TW417168B - Projection optical system, exposure device provided therewith and method of using such system for manufacturing devices - Google Patents

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TW417168B
TW417168B TW086107075A TW86107075A TW417168B TW 417168 B TW417168 B TW 417168B TW 086107075 A TW086107075 A TW 086107075A TW 86107075 A TW86107075 A TW 86107075A TW 417168 B TW417168 B TW 417168B
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lens group
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TW086107075A
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Inventor
Yutaka Suenaga
Kotaro Yamaguchi
Original Assignee
Nippon Kogaku Kk
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    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Description

經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A7 __B7_____五、發明説明(/ ) 〔發明之詳细說明] [產業上之利用領域] 本發明係關於將第1物體之線路圖投影於第2物通之基 板等之投影光學系统•特別涉及將第丨物體之線網 (reticule)(面)上所形成之半導體用或疲晶用之媒路圖投 影曝光於第2物體之基板(晶圓、金靨板等)上的適合之投 影光學系統。 〔習知技術] 伴隨積體回路之線路圖之微細化,澍使用在晶圓洗相 之投影光學系統所要求之性能亦愈嚴格。在此狀況下,就 投影光學系統解像力之提高*可考慮將曝光波長更縮短, 或將投影光學糸统開口數(N-A)加大之方法。 近年來,為對應轉印線路圖之微细化,曝光用光源* 從發出g線(4 3 6 mm )之曝光波長之光*使用到Μ發i線(3 6 5 ®a)之暘光波長之光為主,而苜試使用發出更短波長之光的 光源,洌如使用激元雷射(KrF :243mm,ArF:133ara)。 而,被提案使用K上各種暍光波長之光將媒網上之線 圖投影曝光在晶圓上所用之投影光學系统。 對投影光學糸統,與解像力之提高同時被求者*乃減 少歪像。在此,所謂歪像則除起因於投影光學条统之失真 (歪曲收差)之外,尚有起因於被洗相於投影光擧糸統之 像側的晶圓彎曲等*及起因於在投影光學糸统之物體側描 印回路線圖等的線網彎曲等。 J------------------^----------- .訂-------ii---------------- (請先Μ讀背而之注念事項寫本頁) { 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4规格(2)0X297公釐) ί- 417 16 8 B7 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 五、發明説明 ( 1 ) Ί 1 近 年 來 轉 印 線 路 圖 之微 细化愈進步 對 減 低 歪 像之 要 ] 求 亦 愈 嚴 格 0 1 1 因 此 為 減 少 由 晶 圓膂 齒引起之歪 像 的 影 響 $ 從來 使 請 先 1 f 閱 1 用 將 投 影 光 學 系 統 像 側 之射 出眼位置放 在 遠 處 之 所 謂像 側 讀 背 1 1 ώ I 遠 心 光 學 系 统 0 1 注 1 另 方 面 就 m 網 彎 曲引 起之歪像的 減 輕 可 考 慮將 投 意 審 1 1 影 光 學 % 統 亦 被 提 案 如 此將 投影光學糸 统 人 射 眼 位 置放 在 再/ 1 寫 裝 1 離 物 體 面 比 較 遠 之 位 置 。其 事例有特開 昭 63 -1 1811 5號 特 本 頁 開 平 4-1574 1 2 特 開 平5- 1 73G65號等 0 1 1 [ 發 明 之 解 決 課 題 ] 1 I 在 Μ 上 各 專 利 公 報 所提 案之投影光 學 A 統 中 有公 示 1 i 訂 物 體 側 與 像 側 均 為 遠 心 之所 謂兩惻遠心 投 影 光 學 条 統。 1 但 在 以 上 各 專 利 公報 所提案之兩 側 遠 心 投 影 光學 系 1 1 統 其 幫 助 解 像 力 之 開 口數 (Μ , A )不充分大 且各收差, 尤 1 ! 其 失 真 之 補 正 不 充 分 0 / 1 ( 線 本 發 明 係 針 對 Μ 上 問題 點而為,確 保 大 開 口 數 與廣 曝 j 1 光 領 域 Μ 兩 側 遠 心 提供 可良好補正 諸 收 差 特 別是 失 1 1 真 之 高 性 能 投 影 光 學 % 統為 目的。 1 i [ 解 決 m 題 之 手 段 ] 1 ! 為 達 成 上 述 i 的 本發 明之投影光 學 糸 統 1% 將 第1物體 1 I 之 像 形 成 在 第 2物髓上 由第1物體側順 序 具 備 1 具 有 正 折 射 力 含 3片正透鏡之第1 透 鏡 群 f ί 1 具 有 正 祈 射 力 含 3片負透鏡與1片 -5- 正 透 鏡 之 苐 2透鏡 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標牟(CNS ) Λ4規格(2丨OX 297公漦) 經濟部中央標準局負工消资合作社印製 4 Λ7 _B7_五、發明説明(3 ) 群, 具有正折射力,含3片正透鏡與1H負透鏡之第3透鏡 群, 具有正折射力,含3片正透鏡之第4透鏡群* 具有正折射力,含6片正透鏡與1片負透鏡之第5透鏡 群。 第1透鏡群具有至少含2片正透鏡之部分群Glp, 第2透鏡群具有至少含3片負透鏡之部分群G2n* 第3透鏡群具有至少含3片正透鏡之部分群G3p, 第4透鏡群具有至少含3片負透鏡之部分群G4n, 第5透鏡群具有至少含5片正透鏡之部分群G5p*與配置 於最靠第2物體側且將凹面面向第2物體側之正透鏡 而滿足Μ下條件: {請先閱讀背面之注意事項f寫本頁) .裝- -V9 .08 < f 1/L < 0.25 ⑴ • 03 < -f Z/L < 0.1 ⑵ • 08 < f 3/L < 0.3 ⑶ • 0 3 5 < -f4/i < 0.11 ⑷ .1 < f 5p/L < 0.25 ⑸ .07 < f5g/L < 0.21 ⑹ .25 < R5g/L < 0.83 ⑺ 但, L :前述第1物體至前述第2物體之距離, :前述第1透鏡群中之部分群G1P焦點距雛, -6 - 本纸張尺度適用申國國家樣準(CNS ) Λ4规.格(2丨0X297公釐) B7 五 經濟部中夬標準局員工消費合作社印製 發明説明(w) :前述第2透鏡群中之部分群G2n焦點距離, :前述第3透鏡群中之部分群G3p焦點距離, :前述第4透鏡詳中之部分群G4n焦點距離, f5p:前述第5透鏡群中之部分群G5p焦點距離, f5g:前述第5透鏡群中之正透鏡焦點距離, R5g:前述第5透鏡群中之正透鏡G5g之第2物體側凹面的曲 率半徑。 又,在本發明,第5透鏡群Μ具有面向第1物體側之第1 凹面Ν 1為佳, 設此Ν1之曲率半徑為Rnl時,以滿足Μ下條件為佳。 G.125 < -Rnl/L < 0.33 ⑻ 又·本發明較佳狀態係第5透鏡群含有足以下條件之至 少4 Η正透鏡。 -10 < (rl + r2)"M-r2)<-0.1 ⑼ 但’ rl:至少4片之正透鏡之第1物體側之面的曲率半徑, r2:至少4片之正透鏡之第2物體側之面的曲率半徑。 又,依本發明較佳狀態’第5透鏡群’具有面向第2物 體側之第2凹面N2,與位於®該第2凹面N2凹面N2靠近第2物 體側而面间第2物體側之第3凹面N3,此時W滿足Μ下條件 為佳0 Q . 1 Β < Rn2/L < 0·38 (10) 0.05a < Rn3/L < 〇 · 1 1 (⑴ 本纸張尺度通财酬家料(CNS ) Λ视格(21(1X297公發) 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 Α7 Β7 五、發明説明(今) 但,
Rn2:前述第2凹面N2之曲率半徑,
Rn3:前述第3凹面N3之曲率半徑, 又,依本發明較佳狀態,第2透鏡群至少含1片正透鏡 ,設面向該正透鏡之第2物體之面的曲率半徑為RP1時,以 滿足以下條件為佳。 0.23 < -Rpl/L < 0.5 (12) 〔發明乏實施形態] 如上述構成本發明之投影光學系統至少具有下列構成 :由第1物《顒序其有正折射力之第1透鏡群61,具有負折 射力之第2透鏡群G2,具有有正折射力之第3透鏡群G3,具 有負折射力之第4透鏡群G4·與具有正折射力之第5透鏡群 G5 〇 在此,具有正折射力之第1透鏡群G1,將射出自第1物 體之逭心光束導至第2透鏡Μ後之透鏡群,同時預先發生正 失真,以補正較第1透鏡群G1配置更靠第2物通側之透鏡群 ,尤其第2、第4及第5透鏡群所發生之負失真。 又,具有正折射力之第3透鏡群亦發生正失真,擔任補 正第2、第4及第5透鏡群64、G5所發生之負失真的角色。而 ,此第3透鏡群G3與第2透鏡群G2,由第2物體側看,構成正 •負折射力配置之望逭系统由此•具有防止投影透鏡全系 統長大化之懺能。 具有負折射力之第2及第4透鏡群G2、G4,主要貢獻於 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS } Α4規格(2丨0X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 線 B7 五、 經濟部中央標隼局負工消资合作社印製 發明説明( 伐 和 之 補正* 具 有 達成 平 坦像 面之 機能。 而 1 具 有正折 射 力 之第 5透鏡群G5 •具有Μ儘量避免 差 之 發 生的狀 態 將 光束 導 至第 2物體上* K结像之角 其 於 說 明條件 式 0 如前 述 *本 發明 之投影光學系统; 足 以 下 條件⑴ ⑺ 溝成 0 0 . 08 < f 1/L· < 0 .25 (1) 0 . 0 3 < -f2/L < 0 .1 ⑵ 0 · 08 < f 3/L < 0 .3 ⑶ 0 . 0 3 5 < -f4/L < 0 .11 ⑷ 0 . 1 < f 5p/L < 0 .25 ⑸ 0 . 07 < fSg/L < 0 .21 ⑹ 0 . 25 < E 5g/L < 0 .83 (7) 但, L Π f2 f 3 f 4 f 5 p f5g 前述第1物體至前述第2物體之距離, 前述第1透鏡群中之部分群Glp焦點距離 前述第2透鏡群中之部分群G2 η焦點距離 前述第3透鏡群中之部分群G3P焦點距離 前述第4透鏡群中之部分群G 4 η焦點距離 前述第5透鏡群中之部分群G5p焦點距雛 前述第5透鏡群中之正透鏡G5g焦點距離 R5g :前述第5透鏡群中之正透鏡G5g之第2物體側凹面的曲 率半徑。 本紙張尺度適用中國國家橾华(CNS ) Λ4規格(21〇Χ297公釐) 經濟部中央標準局員工消资合作社印製 Μ Β7 —一- --- . ___ - — ' ..... . 一 — 五、發明説明(7 ) 條泮⑴係規定在第1透鏡群G1中擔任主折射力之部分群 G 1 P之適正祈射力。超過條件⑴之上限,則因無法補正完在 第1透鏡群所發生之第2、第4及在第5透鏡群所發生之負失 真而不佳。又,超過條件⑴之下限,則因成為發生高次之 正失真的原因而不佳。 條件⑵偽規定在第2透鏡群G2中擔任主負折射力之部分 群G2n之適正負折射力。超過條件⑵之上限,則珀茲代和之 補正不充分·招來像平坦性之惡化。又,超過條件⑵之下 限,則正失真之發生變大,僅靠第1及第3透鏡群做此大之 正失真之良好補正甚為困難。 條件⑶係規定在第3透鏡群G 3中擔任主折射力之部分 群G 3 p之適正折射力。超過條件⑶之上限,則與第2透鏡群 所形成之望遠系統遠心比要大而招來系统之長大化,第3透 鏡群G3之正失真發生量變小,未能良好補正在第2、第4及 第5透鏡群所發生之負失真而不佳。又,超過條件⑶之下限 ,發生高次之球面收差,未能獲得良好结像性能而不佳。 條件(4)係規定在第彳透鏡群G4中擔任主負折射力之部分 群(Ϊ 4 η之適正折射力。超過條件⑷之上限,則珀茲代和之補 正不充分,招來像平坦性之惡化而不佳。又*超過條件⑷ 之下限,則成為高次之球面收差的發生原因*招來像之對 比惡化。 條件⑸偽規定在第5透鏡群G 5中擔任主折射力之部分 群G 5 ρ之適正折射力。在此,超過條件⑸之上限,則第5 "10- 張尺度適用中國國家櫺準(CNS ) Λ4規格( 210ΧΜ7公發) " ----------裝----Γί訂----丨j線 (請先間讀背面之注意事項寫本頁) < 417160 Λ 7 Η 7___ 五、發明説明(公) 透鏡群G5全體正祈射力爱過弱’结果招來投影透鏡全系統 之畏大ib而不佳。又,超過條件⑸之下限f則負失真及負 球面收差之發生要大,招來像之惡化而不佳。 條件⑹係規定在第5透鏡群G5中較部分群G5p配置於靠 第2物體側之正透鏡G5g之適正折射力。超過條件⑹之上限 時,正透鏡G5g之折射力要過弱,較第5透鏡群G5中之正透 鏡G 5配置於靠第1物體_之透鏡則增加負擔’其结果’招來 球面收差之惡化或投影透鏡系统之長大化而不佳。又’超 過條件⑹之下限時,負失真及負球面收差之發生變大將惡 化像而不佳。 條件(7)係規定在第5透鏡群G 5中配置於最靠近第2物體 側之正透鏡G5g,對面向第2物體側之凹面之曲率半徑之物 像間距離的適切範圍。因此正透鏡G5g之第2物體側透鏡面, 將凹面面向第2物體側,K對高開口數之光束儘量抑制負球 面收差之發生。在此,超過鲦件⑺之上限時’在此凹面發 生高次之負球面收差未能圈謀投影透鏡系統之高開口數化 而不佳。又,超過條件⑺之下限時’因在此凹面光束過於 發散未能有效折射光,招來投影透獍全系統之長大化而不 佳。更,此時,因给第5透鏡群G 5中之其他正透鏡加負擔, 亦會招來球面收差之惡化而不佳。 在本發明,第5透鏡群G5,具有面向第I物體側之第1E3 面N 1為佳,而此凹面S 1之曲率半徑R π 1滿足Μ下條件⑻為佳
C -1 1 - 本紙張尺度通用中园_家標华(CNS ) Λ4规格(210Χ 297公筱) ----------裝----.1—訂------線 (請先間讀背而之注意事項寫本頁) ί 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 Λ 7 ________ Β7 五、發明説明(/ ) 0.125 < -Rnl/L <0.33 ⑻ 面向第5透鏡G5中之第1物體側之第1凹面Hi,主要擔任 補正第5透鏡群G5中所發生之負球面收差之機能。上述條件 ⑻規定對物像間距離之第1凹面N1之適切曲率半徑比。在此 *超過條件⑻之上限,則不夠補正正透鏡所發生之負球面 收差而不佳。又,超過條件⑻之限,則變為球面收差補正 過刺·會發生高次之正球面收差而不佳。 又,在本發明,第5透鏡群G5,K含滿足K下條件之至 少4片正透鏡為佳。 -10 < (ra + r2) / (rl-r2) <-0.1 ⑼ 但* rl:至少4片之正透鏡之第1物體側之面的曲率半徑* r2:至少4片之正透鏡之第2物體側之面的曲率半徑。 上述條件⑼係規定含在第5透鏡群G5之正透鏡形狀。在 此,超過條件⑼之上限的透鏡形狀時,發生大負球面收差 圼補正困難,超過條件⑼之下限的透鏡形狀時’發生大負 失真而失真之良好補正為困難。第5透鏡群G5因較其他透鏡 群配置於靠第2物體側,通過高開口數之光束。因此*在第 5透鏡群G 5,若滿足上述條件⑼之正透鏡不足4片吋’未能 使高開口數之球面收差之良好補正’與廣曝光領域全體之 失真之良好補正兩立而不佳° 又,在本發明,第5透鏡群G5’ Κ具有面向第2物體側 之第2凹面Ν2,與較此第2凹面Ν 2位於靠第2物體側而面向第 -12- 本紙張尺度適用中國®家標举(CNS ) Λ4规格(2丨0X297公釐) ---------裝------訂.------線 (請先Μ請背而之注意事項I寫本頁) ί A7 41716 B7___ 五、發明説明(π ) 2物體側之第3凹面N3為佳,此等第2及第3之凹面H2、N3此 時足K下條件為佳。 0.16 < Rn2/L < 0.38 (10) 0.055 < Rn3/L < 0.11 (11) 但*
Rn2:第2凹面N2之曲率半徑,
Rn3 :第3凹面N3之曲率半徑, 第5透鏡中面向第2物體側之第2凹面N 2及第3凹面N3主 要擔任補正從第5透鏡群G5中之正透鏡所發生之負球面收差 及負失真之機能。上述條件(1Q)及(11)各規定對物像間距 離之第2及第3凹面N2、N3之適切曲率半徑比。在此’超過 條件(1 0 )及(Π )之上限,則殘存負球面收差及負失真而不 佳•超過條件(1 〇)及(η)之下限,則特別使球面收差呈補 正過剩變為高次球面收差之發生原因而不佳。 又,在本發明,設第2透鏡群G2中之正透鏡面向第2物 體側之面之曲率半徑為Rpl>滿足以下之條件為佳。 0.23 < Rpl/L < 0.5 (12) 條件{ 1 2 )係規定對全系統之第2透鏡群G 2中之正透鏡面 向第2物體側之凸面之曲率半徑。此凸®擔任補正在第2、 第4及第5透鏡群G2、G4、G5所發生之負失真的角色。在此 ,超過條件(1 2 )之上限,則失真之補正不充分 > 殘存負失 真而不佳。又,超過條件(1 2 )之下限•則失真補正過剩發 生正高次失真而不佳。 -1 3- 本紙悵尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(21ϋ_χ297公趁) ---------裝-------訂------線 (請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) ί 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 ___ B7__五、發明説明(h ) 其次參照圈面表示將本發明實陁形態之投影光學糸统 適用於投影曝光裝置之事例。圖1 係表示將本發明實施形 態之投影光學系統適用於將逐次曝光型之投影暍光装置的 事例之斜視圖•圖2係表示將本發明實施形態之投影光學系 統適用於掃瞄型曝光装置的事网之斜視圖。 此等圖1及圖2之投曝光裝置,均使用於形成積體回路 元件或液晶板等裝置之回路猓路圖之曝光工程。 其初,在圖1事例,將描印所定之回路線路圖之投影原 板線網R(第1物體)配置於投影光學系統PL之物體面,而將 基板晶圓W(第2物體)配置於投影光學系統PL之像面。在此 ,線網R被保持於線網台*面晶圓W被保持於至少圈中X Y方 向可動之晶圓台。又,線網R之上方(Z方向側)配置K紫 外域之曝光光均一照明面罩Μ之照明領域1 A的照明光學装置 。在此實施形態,照明光學装置1L供給i線(人= 365 mm)之 紫外域之光。 由以上構成,照明光學裝置IL所供應之紫外域之曝光 光學均一照明線網R上之照明領域IA。通遇此線網R之暘光 光在投影光學系統P L之開口縮小A S之位置形成光源像。卽 媒網RM照明光學装置IL Koehler照明。而*在晶圓上之曝 光領域EA形成線網R之照明領域IA内之®,由此,將線網《 之回路線路圖轉印在晶圓。 其次,在圖2之事例,與圖1之事例相異之處在於保持 線網R之線網台RS與保持晶圓之晶圓台WS*瞜光中互相逆方 -1 4 - (請先閱讀背面之注意事項填寫本頁) ----參-----訂1 -n d —n^ — ^-------... 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 經濟部中央標率局負工消費合作杜印製 ^ 417ie: B7____五、發明説明(θ) 向掃描。由此,將線網R上之回路線路圖之像掃瞄曝光於晶 圓W。 拟上圖1及圖Z之實施形態,投影光學糸^PL在第1物體 側(面罩Μ側)及第2物體側(金屬板P厠)貿質上成為遠心而具 有縮小倍率。 〔實施例〕 其次,參照圖3〜圖14説明本發明投影光學糸统之實施 例。在此,圖3、圖6、圖9及圖12各為第1〜4實施例之投影 光學糸統之透鏡斷面圖,圖4、圖7、圖10及圖13各為第1〜 第4實施例之投影光學系统之縱收差圖*而’圖5、圖8、圖 il及圈14各為第1〜第4實施倒之投影先學系,统之橫牧差圖 Ο 〔第1實豳例] 在圖3,第I實施例之投影光學糸統由第!物體(線網R) 側順序,K正折射力之第1透鏡群61、負折射力之第2透鏡 群G2、正折射力之第3透鏡群G3、負折射力之第4透鏡群G4 、與正折射力之第5透鏡群G5所構成。 第i透鏡群G1,由第1物體側順序,以兩凸肜狀之正透 鏡L11、兩凹形狀之負透鏡L12、兩凸形狀之2片正透鏡[13 、L14、面向第i物體側凸面之平凸形狀正透鏡L15及面尚第 2物體側凹面之平凹形狀負透鏡L1 6構成。在此第1透鏡群 兩凸形狀之2片正透鏡3, L14構成正折射力之部分群 G 1 P ° -15- Λ7 "裝-- (請先閲讀背面之注意事項4(¼寫本I ) -^1— ,va 線 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐)
經濟部中央標準局員工消費合作社印$L A7 B7 ^、發明説明(G ) 第2透鏡群62,由第1物體側顒序,K兩凸形狀正透鏡 L21、面向第2物體側凹面之平凹形狀負透鏡[22、兩凹形狀 負透鏡L23及面向第1物體刺凹面之平凹形狀負透鏡L24構成 。在第2透鏡群’ 3片負透鏡L22〜L24構成負折射力之部分 群 G2n。 第3透鏡群G3,由第1物體側順序,从瓸向第1物體測凹 面之形狀之正透鏡L31、面_第1物體面向第1物體側凹面之 鸾月形肤正透鏡L33、兩凸形狀之2片正方透鏡L34、L35、 面向第1物體側凸面之鼙月彤狀正透鏡L 3 6構成。在此第3透 鏡群G3* 3片正透鏡L33〜L35構成正折射力之部分群G3p。 第4透鏡群G4*虫第1锪體測順序· K茴向第1饬體側凸 面之彎月形狀透鏡L41、面向第1物體側凸面之彎月形狀負 透鏡L42、兩凹形狀負透鏡L43、面向第1物體側凹面之鬻月 形狀負透鏡L44及面向第2物體側凸面之彎月形狀之正透鏡 L4 5構成。在第4透鏡群G4,3片負透鏡L42〜U4溝成負折射 力之部分群G4n。 第5透鏡群G5,由第1物體側順序,面向第1物體側凹面 之彎月形狀正透鏡L51、兩凸形狀正透鏡L52、瓸向第1物體 側凹面N1之鹫月形狀負透鏡L53、面向第2物體劂凹面N2之 彎月形吠負透鏡L54、兩凸形狀正透鏡L55、面向第1物體側 凸面之脊月形狀之3H正透鏡L56〜L58、面向第2物體側凹 面N 3之彎月彤狀負透鏡L5 9及面向第2物體側凹面之彎月形 狀之正透鏡G5g構成。在此第5透鏡群G5,正透鏡L51、L52 ' -16- 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公楚) L---------批衣------!訂------^ (請先閲讀背面之注意事項'^填寫本頁) f Α7 Β7 417 16 五、發明説明() 負透鏡L53、L54及正透鏡L55〜L57構成正折射力之部分群 G 5 p 〇 又,在第1實施例之投影光學系統,開口縮少AS配置在 第4透鏡群G4與第5透鏡群G5之間。 〔第2寊施例〕 在圖6*第2實施例之投影光學糸統由第1物體(線網R) 側順序,Μ正折力之第1透鏡群G1、負折射力之第2透鏡群 G2、正折射力之第3透鏡群S3、負折射力之第4透鏡群G4、 與正折射力之第5透鏡群G5構成。 第1透鏡群(Π·由第I物體側順序,κ兩凸形狀正透鏡 L 1 1、兩凹彩狀負透鏡L 1 2、雨凸髟狀之2 Η正透鏡U 3、L 1 4 及面向第2物體側凹面之彎月形狀負透鏡U 5構成。在第1透 鏡群61,2片透正鏡L13,L14構成正折射力之部分群Glp。 第2透鏡群G2,由第1物逋側順序,以兩凸形狀正透鏡 L21,面向第2物體側凹®之平凹形狀負透鏡L22、兩凹形負 透鏡L2 3及面向第1物藶側凹面之平凹形狀負透鏡L2 4構成。 在此,第2透鏡群G2K3片之負透鏡L22〜L2 4構成負折射力 之部分群G 2 η。 第3透鏡群G3*由第1物體側順序,以面向第1物體側凹 面之鬻月形狀正透獍L31、面向第1物體脷凹面之彎月形負 透鏡L32、面向第1物體側凹面之膂月形狀正方透鏡L33、兩 凸形狀正透鏡L34及面向第1物體側凸面之鸾月彫狀正透鏡 L35構成。在第3透鏡群,3片正透鏡L33〜U5構成正折射力 -17- 本紙浪尺度適用中國國家標芈(CNS ) Λ4規格(210X297公發) ----------裝---------:訂-------線 (請先閱讀背面之注意事項^½:寫本頁) 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 6 a Λ 7 Β7 經濟部中夬標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明(ίχ ) 之部分群(5 3 P。 第4透鏡群G4,由第1物體側順序,Μ面向第1物骽側凸 面之弩月形狀正透鏡L41、面向第1物體側凸固之彎月形狀 負透鏡L42、兩凹形狀負透鏡L43、面向第1物體側凹面之彎 月形狀負透鏡U4及面向第2物體側凸面之鸳月形狀正透鏡 L45構成。在第4透鏡群G4* 3Μ之負透鏡[42〜L4 4檐成負折 射力之部分群G4n。 第5透鏡群G5,由第1物體側順序,面向第1物物體側凹 面之鸯月形狀正透鏡L51、兩凸形狀正透鏡L52、面向第1物 體側凹面Ml之鹫月形狀負透鏡L53、面向第2物體側凹面N2 之彎月彤狀負透鏡L 5 4 '甬凸彤狀正透鏡L 5 5、面商第?物體 側凸面之鸾月形狀之3片正透鏡L56〜L58、面向第2物體側 凹面N3之彎月形狀負透鏡L59及面向第2物體側凹面之形狀 之膂月形狀面透鏡G5g構成。在此第5透鏡群G5*正透鏡L51 ,L52,負透鏡L53,L54及正透鏡L55〜L57構成正折射力之 部分群G 5 P。 又,在第2實施例之投影光學系統,開口縮小AS配置於 第4透鏡群(H與第5透鏡群G5之間。 〔第3實施洌] 在圖9,第3實施例之投影光學糸統,由第1物體(線網 R)側順序.K正折射力之第1透鏡群G 1、負折射力之第2透 鏡群G2、正折射力之第3透鏡群G3、負折射力之第4透鏡群 G4、正折射力之第5透鏡群G5構成。 -18- I--------裝--- (請先閱讀背面之注意事項寫本頁〕 訂 .線 本紙張尺度適用中园國家標準(CNS ) Λ4規格(2!OX297公綮) 417168 Λ7 Β7 經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 五、發明説明(a ) 苐1透鏡群G1·由第1物體側順序,K面向第1物腊剧β 面之彆月形狀負透鏡L11、兩凸形狀之3片正透鏡L12〜L14 及面向第2物體脚凹面之平凹形狀負透鏡L15構成。在第1透 鏡群G1,2片之正透鏡L12,U3構成正折射力之部分群Glp 0 第2透鏡群由第1物體測順序,Μ兩凸彤狀正透鏡 L21、面向第2物體側凹面之平凹形狀負透鏡L22、兩凹形狀 負透鏡L23及面向第1物側凹面之鹭月肜狀負透鏡L24構成。 在第2透鏡群G2,3片負透鏡L22〜L24構成負折射力之部分 群G2 ° 第3透鏡群G3* S第1惚體側順序,Μ靣阎第1物體測凹 面之鸾月形狀2片正透鏡L31,L3 2及兩凸形狀之3Η正透鏡 L33〜L35溝成。在此第3透鏡群G3,3Η正透鏡L33〜L35構 成正祈射力之部分群G3p。 第4透鏡群G4,由第1物體側順序,以面向第1物體側凸 面之哿月形狀正透鏡L4 1、面向第1物體側凸面之彎月肜狀 負透鏡L42、兩凹形狀負透鏡L43、面向第1物體側凹面之平 凹形狀負透鏡L4 4及面向第2物體測凸面之彎月形狀正透鏡 L45構成。在第4透鏡群G4,3片負透鏡L42〜U4構成負折射 力之部分群G4n ° 第5透鏡群G5 ·由第1物體厠順序,以面向第1物體側凹 面之臂月形狀正透鏡L51、兩凸形狀之2片正透獍L52,L53 ,持有面向第1體側凹面!Π與面向第2物體側凹面N2之兩凹 ™ 1 9 - t---------^—— (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4规格(2丨0X297公釐) A7 417160 B7 _ 五、發明説明() 形狀負透鏡L54、兩凸彤狀正透鏡L55、面向第1物髖側凸面 之鸾月形狀之3片正透鏡L56〜L58、茴向第2物體側凹面N3 之鼙月形狀之負透鏡L59及面向第2物體剧凹面之形狀之彎 月彤狀正透鏡G5g構成。在此第5透鏡群G5,正透鏡L51〜 U3、負透鏡L54及正透鏡L55〜L57構成正折射力之部分群 G 5 ρ ο 又,在第3置施例之投影光學系統,開口縮小配置於第 4透鏡群G4與第5透鏡群G5之間。 〔第4實施例〕 在圖12,第4實施例之投影光學系統,由第1物髓(線網 R)廁顒序,以正折射力之第1透鏡群負折射力之第2透 鏡群G2、正折射力之第3透鏡群G3、負折射力之第4透鏡群 <34、與正折射力之第5透鏡群構成。 第I透鏡群(Ϊ1,由第1物體側順序’以兩凸形狀正透鏡 L11、兩凹形狀負透鏡L12、兩凸形狀之2片正透鏡U3,L14 ,面向第1物體脚凸面之平凸形狀正透鏡L15及面向第2物體 側凹面之平凹形狀負透鏡搆成。在此第1透鏡群G1,兩 凸形狀之2片正透鏡L13,L14構成正折射力之部分群Glp。 第2透鏡群G2,由第2物體側順序,Μ兩凸形狀正透鏡 L2〗、面向第2物體側凹面之平凹形狀負透鏡L22、兩凹面形 狀負透鏡L23及面向第1物體側凹面之平凹形狀負透鏡L2 4構 成。在第2透鏡群G2,3片負透鏡122〜L24構成負折射力之 部分群G 2 η。 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS Μ4規格(210Χ 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印梵 A7 B7 第3透鏡群G13由苐ί物體側順序,K面向第2物體_凸 面之形狀之正透鏡L13、面向第1物體側凹面之辑月形狀負 透鏡L32、面向第1物體側凹面之彎月形狀正透鏡L33、兩凸 形狀之2片正透鏡L34,L35、面向第1體側凸面之膂月形狀 正透鏡L36構成。在此第3透鏡群G3,3片正透鏡L33〜L35構 成正折射力之部分群G3p。 第4透鏡群G4 *由第1物體側順序,面向第1物體側凸面 之膂月形狀正透鏡141、面向第1物體側凸面之彎月形狀負 透鏡U2、兩凹彤狀負透鏡L43、面向第1物鬅側凹面之膂月 形狀負透鏡L4 4及面向第2體側凸面之彎月形狀正透鏡L4 5構 成。在第4透鏡群GO 3片負透鏡U2〜U 4搆成負折射力之 部分群G4n。 第5透鏡群G5 <由第1物賭側順序,K面向第1物體側凹 面之蜜月形狀正透鏡[51、兩凸形狀正透鏡L52、面向第i物 體測凹面N1之彎月形狀負透鏡153、面向第2物髖惻凹面ιι2 之彆月形狀負透鏡154、兩凸形狀正透鏡155、面向第1物側 凸面之轡月形狀之3片正透鏡156〜158、面向第2物體脚凹 面N3之彎月彤狀負透鏡L59及面向第2物體側凹面之形狀之 彎月形狀正透鏡G5g構成。在此第5透鏡群G5’正透鏡L51, L52、負透鏡L53,L54及正透鏡L55〜L57構成正折射之部分 群 G5p 〇 又,在第4茛施例之投影光學系統開口縮小As配置於第 4透鏡群G4與第5透鏡群G5之間。 -21- 本紙張尺度適用t國囤家標準(CNS ) Λ4現格(210X297公釐) (諳先閱讀背而之注意事項'^填寫本頁) —17 4 8 6
7 B 五、 發明説明(1?) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 K下將數值實胞例之緒元之值且條阼對懕數值表示於 表1〜表8。 但,在各表,左端數字表示由第1物體側(線網S側)之 順序* 7係透鏡面之曲率半徑、d係透鏡面間隔、η除 365ηιη之折射率、do係從第1物體(線網R)至第1透鏡群G1之 最第1物體側(線網R側)之透鏡面(第1透鏡面)的距離、WD係 從第5透鏡群G5之最靠第2物制側(晶圓W脚)之透鏡面至第2 物體面(晶圓W面)的距難、/3係投影光學系統之投影倍率、 N A係投影光學糸統之第2物體側之開口數、0ΕΧ係第2物體 面(金靥板P面)之瞜光領域之半、L係物像間距離(第1物體 ,,[線網R]至第2體[晶圓]之距離)、fl像第1透鏡群S1中之部 f i 分群Glp之焦點距皤、f2係第2透鏡群G2中之部分群 G2n之 焦點距離、係第3透鏡群G3中之部分群G3P之焦點距離、 f4係第4透鏡群G4中之部分群G4n之焦點距離、f5p係第5透 鏡群G5中之部分群G5P之焦點距離。又,在各表’ i5g係第5 透鏡群中之正透鏡G 5 g肷焦點距離、R5g係第5透鏡群中之正 透鏡G5g之第2物體側(晶圓W側)之凹面曲率半徑、ϋηΐ偽第 5透鏡群G5中之面向第1物體側(線網R側)之第1凹面之曲 率半徑、Εη2係第5透鏡群G5中之面面第2物體側(晶圓W側) 之第凹面Ν2之曲率半徑、Rn3係第5透鏡群G5中之面向第 1 物體側較第凹面Ν 2位置於靠第2物體側之第3凹面Ν 3之曲率 半徑、RpH系第2透鏡群G2中之正透鏡之面向第2物體側(晶 圓W側)之面之曲率半徑。 -22- 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) Λ4规格(210X297公慶) ---------¢— C請先閱讀背面之注意事項寫本页) 訂 線 417168 [表1】 [第丨実施例] dO= 85.84542 0= 1/5 ΝΑ= 0. 615 WD= 19.00000 ΦΕΪ =15.6 L: =1200 Γ d n 1 +688. 21752 28. 00000 .1. 615481 2 -304.80855 3.00000 1. 000000 3 -260.00000 16.00000 1. 612652 4 +368. 80413 3. 35615 1.000000 5 +461.11900 29. 70000 1. 488581 6 -307.69507 0. 50000 1. 000000 7 +239.65577 29. 50000 1. 615481 8 -1376.88881 0.50000 1.000000 9 +228.88522 27.50000 1.615481 10 CO 1. 00000 1. 000000 11 CO 16.78114 1.612652 12 +111.01247 15,18344 1. 000000 13 +255. 68330 25.31033 1.612852 14 -454. 57241 0. 50000 1. 000000 (R p 1) -23 — 0.00000 14. 00000 1.615481 +118. 40199 22.46541 1. 000000 -226. 66098 12.50000 1. 483581 +194. 30010 41. 51491 1.000000 -156.23447 25. 10411 1. 615481 0. 00000 13.02696 1.000000 +34928.96053 32.95326 1. 615481 -178.06192 10.06888 1.000000 -131. 67222 37.89036 1.615431 -191.14704 0. 33328 1. 000000 ,-469.70082 24. 50000 1. 615481 -283.99212 0.50000 1.000000 f600.00000 27.20000 1. 615481 -765. 79841 1.00000 1. 000000 +355.41259 26. 70000 1.615481 -3341.54309 0.50000 1. 000000 +282.87225 27.76907 1.615481 +446. 45715 0.50000 1. 000000 +202. 70054 32.51731 1.615481 +200.68509 8.59820 1.000000 +343.84296 16.00000 1. 612652 +122. 88028 32.68047 1. 000000 -238. 49136 12. 00000 1.615481 +327. 42830 28.94742 1. 000000 -128. 99436 25, 18701 1,612652 -4297.59062 0. 74569 1. 000000 -3796. 93992 35. 83378 1. 488581 -182.01599 7. 50000 1.000000 〇〇 10. 00000 1. 000000 < 417 1 6 b 44 -1584. 12678 24.00000 1. 488581 45 -259.53358 0. 52257 1. 000000 46 +496. S6960 41.53348 1. 615481 47 -312. 30796 5.38895 1.000000 48 -259. 40216 22.50000 1. 612652 (Rn 1) 49 -546. 90264 0.50000 1.000000 50 +419.50404 22.80000 1, 612652 51 +260.51140 4 25113 1. 000000 (Rn 2) 52 +290. 00312 37.01218 1. 488581 53 -1172. 29742 0. 50000 1. 000000 54 +224.50188 28. 30000 1. 488581 55. +772. 01014 0. 50000 1. 000000 56 +160.97601 28. 20000 1. 488581 57 +316. 67288 0.50000 1. 000000 58 fl42.73331 42.24908 1. 488581 59 +1374. 88582 0. 80000 1.000000 60 +1400. 00000 21.59241 1. 612652 61 +80.50236 23. 59041 1.000000 (Rn 3) 62 +86.82687 65.03716 1.612652 63 +723. 24389 ⑽) 1. 000000 (R 5 g) [0 l ΰ 5 7] 【表2】 [第丨実施例之条件対応値] (1) f 1/L = 0.151 (2) -f 2/L = 0. 049 (3) f 3/L = 0.181 (4) -f 4/L -i 0.058 (5) f 5 p/L : =0. 125 (6) f 5 g/L : =0.129 -25- (7) R 5 g/L = 0.603 (8) -Rn 1/L = 0.216 (9) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -0.603 (L55) (r i+r 2)· / (r 1-r 2) = -L 820(L56) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -3. 067 (L57) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1. 232(L58) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1.273(G5g) (10) Rn 2/L = 0.217 (11) Rn 3/L - 0.067 ' (12) -Rp i/L = 0.379 【0 0 5 8 】 [表3】 [第2実施例] d0 = 89. 999999 β= 1/5 ΝΑ= 0. 615 WD= 18.500000 0 ΕΧ= 15. 6 L= 1206 r d η 1 +750.16279 31. 500000 1.615481 2 -220.00000 1. 000000 1. 000000 3 -218.06788 15.000000 1.612652 4 +325.97570 5.500000 1.000000 5 +491.19195 29. 000000 1. 488581 6 -347. 17405 0. 500000 1.000000 7 +209.56408 29.000000 1. 615481 8 -2963.85079 0.100000 1. 000000 9 +240. 78134 32, 643740 1. 612652 -26- 4171S8 10 +117. 46219 14.500000 1.000000 11 +244. 32765 34. 452790 1.615481 12 -460.28921 0. 500000 1.000000 (Rp 1) 13 〇〇 14. 000000 1.488581 14 +111.22015 22.500000 i. 000000 15 -345.82103 11.000000 1. 488581 16 +166.18604 40.292246 1. 000000 17 -139. 60880 19. 485492 1.615481 18 OQ 11.087291 1. 000000 19 -637. 60891 50. 004491 1.615481 20 -179. 90164 13. 955924 1. 000000 21 -133.90676 30. 456495 1.615481 11 -169.00248 0.211350 1.000000 23 -768.89404 24.230173 i. 615481 24 -367. 90453 0. 697066 1.000000 25 +589. 13165 28. 000000 1.615481 26 -665.24739 1.000000 1.000000 27 +294. 16305 27. 500000 1.615481 28 -8769. 55173 5.000000 1.000000 29 +253.91512 62.624436 1. 615481 30 +263. 05747 5. 500000 1.000000 31 +376. 43451 16.000000 1. 612652 32 +127.23648 31.365482 1.000000 33 -239. 44157 18.177545 1.615481 34 +377.83226 25.803559 1.000000 35 -128. 22564 24. 700973 1.612652 36 -4833. 52939 1. 375434 1. 000000 37 -4745.08654 38.000000 1. 488581 38 -185. 32072 4.501154 1.000000 -2 J~ 39 CO 10.000000 1.000000 (AS) 40 -1309.89752 22.500000 1. 438581 41 -258.91713 0.500000 1.000000 42 +494. 92084 36. 200000 1. 615481 43 -358.82852 7. 000000 1. 000000 44 -257.60152 22. 500000 1.612652 (Rn 1) 45 -419.07467 0.500000 1. 000000 46 +505.02516 22.500000 1.612652 47 +272.40529 4.500000 1.000000 (Rn 2) 48 +317.61979 35.000000 1. 488581 49 .-792. 89840 0.500000 L 000000 50 +218.71786 28. 962888 1. 488581 51 +662.60545 0. 500000 1. 000000 52 +161.06828 28. 860652 1. 488581 53 +349. 22176 0. 500000 1. 000000 54 +140. 52530 40. 500000 1. 488581 55 +1115. 07674 1.200000 1. 000000 56 +1121.39823 27. 157998 1. 612652 57 +78.14303 25. 119961 LOOOQOO (Rn 3) 58 +83. 95729 61. 8T11G5 1.615481. 59 +610.60171 (WD) 1.000000 (R 5 g) [0 0 5 9 ] [表4】 [第2実施例之条件対応値] (1) f 1/L - 0.153 (2) -f 2/L = 0.052 (3) f 3/L - 0.167 (4) -f 4/L = 0.059 (5) f 5 p/L = 0.123 —Z8~ 4Π168 (6) f 5 g/L = 0.126 (7) R 5 g/L = 0.506 (8) -Rn i/L = 0.214 (9) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -0. 428 (L55) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1. 985 (L56) (r 1+r 2) / (r 1-r 2) = -2.712(157) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1.288 (L58) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2) = -1.319(G5g) (10) Rn 2/L = 0.226 (11) Rn 3/L = 0.065 . (12) -Rp 1/L = 0.382 [ 0 0 6 0 ] [表5】 [第3実施例] d0= 89.000005 1/5 NA= 0.615 WD= 24.111595 0ΒΧ -15.6 L =1196.9 r d n 1 +1939.55307 20. 000000 1.612652 2 +281. 11390 10. 000000 1.000000 3 '+449.55943 35.270323 1.488581 4 -297. 94975 0. 750000 1.000000 5 +218. 50353 33. 087008 1.615481 6 - 14376.50699 0, 750000 1.000000 7 +244. 41294 29. 787159 1.615481 8 -1864. 37795 2.687228 1.000000 -2f- 9 〇〇 18. 000000 1.612652 10 +118. 07733 18.830325 1.000000 11 +279.00240 27. 626374 1.488581 12 -286. 15373 0.750000 1.000000 (Rp 1) 13 〇〇 15.000000 1. 615481 14 .+121.77422 29. 691393 1.000000 15 -167.29133 15. 000000 1.488581 16 +221.37517 28. 176548 1. 000000 17 -138.14211 22. 698390 1.615481 18 -694.99352 17.324597 1. 000000 19 -185. 35363 22. 000000 L 615481 20 -163. 34223 0.750000 l.OOOOGO 21 -345. 59298 23. 000000 1.615481 22 -212.88125 0. 750000 1.000000 23 +837.47091 26.807371 1.615481 24 -592. 54078 0.750000 1. 000000 25 +459.67736 31.017354 1.615481 26 -907.11817 .0.750000 1. 000000 27 +350. 77664 29. 961953 1.615481 28 -2426. 68761 34.608122 1. 000000 29 +306.42564 31. 336383 1.615481 30 +852.58779 9.336240 1.000000 31 +1574.58744 15.000000 1.612652 32 +153. 47868 32.327949 1.000000 33 -218.70659 15. 000000 1. 474577 34 +223. 84681 32.858042 1. 000000 35 -130.06518 34. 891416 1.612652 36 οσ 11.977743 1.000000 37 -875.00063 29.234902 1. 488581 417168 38 -197.32427 5.753854 L 000000 39 CO 5. 750000 1. 000000 (AS) 40 + 10711.4496 24. 726209 1. 438581 41 -362. 20G77 0.750000 1. 000000 42 +1119.16124 29.083421 1.615431 43 -446.03300 0. 750000 1. 000000 44 +406. 10622 36.912931 1.615481 45 -582.51787 10.094086 1. 000000 46 -343. 68000 25. 000000 1.612652 (Rn 1) 47 +405.99622 3.000000 1.000000 (Rn 2) 48. +419.51179 30.258707 1. 488581 49 -821.25172 0, 750000 1. 000000 50 +290. 40653 31. 872997 1.488581 51 +5465.29011 0.750000 1. 000000 52 +193.15728 31.609321 1. 488581 53 +704.11950 0. 750000 1.000000 54 +123.03501 37. 520745 1. 488581 5.5 +456.16128 6. 394985 1. 000000 56 +615.85448 24.530116 1.612652 57 +75. 77168 19. 182042 1.000000 (Rn 3) 58 481.95198 50.514912 1.615481 59 +798.82187 ⑽) 1.000000 (R 5 g) CO 0 :6 1] 【表6】 [第3実施例之条件対応値] (1) f 1/L = 0. 153 (2) -f 2/L = 0.051 (3) f 3/L = 0. 157 (4) -f 4/L = 0.054 -31- (5) f 5 p/L = 0.151 (6) f 5 g/L = 0. 121 (7) R 5 g/L = 0.667 (8) -Rb 1/L = 0.287 (9) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -0.323 (L55) (r 1 + r 2 ) / ( r 1 - r 2 ) = -1. 112 (L56) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1.756 (157) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) : -1.739 (L58) (r Hr 2) / (r 1-r 2) - -1. 228 (G5g) (10) Rn 2/L = 0.339 (11) Rn 3/L = 0.063 (12) -Rp 1/L = 0.239 【0 0 6 2 】 【表7】 [第4実施例] d0= 81.01932 β = 1/5 ΝΑ= 0.63 WD= 19.94252 0ΕΧ= 15.6 L= 1200 Γ d η 1 +572.19707 26. 40000 1. 488581 2 -517.13581 1.00000 1.000000 3 -576.11938 16.00000 1.612652 4 +319.72892 4. 82984 UOOOOO 5 +427.45496 30. 50000 1.488581 6 -348.64320 0.50000 1.000000 7 +211.54187 29. 80000 1.615481 -31- 4Π168 8 -1941. 96326 0.50G00 1.000000 9 +232. 39566 27.50000 1.615481 10 〇〇 1. 00000 1. 000000 11 oo 19.61130 1.612652 12 +108. 28670 16. 93605 1. 000000 13 +310. 86505 24.48600 1.612652 14 -413.92152 0.50000 1.000000 (Rp 1) 15 OO 14. 00000 1.612652 16 +115.98913 22.76912 1. 000000 17 -242.83640 12.50000 1.612652 18 +203.84520 42.27431 1. 000000 19 -158. 64281 25.55571 1. 488581 20 CO 13.26131 1. 000000 21 +5263. 42400 33. 62118 1.615481 22 -182. 40419 13.08969 1.000000 23 -132.22030 37.99541 1.615481 24 -198.71889 3.01709 1. 000000 25 -504.28103 24.50000 1.615481 26 -271.06241 0.50000 1.000000 27 +600. 00000 27.70000 1.615481 28 -728. 23893 0. 50000 1.000000 29 +419.04064 26.70000 1. 615481 30 -1643.86644 0.50000 1.000000 31 +295.50686 28.41946 1.615481 32 +520. 71040 0.50000 1. 000000 33 +214.07728 32.77156 1.615481 34 +255.89539 9.25471 1. 000000 35 +637. 66197 16.00000 1.612652 36 +132.66792 30.54047 1.000000 37 -26L 10317 12. 00000 1.615481 38 +278. 54372 30. 19397 1. 000000 39 -129.90565 25. 13618 1.612652 40 -6068. 89035 0.78038 1.000000 41 -4001.34463 35.75687 1.488581 42 -182. 47255 11.61871 1. 000000 43 〇〇 5.00000 1.000000 (AS) 44 -1901. 93658 24. 00000 1. 488581 45 -268.92809 0. 52?57 1.000000 46 +471. 20841 40.17914 1. 615481 47 -328.64737 5. 49342 1. 000000 48 -264. 96403 22.50000 1. 612652 (Rn 1) 49 -559.53762 0. 50000 1. 000000 50 +431.81643 22.80000 1.612652 51 +272. 80518 4.29657 1.000000 (Rn 2) 52 +318.81215 35.65154 1. 488581 53 -904. 77148 0. 50000 1.000000 54 +231.59428 28. 30000 1. 488581 55 +851.03579 0.50000 1.000000 56 +163.97092 28.20000 1.488581 57 +322.06954 0. 50000 1. 000000 58 +140. 43124 42.06842 1. 488581 59 +1885.70600 0. 80000 1. 000000 60 +1890. 45700 21.50825 1. 612652 61 +83.55412 23.58350 1.000000 (Rn 3) 62 +91. 71370 62. 13512 1.615481 63 +748.85306 (⑽ 1.000000 (R 5 g) [0 0 6 3 ] 〔表8】 -对- Γ 417166 [第4実施例之备件対応値] (1) f 1/L = 0.148 (2) -f 2/L = 0.050 (3) f 3/L = 0. 176 (4) -f 4/L = 0.055 (5) f 5 p/L = 0.125 (6) f 5 g/L = 0. 136 (7) R 5 g/L = 0.624 (8) -Rn 1/L = 0.221 ' (9) (r 1+r 2) / (r 1-r 2 ) = -0.479 (L55) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1.748 (L56) (r Ur 2) / (r i-r 2 ) = -3.074(L57) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2) = -1.169(L58) (r 1 + r 2) / (r 1-r 2 ) = -1.279(G5g) (10) Rn 2/L = 0.227 (11) Rn 3/L = 0.069 (12) -Rp 1/L = 0.345 A7 A7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 B7 ___ 五、發明説明(η ) 由K上之各實施洌之諸元之值,可瞭解第1〜第4啻施 例之投影光學系統一方面確保廣嘎光領域,另方面達成高開 口數。 又,圖4、圖7、圖1G及圖13各表示第1〜第4賁施例之 投影光學系統縱收差圖。而,圖5、圖8、圖11及圖Η各表 示第1〜第4實施例之投影光學系統子午方向(正切方向) 及球久方尚(徑向方间)之横收差圖。 在此各收差画,N A表示投影光學糸统之開口數、Y表示 像高,又*在非點收差圈中,虛線表示子午像面(正切像 面)•實線表示球久像面(徑向像面)。 比較各孜差圔,甩瞭解各實施例其諸收差補正均衝, 尤其在廣曝光領域全面其諸收差良好補正。 又,在姒上各實施例*提供K供给i線紫外光為光源 之事,但不必限制於此,可使用供給1 9 3 mm、2 4 8 · 8 mm光之 激光雷射等極紫外光*源或使用供給g線(435.8ιβιβ)或b媒( 404.7mni)光之水銀燈,更此以外之紫外領域之光的光源* 亦能應用。 〔發明效果〕 如以上,本發明可實現確保大開口數與廣曝光領域而 K兩側遠心,極良好補正諸收差,特別為失真之高性能投 影光學糸統。 而,如將本發明投影光學系统適用於投影暍光装置, 則可獲得將極微细之回路编路圖形成在晶圓上之廣曝光領 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)Λ4規格(2】〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項^%寫本買)
經濟部中央標準局舅工消費合作社印策 _ί· 417 166 Α7 ____Β7 五、發明説明(W ) 域的效果。 [圖面之簡簞說明] 〔圖1]係將本發明之投影光學糸統適用於一括曝光型投 影暘光裝置之事例概略表示的斜視圖。 〔圖2〕係將本發明之投影光學系統適用於掃瞄瞜光型投 影暍光裝置之事例概略表示的斜視圖。 〔圖3]係第1晋施例投影光學系統之透鏡構成圖。 〔圖4]偽第1實施例投影光學系统之縱收差画。 〔圖5]係第1實胞例投影光學系統之横收差圃。 〔圖6〕係第2實胞例投影光學系統之透鏡構成圖。 〔圖7 ]係第2簧筢例投影充學糸統之鑌牧差圖。 [圖8]係第2實施例投影光學系统之横收差圈。 〔圖9〕係第3寅施例投影光學系統之透鏡構成圖。 〔圖10〕係第3實腌洌投影光學系統之縱收差圖。 〔圖1 1〕係第3實施例投影光學系统之横收差圖。 〔圈1 2]係第4實施例投影光學系統之透鏡構成圖。 [圖13〕係第4實胞例投影光學系统之縱收差圖。 〔圖14〕係第4實腌例投影光學系统之横收差圃。 C符號說明] 61 :第i透鏡群 G2 :第2透鏡群 G 3 :第3透鏡群 64 :第4透鏡群 -37- 本纸浪尺度適用中國國家標準(CNS)Λ4规格(210x 297公楚) J----------^----r--:玎------^ (請先閱讀背面之:;i意事項寫本頁) { A7 B7 五、發明説明(ij) G5 :第5透鏡群 Glp :第1透鏡群中之部分群 G2n :第2透鏡群中之部分群 G3p :第3透鏡群中之部分群 (Πη :第4透鏡群中之部分群 G5p :第5透鏡群中之部分群 G5g :第5透鏡群中之正透鏡 ----------裝丨.----卜|-訂------線 (請先閱讀背面之:ίχ意事項^%寫本頁) ί 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(2丨Ο X 297公釐)

Claims (1)

  1. "417 16 8 A8 B8 (:8 D8 ^|年%八修正 -Λ- :iH允 六、申請專利範圍 1 · 一種投影光學系统,其特激在於: (清先閱讀背"之注"事項再^寫本頁) 在將第1物體之像彤成於第2物體上之投影光學臬統I 由前逑第1物體側順序|具備 具有正折射力,含3片正透鏡之第i透鏡群, 具有負折射力,含3H負逋鏡與1片正透鏡之第2透鏡群 t 具有正折射力,含3片正透鏡與i片負透鏡之第3透鏡群 具有負折射力,含3n負透鏡之第4透鏡群, 具有正折射力,含正透鏡與丨Η負透鏡之第3透鑌群 j 萠述第1透鏡群具有至少含2片正透鏡之部分群Gip< 前述第2透鏡群具有至少含3片正透鏡之部分群G2n, 前述第3透鏡群具有至少含3H正透鏡之部分群G3p> 前述第4透鏡群具有至少含3片正透鏡之部分群(HP, 前述第5透鏡群具有至少含正透鏡之部分詳G5p, 與配置於最靠第2物體剧面岗第2锪體厠凹面之正透鏡G5gi 具滿足K下條件: 0.08 < mi < 0 . .25 (D 0.03 < -tin < 0 . .i (2) 0.08 < f 3/L < Q . .3 (3) 0 . 0 3 ί ί< -f 4 / L < 0 , 11 ⑷ ΰ . 1 〈 f 5p/L < 0 . .25 ⑸ —i - 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS .丨Λ4蜆格(公蠔) 六 铨濟部智总时4兑只工;(1費合作社印製 AS B8 C8 D8 、申請專利範圍 0.07 < ;f5g/L < 0.21 ⑹ 0.25 < C R5g/L < 0.83 (7) 但. L :前述第1物體至前述第2锪題之距雛* f 1 :前述第i透鏡群中之部分群G 1 p焦點距離, :前述第2透鏡群中之部分群G2n焦點鉅離, f3 :前述第3透鏡群中之部分群G3p焦點距離* f4 :前逑第4透鏡群中之部分群G·! η焦點距離, f 5ρ :前述第5透鏡群中之部分群G5p焦點距離, f5g:前述第5透鏡群中之正透鏡G5g焦點距雛, R5g:前述第5透鏡群中之正透鏡G 5 g之第2樹體側凹面的曲 率半徑。 2,如串_專利範圍第1項之投影光學系統,其 中,前逑第5透鏡群具有面向第l·物體側之第1凹面ΪΪ1, 設該凹面;Π之齒率半徑為R n i時,滿足Μ下之條件: 0.125 < - R η 1 / L <0.33 (8) 。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項之投影光學系統 ,其中,前述第5透鏡群含滿足Κ下條件之至少4片之 正透鏡: -10 < (r a + r 2} / ( r 1 - r 2) < -0.1 ⑼ 但, r 1 :至少4 H之正透鏡之第1物體側之面的曲革半徑· r 2 :至少4片之£透鏡之第2物體側之面的曲革半徑。 本紙張尺度適用t國國家檫隼(CNS ) A4現格(illOX 2W公等) (請先Γ4讀背沿二注忿事項再填荇本頁) .丨 今 訂 417 16 3 b8 (_ ο D8 六、申請專利範圍 4 ·如申請專利範園第1項或第2項之投影光學系统, 其中,前述第5透鏡群具有面向第2物體側之第2凹面Ν2,與 較Μ 2凹面S 2位置於靠第2物體副面囱第2物體側之第3凹面 ^,滿足Κ下條件: ϋ . 1 6 < g η 2/L < 0.38 ί 10) 0.0 δ 5 < R η 3/L < Ο .i 1 ill) 钽, R η 2 :第2 M面N 2之曲率半徑, Rn3 :第3B面N3之曲革半徑。 5 >如电請專利範園第1項或第2項之投影光學系統< 其中,前述第2透鏡群至少含1汽正透鏡,設該正透鑌之面 商第2物體之_面的曲革半徑為S p 1時,滿足>乂下條伴: 0.23 < Rpl/L , 0.5 (12)。 6 ·如申請專利範圍第1項或第2項之投影光學糸統, 其中,前述第2透鏡群中之正透鏡,較前述苐2透鏡群中之 部分群G 2 η配置於靠第1物體厠。 咤、-""^財4-":u (工"贷合作社印製 7 ,韶串請專利範圍第1項或第2項之投影允學系統, 其中,前述第3透鏡群中之負透鏡,較前述第3透鏡群中之 部分群G3p配置於靠第1物體側。 3 ·如申讀專利範圍第1項或第2項之投影光學条統, 其中,前述第4透鏡群中之最靠第1物賵側配置面向第1物側 凹面之透鏡。 9 ·如申請專利範圍第[項或第2項之投影光學系統, 木紙張K度遢用中國國家標窣(CNS ) Μ現格(210x2V7公螓) 經濟部智.^財4^:^工^骨合作社印製 - —> -, Λ 8 、: Γ3 Β8 C8 D8六、申請專利範圍其中I前述Μ 2透鏡群之最靠第丨體側*配置正透鏡,於前 述第2透鏡群之最靠第2體側,配置部分群G2n 〇 1 0 ·如申請專利範圍第1項或第2項之投影光學条,统 ,其中*前述第5透鏡群中之第1及第2之凹面ΪΠ,Ϊ; 2位置 於前述第5透鏡群中之部分群G 5 p中。1 1 *如申請專利範園第1項或第2項之投影先學系跃,其中,前述第i透鏡群中之部分群Glp ,僅以正透鏡構成 第 或 項 1i 第 圍 範 利 專 0 串 ο 5 2 群 分 部 之 中 群 鏡 透 2 第 述 前 中 其 第 圍 範 利 專 請 申第 如述 , 前 3 , 其 第 CTJ 或群 [31分 ί部 之 中 群 鏡 透 第 圍 範 利 專 讅 申第 如述 , 前 4 . .~^ 中 其 統 系 统成 系構 學鏡 光透 影負 投以 之僅 項’ 统 系 學 光 影 投 之 項 成 構 鏡 透 正 M 僅 統成 ¾構 學鏡 光透 影負 投以 之 僅 項 * 2 Ω 第G4 或群 Lis分 t部 之 中 群 鏡 透 置 装 光 曝 影 投 種第 1 述 . 前 5 明 1 照 商 具 於 在 徵 特 其 统 系 學 光 明 照 之 體 物 前 專 第 述 第 圍 is 利 學 光 影 投 之 述 所 項 1 件^ β中 §項 持4¾ 1-M1 第 至 之 項 體ί 物 件 : 部有 持含 支-法 方 造 製 置 第装 述種 前 一 持 -支 第 之 體 物 6 (讀先閱请背«之;ΐ:δ事項再填..¾本頁)
    本紙伕及度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公缝> 8 8 8 8 ABCD 417168 六、申請專利範圍 將描印所定之回路圖樣之面罩用紫外域之暘光光照明 之工程; 使用如申請專利範圍第1項至14項中任一項所述之投影 光學系統,將前述被照明之面罩之像形成於基板上之工程 Λ 1 7 ·如申請專利範圍第5項之投影光學系統*其中 ,前述第2透鑲群中之正透鏡,較前述第2透鏡群中之部分 群G2n配置於靠第1物體側。 1 8 *如Φ請專利範園第5項之投影光學系統,其中 ,前述第2透鏡群之最靠第1體側,配置正透鏡,於前述第2 透鏡群之最靠第2體側,配置部分群G2n 。 1 9 ·如申諸專利範圔第4項之投影光學糸統,其中 ,前述第5透鏡群中之第1及第2之凹面Nl,N2位置於前述 第5透鏡群中之部分群G 5 p中。 2 0 ·如电諝專利範圍第5項之投影光學系統,其中 ,前述M2透鏡群中之部分群G2n ,僅以負透鏡楢成。 2 i ·如申請專利範圍第7項之投影光學杗统,其中 ,前逑第3透鏡群中之部分群G3p*僅K正透鏡構成。 22 ·如串請專利範圃第8項之投影光學系統•其中 前述第4透鏡群中之部分群“η ,僅以負透親構成。 本紙乐疋度適用中國國家櫺準(CNS ) A4規格(210Χ2<^公釐) _1. Η1 1 i 丨-—I. I ^ H I /1«.' (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JP3925576B2 (ja) * 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
JPH11214293A (ja) * 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
DE19855157A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
EP1344112A2 (de) * 2000-12-22 2003-09-17 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv
DE10064685A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
DE10221386A1 (de) * 2002-05-14 2003-11-27 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsbelichtungssystem
WO2004040350A1 (ja) * 2002-10-15 2004-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. ズームレンズとそれを用いた映像拡大投写システム、ビデオプロジェクター、リアプロジェクター、及びマルチビジョンシステム
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US7466489B2 (en) * 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
CN100483174C (zh) 2004-05-17 2009-04-29 卡尔蔡司Smt股份公司 具有中间图像的反射折射投影物镜
US7385793B1 (en) * 2006-01-24 2008-06-10 Cypress Semiconductor Corporation Cascode active shunt gate oxide project during electrostatic discharge event
US7791851B1 (en) 2006-01-24 2010-09-07 Cypress Semiconductor Corporation Cascode combination of low and high voltage transistors for electrostatic discharge circuit
DE102007043896A1 (de) 2007-09-14 2009-04-02 Carl Zeiss Smt Ag Mikrooptik zur Messung der Position eines Luftbildes
RU2433433C1 (ru) * 2010-04-26 2011-11-10 Закрытое Акционерное Общество "Импульс" Проекционный объектив
JP2011237588A (ja) * 2010-05-10 2011-11-24 Sony Corp ズームレンズ及び撮像装置
JP2011252962A (ja) * 2010-05-31 2011-12-15 Olympus Imaging Corp 結像光学系及びそれを備えた撮像装置
KR101407076B1 (ko) * 2012-05-24 2014-06-13 주식회사 비엘시스템 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치
DE102022201001A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504961A (en) * 1968-04-01 1970-04-07 Perkin Elmer Corp Modified double gauss objective
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
JPS5336326B2 (zh) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS581763B2 (ja) * 1978-06-19 1983-01-12 旭光学工業株式会社 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US4918583A (en) * 1988-04-25 1990-04-17 Nikon Corporation Illuminating optical device
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
US5420417A (en) * 1991-10-08 1995-05-30 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with light distribution adjustment
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
US5335044A (en) * 1992-02-26 1994-08-02 Nikon Corporation Projection type exposure apparatus and method of exposure
JPH06313845A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
JP3724517B2 (ja) * 1995-01-18 2005-12-07 株式会社ニコン 露光装置
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JPH08179204A (ja) * 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3454390B2 (ja) * 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3819048B2 (ja) * 1995-03-15 2006-09-06 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法
JP3624973B2 (ja) * 1995-10-12 2005-03-02 株式会社ニコン 投影光学系
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法

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JPH10161021A (ja) 1998-06-19
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