所定間隔分別.裝有3 個光阻液噴嘴61a' 61b、61c。上述光阻液噴嘴6ia與61b 本紙張尺度適用令國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公芨） -------------裝-----„----訂---------線 {請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 15 A7 B7 五、發明說明（13 ) 以及6lb與61 c沿Y方向的間隔指的是彼此相鄰設置的光阻 液嗜嘴間隔’即用61績615、61b與61e分別向基板G供給 各自的處理液時，使彼此相鄰的處理液與處理液，在被處 理基板上逐漸融和，並形成一個整體的間隔，該間隔的詳 細值屬設計事項，取決於處理液的黏度、光阻液喷嘴6U_ 61c的大小、光阻液喷嘴61a_61c與基板G的間隙、光阻液 的供給速度等相關參數。 溶劑配管62、氣體配管68均為圓形配管。與光阻液配 管61相同’在底部形成多個孔穴，構成多個溶劑喷嘴62a 、62a.......氣趙喷嘴63a、63a....... 旋轉罩10用蓋12封住該旋轉筒本體ι〇的頂端開口，蓋 12可用升降機械手13進行裝卸。 如第3和4囷所示’升降機械手13由兩部分組成。用機 械手端夾住蓋12的兩個機械手13a' 13b和設在上述兩個機 械手13a、13b之間，用於連接這兩機械手13a、13b的連接 部件14 » 升降機械手13的根部即夾住蓋12的一侧與另一側可延 伸至旋轉桶升降器30内，並通過旋轉桶升降器30内配置的 蓋升降機構對蓋12進行升降。另外，為了便於說明，第5 困中省略了升降機械手13及旋轉桶升降器30。 為了便於清洗光阻液喷嘴61a，在上述旋轉革10與上 述旋轉桶升降器之間，配置有清洗池20。有關該清洗池内 容將在後面給予說明。 第8®—個框圖，該框圖表示了與本實施形態相關的 本紙張尺度適用令國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-----„-----訂丨—- ----. 經濟部智慧財產局貝工消t合作社印t 16 a： 4 2 561 B7 五、發明說明（14 ) 塗敷處理單元（COT)控制系統。 如第8圖所示，旋轉罩10、振動裝置AC、塗敷液供給 裝置60、移動塗敷液供給裝置6〇的移動裝置7〇、向塗敷液 供給裝置60提供光阻液的光阻液供給系統rs、向塗敷液 供給裝置60提供氣體的氣體供給系統GS、以及向塗敷液 供給裝置60提供溶劑的溶劑供給系統SS均與控制系統1〇〇 相接，並通過該控制系統1〇〇進行集中控制。 以下’就與本實施形態有關的塗敷處理單元（COT)的 動作加以說明。 在該塗敷處理單元（COT)的處理過程中，可將基板G 上光阻塗膜的形成分為兩個工序’即向基板G供給光阻液 的供給工序和對基板上的光阻液實施擴散的擴散工序。 首先，向基板上供給光阻液的供給工序，採用一邊移 動旋轉罩10與塗敷液供給裝置60，一邊由光阻液噴嘴6U_ 61c’以基本垂直的狀態向基板g的表面喷射光阻液。另外 ，該工序只需將光阻液喷在基板〇的表面上，並不需要將 整個基板表面噴滿。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ---I---------裝-----„----訂---,--I 1--線 (請先閱讀背面之注意事項再填窝本頁) 第9圖一個沿Y方向的垂直斷面圖。其以模式圖形式展 現了從光阻液配管61向基板G供給光阻液的連續狀態。 如第9圖所示，驅動移動裝置30，通過使塗敷液供給 裝置60與轉筒10的相對移動，使基板G按圖令箭頭所示方 向對光阻液喷嘴61 a-61 c進行相對移動。 在此狀態下，由光阻液喷嘴61a-61c供給光阻液。 在此實施形態下，以連績形式供給光阻液.第1〇圖是 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 17 五、 經 濟 部 智 慧 財 產 局 貝 工 消 費 合. 作 社 印 製 發明說明（15 ) <請先閱讀背面之沒意事項再填寫本頁) 將第9圖狀態在A-A處剖開，從X方向對其進行觀看的斷面 圖，第11圖是將第9圖狀態在B-B處剖開，從X方向對其進 行觀看的斷面圖，第12圖是將第9困狀態在C-C處剖開，從 X方向對其進行親看的斷面圖。 如第9及10圖所示，當光阻液的黏度比較適宜時，光 阻液配管61的各光阻液喷嘴61a-61c可使光阻液連績地流 到基板G的表面上。 此時，却第10圖所示，供給基板G表面的光阻液在各 光阻液喷嘴61 a-61c的正下方隆起，形成三個互相分離島 狀的光阻液。因為不直接向這些島狀的光阻液相間的部分 供給光阻液，故基板G的表面裸露著》 n n 1 1. 如第11圖所示，在B-B斷面光阻液由於表面張力和重 力的作用，其液髏表面變圓，相鄰島狀光阻液之間的間距 有些變窄。盡管如此，但光阻液液尚未附著形成一體，基 板G的表面依然繼續保持著裸露狀態。接著，為使供給的 光阻液液產生擴散做搖動動作。 與本實施形態有關的塗敷處理單元的搖動動作是通過 骚動設在旋轉卡盤15表面，與基板G的圈中下側面相接觸 的联動器AC來完成的。 現在，如第11圖所示，三個島狀光阻液彼此相隔一定 距離排列在基板G表面上的.此時給振動裝置AC加上電壓 ’振動裝置AC便產生搌動，從而搖動與其相接的基板G及 其光阻液》此搖動增加了上述抗蝕液的流動性，在Z方向 高度減少的同時向水平方向擴展》此時，如上所述，向基 本紙張尺度適用+國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 18 4 256 彳 8 經濟部智慧財產局員工消費全作杜印製 五、發明說明（16 ) 板G上供給光阻液時的間隔依靠振動裝置產生搖動的薄膜 化手段，在基板G表面上光阻液相互融和形成一體。 為此’通過振動裝置AC振動而產生搖動，彼此分開 的島狀光阻液便相互融合連接起來。同時，基本G的裸露 部分消失，其整個表面被光阻液覆蓋。第12圖表示了這種 狀態。但在此階段，光阻液的整個表面仍處於波浪狀態， 膜厚仍比較厚，且膜厚也不太均勻。 進而繼績搖動’促使其沿水平方向逐漸形成均勻膜厚 。第13和14圖展示此種使膜厚變為均勻薄膜的狀況。 如第13和14囷所示，隨著時間的延長，膜厚均勻化不 斷取得進展，促使其沿整個水平方向形成均勻的膜厚。 再有，本實施形態中雖未採用，但是通過溶劑管62及 ' 氣體管63的配合使用’還可以以更短的時間確保實現均勻 薄膜化。 第15圖為氣趙管22和溶劑管23動作狀態模型的垂直斷 面圖a 即從溶劑管62向光阻液塗敷前的基板G表面供給溶劑 使其濡濕，因此溶劑表面張力低，故向基板G表面擴散， 在基板表面形成膜厚很薄的溶劑廣。此溶劑層改善了後面 供給的光阻液與基板G的親和性。緊接著，以光阻液管61 向此溶劑層上供給光阻液，則此光阻液將向著上述溶劑層 的表面迅速擴散，直至擴展到整個溶劑層。 為此’從光阻液嘴嘴61a-61c向基板G表面上吐出的光 阻液，在吐出後的板短時間内將很容易地擴展到基板G表 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------丨—丨丨-裝·----„----訂-------I 線 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 19 經 濟 部 智 慧 財 產 局 貝 工 消 费 合.. 作 社 印 製 4 256 1 b A7 ______B7_ 五、發明說明（17 ) 面* 其結果是在這種狀態下，利用振動裝置15那樣的薄膜 化手段實施搖動，光阻液將很容易地向基板G全面擴散， 使鄰接的光阻液連為一體，形成薄薄的、膜厚均勻的光阻 液塗膜。 另一方面，從氣體管63喷出含有溶劑蒸氣的氣體，其 對塗在基板G上的光阻液的液面上施加以壓力，迫使光阻 液被沿基板G表面擴展，從而可更容易且迅速地形成均勻 的、薄層塗膜。 此時，將氣體對準前述波浪形的光阻液塗膜的山型部 分使起擴展是十分有效的，因此氣體管63的開口部在基板 G的寬度方向（Y方向）上，最好安裝在與光阻液管61開口部 相同位置上。另外，可以對從溶劑管62及氣體管63供給的 溶劑及氣逋進行預加熱，利用此熱量降低光阻液的黏度。 另外，在本實施形態中雖然省略了，但可以在支撐基板G 的旋轉卡盤15的内部裝配如鎳鉻電熱線等加熱器，利用此 加熱器加熱基板G，當向基板G上供給光阻液時，也可降 低起黏度。此時，為對方形的基板G進行均勻加熱，最好 採用比基板G大一圈的方型旋轉卡盤，裝配能使整個旋轉 卡盤均勻加熱的加熱器。 如上所述，在有關本實施形態的塗敷處理單元中，光 阻液的供給和對供給的光阻液塗膜實施薄膜化採取了彼此 獨立動作，實際的薄膜化是在向基板G上供給光阻液之後 進行的。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐） ------------^ 取-----------訂---------線(- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 20 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（18 ) 為此，只要能將光阻液噴嘴61a-61c吐出的光阻液供 給到基板G表面即可，一般從光阻液喷嘴61 a-61 c到基板G 之間不進行加工等操作的，因而對喷嘴的形狀及直徑等光 阻液喷嘴61a-61c的機械精度，吐出量及吐出速度等的管 理精度要求不太嚴格。 另外，開設多個小直徑的喷嘴，喷嘴管61的剛性失去 程度也很小，因此不會造成喷嘴管61的變形，容易確保光 阻液喷嘴61a-61c的尺寸精度。 進而，可以使用低黏度的光阻液，因此，不易產生喷 嘴的乾燥問題。 還有，本發明不限於本詳細說明書中記述的實施形態 〇 例如，在本實施形態中，作為光阻液喷嘴61a-61c採 用的是方型的光阻液管61，且在其下面開設三個開口的， 但是也可以在每個獨立的細接頭狀的部件上接上配管使之 拂成一列。 再有，在上述第1實施形態中，光阻液管61的喷嘴使 用的是圓形的喷嘴6 la-61c，除此以外，還可以採用如第16 圖所示的帶有切縫狀的喷嘴61b。 另外，在上述第1實施形態_，氣體管63的開口部63a 在基板G的寬度方向（Y方向）上，與光阻液管61的開口部61a 配設在相同位置上，相互的開口部的數量不同，但是也可 以做成如第21圖所示的相同數量。此時，與上述第1實施 形態（示於第10圖）的液體塗敷狀態相比，可以較密地塗敷 本紙張尺度適用中國國家標準（CNSM4規格（210 X 297公釐） ------ --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 21 4 256 18 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（19 液體（示於第22圖）。然而，此時液體不是呈島狀，由於表 面張力的作用，在基板塗敷面上相互的光阻液管61的開口 部61 a吐出的薄薄的光阻液成為相交的山峰和低谷狀》 還有，在上述第I實施狀態中，光阻液管61僅使用了 一根’但也可以在基板G的移動方向上使用兩根以上的光 阻液管61,61’。此時，最好如第17圖所示，在兩根光阻液管 61，6Γ之間，使光阻液喷嘴6la的開口位置相互不同。通過 這樣的配置，供給基板G上的光阻液的液面隆起密度變細 ’在其後的薄膜化階段，膜厚易於變得均勻= 下面，對本實施形態的光阻液塗敷處理單元上裝設的 喷嘴檢測機構做一說明。第18圖為溶劑池20剖面的斜視圖 如第18圖所示，此溶劑池20備有矩形斷面的槽21，此 槽21内側的囷中X方向左側配設有洗淨滚筒輥22，囷中X 方向右側配設有吐出台25 » 洗淨滾茼22沿槽21的整個Y方向延伸，比裝配光阻液 管61的光阻液喷嘴61a-61c部分的尺寸稍大。此洗淨滾筒 可圍繞固定在槽21上的轉轴22a轉動，且利用圈中未示出 的傳動機構的傳動力按圈中箭頭所示方向旋轉。還有，在 第18圈中已省略，但實際上在此溶劑池20的内側裝有溶劑 ，液面的高度為後述吐出台25上的壓力傳感器26, 25…… 的上面露出來的程度。 此洗淨滾筒22的圖中左斜位置上配設有刮液器23，以 便將附在洗淨滾筒22表面的光陧液去除《此到液器23收容 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 22 ------------取----t*!訂---------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 256 1 S 、發明說明（2〇 ) 在到液器箱24内，可在其中進出。它可以應答來自控制部 1〇〇的信號’使到液器23的前端靠在洗淨滚筒22的表面上 ，也可以使其收回到到液器箱24内β 另一方面，吐出台25配設在槽21的囷中右側位置，是 一種低擱板狀構件。在其上面沿丫方向裝有多個壓力傳感 器26,26……。這些壓力傳感器26,26……被安裝與光阻夜 喷嘴61a-61c相對應的位置上，既當光阻液管61來到吐出 台25的正上方位置時，光阻液喷嘴61a_61c的每個喷嘴下 面，裝有與其對應的壓力傳感器26,26……。另外。壓力 傳感器26’26......分別單獨與控制部100相連接，控制部1〇〇 可以識別來自每個壓力傳感器26,26......的吐出壓力。 下面，對此喷嘴檢測機構的動作做一說明。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線· 向基板G呔出光阻液之後，控制部1〇〇驅動移動裝置將 光阻液管61移到洗淨位置，即光阻液喷嘴6u_61e移動到 洗淨滾筒22的轉轴22a的正上面位置。在此狀態下，以光 阻液噴嘴61a-61c向洗淨滾筒22的表面吐出光阻液，使光 阻液附著在洗淨滾筒22的表面。此時’洗淨滾筒22轉動， 以附著的光阻液為前端，由洗淨滾筒將附著在光阻液喷嘴 61a-61c的多餘的光阻.液卷走。另一方面，此時刮液器23 從刮液器箱24中伸出’其前端接觸到洗淨滾筒表面a這樣 ’從光阻液噴嘴61a-61c卷走的多餘的光阻液被到液器23 到掉，處於無光阻液狀態的洗淨滾筒表面對著光阻液嗔嘴 61a-61c ’再次將多餘的光阻液液卷走除去。 在規定時間在洗淨位置進行洗淨之後，將光阻液管61 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公；S ) 23 A7 B7 4256]8 五、發明說明（21 ) 向圖中右方移動，移到待機位置，即光阻液喷嘴61a-61c 與壓力傳感器26,26......向對的位置。在此狀態下，以光 阻液喷嘴61a-61c做光阻液偽喷吐，既向壓力傳感器26,26 ......吐出光阻液。壓力傳感器26,26......分別對各光阻液 喷嘴61a-61c吐出的光阻液的吐出壓力進行檢測，其結果 被發送到控制部100。 控制部100根据來自壓力傳感器26,26......的信號識別 各光阻液喷嘴61a-61c的吐出壓力，而且判斷各吐出壓力 是否在規定的範圍内，把握各光阻液喷嘴61a-61c的狀態 。其結果為吐出壓力低，則光阻液喷嘴61a-61c之中有堵 塞情況時’再次將光阻液管61返回到上述洗淨位置，進行 再度洗淨操作。此操作反覆進行，直至在待機位置上偽喷 吐的結果呈現良好狀態為止。 另一方面，偽嘴吐的結果為光阻液嘴嘴61 a-6lc均無 異常的話’就此將光阻液管61向圚中X方向移動，向基板 G供給光阻液* 但喷嘴21a出現異常時，可使用發出聲或發光的方式 報警。 這樣，利用此喷嘴的檢測機構，可以在向基板G吐出 光阻液前的階段檢測出光阻液喷嘴61 a-61c是否有堵塞， 其可預防由對基板G進行誤吐出所造成不良品，提高了成 品率，進而降低了單位產品的生產成本。 (第2實施形態） 下面，對有關本發明的第2實施形態的塗敷處理單元 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐> ----- -------^^— .1.!—.訂·!------I ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局工消費含作杜印製 24 4 256 1 8 五 、發明說明（ 22 經濟部智慧財產局員工消費A-n作社印製 作一說明。 在闡述有關第2實施形態的塗敷處理單元時，不再對 與上述塗敷處理單元，既與第1實施形態有關的共通部分 進行說明。 在本實施形態有關塗敷處理單元（COT)中，配設在與 旋轉卡盤15上面的基板G相接面的振動裝置（振動器）被取 代，利用此旋轉卡盤15的高速轉動，使在基板G上的光阻 液塗膜的膜厚達到薄膜化與均勻化* 在本實施形態有關塗敷處理單元（COT)中，將基板G 固定在旋轉卡盤15上，在此狀態下將光阻液管61向圖5的 X方向移動，並向基板上吐出光阻液。 在此狀態下’基板上形成的光阻液塗膜為第11圖所示 的膜厚不均勻的塗膜。 接著’從控制部對上述驅動旋轉卡盤15的馬達16加上 電壓’使基板G及其表面形成的光阻液塗膜高速轉動^利 用高速旋轉使抗蝕劑塗膜達到薄膜化和均勻化，得到如第 13圖所示的膜厚既薄且均勻的光阻液塗媒β 在本實施形態中，雖然其結構是利用旋轉卡盤15使基 板G高速轉動’但在此高速旋轉之前，使旋轉卡盤I〗本身 沿轉轴18周圍以微小角度，在較短周期内進行正向反向旋 轉，即可以起到與上述振動裝置一樣搖動基板G的作用。 此時’不需要使用振動裝置這一追加的機構，從結構上和 成本上都是所希望的 (第3實施形態） 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210 x 297公釐） -------------裝-----„----訂----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 ^ 2 56 1 8 A7 ___ B7 五、發明說明（23 ) 下面’對本發明的第3實施形態的有關塗敷處理單元 作一說明。 在闡述舆第3實施形態有關塗敷處理單元之時，不再 對與上述塗敷處理單元，既上述實施形態有關的共通部分 進行說明。 第18圖為表示本發明的第2實施形態有關塗敷處理單 元（COT)的光阻液管61周邊構造模型的垂直斷面圖。 在此塗敷處理單元（COT)中，通過光阻液管61供給的 光阻液的操作是斷續進行的，溶劑管62配設在光阻液管61 的基板G移動方向的上流側（圖中左側）。 如第18(a)圖所示，在此塗敷處理單元（COT)申，首先 從溶劑喷嘴62a向基板G的表面吐出溶劑，其後再吐出供給 光阻液。 下面，按時間順序說明，經光阻液喷嘴6la吐出的光 阻液，如何在基板g上形成均勻薄m的過程。 第19(a)-20(f)圖為描續·經光阻液管61吐出的光阻液在 基板G上形成薄膜的變化過程的垂直斷面圖。 溶劑喷嘴62a向固定在旋轉卡盤15上的基板G的上面吐 出規定量的溶劑。吐出的溶劑在基板G的表面上擴散，形 成薄的溶劑層。 接著，將光阻液管61和溶劑管62向圊中左方向移動。 然而，為便於說明，在第19和20圖中是將基板G沿圖中右 方向移動來加以說明的* 按照上述移動，基板G相對於光阻液管61及溶劑管62 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 26 -----it! -----i.·— — 訂--------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Α7 4 256 1 8 Β7 ·( 五、發明說明（24 ) 沿圖中右方向移動。經過此移動’上龜的溶劑層一直移動 到光阻液喷嘴6 U正下面的位置。在此狀態下，從光阻液 噴嘴61a吐出光阻液（第19(b)圖光阻液噴嘴6la吐出的光 阻液一旦與上述溶劑層相接觸’立即在此溶劑層上擴散， 並?'ΰ•此溶劑層在基板G表面擴展（第19(c)圖）。 其後’上述溶劑層和上述光阻液完全溶解，形成在基 板G表面上擴散的光阻液塗膜（第2〇(d)圖）。 同樣’在基板G的圖中左側溶劑吐出形成很薄的溶劑 層’從其上方光阻液吐出，沿圖中自右至左方向依次形成 很薄的光阻液塗膜（第20(c)圊）。另一方面，在此期間基板 G上形成的光阻液塗联也在著基板g上面擴散，在X方向及 * Υ方向上’鄰接的塗膜的邊緣部逐漸重合，並形成一趙（第 ， 20(f)圖）。 這樣’在基板G上非連續吐出的光阻液所形成的彼此 相間的光阻液塗膜漸漸連接到一起，在膜厚變薄的同時膜 厚也變得均勻就這樣在基板G表面上形成薄薄的、膜 厚均勻的光阻液塗膜（第20(f)圖）。 此後’通過上述震動裝置AC的搖動以及通過旋轉卡 盤使基板G高速旋轉，可使膜厚變得更薄更均勻。 如以上詳述’處理劑的供給和處理劑的薄膜化分為彼 此獨立的操作’既處理劑的供給按處理供給手法進行，處 理劑的薄膜化按薄膜化手法進行。為此，使上述各操作階 段中所要求的機械精度及動作精度等條件得到緩解。 即喷嘴的形狀及大小、處理劑喷嘴和被處理基板的間 本紙張尺度適用辛國國家標準（CNS)A4婕格（210 X 297公釐） -----------裝. — —— l·! — 訂------- 線 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) Γ—.——^^_ !£濟部智慧財產局工消费合作社印製 27 4 2RR 1 8 五、發明說明（25 ) 隙等不需要採取像上述連續塗敷槽那樣嚴格的管理。 (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁> 另外，由於對被處理基板表面的多個位置供給處理劑 ，因而可以使用黏度較低的處理劑。所以溶劑含有率高、 處理劑不易乾燥，故喷嘴不易堵塞。 .進而，由.於處理劑的黏度對膜厚影響變小，所以處理 劑點度易於管理。 另外，由於可使用低黏度處理劑，因此，在處理後實 施旋轉薄膜化作業時，也可以採用低速旋轉完成薄膜化作 業，並可適用於大型的LCD基板* 再有’由於黏度低，即使附著在旋轉筒上也易於去除 此外，由於採用了多個位置分別供給的方法，因此不 必使用塗敷槽那樣具有大型開口部的處理劑喷嘴，處理劑 喷嘴也不會大型化。 再有，由於是在密閉狀態下通過旋轉實現薄膜化，因 此不會產生氣流紊亂，可得到膜厚均勻的塗膜》 另外’作為上述薄膜化手段，採用前述搖動被處理基 板的手法’故可以利用單純的構造確保實現薄膜化。 經濟邨智慧財產局貝工消费合作社印製 當然，此處所指的搖動既包括使震動裝置（振動髏）沿 直線方向進行振動的方法，也包括使旋轉卡盤在微小的角 度範圍内產生角振動的方法》 作為前述薄膜化手段，採用了轉動前述被處理基板的 手法，故可以用單純的構造確保實現薄膜化。 例如，在採用旋轉卡盤的情況下，可以原封不動地使 本紙張尺度適用中B困家標準<CNS)A4现格（210 x 297公釐）
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A7 4 2 5 6 1 B B7 五、發明說明（26 ) 用原有的裝置。由於不必要追加新的郄件及元件，因此不 但不需要新的設備投資，也不會提高生產成本。 另外，在採用旋轉卡盤的情況下，在處理劑塗敷後， 通過在微小角度内產生角振動使其的搖動，然後，使此旋 轉卡盤高速旋轉’這樣也可以甩除多餘的處理劑。 另外’對彼此相鄰供給的處理液，應採取能通過前述 薄膜化手段’使這些處理劑在前述被處理基板表面上形成 一體的間隔。因此，可確保供給的處理劑在被處理基板上 實現一體化’且確保形成均勻且薄的塗膜。 另外’由於具有在前述處理劑供給之前，對被處理基 板表面實施預先供給溶劑的手段。既通過此溶劑的供给， * 讓溶劑預先將被處理基扳的表面潤濕，在使處理劑和被處 ’ 理基板產生一定親和性的同時，處理劑通過溶劑層在被處 理基板表面流動且迅速擴散，因而可確保達到塗膜均勻。 另外’作為前述被處理基板的搖動手段，具備設在前 、述支持構件上的震動裝置和驅動此震動裝置的控制部。因 此’以簡單的構造可以確實實現塗膜的均勻。 «•濟却智慧財產局負工消费合作社印製 * !!! -裝 illl·! — 訂.— — — — ! (锖先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 另外’作為支撐手段，採用了可以轉動的旋轉卡盤， 此旋轉卡盤亦可作為前述薄膜化手段來使用》因此，不但 不必增加部件’還可以確保塗膜的均勻。 另外’作為前述搖動手段採用了此旋轉卡盤，其可在 徵小角度範圍内進行角振動，然後，還可以使之高速轉動 。由於這樣的工序’既可以使塗膜更加均勻，也可使薄骐 化程度更高。 29 本紙張尺度適用中Β _家標準（CNS)A4規格（210 X 297公μ ) 4 2 5 8 1 Β Α7 —_ Β7 五、發明說明（27 ) 另外’還具備向前述被處理基板表面供給溶劑的溶劑 喷嘴。通過此溶劑的供給，可預先使溶劑濡濕被處理基板 的表面’使處理劑與被處理基板易於親和，這樣處理劑可 通過溶劑層在被處理基板表面流動且迅速擴散，因此，可 以碑保塗膜更加均勻。 另外，對彼此相鄰供給的處理液，採用了能通過前述 薄膜化手段，使這些處理劑在前述被處理基板表面上形成 一體的間隔 '因此，可確保供給的處理劑在被處理基板上 實現一體化，且確保形成更加均勻更加薄的塗膜。 另外，鄰接前述支持構件或旋轉卡盤設有待機位置， 在此待機位置的前述處理劑喷嘴的對面配設有壓力傳感器 ，以此壓力傳感器檢測各處理劑喷嘴的吐出壓力。然後， 根据檢測出的吐出壓力，配設監視前述各處理劑喷嘴的動 作狀態的監視裝置。此監視裝置經常監視著各處理劑喷嘴 的動作狀態，當其中一個處理劑喷嘴發生堵塞時，很快就 可以發現被堵塞的處理劑喷嘴，其可預防處理劑喷嘴在處 於不良狀態下，進行生產的現象，因此，不但提高了成品 率和生產效率，還降低了生產成本β 另外，處理劑的供給和處理劑的薄膜化分為彼此獨立 的操作，既處理劑的供給按處理供給手法進行，處理劑的 薄膜化按薄膜化手法進行。為此，使上述各操作階段中所 要求的機械精度及動作精度等條件得到緩解》 另外，由於對被處理基板表面的多個位置供給處理劑 ，因而可以使用黏度較低的處理劑。所以溶劑含有率高、 本紙張尺度適用中函困家#準（CNS>A4规格（210 X 297公釐） (锖先《讀背面之注意事項再填寫本買) · I I I h I I I ·1111111 _ ( 經濟部髻慧財產局Λ工诮费合作社印製 30 Α； ρ-----Β7__ 五、發明說明（28 ) 處理劑不易乾燥，故喷嘴不易堵塞。 進而，由於處理劑的黏度對膜厚影響變小，所以處理 劑黏度易於管理。 另外，由於可使用低黏度處理劑，因此，在處理後實 施旋轉薄膜化作業時，也可以採用低速旋轉完成薄膜化作 業’並可適用於大型的LCD基板。 再有，由於黏度低’即使附著在旋轉筒上也易於去除 η 此外’由於採用了多個位置分別供給的方法，因此不 必使用塗敷槽那樣具有大型開口部的處理劑噴嘴，處理劑 喷嘴也不會大型化。 再有，由於是在密閉狀態下通過旋轉實現薄膜化，因 此不會產生氣流紊亂，可得到膜厚均勻的塗膜。 另外’還具備轉動前述被處理基板使前述處理劑實現 均勻薄膜化的工序。因此，可形成更均勻的且膜厚更薄的 塗膜。 下面對術語的含義加以說明β 所謂供塗敷的「按所定間隔的各位置」，是指供給到 被處理基板表面上的處理劑本身是以自行擴散為前提，並 不是在基板表面上全部塗上處理劑。 例如.以向左右擴散為前提時，以線狀供給處理劑， 以向四周擴散為前提時，以點狀供給處理劑。 另外’所謂「供給」，既包括連續供給，也包括間歇 供給。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 4 256 1 8 I— H ^1 ϋ I I -»1 I n t n t * If KT n n it tt tt I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合·作社印製 31 經濟部智慧財產局員工诮費合作社印製 4 256 1 8 ΑΤ ------ Β7 五、發明說明（29 ) 所謂「處理劑」，包括用於形成塗膜或清洗基板而使 用的溶劑、處理液等，以及從高黏度至低黏度的各種液體 〇 「相對移動」’不僅包括夾持手段不動，供給手段移 動和供給手段不動，夹持手段移動的情況，也包括兩種手 段按相反方向移動’和兩種手段按同一方向以不同速度進 行移動》另外’移動方向一般為直線運動，但有時也包括 邊旋轉邊移動及蛇行移動。 [圖紙的簡要說明] [第1圖]為本發明第1實施形態塗敷，現象裝置的斜視 围。 [第2圖]為本發明第1實施形態塗敷，現象裝置的平面 圊。 [第3圖]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單元的 平面圖。 [第4圖]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單元的 側面圖。 [第5圖]為本發明第1實施形態先阻液塗敷處理單元的 斜視圖》 [第6图]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單元的 垂直斷面圈》 [第7圖]為本發明第1實施形態塗敷液供給裝置的仰視 圈。 [第8圏]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單元的 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 32 ------------「ki!-i----*tr---^1 —----線 C (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明說明（3〇 ) 方框圖 [第9圖]為本發明第1實施形態光阻液管的垂直斷 面圈 4 256 [第10圖]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處 的垂直斷面圖。 理單元 [第11圖]為本發明第丨實施形態光阻液塗敫處理單 的垂直斷面圖。 [第12圖]為本發明第丨實施形態光阻液塗敷處理單元 的垂直斷面圖。 [第13圖]為本發明第丨實施形態光阻液塗敷處理單元 的垂直斷面圖。 [第14圖]為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單 的垂直斷面圖。 [第15圖】為本發明第1實施形態光阻液塗敷處理單元 的垂直斷面圖。 [第16圖]為本發明第1實施形態光阻液配管囷。 [第17圖]為本發明第1實施形態光阻液配管圖。 [第18圓].為本發明第1實施形態噴嘴檢測機構的剖面 元 元 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經， 濟 部 智 慧 財 產 局 員 X. 消 費 合 作 社 印 製 圖 [第本’發明第3實施形態光阻液塗敷處理單元 動作狀態圖。 [第3¾第3實施形態光阻液塗敷處理單元 動作狀態顯示垂直斷面圖。 〔第21圖]為本發明其他實施形態塗敷液供給裝置的仰 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 33 425618 Λ7 β： 五、發明說明（31 ) Γ [第2 2圖]為本發明其他實施形態光阻液塗敷處理單元 的垂直斷面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ----訂---------線( 經 濟 部 智 慧財 產 局 員 X消 費 合 作 社 印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x 297公爱） 34 五、發明說明（32 A7 B7
8 14 6 -D 元件標號對照 經濟部智慧財產局員工消費合.作社印製 10…轉筒 15…旋轉卡盤 20…溶劑管 26…壓力傳感器 60…塗敷液供給裝置 61…光阻液管 6U-61c…光阻液噴嘴 62…溶劑管 63…氣體管 64,65…腳部構件 70…移動裝置 71-74…導軌 100…控制部 AC…震動裝置 COT…塗敷處理單元 G…基板 GS·"氣體供給系統 RS…光阻液供給系統 SS…溶劑供給系統 ---------------裝--- {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -線 本紙張尺度適用t國國家標準（CNS)A4規格（210 x297公釐） 35