A7 -.............. ......... B7 Λ、發明説明（1 ) 本發明是有關於一種曝光裝置及方法，特別是指一種曝 光裝置及用以轉換樣式至平板上的曝光方法，其由光經過 。又置在平板鄰近的光罩（photomask)照射至平板上，平板 在其表面具有一光感（ph〇tosensitive)材料層，光罩設有複 數個平行的直線樣式或至少在其一端具有任意（arbitrary) 形式的樣式。 用於液晶或電漿顯示器的髮璃平板之尺寸有逐漸變大 的趨勢。特別是用於電漿顯示器的平板之尺寸已達到lmx 1.5m。 所以’用以在如此大平板上形成所定樣式的曝光用光罩 之尺寸也必須增加。然而，滿足此需求的大型光罩製造常 難以達成’其困難度包括需確保過程和樣式的正確性以及 材料的大量花費。 另外，即使製造可滿足上述需求的大型光罩，曝光裝置 本身的尺寸也變得非常大，因此需要很大的安裝空間且使 其操作極度複雜。因此’大光罩的製造和大型曝光裝置需 要極高的設備花費和維修費用。 又當異物附著在光罩上時，其直接如樣式般被轉換，而 使製造良率降低。因此，光罩需小心地控制，以防止異物 等附著在上面。 因此本發明的第一目的在於提供一種曝光裝置及進行 具有高正確度的曝光過程的曝光方法，即使在具有所定樣 式的大型平板的製造中’其裝置可被便利地以低設備和維 修費用製造。 4 本紙张尺度述川十阉國家榡4M (、NS ) Λ4规格（2丨0X297公釐） 1叫 I n 訂 I n I' )線 (誚先閱讀背面之注意事項再"艿本頁) 4 1 7 ! .6 Α7 Β7
部 中 .火 A 2 五 發明説明 本發明的第二目的在於提供一種曝光裝置及曝光方 法，即使當異物附著於光罩上時，也可被操作和進行。 在本發明的曝光裝置中，樣式由光經過—設置在平板鄰 近的光罩照射至平板上而轉換至平板上，平板在其表面具 有一光感材料層，光罩設有複數個平行的直線樣式或至少 在其一端具有任意形式的樣式。在光罩上的直線樣式具有 其被轉換至平板上且長度縮小的直線部份。光罩和用二將 光經過光罩而指向平板的光照射裝置在包括平板的所定 區域中的X和Υ方向上相對移動或停止，其間樣式相繼地 由曝光被轉換至平板上。 如上述’當具有被轉換至平板上且長度縮小的直線部份 的樣式的光罩被利甩時；與所有畫出的樣式都被應甩的習 知情況比較下’可達成光罩尺寸的相對縮小。因此，關於 在光罩製造中的正確度和費用的問題可被解決。 另外’此光罩允許當其與平板相對移動時，由曝光連續 地轉換樣式至平板上且以高正確度轉換直線樣式至平板 上。 又因為樣式被轉換時光罩相對於平板移動，即使異物等 附著在光罩上時，其不會如同樣式般被轉換至平板上。 又在光罩上的樣式在與被轉換至平板上的直線樣式正 交（orthogonal)的方向上被分成任意部份是較佳地^因此， 當光罩上的樣式被分成較小群，可達成光罩尺寸的更縮小 化。 又光在朝向平板的方向上經過光覃被指向畫在光罩上 W ( r.VS ) Λ4^格（210x297公釐） ^---^--^-------1T------.線 (誚先閱讀背面之注意事項再硪艿本I) A7 B7 五、發( 3 ) 的樣式’藉由介於光罩和平板之間的光學系統在平板上形 成影像（image)是較佳地。 所以畫在光罩上的樣式影像可利用如光學系統在平板 上被曝光且尺寸被縮小’以使細微的樣式（fine pattern)以高 正確度被轉換至平板上。 又用以轉換畫在光罩上的樣式至平板上的光照射裝置 被設在用以移動光罩的光罩移動裝置之上是較佳地。光照 射裝置可與光罩一起移動。 又光照射裝置被設在移動光罩的光罩移動裝置外側是 較佳地’以使從光照射裝置來的瞄準光束可由反射鏡折 射，以到達光罩和平板。 又曝光裝置更包括一闬以從入口搬運平板至曝光位置 的入口撤運裝置，以及一用以從曝光位置搬運平板至出口 的出口搬運裝置是較佳地。光照射裝置設在被搬運平板的 表面之上’其由入口和出口搬運裝置形成。又雷射光束被 用作光照射裝置的光源是較佳地。 又光罩包括在所定位置且用以與平板共線的光罩共線 記號是較佳地。 又光罩更包括用以在X'Y和Θ方向上與平板共線的光 罩共線機制是較佳地。 又設置一平板夾具（plate holder)是較佳地，以夾持平 板，其具有用以在X、Y和Θ方向上與具有光罩共線機制 的光罩共線的共線機制。 又為了使光罩和平板在X和γ方向上相對移動，光罩 6 尤、认尺度边·；;：中h S家桴汾~7(於）。#見格（210/297公趋) " ----^---Ml 1¾.-------1T-----^ ./f\. /1. (誚先閱讀背面之注意事項再埴巧本頁) 41718 A? B7 五'發明説明（4) 在X和Y方向上移動，然而平板被固定是較佳地。 又為了使光罩和平板在乂和Y方向上相對移動光罩 在X和Y方向的一方向上移動，然而平板在另一方向上移 動是較佳地。 又設有間隙量測和間隙調整裝置是較佳地，以維持光罩 和平板間的所定間隙。 地 又設有改變光照射在平板上區域尺寸的機制是較佳 在本發明的曝光裝置中，一曝光裝置被用以由光經過一 設置在平板鄰近的光罩照射至平板上而轉換樣式至平板 上，平板在其表面具有一光感材料層，光罩設有複數個平 行的直線樣式或至少在直線樣式的一端具有任意形式的 樣式。光罩的直線樣式具有其被轉換至平板上且長度縮小 的直線部份。光罩和用以將光經過光罩指向平板的光照射 裝置在包括平板的所定區域中的χ*γ方向上相對移動或 停止，其間樣式相繼地由曝光被轉換至平板上，在與平板 正交的方向上的曝光過程提供柵攔（grating)形成的樣式。 如上述，當具有被轉換至平板上且縮小的直線部份的樣 式之光罩被利用時，與所有畫出的樣式都被應用的光罩的 S知情況比較下，可達成光罩尺寸的相對縮小。因此’關 於在光罩製造中的正確度和費用的問題可被解決。 另外，當光罩與平板相對移動或停止時，達成以高正確 度轉換直線樣式可由曝光連續地轉換樣式至平板上。又在 與平板正交的方向上的曝光過程提供栅攔形成的樣式。 η 閱 f 1¾ 意 事 再< 本 裳 訂 線 本紙张尺度遗州阈家枵卑（（、NS ) Λ4規格（21〇乂297公趁） A7
A7 部 屮 A
A ί/i f- /> ίί 印 五、發明説明（5 ) 又因為當樣式被轉換時光罩相對於平板移動，即使異物 等附著在光罩上時’其不會如同樣式般被轉換至平板上。 又在光罩上的樣式在與直線樣式正交的方向上被分成 任意部份是較佳地。樣式由適當地調整相鄰分離的樣式間 ，的距離而由曝光被轉換至平板上。 因此，樣式可由高正確度和低花費的曝光且利用縮小尺 寸的光罩而被轉換至大平板上。所以本發明可被充分地用 在製造如增大電漿顯示器的平板上。 根據本發明的另一方面，一曝光裝置被用以由光經過一 設置在平板鄰近的光罩照射至平板上而轉換樣式至平板 上，平板在其表面具有一光感材料層，光罩設有複數個平 行的直線樣式或至少在其一端具有任意形式的樣式。光罩 上的直線樣式具有其被轉換至平板上且長度縮小的直線 部份。一具有用以照射光經過光罩和夾持平板的平板夾具 至平板上的所定區域的猫準光束可在平行於光罩上的直 線樣式的方向上移動或停止。在光罩的直線樣式的至少一 端上的任意形式的樣式由光經過光罩照射至平板上而被 轉換至平板上，同時關於光罩移動或停止瞄準光束，且平 板固定在所定位置。光罩的直線樣式經過光罩被轉換至平 板上，同時以任意速度移動平板和指向光罩的瞄準光束， 以便在光罩上具有長度縮小的直線部份的直線樣式實質 上延伸以具有所定長度。 如上述’當具有被轉換至平板上且長度縮小的直線部份 的樣式之光罩被利用時，與所有晝出的樣式都被應用的光 本紙张尺度4川十网囚家標卑（rNS)八4规格（210>< 297公瘦） .—^---f-------,玎-----ά /1. (1閱讀背面.5>x4^項再續Ή本頁j A7 五、發1ym明（ό ) ~~~" ' 罩之習知情況比較下，可達成光罩尺寸的相對縮小。因 此關於在光罩製造中的正確度和費用的問題可被解決。 另外，此光罩允許當其與平板相對移動時由曝光連續 地轉換樣式至平板上而以高正確度轉換直線樣式至平板 上。 又因為當樣式被轉換時光罩相對於平板移動，即使異物 等附著在光罩上時，其不會如同樣式般被轉換至平板上' 又瞄準光束照射在光罩上的區域為矩形，其至少由用以 指引猫準光束的光源的光學系統和具有光穿透窗的光遮 蔽平板的其中之一來判定《由平行於光罩的直線樣式的光 照射區域的一側的長度幾乎相等或小於直線樣式。由正交 於光罩的直線樣式的光照射區域的一側的長度以在相同 方向上的樣式可被同時地轉換至平板上而被設定。 又光罩設有一可在包括光罩表面的平面上在θ方向上 稍微移動的稍微移動裝置；以及一控制稍微移動裝置的控 制裝置，以使平板夾具的移動方向由移動平板夾具和量測 在幾乎與光罩的直線樣式正交的方向上在兩個設在平行 於光罩的直線樣式且與光罩的直線樣式具有任意間隔的 光罩共線記號之一和一設置在由一筆直軌道（straight rail) 導引且在平行於光罩的直線樣式上移動的平板夹具的平 板夾具共線記號之間的距離而與光罩的直線樣式平行是 較佳地。 又共線控制裝置由在X、Y和Θ方向上關於光罩移動平 板，且同時讀取複數個設在光罩上的光罩共線記號以及設 9 本纸仏尺度述扣屮以囚家椋卒（rNS ) Λ4規格（2丨〇><297公釐） I II ——1^1 I _ _ _ _ I _ ϋ I----丁 - I I I i_-象 -4 髮 . ·( ( (讀背而之注意事項再填巧本頁) 417 18 1 A7 -------— ............... B7 五、發明説明（7) ~ ' 在平板上且對應於光罩共線記號的平板共線記號的位 置以及基於平板共線記號和在光罩的光罩共線記號的位 置的位移量，更在χ、γ*θ方向上移動平板以使光罩 和平板共線是較佳地。 根據本發明的另一方面’利用上述曝光裝置的曝光方法 被用以利用一想要材料在平板上形成二或三維聯合樣 式，包詰下列步驟：在平行於或不同於光罩的直線樣式的 方向上轉換光罩的直線樣式至平板上複數次；在為光學地 負或正（optically negative or p〇sitive)的平板上形成一 層；以及利用想要㈣由顯景卜姓刻或薄膜形成而形成一 薄層。 根據本發明的另一方面，利用上述曝光裝置的曝光方法 包括下列步驟：轉換光罩的第一直線樣式至在平板上的第 -光感層；利用想要材料由顯影、蝕刻等而形成一樣式； 至少由顯影使在第一光感層上的轉換樣式清楚；由曝光轉 換一正交於第一直線樣式的第二直線樣式至第二光感 層；在具有已黯楚的轉換樣式的第一光感層形成一第二 光感層；以及由顯影使在第二光感層上的轉換樣式清楚以 J 形成柵糊形式的樣式或一些矩形樣式。 ί 如上述，當具有被轉換至平板上且長度縮小的直線部份 | 时式被利用時，與所有畫出的樣式都被應用的光罩之習 规 > 晴况比較下’可達成光罩尺寸的相對縮小。因此，關於 I 在光罩製造中的正確度和費用的問題可被解決。 II 另外，此光罩允許當其與平板相對移動時，由曝光連續 V： 10 尺政逆川十κη家標卑（（’ns ) ^公楚)----- ^ ^ 装1Τ------.^ /V i—v (邙先閱讀背面之注意事項再"A本页} Γ 417]81 Α7 Β7 部 '1' -i it Mj 消 fr Aή， 五、發!l:丨説明（8 ) 地轉換樣式至平板上而以高正確度轉換直線樣式至平板 上。 又因為當樣式被轉換時光罩關於平板移動，即使當異物 等附著在光罩上時，其不會如同樣式般被轉換至平板上。 根據本發明的另-T方面，曝光裝置，被用以在其表面具有 光感層的平板附近設置一具有所定形狀的樣式的光罩，且 由光經過光罩照射在平板上而轉換樣式至平板上。光草和 用以將光經過光罩指向平板的光照射裝置在包括平板的 所定區域中的X和γ方向上相對移動或停止。被轉換至平 板上的樣式相繼地由曝光被轉換至平板上，同時光罩關於 平板移動或停止。 本發明的其他目的和特徵將從下列說明而更為明顯，且 參照附圖來說明實施例。 圖式之簡單說明： 第1圖是在本發明的第一實施例中被轉換至坡璃平板 的樣式的平面圖： 第2圖是用以轉換如第丨圖所示的樣式的光罩的平面 面 < 國， 第3圖是用以描述本發明的第一實施例的曝光方法的 基本原則的平面圖； 第4圖是用以描述本發明的第一實施例的曝光方法的 基本原則的側面圖： 第5至8圖是用以描述本發明的第一實施例的曝光方法 的基本原則的圖示； ---------—裝-- -r /(% ("先閱讀背面之注意事項本s j ί訂 線. 11 41718 部 中 ‘失 H η· j 消 f /v 印 A7 Λ、發明説明（9) ~ 第9圖是進行本發明的第一實施例的曝光方法的曝光 裝置的平面圖； 第10圖是進行本發明的第一實施例的曝光方法的曝光 裝置的侧面圖； 第11囷是在第9圖中的A部份的部份放大圖； 第12圖是在第10圖中的A'部份的部份放大圖； 第13和14圖是第一實施例的平板和光罩共線的第一和 弟圓不， 第15 A圖是在本發明的第二實施例中，被轉換至平板 的樣式的平面圖，以及第15B圖顯示用以轉換如第1 5A圖 所示的樣式的光罩之平面圖； 第i 6A、i 7A和i 8A圖是在本發明的第二實施例中，被 轉換至平板的另一樣式的平面圖，以及第16B、17B和18B 圖顯示用以轉換如第16A、17A和18A圖所示的樣式的光 罩之平面圖； 第19A-19C圖是用以描述本發明的第二實施例的曝光 方法的第一圖示； 第20A-20C圖是用以描述本發明的第二實施例的曝光 方法的第二圖示； 第21A-21C圖是用以描述本發明的第二實施例的曝光 方法的第三圖示； 第22和23圖是進行本發明的第二實施例的曝光方法的 曝光裝置的第一和第二平面圖； 第24圖是進行本發明的第二實施例的曝光方法的曝光 12 本紙仏尺戍述川標卑（（’NS > Λ4规格（2】〇X297公釐） ---------装-------ΐτ------線 t' .( (. (ίίίι閱讀背而之注意事項凋功^^本可，) 4 A7 B7 發明说明（1() 装置的前視圖； 第25囷是進行本發明的第二實施例的曝光方法的曝光 裝置的側視圖； 第26圖是在平板移動的方向上與光罩共線的圖示； 第27圖是本發明的第二實施例的光束產生裝置的平面 圖； 第28圖是本發明的第二實施例的光束產生歲置的側視 圖； 第29圖是用在本發明的第二實施例的光束產生裝置的 鏡片組的平面圖； 第30圖是用在本發明的第二實施例的光束產生裝置的 鏡片組的側視圖； 第31Α和31Β圖分別顯示從第30圖的箭頭又！和Χ2所 看的鏡片組的圖示； 第32圖顯示本發明的第二實施例的曝光裝置的平面 圖， 第33圖顯示本發明的第二實施例的曝光裝置的側視 Γ^ΓΙ · 固， 第34圖是用以描述使其他樣式105和106被轉換至玻 璃平板之曝光方法的圖示； 第35圖顯示被轉換至玻璃平板的另一樣式107的平面 圖；以及 第36圖顯示被轉換至玻璃平板的另一樣式108的平面 圖〇 本紙張尺奴 --------丨裝-------訂------線 -.( ( (誚尤M讀背面之注意事項再¾¾本頁) 13 (('Ns ) Λ4说格（210X297公趁〉 A7 -------------- .....- . _______ B7 五、發Ψ]説明（11) ' ~ ~— 本發明的曝光方法和曝光裝置的實施例將在以下 圖式作說明。 第一實施例 {^先閱讀背面之i-i意事碩再功衿本頁} 首先參考第1圖…用作電㈣示器的玻璃平板被當做 例子。在平板1A上，設有一玻璃平板i和樣式2，其中樣 式2具有複數個在破璃平板】的表面上的—方向上（在圖示 中為X方向’其在此被稱為χ方向）平行直線延伸的樣式。 所疋形式的末端樣式（terminal pattern)Tl和丁2在樣式2 的兩端形成。應注意末端樣式可只在樣式一端形成。又平 板的共線記號3在玻璃平板！的四個角落形成，用以在曝 光時使平板1A和光罩共線。 樣式2包括在與χ方向正交的方向（在圖示中為γ方 ^，其在此被料Υ方向）上從樣式2被等分成四部份的 分離樣式（divided pattern)Pl、Ρ2、Ρ3 和 Ρ4。換句話說， 樣式2由同一樣式的分離樣式P1至P4所形成。 參考第2圖，由曝光轉換樣式2至平板^上的光罩i〇a 將在以下說明。 光罩10A包括樣式u以及末端樣式T11和Tl2。其中 樣式11具有一直線部份Ua，其對應至在轉換至透明玻璃 平板ίο的平板1A且在縱向方向上長度縮小的樣式2的分 離樣式PI至P4的直線部份之一。末端樣式T11和T12對 應至在端部的末端樣式T1和T2。又光罩的共線記號Η 被設在玻璃平板】〇的四個角落，以與平板丨八共線。 利用上述如第2圖所示的光罩1〇Α由曝光轉換樣式2 __ 14 本纸ίί.尺Hf]屮賴家枕；i 7rNS ) A4^m ( 210 x797^-4 ) ----- Γ 417 18 1 Α7 ...... ...... ______________^ 五、發明説明（12) ' 一 至平板1Α的整個表面的曝光方法將參考第3至8圖說明。 首先參考第3和4圖’將說明基本曝光方法1注意第 3圖是平板1Α的上視圖，在其表面光罩1〇Α上具有一光 感材料層’且第4圖是其側視圖。 參考圖示，光罩1QA被排列在平板1Α 一角的所定位 置，顯示轉換樣式11至平板的啟始位置。 被用以轉換設在光罩10Α上的樣式1Γ至平板丨八的照 射光（瞄準光）20從一光源（未圖示）放射，光源水平地排列 在平板1Α外側且與樣式1丨的直線部份丨u正交。從光源 放射的照射光（瞄準光）20由反射鏡21和32反射，從傳送 至光罩10A且入射至平板ία，如第3和4圖所示。應注 意反射鏡32由保護蓋3丨覆蓋，且由照射光2〇照射光罩 10A的區域可由開關設在保護蓋31的活動遮板3如、3〇b 和30c而調整》 應注意反射鏡32、保護蓋31和活動遮板3 0a至30c構 成第一光照射裝置30。 光罩10A與平板1A間維持一小間隙（0 05nm和0.5mm 之間）。 光罩10A和照射光20具有一在X和γ方向上移動的機 制（將在以下詳細說明）。參考第5至8圖，以此機制轉換 光罩10A上的樣式11至平板丨a的方法將在以下說明。 參考第5圖，由在固定的光罩i〇A上的末端樣式T12 之上移動第一光照射裝置30，光通過光罩1 〇A照射平板 ’以使末端樣式T12被轉換至平板ία上。 15 ——— . ___ 木纸if、尺度璉川小丨\阄$:榡卑（CNS ) Λ4規格（2丨0X297公嫠）
--- I - -I m St— ϋ «^,ρ^ ^^^1 ^^^1 Β^ϋ in I* 一' n 1^1. m /1 JI\ (誚1閱讀背而之注意事項再楨本两J A7 • - --一 .... B7 五、發叨説明（13) ' — 先閱讀背V?之注意事項再楨涔本莨) 之後’當第一光照射裝置30在光罩10A上的樣式η 的中間部份（middle portion)之上時，再移動第一光照射裝 置30，光罩ι〇Α以與第—光照射裝置3〇相同的速度在X 方向上移動’以轉換樣式2的直線部份至平板ία上，如 第6圖所示（參考第8圖中的箭頭A1至A3)。 ， 參考第7圖，在樣式2的直線部份被轉換至平板丨八上 後’再在固定的光罩10A的末端樣式T11之上移動第一光 照射裝置30，光通過光罩10A照射平板丨A，以使末端樣 式T11被轉換至平板1A上。之後第—光照射裝置3〇被移 至平板1A外側而停止。 經過上述操作’用在如第1圖所示的平板1A的分離樣 式P1被轉換至平板1A上》 然後，光罩10A和第一光照射裝置3〇由一分離樣式在 Y方向上相對移動’且也在相對於如第5至7圖所示的方 向（X方向）上移動。由在相反方向上進行如第5至7圖所 示的曝光過程，下一分離樣式P2被轉換至平板1A。由曝 光轉換分離樣式P3和P4的重覆操作提供形成在如第1圖 的平板1A的整個表面上的樣式2。 應注意在分離樣式P1的曝光過程中，活動遮板3〇a和 3〇c是開啟狀態且活動遮板3〇b是關閉狀態’以使共線記 號3被轉換至平板1A的四個角落。另一方面在分離樣 式P2和P3的曝光過程中，因共線記號3不需被轉換，只 有活動遮板30a是開啟狀態而活動遮板3〇b和3〇c是關閉 狀態。 16 本纸体尺度诚 /1】十 W m %： ίί. ：t- ( C'NS ) Λ 2 ί 0 X ) 一 A7 ____________ . …. 一______________ B7 五、發明说明（14) ~~ ~ 又在分離樣式P4的曝光過程中，活動遮板30a和30b 是開啟狀態而活動遮30c是關閉狀態。應注意第8圖是 第5至7圖十的第一光照射裝置3〇的操作的側視圖。
實施上述曝光方法的曝光裝置將在以下參考第9至U 圖說明。第9圖是曝光裝置1〇〇的上視圖；第1〇圖是其側 面圖；第11圖是在第9圖中的A區域的放大圖；且第12 圖是在第10圖中的A·區域的放大圖。J 首先參考第9至12圖，本實施例的曝光裝置1〇〇包括 一搬運平板1A至曝光裝置10〇的入口站i〇〇a、一進行平 板1A的曝光過程的曝光站1 〇〇b以及一搬運平板ία至曝 光裝置100外的出口站l〇OC。在每站1〇〇A至1〇〇(：的平 板iA的出口機制並不詳細描述，一般可運用滾筒運送機 (roller conveyer)或利用平板搬運叉（plate carrying f〇rk)和 平板滑輪鍵（plate lift pin)等的搬運機制。 另外’曝光站100B具有一第一光照射裝置3〇，其具有 可在平板1A之上的X和Y方向上移動的反射鏡21和32。 又設有在X和Y方向上移動光罩1 〇 A的光罩框架 (photomask frame) 10a以及在X和γ方向上移動光罩框架 l〇a 的光罩 X 方向驅動裝置（photomask X direction driving device)200X和光罩Y方向驅動裝置200Y。 另外，在光罩X方向驅動裝置200Χ上設有用以在X方 向上驅動第一光照射裝置30的驅動裝置30Χ。應注意光罩 Υ方向驅動裝置200Υ上也被用以在Υ方向上移動第一光 照射裝置30。 17 ]t ίΓ ^****~^~**~ "* - \人度埤；丨）屮Wind- ( CNS )八4规格（210X297公釐） 裝-------订------線 Γ C (誚先閱讀背面之注意事項再績寫本頁) r_ 41 Ή R : A7 B7 五、發明説明（Θ ~ 設在光罩框架10a和光罩驅動裝置200Χ之間的是—光 罩ΧΥΘ稍微驅動裝置200a以及一光罩Z方向驅動褒置 200Z。光罩ΧΥΘ稍微驅動裝置200a用以細微調整在χ、 Υ和Θ方向上的光罩10Α的位置，而光罩Ζ方向驅動裝置 200Ζ用以關於平板1Α垂直地移動光罩框架1〇a，以調整 光罩10A和平板1A之間的距離。 光罩駆動裝置200Y更包括一 CCD照相機51，用以讀 取光罩10A上的光罩共線記號12和在平板1A上的平板共 線記號3。分別在χ和γ方向上驅動照相機的照相機驅動 裝置500X和500Y與CCD照相機51連接。 一平板ΧΥΘ微調裝置l〇〇a被設置在曝光站i〇〇B的平 板失具150和平板夾具150放置的框架40之間。框架4〇 設有將猫準光20指向曝光站100B的光源22。應注意感測 平板1A和光罩i〇A的感測器50附屬在光罩框架10a。 以下將說明具有上述構造的曝光裝置1〇〇的操作。 首先參考第9圖’從入口搬運的平板ία被放置在入口 站100A，且在調整後搬運至曝光站i〇〇b。 然後，在曝光站100B，平板1 a由真空吸引（vacuum suction)被固定在平板夾具15〇。此時，光罩1〇A被保持在 光罩10A和平板ία的共線記號在平板ία的右上角幾乎 符合（match)的位置上。 此時’光罩1 〇 A的位置利用光罩χγ㊀稍微驅動裝置 200a和光罩驅動裝置200X和200Y而被調整，以使畫在光 罩10A的樣式在光罩驅動裝置2〇〇χ和2〇〇γ的χ和γ方 18 木纸认 XA i㈣ + W( (、NS ) Λ4規格（210X297公楚―) ' ----.--^--叫裝------訂-----I線 (詞先閱讀背面之注意事項再幼艿本頁) A7 A7 Η 部 屮 •k λ、 五、發明説明（1弓 ' "" 向上被正碎地調整。 之後’如第13和丨4圖所示，在光罩10A上的光罩共 線記號12AS 12D和平板1A上的平板共線記號从至π 被共線。 在共線中·=，如第14圖所示，在光罩10A和平板丨八上 相對應的共線記號由移動CCD照相機51和光罩1〇八而在 平板1A的每個角落被共線。藉此，共線記號的位置被讀 取，且位置的位移量被計算。基於此結果，平板ia利用 平板ΧΥΘ^微驅動裝置施在X、Y和Θ方向上被共線。 在光罩10Α和平板1Α共線後，光罩1〇α被放回光罩 10Α上的光罩共線記號12Α和平板1Α上的共線記號3Α被 共線的位置’即曝光過程的啟始位置。 又當第一光照射裝置30來到光罩1Α上的樣式丨丨的直 線部份Ua的中間部份之上時，第一光照射裝置30和光罩 10A在X方向上被以相同速度移動。之後，只有光罩i〇a 被停止在光罩l〇A上的光罩共線記號12B和平板lA上的 平板共線記號3B被共線的位置，而第一光照射裝置3〇保 持移動直到其至平板1A外側。 在光罩10A在γ方向上移動一所定距離（pitch)之後， 在平板1A上再次利用光罩1 〇 a經由上述相似過程而進行 曝光過程。 應注意上述光罩10A在γ方向上設有被分成四部份的 樣式’相鄰樣式間的距離可由適當地由光罩驅動裝置2〇〇γ 控制光罩10Α在γ方向上的移動量而調整。 19 本纸认尺度蜣州十專（規格（210Χ 297公鬼） HH - I t— I —an m :- 1 /\. , {邙先閱讀背面之注意事項再續{?5本頁) A7 ———…....................... B7____ 五、發叨说明（Μ 之後’最終步驟為進行上述操作直到光罩1〇Α上的光 罩共線記號12C和平板1Α上的平板共線記號sc或光罩共 線記號12D和平板共線記號3D被共線，如此樣式利用光 罩10Α被轉換至平板1Α上。 應注意在上述曝光過程中’光罩1 〇 Α和平板1Α間的距 離由一附屬在光罩框架l〇a的距離感測器5〇(如第1 1圖所 示）感測是較佳地’且基於所得結果，光罩驅動裝置2〇〇z 自動地被控制，以使距離保持一定。 在曝光站100B完成曝光過程的平板1 α將從出口被搬 運出裝置’以在其搬運至出口站l〇〇C後進行下一步驟。 應注意Y方向的移動量可稍微地被控制，或光罩1〇Α 可被手動地或自動地改變，以由稍微不同的距離應用具有 一樣式的光罩，進而符合因平板1A的其他處理過程而使 平板1A伸長或收縮的狀況。 另外，複數個不同樣式可被畫在單一光罩上，以便樣式 由曝光分別被轉換至平板上。 當形成在平板1A的邊緣部份的樣式不同時，對應於樣 式的光罩可被用在曝光過程。 在上述實施例中，雖然四個共線記號被設在每一光罩 10A和平板以上，任何數目（但不小於二）的共線記號可被 應用以達到相同的方功能和效果。 另外，當上述平板1A㈣作單_產品時，複數個產品 可由分離一單一平板成部份而被製造。 又作為另一實施例，在直線樣式在平板的x方向上形 ---J1---- n - (誚先閱讀背面之注意事項4蛾朽本 —訂 '線 20 $ 而 i; .1 π 印 r A7 _ _____ B7 五、發明説明（18) 成後’平板可被旋轉90度後進行相同的曝光過程，以在 平板上提供柵攔形式的樣式。 雷射光源也可被用作光源。又雖然在上述實施例中，光 源是設置在外部，用以放射瞄準光且利用反射鏡而指向光 罩，光源裝置，可被設在光罩之上且與光軍一起移動。 當光源需要大空間時’光源被設在裝置之上以節省空 間’藉此當從上看時，避免裝置-尺寸的增加。 在上述實施例中，只有光罩關於平板在X和γ方向上 移動。然而’只要光罩和平板在X和γ方向上相對移動， 上述曝光方法可被應用，且因此在平板和光罩中，一在χ 方向上移動且另一在Y方向上移動的另一構造可被應用。 第二實施例 以下將參考第15A和15B圖說明根據本發明的電漿顯 示器的光罩110A和平板i〇iA。 首先，參考第15A圖，平板i〇iA包括一玻璃平板ιοί 且在其表面設有樣式102，其具有複數個在玻璃平板1〇1 的X方向上平行的直線樣式。 在樣式102兩端’末端樣式Ή01和τι〇2以所定形式 形成。應注意末端樣式可只在一端形成。又平板的共線記 號103在玻璃平板ιοί的四個角落形成，以在曝光時，使 平板101A和光罩共線。 其次，參考第15B圖，以下將說明用以由曝光轉換樣 式102至玻璃平板ίο!的光罩u〇A。 光罩110A在透明玻璃平板ιι〇上具有一樣式ιη。樣 (誚先閱讀背面之注意事項再禎巧本頁
、1T 本紙张尺度迖川中1¾¾家栉卑（（-NS ) Λ4规格 (210X297公釐） : A7 _ ____B7_ 五、發明説明（19) 式111包括一直線樣式Ilia以及對應於末端樣式T101和 T102的末端樣式Till和T112。直線樣式11〗a由被轉換 至平板101上後的樣式102的直線部份的長度縮小而得 到。又光罩的共線記號112在玻璃平板11〇的四個角落形 成以與平板101A共線。 一 應注意平板101A和光軍π 〇 A的修正例，可使用如第 16A圖所示沒有末端樣式T101和T102的平板101B和如 第16B圖所示沒有末端樣式Till和T112的光罩110B。 又平板101A和光罩11 〇 A的另一修正例，如第丨7 a圖 所示的平板101C和如第17B圖所示的光罩ii〇c。 平板101C包括在其表面具有兩列在X方向平行和三行 在ϊ方向上平行（共穴個）的樣式1〇4的玻璃平板1〇1。所 定形式的末端樣式T105和T106被設在每一樣式1〇4的兩 端。 另外，光罩110C在透明玻璃平板1丨〇上具有三個在γ 方向的樣式114以及對應於末端樣式τι〇5和T1〇6的末端 樣式Τ115和Τ116。樣式114包括一直線部份U4a，其由 被轉換至平板1 〇 1C上的樣式1 〇4的直線部份的長度縮小 而得到。 又可使用如第18A圖所示沒有末端樣式丁1〇5和T1〇6 的平板101D和如第18Β圖所示沒有末端樣式丁115和TU6 的光罩U0D的修正例。 其次，以下將參考第丨9Α、20Α、21Α和1阳、2叩和 21Β圖說明利用如第15Β圖所示的光罩u〇a由曝光將樣 22 本祕尺度逍川中)八规格 ^Τΐ〇Χ 297^^ )~~' --——
Ilf i I I - n ^^1 In n - ! ^^1 -II ^^1 I - - I- 1^1 ^^1 m. 1 I I I I >0^. -a各 ' .( (誚先閱讀背面之注意事項再禎巧本頁) 417^31 A7 Γ_______ Β7 五、發明説明（20) ~ ^ 式Π1轉換至玻璃平板101的整個表面的曝光方法其中 第19Α、20Α、21Α和19Β、20Β和21Β圖分別是平面和側 面圖。 首先參考第19Α和19Β圖，光罩110Α在玻璃平板1〇1 的-一端的所定位置被配置’其為轉換樣式m至平板上的 啟始位置。 被用來轉換光罩1Γ0Α上的樣式ill至玻璃平板丨〇1的 瞄準光130A從光源（稍後描述）被指向。光源水平地設在玻 璃平板101外侧’且與樣式1U的直線樣式nu平行。 從光源指向的瞄準光130A由平面鏡131反射，且在通 過光遮蔽平板132後，穿過光罩丨ι〇Α從上朝玻璃平板1〇1 傳送。應注意由猫準光束13 0 A照射的區域可由在用以指 向瞄準光130的光源側的光學系統或由光遮蔽平板132的 開口 132a而決定。 又由與光罩110A的直線樣式uia平行的瞄準光束 1 3 0A照射的區域的一側的長度幾乎相等或小於直線樣 式。由與光罩110A的直線樣式Ilia正交的描準光東i3〇A 照射的區域的一側的長度以在相同方向配置的樣式11 i a 被同時轉換而被設定。 如上述第一實施例’光罩110A與玻璃平板1〇丨間具有 小間隙（0.05〜0.5mm)，以防止兩者接觸。 反射瞄準光束130A和玻璃平板1〇1的平面鏡π!具有 在X方向上移動的機制（這將在稍後詳細描述）。 首先，參考第19A和19B圖，末端樣式T112由將光經 23 本紙认尺度遑;ί]屮Ηί心料.（C-NS ) Λ4規格（2、0><297公釐） ^ -- I-------.π-----Ί /1. /(. (誚"閱禎背而之注意事項再硝巧本Κ ) i； 义:j ii _τ >Vi f: 合 η 卬 Α7 ________ _Β7 五、發明说明（21) 過光罩11 0A指向玻璃平板101上而被轉換至玻璃平板 101’同時在光罩110A的末端樣式T112之上移動平面鏡 131且玻璃平板1〇1被固定。 此時，被瞄準光束130A照射的區域由在使猫準光束 130A指向的光源側上的光學系成而決定，因此光遮蔽平板 132被用以防止瞄準光130A照射至不需以光照射的區 域。 參考第2〇A和20B圖，光罩110A的樣式ni的直線樣 式111a被轉換至玻璃平板1〇ι上，同時只在X方向上移 動玻璃平板101’且平面鏡131被固定在光罩i10A的樣式 111的中央部份（centrai p〇rti〇n)之上。 參考第21A和21B圖’在樣式1Π的直線樣式iiia被 轉換至玻璃平板101上之後，末端樣式Till由將光經過 光罩110A指向玻璃平板ιοί上而被轉換至平板I〗上， 且玻璃平板101被固定在末端樣式Till在所定位置被轉 換至平板上的位置。之後’平面鏡131更在X方向上移動 和停止。 經過之前的操作，如第15B圖所示的光罩U0A的樣式 111被全體轉換至玻璃平板1〇1的整個表面。應注意玻璃 平板101和平面鏡131在第19A、20A ' 21A和19B、20B 和21B圖中為可移動的。然而，如第19C、2〇c、21C圖所 示，例如，光罩110A的樣式ill被全體轉換至玻璃平板 101’同時移動玻璃平板1〇1和具有所定區域的光遮蔽平板 132 ’以使照射可移動’且固定平面鏡131。在這場合中， 24 本纸认尺政家桴準（CNS ) Λ4規袼（2K)X 297公鐘） n .. . tm - 1. I ϋ —ϋ^衣 1 - - - ---iJ- - - - I - • * ( if (兑尤閱讀背面之注意事項再硪巧本方〕 ·： 417 18^ A7 _______ — _ B7_____ 五、發11刀说明（22) 被瞄準光束130A照射的區域可由在光遮蔽板132中形成 的開口 132a決定。 以下包括進行上述方法的光罩共線裝置的平板移動曝 光裝置將參考第22至26圖說明。應注意第22和23圖是 平板移動曝光裝置140的平面圖，且第24和25圖分別為 其前和側視圖。又第26圖顯示在玻璃平板〗〇1移動的方向 上光罩110A的U線。 參考第22至25圖，本實施例的平板移動曝光裝置14〇 設有在框架141上的X方向上延伸的轨道〗42，且兩者間 有一所定距離。軌道142具有夾持玻璃平板1〇1的平板夾 具145，以便其可在X方向上移動，球螺絲（ball screw)144 被設在框架141和由馬達143驅動的平板夾具i45之間， 以便當球螺絲144在所定方向上旋轉時，平板央具145沿 著軌道142移動。 平板夾具145包括一 Χ'γ和㊀調整機制145A，用以 在玻璃平板101的表面中調整在χ、γ*θ方向上的位置。 又一平板記號145a被形成，以正確地核對平板夾具145 移動的方向。 在平板夾具145之上的所定位置中，設有一罩夾具 (mask holder)146b和一具有在㊀方向上稍微移動罩夾具 146b的機制的罩框架（mask frame) 146a。 罩框架146a具有一提昇單元（elevating⑽⑴丨的，用以 提昇或降低罩框架146a，以調整由平板夾具145夾持的玻 璃平板101和由罩夾具146b夾持的光罩11〇A之間的距 25 本纸认尺度述川屮内< ('nsYa4坭格(210X297公^7 '~ --- m nn HI an^i tan ml ^^1- .^1 m 1J ml n^i —B^i f •3^ 、i's髮 - [. /i\. /1 (謂先閱讀背面之注意事項再功艿本頁'〕 ^ 4 1 7 A7 B7 -----*·---' -------- _____________—_ 五、發叨説明（2$ 離，且具有一由提昇單元149控制的提昇桿（eievating rod)147 。 光罩共線記號112在光罩11 〇A的四個角落的所定位置 形成，以使光罩ΠΟΑ事先與玻璃平板1〇1共線’且核對 其是否平行於平板夾具145移動。為了調整由利用光罩共 線記號112移動平板夾具145的方向，罩夾具146b在一端 設置一旋轉軸146c，以便其可關於罩框架146a轉動，且 在另一端設置一旋轉引動器148，以在圖示中的l和R方 向上關於旋轉轴146c旋轉罩夾具丨46b。 在光罩110A之上，讀取形成在光罩11〇A中的光罩共 線記號112和形成在平板夾具145中的平板記號145a的 CCD照相機150A由可在X方向上被移動的X方向桿15 i 支樓。又X方向桿151經過一滑車（block) 1S5而由Y方向 轨道152可移動地支撐。γ方向軌道152被固定至罩框架 146 ° 為了調整光罩110A以便其平行於平板夾具145的移動 方向’如第26圖所示，形成在平行於光罩n〇A的直線樣 式111的兩光罩共線記號112和在由平板記號145a的移動 所判定的平板夾具145的移動方向（在圖示中的d方向）上 的平板記號145a之間的距離（在圖示中的L1和L2)被量 測’且罩夾具146b利用旋轉引動器被共線，以使L丨與L2 相等。應注意雖然光罩共線記號丨丨2被用以使光罩1丨〇 a 與罩夾具146b共線’共線可利用光罩ποα的直線樣式m 和平板記號145a和直線樣式111之間的量測距離（見第26 — 2 6 本纸认尺度逡川十囚阁家栉戌-(CNS ) Λ4^ ( 210X 297^^ ) —I , ~—i ^1- I— n n I '線 f ..( (誚先閱讀背面之注意事項再祕朽本頁) ί 417181 Α7 Β7 五、發明议明（21 ' 圖中的L1·和L2·)來進行。 (誚1閱讀背面之注意事項再續巧本赶；) 以下將參考第27和28圖說明用以指向上述瞄準光束 130A的瞄準光束產生裝置130。應注意第27和28圖分別 是瞄準光束產生裝置130的平面和側視圖。 ， 從光源138指向的光由聚集鏡（collection mirror) 13 8a向 上反射’由平面鏡133改變其行進方向，且由鏡片組 (collection oflenses) 134聚集。從鏡片組134的光由平面鏡 135改變其行進方向，由一曲面鏡（curved mirror)〗36使照 射用且具有所定區域的瞒準光束轉向。然後，猫準杏，東由 平面鏡131反射且被指向光罩11 〇Α。 在此’鏡片組134的結構將參考第29至31圖說明。 鏡片組134具有一鏡片支樓構件134a。兩飛眼鏡片（fiy eye lenses)134b平行排列，且在飛眼鏡片134b相對於光源 138的一側排列一突出圓柱鏡片（convex cylindrical lens)134c。因此當飛眼鏡片134b和突出圓柱鏡片13牝被 組合後’從光源138指向的光轉向在平面方向（在第29圖 中由Θ1所示的方向）上大大地（greatly)延伸的瞄準光束， 但不在側方向（在第30圖中由Θ2所示的方向）上大大地延 伸。因此，可得到具有照射用所定區域（見第27圖中尺寸 L X S)的瞄準光束。 包括上述平板移動曝光裝置和瞄準光束產生裝置j 的曝光裝置300的整個構造將參考第32和33圖作說明。 在平板移動曝光裝置140的入口側上，設有用以搬運玻 璃平板101至平板移動银光裝置140的入口站3〇1和用以 27 本紙认尺及这川中 W n ( ('NS ) x 297^¾ ) — ~ ' ---- A7 __________ _________ ____ --------— . _ _____ 五、發明説明（25) ~ 將已進行曝光過程的玻璃平板1〇1移出平板移動曝光裝置 140的出口站302。 應注意雖然在入口站3〇1和出口站3〇2中搬運玻璃平板 101的機構未詳細說明，一般來說，一滾筒搬運機可被用 以搬運，或利用如第一實施例中的平板搬運又和平板滑輪 鍵等的搬運機制。 光罩供給機（photomask stoker)303被設置在入口站3〇i_ 上，以儲存複數個光罩，自動地移動想要的光罩至平板移 動曝光裝置140，而在平板移動曝光裝置u〇中取出和儲 存光罩。應注意光罩的移動的部份可利用玻璃平板搬運裝 置和用在平板夾具的移動機制來進行。 另外，瞄準光束產生裝置130被設在平板移動曝光裝置 140和出口站302之上。因此，由在平板移動曝光裝置14〇 之上設置光罩供給機303和瞄準光束產生裝置13〇,可減 少安裝曝光裝置300所需的空間。 如上述’當利用具有上述構造的曝光裝置300時，可進 行與第一實施例中的曝光裝置丨00相同的基本操作，且可 得到如曝光裝置1〇〇的效果和功能。 在此，雖然在每一上述實施例中，直線樣式被轉換至平 板上。然而’二維或三維聯合樣式可由下列步驟利用想要 的材料在平板上形成：在平行或不同於光罩的直線樣式的 方向上轉換光罩的直線樣式至平板上複數次；在光學地負 或正的平板上形成一光感層；以及由顯影、蝕刻或薄膜成 型利用想要材料形成一薄層。 28 ⑽尺度逍力]屮权)^家標準（（'NS ) Λ4规格（2】〇X：297公龙） ----I ί - I 丨裳-------- - I I I I „在 /1- /V ("1閱讀背西之注意事項再"矜本頁) » 417181 A7 B7 五、發明説明（26) 又由應用下列方法，具有拇糊形式的樣式或多角形樣式 可被形成在平板上。 參考第34圖’具有直線樣式1〇4在光感層上被轉換的 平板101E，由每一上述實施例中說明的方法利用在玻璃平 板上的光感層上具有直線樣式122的光罩11〇e而被形 成。
'然後’在光感層上的直線樣式104被轉換後，平板1〇1E 被旋轉90度，其更形成另一光感層，之後，樣式利用具 有直線樣式123的光罩110F而被轉換。 在上述曝光過程中，當正型的阻抗薄層（resistfilm)被利 用時，得到具有柵攔105樣式的平板101F，而當負型的阻 仇被利两時’得到具有複數個多角樣式1 〇6的玻璃平板 101G。 另外，本發明並不限於上述具有栅欄形式1〇5的樣式的 平板101F和具有複數個多角樣式的平板1〇1〇的形成如 第35圖所示具有柵攔形式1〇7的樣式的平板1〇1H或如第 36圖所示具有突部的條狀形式（stripe f〇rm)1〇8樣式的平板 101J也可由下列步驟形成：由顯影使轉換至第一光感層上 的樣式清楚；在已由顯影使轉換樣式清楚的第一光感層上 形成第二光感層；由曝光轉換一與第一直線樣式正交的第 一直線樣式至第二光感層上；且由顯影使轉換至第二光感 層上的樣式清楚，以使複數個多角樣式或栅欄形式的樣式 由想要的材料形成。 又在每一上述實施例中，當樣式被轉換時，光罩關於平 29 — ___ 本纸认从度4 , Λ4ί^ 7 210x297*^ ) ------ A7 B7 五、發明説明（27) ~ 板相對地移動，即使當異物等附著在光罩上時異物不會 如樣式般被轉換至平板上。因此，關於光罩上的異物問題 被去除’所以平板的產品良率可被增加。 應注意在上述每一實施例中，光罩上的樣式只以—直線 樣式轉換至玻璃平板作說明。本發明並不限於此，例如， 不同形式的樣式也可被轉換至玻璃平板上，如矩形條狀 或其他不同形式。 上述實施例已說明轉換直線樣式至用在電漿顯示器的 玻璃平板。然而’實施例也可被應用至具有直線樣式的印 刷電路板或任何藉由曝光過程製造的產品。 雖然本發明以較佳實施例揭露如上’然其並非用以限定 本發明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精神和 範圍内’當可作更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視 後附之申請專利範圍所界定者為準。 ("1閱讀背面之：iJL意事項再硪寫本πο -裝- — 丁 -v° i: 而 _T >Vi t Λ i\ 丨線 30 尺度过川屮家標牟（（、NS)Λ4坭格（2l0x297^ft ) V: