TW389833B - Illumination for inspecting surfaces of articles - Google Patents

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TW389833B TW088113453A TW88113453A TW389833B TW 389833 B TW389833 B TW 389833B TW 088113453 A TW088113453 A TW 088113453A TW 88113453 A TW88113453 A TW 88113453A TW 389833 B TW389833 B TW 389833B
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Avraham Adler
Moshe Ben-Shlomo
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Orbotech Ltd
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    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95684Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements

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Description

經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明說明(1 ) 發明範園 本發明係關於物體表面之目視檢查,及更特別係關於供 自動光學檢視球式柵極排列基板,導線構架及印刷電路板 之照明器。 發明背景 自動光學檢視時,用於照明物禮上大致平坦之圖樣表 面,如印刷電路板,球式柵極排列基板(BGAs ),標線, 半導體及其他物體上之電路的裝置與方法,係眾所周知之 技藝。 自動光學檢視大致平坦之圖樣表面,如印刷電路板,球 式拇極排列基板之電路時’於該物體在一如CCD或TDI脖 相機之感應器下方傳遞之際,該表面係藉寬光讀之強照度 照明。傳統上,該感應器係獲得經掃瞄該.表面所得之灰色 電平圖象。在一物體表面上現顯之不同材料係各具有不同 之反射特性及不同強度之反射照度。例如,界定導體之 銅,鍍於導體上之各種金屬,及基板本身係各具有不同之 反射特性。圖象之反射強度係受感應及自動處理與分析, 以決定該表面上出現之圖樣缺點。 受檢電路之表面,雖呈大致平坦,但通常係呈現地貌狀 之突出’此係導體橫截面構型以及該表面微結構所造成之 結果。通常,極強照度之照射於一受檢物體表面時,係採 一立體角方式,以減少地貌狀突出之負面影嚮。 相信下述專利係可代表用於檢視,如e 7叩刷電路板 (PCBs),球式柵極排列基板(BGAs),標線,车道础μ 夺體等, -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
•^裝--------訂•丨丨I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7_______ 五、發明說明(2 ) 大致平坦圖樣物體表面之最新高強照度技藝: 頒予Karasaki之美國編號4,421,410係説明_照明器,該 照明器包括一半片式反光鏡配置於一印刷線路板上方。集 中之光線係自該鏡反射及以垂直於該板表面之角度引導至 該線路板及自光纖發射之擴散光係同時以較大入射角導引 至該表面上。该表面上一線之影像係經該鏡傳至一感應 器。 頒予Chadwick之美國編號4,877,326專利係説明一高強照 度之照明器’該照明器具有擬郎伯照度聚焦於受檢物體表 面之一區域中。該照明器係包括一半片式反光鏡,第一, 第二及第三橢圓形柱體反光器及第―,第二及第三照明 器,所有反光器及照明器皆具有相互平行之延長軸線。其 中二反光器及二光源係彼此分開及以一大入射角之聚光照 射於該表面之上。該半片式反光鏡,第三反光器及第.三照 明器之配置係可反射沿一正交該表面轴線聚焦之光線,以 填充第一及第二反光器間之空隙。每一盞照明燈係皆位於 一反光器之一焦點處,及所照明區域係位於該反光器之第 二焦點處。第四與第五平面反光器係配置在第一,第二及 第三反光器之縱向端,及一感應器係藉通過半片式反光鏡 所反射之感應光線使該照明區域成像。
Orbotech公司之以色列編號81450專利係説明一結構相似 美國编號4,8 77,3 2 6專利之高強照度照明器,但其係用光纖 供應光源,及具有相當數量之孔,該孔係大致小於美國编 號4,877,326專利中所説明之孔。 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) I.---..--------^--------^---------- (請先0讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 ____ 五、發明說明(3 ) 頒予Katzir之美國编號5,058,982專利係説明一包括一光 束分離正方體之高強照度照明器,及第一,第二,及第三 糖圓柱狀反光器,其中具有二反光器係彼此分開。經光纖 接收之光線係供應至每一反光器之一焦點處。該反光器係 定向,這樣,該各反光器之第二焦點係照明受檢表面之一 區域。一第三照明器及一聚光鏡頭之配置係引導光線通過 該光束分離器及沿一與受檢表面正交之軸線進入該表面。 一感應器係定向,以接收自該表面經該光束分離正方體所· 反射之光線》 頒予Katzir之美國編號5,153,668專利係説明一用以照明 物體表面上之一受檢區域的照明器,其中,照明係大致以 圓形對稱方式罩於一環繞與該表面.正交之光軸線所成之立 體角。一感應器係配置得可通過照明器間一空隙使該表面 成像。 頒予Koso之美國编號4,801,810專利係説明一橢圓形反光 器,該反光器係包括一約半橢圓柱體,其係用以照明印刷 電路板表面。該橢圓形柱體之軸線係傾斜於該印刷電路板_ 表面a 一照明燈係配置於該橢圓形反光器_聚焦之下方, 同時,該受照明區域係位於橢圓之另一聚焦處,一成像系 統係通過在反光器中形成之一孔使該受照區域成像。
Orbotech公司製造之lnspire™自動光學系统所採用及p c T 之PCT/IL98/00285專利申請書(未頒行)中說明之照明器係 一高強照度照明器’該照明器係包括一第一光源,以連續 之寬角度向一受檢物體表面發射光線及具有—阻擋元件, -6 - 本紙張尽度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -Λ裝------—丨訂--- 線「 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _______B7 _ 五、發明說明(4 ) 阻擋一部份照明連續角,使之形成二照明部份。一第二光 源係用以供應照明至受阻擔元件阻擒之區域。聚光裝置係 使照明集中於該物體之上。該照明係具有與法線所成之第 一角,及一影像感應器係以與法線所成之第二角處使物體 受照明區域成像。 沿一與受檢表面正交之假想軸線,使受檢表面成像之系 統通常係採用至少三組獨立之照明源β在採用少於三組照 明源之提供一立體角照明之系綠中,該表面係沿一與該表 面不成正交之轴線成像。 此外’沿一與受照表面正交之抽線照明與成像一受檢表 面的系統,其經光束分離裝置所獲之影像係會有不需要之 錯亂影像。 發明概述 本發明係關於提供圖樣物體自動光學檢視用之高強度照 明’其中二光源係共同提供一立體角之照明,及該角之立 體均勻性係可調整。 本發明一最佳實例之概念係使用二可調整之獨立照明源 提供一立體角照明,以照明一物體表面上一區域,其中至 少一照明源之轴線係大致正交於該表面。該受照明區.域最 好係藉一感應器成像,該感應器之成像軸線係也大致正交 於該表面。 根據本發明一最佳實例之另一概念,一受檢物體之一區 域係用一第一照明器照明,該第一照明器包括一反光表 面,在該表面與該受檢區域重疊之處具有孔。該區域之補 本紙張尺度適用中國囷家標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) I.-------------C"' 裝--------1T---------線「'Γ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_ 五、發明說明(5 ) 充照明係經該孔提供及一感應器藉通過該孔反射之感應光 線使該受檢區域成像。 根據本發明一最佳實例之另一概念係提供一成像系統, 在該系統中,以一立體角照明之物體表面係照明於一線, 及其中一感應器係以避免自該區域通過一光束分離器或一 至感應器途中之部份反光鏡傳遞反射光線的方式使該受照 明區域成像。 一部份反射之平面鏡最好係以一正交該表面之假想軸線 定向。照明係藉該部份反射平面鏡之傳遞而沿正交該表面 之轴線提供照明。自該表面反射之光線係藉該部份反射平 面鏡反射至該感應器供該表面成像之用。 根據本發明一最佳實例之另一概念係提供一照明器,以 於自動光學檢視時,照明一物體表面上之線性區域。該照 明器係以多處照明源提供一廣角之照明。至少一照明源係 提供沿一大致正交該表面之轴線之照明。自該照明源之照 明係通過一光學元件,該光學元件可沿象散轴線引入象散 至該照明中,該象散係大致與該線性區域共線,因而,減 低沿受照線性區域之照度。 本發明一最佳實例之另一概念係提供以廣角照明一基板 表面上一線性區域之照明器。照明係藉複數光源提供,其 中一第一照明源係提供沿一大致正交於一物體表面軸線之 照明。該第一照明源提供之照明係通過一光學總成,該總 成係可引導象散進入該第一照明源所提供照明之内。該象 散係朝向一大致與受照明之線性區域共線之軸線。最好係 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公爱) -L----------^ I------til------1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 五、發明說明(6 ) 具有-影像感應器以使至少部份沿一正交該物體表面轴線 之該受照明線性區域成像。 ,根據本發明一最佳實例之另—概念係提供一大致擬遠心 成像系統,以於自動光學檢視時,使—物體表面上—區域 成像。該系統係包括可同時操作之複數鏡頭及感應器,以 獲得相互重*區域之複數影像。任何成像軸線與該表面法 線所成之最大角度最好係小於5。,但以小於3 7。爲最佳。 至少一感應器之成像路徑最好係藉一折射鏡折射,該折射 鏡係位在鄰近其他感應器成像路徑腰部之區域中。 根據本發明之另一概念係提供—用以自動檢視圖樣物體 之檢视系統’第一光譜範圍之照明係照明於物體一表面之 上及不同於第一範圍之第二光譜範圍照明係照明於與該物 體相對之表面上。感應器係用以感應光在第一光譜範圍内 反射之強度,及感應光灰第二光譜範園内傳遞之強度。物 體表面上之圖樣係根據第一光譜範圍反射光之強度檢視。 物體中想要之圖樣與不想要之孔的顯現係根據光在第二光 譜範圍内傳遞之強度檢視。 因此,根據本發明一最佳實例提供之一照明系統係至少 包括一反光器,該反光器係以與一物體表面上一位置成對 角方式配置,及包括第一與第二光源;該第一與該第二光 源係各提供一光輸出,自該第一與該第二光源之光輸出係 皆在該對角内照向一物體表面上之該位置,至少該光輸出 之一係藉該反光器反射。 根據本發明另一更進一步之最佳實例,該反光器係具有 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -".裝-------丨丨訂------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____________B7________ 五、發明說明(7 ) —光傳遞區域,以使第一組之該第一與該第二光源的一光 輸出自該處通過。光傳遞區域最好係一在反光器中形成之 孔。照明系統最好係也包括一光學元件配置在第一組之該 第一與該第二光源與該孔之間,以引導第一组之該第一與 該第二光源的光輸出通過該孔。因此,該光學元件係至少 包括一反射面。 另一種照明系統係也可包括沿一伸延於該光學元件與一 物體表面上一位置間光學路徑配置之光學總成,以供引導 自物體表面上一位置反射之光線至一光感應器。光學總成 最好係可傳遞第一組之該第一與該第二光源的光輸出通過 該孔至物體表面上之一位置及反射自物體表面上該位置反 射之光。 另一種照明系統係也可包括一反射表面配置於第二組之 該第一與該第二光源與該反光器之間,以引導第二組之該 第一與該第二光源的光輸出至該反光器。 因此,根據本發明一最佳實例,該至少之一反光器係一 橢圓形反光器及第二组之該第一與該第二光源及物體表面 上之該位置係各位於或接近該橢圓形反光器之一聚焦處。 該至少之一反光器最好係包括二分離之反光器,該二反光 器共同界定爲一橢圓之一部份。分離之反光器最好係藉一 孔分離。 另一種方式係該第一與該第二光源各爲獨立可控制之光 源。 根據本發明一最佳實例係提供一照明系統,該照明系統 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Κ---------- - 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 A7 B7_ 五、發明說明(8 ) 包括一圓柱形反光器沿一第一縱軸線伸延及具有一沿縱軸 線伸延之軸向孔形成於其中,一第一長形光源係沿第二縱 軸線伸延’該第二縱軸線係大致平行於該第—縱軸線及其 配置係供照明該圓柱形反光器,這樣,第一長形光源之光 線係引導至一沿第三縱軸線之平面,該第三縱軸線係沿大 致平行於第一及第二縱軸線;一第二長形光源係沿第四縱 軸線伸延,該第四縱軸線係大致平行於該第一,第二及第 三縱軸線及其係相對該圓柱形反光器之軸向孔配置,這 樣,第二長形光源之光線係經該軸向孔引導至該大致沿第 三縱軸線之平面,及一光學元件係沿一光路徑配置於該第 二長形光源與該平面之間及係可使第二長形光源之光線通 過至該平面及自該平面反射光線至一光學感應器。 更進一步根據本發明一最佳實例係該第一長形光源包括 一長形發光元件及一長形反光器沿一第五縱軸線伸延,該 第五縱轴線係大致平行於第一,第二,第三及第四縱轴線 及該長形反光器係可反射該長形發光元件發射之光至該圓 柱形反光器。 根據本發明另一最佳實例係也提供一照明系統,該系統 包括至少二長形光源沿至少二光源之縱向光源軸線伸延, 每一該至少二長形光源之配置係可照明一大致沿一縱向照 明軸線之平面,該軸線係大致平行於該至少二光源縱向轴 線,及一光學元件係沿一光路徑配置於至少該至少二長形 光源之一及具有象散,該光學元件係可致使至少該至少二 長形光源之一所發射之光沿該縱向照明軸線減少。 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) L------------------t--------- (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) A7 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 —----B7_____ 五、發明說明(9 ) 根據本發明另一最佳實例係也提供一照明系統,該系统 包括一供照明物體用之光源,及複數鏡頭;該複數鏡頭係 使自該物體反射至複數光線接收器之光源光線成像,因複 數鏡頭$大小不一及複數光線接收器之間隔不等,故複數 鏡頭不可排列於一單一之平面中,折射光學裝置係沿複數 鏡頭與複數光線接收器間之光線路徑配置,儘管其配置係 使複數鏡頭之一與對應複數光線接收器之一間的間隔不 同’但複數鏡頭之一與對應複數光線接收器之一間之光線 路徑則係大致相同。 更進一步根據本發明之一實例係提供焦距相同之複數鏡 頭。 複數鏡頭係可使物體上之部份重疊區域成像。 更進一步之根據本發明一實例係提供一檢視裝置,該裝 置包括第一及第二光源,供照明一具有反射特性之基板 用,該第一及第二光源係提供不同波長光譜之光輸出,及 至少一光接收器接收自該基板所反射該第一光源之光線及 接收經該基板傳遞之第二光源光線。 更進一步根據本發明之一實例係提供一成像裝置,該装 置包括一照明器’供照明物體表面上一區域用。複數感應 器係相連接於複數擬遠心鏡頭,及感應器與鏡頭係配置得 可使受照明區域之重疊部份同時成像。最好該部份之每一 部份的成像主光線偏離法線之角度係小於± 1 〇 〇,但以小· 於或等於3 . 5 °爲最佳。 圖式簡單説明 -12- ------------------------'___ 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公爱) i I.--------「裝--------訂---------4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 10 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( 本發明係可由連同圖式之下述詳細説明完全明瞭,圖式 係包括: 川系説明根據本發明-最佳實例構造與操作之一 及成像系統簡圖: 、 圖2係'圖i所示照明及成像系統之侧視簡圖; 圖3二説明根據本發明一最佳實例’供複數鏡頭使受,昭 明區域相互重叠部份同時成像之—擬遠心成像、 圖4係圖3所示擬遠心成像系統之光線㈣簡_ 圖圖5及係圖3及圖1所示擬遠心成像系統之最佳實例側 圖“系說明使用根據本發明—最佳實例之 照明,使具有空隙的圖樣物體成像之一成像系統簡圖' 最佳實例詳細説明 參閲以簡圖説明根據本發明_最佳實例構造與 照明及成像系統!0之圖i ’及以側視簡圖說明圖]所亍 明及成像系統之圖2知,照明及成像系統1〇通常係由— 動光學檢視系統構成,該系統包括1硬體運作 一 像次系統,最好係包括如以色列編號mo”專利申笋 説明之次系統,及一如在本發明中 n ^ ^ ... 甲説明又以色列專利申 書所述,以軟體運作之第二成像處理次系統 r 之照明及成像系統係可用以檢視物體平坦表 上如電路(圖樣。該電路係包括:例如印刷電路板, 概極排列基板,多晶片模组及半導體等。其他可 示系統檢視之物體係包括如醫療 、圖 用 < 柊線,導線架構 13- 木紙張尺度適用Ί»國ϋ家標準(CNS)A4規格?21Q χ挪公爱 視 圍 照 成書請 面 球式 所 Γ — — — — — — — I I 1^) i — — — — — — ·1111111 ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 A7 _____B7 _ 五、發明說明(11 ) 及精密刻蚀之金屬基板。 照明及成像系統1 〇最好係照明受檢圖樣物體表面1 2之 一部伤。一第~反光器14,最妤具有一段橢圓形截面之柱 體,該反光器係面向表面12且與表面上之一部位13形成 一約±24。之對角,部位η係位在或接近該第—反光器14 之一第一聚焦處。反光器14係包括配置於中央之光傳遞區 域,該區域最好係與部位i 3重疊之一孔i 6。 一第一照明器! 8係位在或接近該第一反光器1 4之一第 二聚焦處及其配置係可直接照明於反光器丨4之上進而自該 處照明於表面1 2之部位1 3上,並界定表面1 2之一線性照 明部份20。第一照明器18最好係包括一束8〇微米之光 纖’該光纖可自德國著名之生產i mm乘100 mm光纖發射 器Schott公司獲得。第一照明器1 8最好係一鹵素投射燈。 可拆射之第一照明器i 8所發射照明之一平面拆射鏡2 2 最好係配置在反光器1 6與第一照明器1 8之間,如圖1所 示0 一第二反光器2·4最好係一由柱體段形成且具有大致呈橢 圓形之截面及配置於孔16之上方,這樣,第二反光器24 之一第一聚焦即位於或接近線性照明部份2 0之處。 強度調整可與第一照明器1 8之強度調整分開之一第二照 明器26係配置在第二反光器24之一第二聚焦處,及直接 照明於第二反光器2 4之上以及自第二反光器2 4通過孔1 6 照明於線性照明部份2 0之上。第二反光器2 4及第二照明 器2 6之構型與配置最好係使第二照明器2 6之照明可稍漫 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公釐〉 — — — — —— —--11^ i I I I I I I I I I I I I T (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 〜___B7___ _ 五、發明說明(12 ) 過孔16。結果係一部份由照明器18提供及部份由照明器 2 6提供之立體照明角充填於整個角α範園之内。 至少配置一感應器,但最好配置三成像感應器3〇,以經 孔16使線性照明部份20成像。最好係配置下述參照圖4至 圖6詳細説明之擬遠心成像光學裝置32。感應器係CCD或 T DI感應器’及最好係KLI 2103之紅’綠及藍色感應器, 以供獲得多色影像及輸出線性照明部份2〇紅,綠及藍色光 譜之反射強度。圖樣表面12最好係置於—浮台(未示出)之 上’於感應器3 0成像線性照明部份2 〇時,該浮台係可依 一掃瞄方向34在反光器14下方傳輸。 一光學元件4 0,最好係一高品質之平坦光傳遞平面平行 板,且與第二反光器24等長’該元件係配置於孔16與第 一反光器2 4之間’界定一光路徑’部份之該路徑係沿與表 面1 2正交之轴線4 2伸延,感應器3 0即以其使線性照明區 域20成像。光學元件40最好係配置得與表面12之平面成 45。角,及具有部份銀質表面44在其下方。最好光學元件 4 0係傳遞接收自第二照明器2 6經反光器2 4照射於線性照 明區域2 0之光線,並引導自線性照明區域2 〇反射之光線 至感應器3 0 〇 自前述可立即瞭解,本發明係使用二可分開調整之光源 提供一立體角強度照明至一工作件之一線性區域。第一照 明器1 8及第二照明器2 6係各提供沿軸線4 2之照明。第二 照明器2 6提供之立體角照明係窄於第一照明器18所提供 者。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公《 ) <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁》
-「裝-----I--訂---I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局貝工消f合作社印製 A7 B7 五、發明說明(13) 本發明之一特殊特徵係在光學元件4 〇具有二不同之功 能。其主要功能係以大致無象散之方式反射自線性照明區 域2 0接收之光線至感應器3 〇❹次要功能係引導象散經由 反光器2 4傳遞之光線在線性照明區域2 〇之上。象散係垂 直於線性照明區域2 0之縱軸線及自反光器2 4產生所需之 照明減弱。所需照明減弱之範圍係藉適當之方向與光學元 件40相對反光器24及表面12之厚度控制之。 參閲圖3知其係以簡圖説明根據本發明一最佳實例之以 複數鏡頭使相互重疊區域同時成像之一擬遠心成像系統。 用以自動光學檢視具有不平整表面形狀之表面的系統 中,即如印刷電路板’球式栅極排列基板,導線架構,標 線,及其他刻蝕之表面,通常係欲採用一具有高精確度之 遠心成像系統。一遠心成像系統係—在無限大焦距處具有 一入射光瞳之光學系統。在遠心成像系統中,自欲成像表 面上每一點射出之主要光線係大致平行於該光學系統之光 軸線。因此,在表面上所有之點係以相同之透視方式檢 視。爲達高遠心度,在該光學系統中之一鏡頭前的元件通 常係至少與其視域一樣大。 在傳統成像系統中,高遠心度通常係藉採用非常大且昂 貴之鏡頭獲得,以使整個區域成像,或藉複數較小而價廉 之鏡頭獲得,其中每一較小鏡頭各自使一相當小之區域成 像及該複數之鏡頭共同使整個區域成像。 因如前述遠心鏡頭體積之故,在傳統複數遠心鏡頭構型 中’各個鏡頭係彼此相間隔且使非相互重疊之區域成像。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -l· I I I I----- -----^---— ίιι^ΛΪ 1 (靖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 A7 B7__ 五、發明說明(14) 因此,爲使一整個纟面成像係需多次掃猶該表面或使遠心 鏡頭成多排交錯排列。 4囷3所示 擬遠〜成像系統3 1 0係使用複數鏡頭同 時使相互重疊之區域成像,該複數鏡頭係根據本發明一最 佳實例配置。 擬遠心成像系統310係至少包括二,但以三或更多之紅 綠藍(RGB)感應器單元332 , 334及3 3 6,三者共同構成感 應器30(圖1)。在最佳實例中,三感應器332,334及336 t每一感應器係同時經個別鏡頭362,364及3 6 6沿表面丄2 (圖1)檢視對應之相互重叠檢視區域352,354,及.356。鏡 頭 362 ’ 364 及 3 6 6 最好係 Macrosimar 公司之 120mm,F5.6 鏡 頭。 感應器332 ’ 334及336及鏡頭362,364及366最好係配 置得可以重疊觀察區域352,354,及3 5 6之方式檢視線性 照明區域2 0 (圖1 )。可立即瞭解,僅落於線性照明區域 20之檢視區域352,354,及3 5 6係藉感應器332,334及 3 3 6成像。 爲解釋圖3所示結構’係應參考圖4,圖4係擬遠心成像 系統3 1 0之光學簡圖。圖中光線4 0 0係以對角点示之,以 求簡單清晰。在一如本發明之擬遠心成像系統中,自個別 檢視區域3 52 , 3 54,及356達感應器332, 334及336之主 光線與垂直於表面12 (圖1)之光軸線42 (圖丨)間之最大偏 差係應小於± 5 0,但以小於或等於± 3.7。爲最佳。 每一遠心鏡頭362,304及3 6 6最好係各由—安裝件固 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公笼) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -Λ裝--------訂·---- ή 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 £7_ _五、發明説明(15 ) 持,該安裝件係以號碼462,464及4 6 6代表之及各以與表 面1 2及感應器432,434及4 3 6相等之光距離配置。鏡頭 362 ’ 3 64及366以及其各別之安裝件通常係大於各個檢視 區域 352,354,及 356。 為提供同時觀察相互重疊檢視區域352, 354,及356及 容納鏡頭362,364及3 6 6,一第一平面折射鏡4 7 0最好係 置於遠心鏡頭364與檢視區域354之間。平面折射鏡470 之大小最好係足以提供一不使觀察區域354受阻礙之視 界,並被配置成位於分別進入鏡頭362及366之光線472 及476之間’使相互重疊檢視區域352,356之視界不被 干擾。 參閱圖5知’係以侧視囷說明一用以照明一平坦圖樣物 體5 1 2上一線性照明區域及使之成像的照明及成像系統 5 1 0。圖5所示實例係圖!至圖4所示之另一實例。照明及 成像系統5 1 0係擬遠心成像與照明合併使用,該照明系統 係相同於前述參照圖1及圖2所說明之系統。 照明及成像系統5 1 0最好係包括一第一反光器5 1 4,該 反光器最好係一具有大致呈橢圓平截面之圓柱段,且面向 一物體之表面512並與表面512上一位置5 13形成對角 泠’角泠以±24。為最佳,該位置係配置在或接近反光器 514之一第一聚焦處。第一反光器514最好係包括一中央 處理光線傳遞區域,該區域以成一孔516為最佳,且應重 疊於位置513之上。 一第一照明器518係配置在或接近第一反光器514之一 第二聚焦處及直接照明於第一反光器514之上,以及自該 -18- 本張纽遑用中國國家梯準(c叫从胁f2i〇x297^ ) ----r-----(裝丨------.IT------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁.) 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明說明(16) 處照明表面512上之位置513 ,進而界定表面512之線性 照明區域5 2 0 »第一照明器5〗8之構型與配置最好係相似 於前述參照圖1説明之照明器1 8之構型與配置。用以折射 第一照明器5 1 8照明之一平面折射鏡5 2 2最好係配置在第 一反光器5 1 4與第一照明器5 1 8之間。 一第二反光器524,其最好具有大致呈橢圓形截面之圓 柱段’係配置於孔516上方,這樣,第二反光器524之一 第一聚焦即落於或接近線性照明區域5 2 0之處。 強度調整與第一照明器518強度調整最好無關之一第二 照明器5 2 6係配置於反光器5 2 4之第二聚焦處及直接照明 於第二反光器5 24之上,以及自第二反光器524通過孔 5 1 6照明於線性照明區域5 2 0之上。第二反光器5 2 4及第 二照明器5 2 6之構型與配置最好係使第二照明器5 2 6之照 明梢微漫過孔5 1 6。 最好三成像感應器530(僅示出二具)係配置得可通過孔 5 1 6使線性照明區域5 2 0成像。感應器5 3 0係可用C C D或 TDI感應器,但以用可自Eastman Kodak獲得之KLI 2103 紅,綠及藍色感應器爲最佳。該等感應器係可獲得多色影 像及輸出在線性照明區域5 2 0中紅,綠及藍色光講之反射 強度。 一光學元件54 0,最好具有高光學平坦光傳遞平面平行 板,係配置於孔5 1 6與第二反光器5 2 4之間,進而界定一 光路徑,部份光路徑係沿正交於表面5 1 2之一軸線5 4 2伸 延,感應器5 3 0即藉此使線性照明區域5 2 0成像。光學元 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚〉 J-----------「裝--------訂---------.. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明(17) 件540最好係與表面512之平面成45。之角,及具有部份 鍍銀表面544在其下方。光學元件54〇最好係傳遞自第二 照明器5 2 6經反光器5 2 4之光至線性照明區域5 2 〇並引導 自線性照明區域5 20反射之光至感應器53〇。 每一感應器530取好係附隨一擬遠心鏡頭558。每一感 應器5 3 0係同時操作使線性照明區域5 2 〇之相互重疊部份 成像。 一第一平面折射鏡580係沿一第—光線路徑582配置, 該路徑係用虛線表示及自線性照明區域5 2 〇經一第一鏡頭 558至一第一感應器530 » —第二平面折射鏡584係配置 於用實線表示之一第二光線路徑5 8 6中,其係經一第二鏡 頭5 5 8伸延於線性照明區域52〇及—第二感應器53〇之 間。一第二平面折射鏡(未示於圖5中)係配置於一第三光 線路徑(未示於圖5中)中,該路徑係由光線路徑5 8 6遮 蔽,實際上,其係經一第三鏡頭5 5 8伸延於線性照明區域 5 2 0及一第三感應器5 3 〇之間,但第三感應器與第三鏡頭 皆未在圖5中示出。 應注意,第二平面折射鏡5 8 〇之大小最好係足以提供使 線性照明區域520第二部份不受阻擋之視界及其配置係適 於中間光線路徑進入第一及第三鏡頭5 5 8之間,這樣,即 不干擾其對線性照明區域52〇相互重疊部份之視界。 另應注意者係儘管第_,第二及第三鏡頭位置之不同, 但通過第一,第二及第三鏡頭5 5 8之各光線路徑係皆與其 相對之感應器53〇以相等光距配置,及每—鏡頭5 5 8係以 -20- 本紙張尺度剌中_家標準(CNSA規格(21〇 x 297公爱)' l·----------「裝---------訂---------1 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(18 ) 距線性照明區域5 2 0相等之光距配置。 參閱圖6知係以簡單透視圖説明—使用具有孔之圖樣物 體成像t成像系統6 1 0,該系統係使用根據本發明一最佳 實例之相互區別义光譜範圍照明。成像系統6 1 〇係以檢視 導線構架方式説明,因以此方式説明係特別適宜。應立即 暸解,成像系統6 1〇係不僅限於供檢視導線構架之用,而 且係了用於任何適宜圖樣表面之光學檢視,其特徵在係藉 通過孔及空隙檢視。 導線構架通常係包括複數導線612,該導線具有一寬度 及一高度及通常係藉適當之壓製,雕刻或蝕刻過程成形, 以及鍍一層金屬β 一標準導線構架係由銅構成,並在汞同 位置鍍銀或金。導線6 1 2通常係以光學檢視,以決定每一 導線確以間隔6 1 4彼此分離,及相鄰之一對導線係未藉一 橋6 1 6連接。 應立即瞭解,由於導線612之深度,及在相鄰導線間具 有非垂直之邊緣,該邊緣通常係壓製,雕刻或蝕刻質造過 程之結果,導線6 1 2間區域6 1 8之反光強度通常係低於導 線水平區域之反光強度。因此,自一橋6 1 6之幾乎接近零 的反光強度係鄰近導線間間隔6 1 4區域之特徵。 在本發明一最佳實例中,一照明器最好係能提供以光譜 範圍照明導線6 1 2之一第一侧面6 4 0,以利測定導線構架 上材料之組合。例如,一第一照明器6 4 2之構型最好係提 供大致爲紅及綠色之照明,以便利識別銅,金及銀區域。 一第二照明器,最好以不同於第一照明器6 4 2之光譜範 -21 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -Λ裝 -------訂--------- Α7Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(19) 園發光,係提供導線6 1 2 —第二側面6 4 4之照明。例如’ —第二照明器6 4 6之構型最好係提供大致呈藍色之照明, 或不可見光譜之照明至第第二侧面644。 —感應器650最好係可檢視第一側面640之一部份及可 分開操作以感應第一照明器6 4 2及第二照明器6 4 6之各自 光譜範圍發光強度。這樣,感應器6 5 0可感應第一照明器 6 4 2所提供及第一側面6 4 0所反射之光強度,以及分開感 應第二照明器6 4 6所提供之光強度及經位於導線6 1 2間之 孔所傳遞,如經間隔6 1 4所傳遞之光線。 應立即瞭解,因第一照明器642所提供反射光光譜係不 同於第二照明器6 4 6所提供之光譜,故係可同時提供一輸 出’以指示在導線6 1 2中或之間存在之空隙與孔,及檢視 導線是否有缺點,缺點可藉分析反射光測定之,例如,導 線6 1 2上塗層之缺點。 應立即瞭解,爲清晰計,本發明之不同特徵係可以不同 實例説明,但也可以合併成單一實例説明。反之,爲求簡 明,以單一實例説明之本發明的不同特徵係也可以分開或 任何適當組合之實例説明。本發明之範圍係不僅限於前述 之説明,也可包括精於此技藝者根據前述説明但不用以前 技藝所作之修改與改變。 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) (--------訂----- Α,

Claims (1)

  1. 物體表面上之一位置 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ι·—種照明系統,係包括: 至少一反光器,該反光器與 成對向角; 第一及第二光源, 該第一及第二光源係各提供一光輸出,自該第一及第 二光源之該光輸出係在該角度内射向一物體該表面上之 該位置上,至少一該光輸出係由該反光器反射。 2·根據申請專利範圍第1項之照明系統,其中該反光器係 形成一光傳遞區域,以允許_自該第一及第二光源中之第 —者自處通過。 3,根據申請專利範圍第2項之照明系統,其中該光傳遞區 域係形成於該反光器中之孔。 4.根據申請專利範園第2項之照明系統,係包括一光學元 件配置在該第一與該第二光源中在前之光源與該孔之 間,以引導該第一與該第二光源中在前之光源的光輸出 通過該孔。 5根據申請專利範圍第4項之照明系統,其中該光學元件 係包括至少一反射面。 6.根據申請專利範圍第4項之照明系統,係也包括光學總 成沿一光學路徑配置,該路徑係伸延於該光學元件與一 物體表面上一位置之間,以供引導自一物體表面上一位 置反射之光線至一光感應器。 7·根據申請專利範園第6項之照明系統,其中該光學總成 通常係傳遞該第一及第二光源之該第一光輸出通過該孔 23- 私紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】〇 x297公釐 ull·—— —--:.11「裝---— — — — — 訂-----I —^^5 . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專科範圍 至一物體表面之該位置之上及反射自一物體表面之該位 置反射之光。 8. 根據申請專利範圍第4項之照明系統,係也包括一反射 表面配置於該第一及第二光源之一第二與該反光器之 間,供引導該第一及第二光源之一第二之光輸出至該反 光器之上。 9. 根據申請專利範圍第1項之照明系統,其中該至少一反 光器係一橢圓形反光器冬該第一及第二光源之一第二及-一物體表面上該位置係各配置在該橢圓形反光器之一聚 焦處。 10. 根據申請專利範園第9項之照明系統,其中該至少一反 光器係包括二相間隔之反光器,該二相間隔之反光器係 共同界定一橢圓形段。 11. 根據申請專利範園前述任何一項乏照明系統,其中該第 一及該第二光源係各自獨立控制之光源。 12. —種照明系/,係包括: 一圓柱形反光器沿一'第一縱軸線伸延及具有一沿縱軸_ 線伸延之轴向孔形成於其中; 一第一長形光源係沿一第二縱軸線伸延,該第二縱軸 線係大致平行於該第一縱軸線及其配置係供照明該圓柱 形反光器,這樣,第一長形光源之光線係引導至—平 面’該平面係沿大致平行於第一及第二縱軸線之第三縱 軸線; 一第一.長形光源係沿一第四縱抽線伸延,該第四縱轴, -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) n I ^------r--η裝 -------訂·-------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Bg
    線係大致平行於該第一,第二及第三縱軸線及其配置係 相對於該圓柱形反光器之軸向孔,這樣,該第二長形光 源之光線係經該軸向孔引導至大致沿第三縱軸線之該平 面;及 一光學元件係沿一光路徑配置於該第二長形光源與該 平面之間及係可使該第二長形光源之光線通過至該平面 及使自該平面反射之光線反射至一光學感應器。 13. 根據申請專利範圍第i 2項之照明系統,其中該第—長 形光源係包括一長形光線產生元件沿一第五軸線伸延及 一長形反光器沿一第五縱軸線伸延,該第五縱軸線係大 致平行於該第一,第二,第三及第四縱軸線及可使自該 長形光線產生元件反射之光線反射至該圓柱形反光器。 14. 一種照明系統,係包括: 至少二長形光源沿至少二光源之縱向光源軸線伸延, 每一該至少二長形光源之配置係照明一大致沿一縱向照 明軸線之平面,該軸咚係大致平行於該至少二光源縱向 軸線;及 一光學元件係沿一光路徑配置於至少該至少二長形光 源之一及具有像散,該光學元件係可致使至少該至少二 長形光源之一所發射之光沿該縱向照明軸線減少。 15. —種照明系統,係包括: 一光源,係供照明一吻體用; 複數鏡頭’係供使藉該物體反射至複數光線接收器之 該光源的光線成像’因複數鏡頭之大小不一及複數光線 -25- 本紙張遘用中國國家揉準(CNS >八4狀(210X297公釐) ~ -IT! ^^^1 m ^^^1 —LI I f請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Λ8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 接收器之間隔不等,故複數鏡頭不可排列於一單一之平 面中·, 折射光學裝置係沿複數鏡頭與複數光線接收器間之光 線路徑配置’且其配置儘管使複數鏡頭之一與對應複數 光線接收器之一間的間隔不同,而複數鏡頭之一與對應 複數光線接收器之一間之光線路係大致相同。 16.根據申請專利範圍第1 $項之照明系統,其中該複數鏡 頭係具有大致相同之焦距。 Π.根據申請專利範圍第i 5及第1 6項之照明系統,其中該 複數鏡頭係可使在該物醴上之至少部份重簦區域成像。 18. —種檢視系統,係包括: 第一及第二光源,供照明一基板用,該基板係具有反 射特性,該第一及第二光源係提供具有波長譜之光輸 出,該波長譜係應至少部份不同;及 至少一卷2象_接收器,係今接收自該基板反射之弟第一 光源的光線及經該基板傳遞之#第二光源的光線。 19. 成像裝置,係包括: 至少一照明器,係供照明一物體表面上之一區域;及 複數感應器,該複數感應器係與複數鏡頭相連接,該 複數感應器及該複數鏡頭係可同時提供該照明區域之才目 互重疊部份的擬遠心成像》 20. 根據申請專利範圍第18之成像裝置,其中使該部份之 每一部J分成像的該与'光線係具有小於± 5 °之自法線偏 離。 -26- 本紙張尺度遄用中國两家標準(CNS ) A4规格(21〇 X 297公釐) :—„——_——裝------訂------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 21.根據申請專利範圍第1 9之成像裝置,其中使該部份之 每一部份成像的該主光線係具有小於或等於3.7°之自法 線偏離。 -II I I Γ I I 1 I I I I ^5 ^ · I I I I I I I 1IIIIIII — ^^5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -27- 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) —k
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TW088113453A TW389833B (en) 1999-08-05 1999-08-06 Illumination for inspecting surfaces of articles

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US (2) US6437312B1 (zh)
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IL (1) IL131284A (zh)
TW (1) TW389833B (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1314997A (zh) * 1998-06-16 2001-09-26 奥宝科技有限公司 检查基本平坦平面的发光器
IL131282A (en) * 1999-08-05 2009-02-11 Orbotech Ltd Apparatus and methods for inspection of objects
WO2002085091A2 (en) * 2000-12-15 2002-10-24 Cyberoptics Corporation Camera with improved illuminator
WO2002049410A2 (en) * 2000-12-15 2002-06-20 Cyberoptics Corporation Board align image acquisition device with improved interface
EP1220596A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-03 Icos Vision Systems N.V. A method and an apparatus for measuring positions of contact elements of an electronic component
US20040032581A1 (en) * 2002-01-15 2004-02-19 Mehrdad Nikoonahad Systems and methods for inspection of specimen surfaces
US6724473B2 (en) * 2002-03-27 2004-04-20 Kla-Tencor Technologies Corporation Method and system using exposure control to inspect a surface
TWI298097B (en) * 2003-01-09 2008-06-21 Orbotech Ltd Method and apparatus for simultaneous 2-d and topographical inspection
JP4166585B2 (ja) * 2003-01-20 2008-10-15 株式会社サキコーポレーション 外観検査装置および外観検査方法
JP4166587B2 (ja) * 2003-01-24 2008-10-15 株式会社サキコーポレーション 外観検査装置および体積検査方法
EP1482721A1 (de) * 2003-05-26 2004-12-01 Agfa-Gevaert AG Vorrichtung zum Erfassen von in einer Phosphorschicht enthaltenen Informationen
DE10359723B4 (de) * 2003-12-19 2014-03-13 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Inspektion eines Wafers
US7030400B2 (en) * 2003-12-30 2006-04-18 Xerox Corporation Real-time web inspection method and apparatus using combined reflected and transmitted light images
KR20070039604A (ko) * 2004-07-23 2007-04-12 넥스텍 솔루션즈 인크. 대형 기판 평탄 패널의 검사 시스템
US20110199764A1 (en) * 2005-08-26 2011-08-18 Camtek Ltd. Device and method for controlling an angular coverage of a light beam
JP4974019B2 (ja) * 2005-09-22 2012-07-11 株式会社ウィングシステムズ 半田不良検査装置
US7551274B1 (en) * 2007-02-28 2009-06-23 Lite Sentry Corporation Defect detection lighting system and methods for large glass sheets
US8144973B2 (en) * 2009-03-24 2012-03-27 Orbotech Ltd. Multi-modal imaging
US9035673B2 (en) 2010-01-25 2015-05-19 Palo Alto Research Center Incorporated Method of in-process intralayer yield detection, interlayer shunt detection and correction
JP5911865B2 (ja) 2010-08-05 2016-04-27 オーボテック リミテッド 照明システム
EP2434311B1 (de) * 2010-09-27 2014-07-16 Sick Ag Verfahren zur optischen Überwachung eines Überwachungsbereiches und Reflexions-Lichttaster
US10571679B2 (en) * 2017-01-06 2020-02-25 Karl Storz Imaging, Inc. Endoscope incorporating multiple image sensors for increased resolution
JP7336460B2 (ja) * 2018-05-04 2023-08-31 シーメンス・ヘルスケア・ダイアグノスティックス・インコーポレイテッド 均一な照明スポットを生成する複数の光源を含む照明ユニット
CN112888936A (zh) * 2018-09-06 2021-06-01 奥宝科技有限公司 用于光学检验系统的多模态多路复用照明
TWI721720B (zh) * 2019-12-19 2021-03-11 由田新技股份有限公司 光源裝置及光學檢測系統

Family Cites Families (98)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1687069A (en) * 1928-10-09 Copying device for photographic purposes
US804996A (en) 1905-03-10 1905-11-21 Charles Brock Telescopy.
US1278026A (en) * 1916-01-08 1918-09-03 Salvatore Salto Apparatus for concentrating and projecting radiant energy.
US2257881A (en) 1937-06-03 1941-10-07 Joseph F Jaros Light projector
US2352693A (en) 1941-06-07 1944-07-04 Arthur C Davidson Railway truck
US3229564A (en) 1961-05-12 1966-01-18 Bausch & Lomb Reflectometer
US3365720A (en) 1961-12-21 1968-01-23 Keltec Ind Inc Combined hyperbolic and parabolic double reflector
US3164781A (en) * 1962-03-07 1965-01-05 Edgerton Germeshausen & Grier Optical maser pumping system
US3277773A (en) 1963-01-14 1966-10-11 John U White Optical apparatus for measuring the reflective and emissive characteristics of a sample
US3251984A (en) 1963-02-18 1966-05-17 Chicago Aerial Ind Inc Illumination optical system for aerial photography
US3270194A (en) 1964-06-24 1966-08-30 Minnesota Mining & Mfg Light exposure apparatus
US3375752A (en) 1965-02-19 1968-04-02 Itek Corp Copyboard lighting system
US3375361A (en) 1965-11-10 1968-03-26 Chicago Aerial Ind Inc Optical illumination system
US3498714A (en) 1967-06-07 1970-03-03 Dennison Mfg Co Gas discharge lamp
US3428397A (en) 1967-12-28 1969-02-18 Dennison Mfg Co Illumination in optical imaging apparatus
US3620621A (en) * 1969-02-12 1971-11-16 Matrographics Inc Emulsion control
US3560729A (en) 1969-02-18 1971-02-02 Milton Liberman Lighting fixture
US3663083A (en) 1970-09-15 1972-05-16 Columbia Broadcasting Systems Light directing device having an elliptical reflecting face
GB1401957A (en) 1971-08-12 1975-08-06 Paint Research Ass Colourimeters
CH541140A (de) 1971-12-31 1973-08-31 Gretag Ag Beleuchtungsanordnung
US3763348A (en) 1972-01-05 1973-10-02 Argus Eng Co Apparatus and method for uniform illumination of a surface
JPS503355A (zh) 1973-05-11 1975-01-14
US4003638A (en) 1973-12-28 1977-01-18 The University Of Chicago Radiant energy collection
US3923381A (en) 1973-12-28 1975-12-02 Univ Chicago Radiant energy collection
GB1504514A (en) * 1974-03-05 1978-03-22 Lucas Electrical Ltd Vehicle lamp assembly
US4008946A (en) * 1974-07-13 1977-02-22 Olympus Optical Co., Ltd. Pointer projecting means for microscopes
US4002499A (en) 1974-07-26 1977-01-11 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Radiant energy collector
US4006355A (en) 1974-11-26 1977-02-01 Sylvan R. Shemitz And Associates, Inc. Luminaire
US3957031A (en) 1975-05-29 1976-05-18 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Light collectors in cylindrical geometry
US4045246A (en) 1975-08-11 1977-08-30 Mobil Tyco Solar Energy Corporation Solar cells with concentrators
US4095905A (en) 1975-08-20 1978-06-20 Hitachi, Ltd. Surface-defect detecting device
US4027151A (en) 1975-11-18 1977-05-31 Crouse-Hinds Company Luminaire and reflector therefor
US4220982A (en) 1978-01-16 1980-09-02 Bausch & Lomb Incorporated High intensity illumination light table
US4287554A (en) 1978-07-03 1981-09-01 Friedrich Wolff Radiation apparatus
US4223346A (en) 1979-04-05 1980-09-16 Armco Inc. Automatic defect detecting inspection apparatus
US4255055A (en) * 1979-05-11 1981-03-10 Libbey-Owens-Ford Company Surface inspection system for detecting flatness of planar sheet materials
JPS55163942A (en) * 1979-06-08 1980-12-20 Ricoh Co Ltd Reader for original
JPS6017044B2 (ja) 1979-07-23 1985-04-30 株式会社日立製作所 印刷配線板のパタ−ン検査装置
US4320442A (en) 1979-10-11 1982-03-16 Kollmorgen Technologies Corporation Annular illuminator
US4319847A (en) 1979-12-05 1982-03-16 Measurex Corporation Apparatus to measure select properties of a moving sheet with improved standardization means
JPS5719712A (en) 1980-07-11 1982-02-02 Fuji Photo Optical Co Ltd Optical beam scanner
US4441817A (en) 1980-07-29 1984-04-10 Diffracto Ltd. Electro-optical sensors with fiber optic bundles
US4360275A (en) 1980-08-11 1982-11-23 Litton Systems Inc. Device for measurement of optical scattering
JPH0244265Y2 (zh) 1980-08-29 1990-11-26
US4321630A (en) * 1980-09-02 1982-03-23 Xerox Corporation Linear integrating cavity light collector
US4531180A (en) 1980-12-17 1985-07-23 Wide-Lite International, Inc. Internal shield for trough-like reflector
JPS57131039A (en) 1981-02-07 1982-08-13 Olympus Optical Co Ltd Defect detector
JPS57132044A (en) 1981-02-10 1982-08-16 Hitachi Metals Ltd Discriminating method of surface defect
US4498742A (en) 1981-09-10 1985-02-12 Nippon Kogaku K.K. Illumination optical arrangement
US4500202A (en) 1982-05-24 1985-02-19 Itek Corporation Printed circuit board defect detection of detecting maximum line width violations
US4506152A (en) 1982-07-12 1985-03-19 Ncr Canada Ltd. - Ncr Canada Ltee Illumination system
US4730895A (en) 1982-08-30 1988-03-15 Charles Lescrenier Fiber optic line generator suitable for use with incandescent light source
IL66788A (en) 1982-09-14 1985-02-28 Optrotech Ltd Optical scanning apparatus using a wave guide
JPS59123980A (ja) 1982-12-29 1984-07-17 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光学式読取り装置
JPS59178445A (ja) 1983-03-30 1984-10-09 Canon Inc 照明装置
US4460942A (en) 1983-06-13 1984-07-17 Polaroid Corporation Electronic flash with flashtube retention strap
DE3422395A1 (de) 1983-06-16 1985-01-17 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo Verfahren und vorrichtung zum ermitteln von verdrahtungsmustern
US4735497A (en) 1983-07-01 1988-04-05 Aoi Systems, Inc. Apparatus for viewing printed circuit boards having specular non-planar topography
JPS6076606A (ja) 1983-10-03 1985-05-01 Nippon Kogaku Kk <Nikon> マスクの欠陥検査方法
US4595947A (en) * 1983-10-24 1986-06-17 Xerox Corporation Light collection by elliptical cylinder mirrors for raster input scanners
US4601576A (en) 1983-12-09 1986-07-22 Tencor Instruments Light collector for optical contaminant and flaw detector
US4692690A (en) 1983-12-26 1987-09-08 Hitachi, Ltd. Pattern detecting apparatus
DE3446355C2 (de) * 1984-12-19 1986-11-06 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optisches Fehlersuchgerät
US5774573A (en) 1984-12-20 1998-06-30 Orbotech Ltd. Automatic visual inspection system
US4661706A (en) 1985-02-25 1987-04-28 Spectra-Tech Inc. Blocker device for eliminating specular reflectance from a diffuse reflection spectrum
DE3517131C1 (de) 1985-05-11 1986-11-13 Eppendorf Gerätebau Netheler + Hinz GmbH, 2000 Hamburg Verfahren zur Messung der Potentialdifferenz zwischen einer Probenfluessigkeit und einem Referenzelektrolyten sowie Vorrichtung zur Messung der Ionenkonzentration in der Probenfluessigkeit
DE3518832A1 (de) 1985-05-24 1986-11-27 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Oberflaechenbeschaffenheitsfeststellungs-lichtabtastvorrichtung mit einem lichtkonzentrator
JPS62103548A (ja) 1985-10-31 1987-05-14 Dainippon Printing Co Ltd リ−ドフレ−ムの欠陥検査装置
US4688907A (en) * 1986-01-10 1987-08-25 Urban Engineering Company, Inc. System providing 3 identical optical paths and adapted for a microscope
US4710638A (en) 1986-02-10 1987-12-01 Fusion Systems Corporation Apparatus for treating coatings
US4795911A (en) 1986-02-14 1989-01-03 Canon Kabushiki Kaisha Surface examining apparatus for detecting the presence of foreign particles on the surface
DE3614888A1 (de) 1986-05-02 1987-11-05 Hell Rudolf Dr Ing Gmbh Optische anordnung zur zeilenweisen beleuchtung von abtastvorlagen
US4758888A (en) 1987-02-17 1988-07-19 Orbot Systems, Ltd. Method of and means for inspecting workpieces traveling along a production line
US4824194A (en) 1987-03-25 1989-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light guide apparatus formed from strip light guides
DE3714830A1 (de) 1987-05-05 1988-11-17 Leitz Ernst Gmbh Kombinierte hellfeld-dunkelfeld- auflichtbeleuchtungseinrichtung
US4801810A (en) 1987-07-13 1989-01-31 Gerber Scientific, Inc. Elliptical reflector illumination system for inspection of printed wiring boards
DE3734294A1 (de) * 1987-10-09 1989-04-27 Sick Optik Elektronik Erwin Optische oberflaechen-inspektionsvorrichtung
US4815858A (en) 1987-10-09 1989-03-28 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Reflectometers
JPH07109125B2 (ja) 1987-10-20 1995-11-22 三晃金属工業株式会社 パネル材
FR2623634B1 (fr) 1987-11-25 1991-08-16 Armines Appareil emetteur de rayonnement infrarouge comportant une source plane de rayons infrarouges et un reflecteur
US4877326A (en) 1988-02-19 1989-10-31 Kla Instruments Corporation Method and apparatus for optical inspection of substrates
US4859064A (en) 1988-05-09 1989-08-22 Spectra-Tech, Inc. Diffuse reflectance spectroscopy system and method
US4938555A (en) 1988-08-16 1990-07-03 Sc Technology, Int. Optical switch
US5085517A (en) 1989-10-31 1992-02-04 Chadwick Curt H Automatic high speed optical inspection system
IL94368A (en) 1990-05-11 1993-07-08 Orbot Systems Ltd Optic inspection apparatus and illumination system particularly useful therein
US5058928A (en) 1990-05-25 1991-10-22 Richard Wayne Watson Auxiliary device for a pneumatic quick-release coupling
US5586058A (en) 1990-12-04 1996-12-17 Orbot Instruments Ltd. Apparatus and method for inspection of a patterned object by comparison thereof to a reference
IL96541A (en) 1990-12-04 2000-08-13 Orbot Instr Ltd Apparatus and method for microscopic inspection of articles
IL99040A0 (en) 1991-08-01 1992-07-15 Scitex Corp Ltd Apparatus and method for determining geometry of an optical system
DE4131737C2 (de) * 1991-09-24 1997-05-07 Zeiss Carl Fa Autofokus-Anordnung für ein Stereomikroskop
CA2089332A1 (en) 1992-03-12 1993-09-13 Robert Bishop Method of and apparatus for object or surface inspection employing multicolor reflection discrimination
DE69331433T2 (de) 1992-10-22 2002-10-02 Advanced Interconnection Technology, Inc. Einrichtung zur automatischen optischen Prüfung von Leiterplatten mit darin verlegten Drähten
US5357335A (en) * 1993-03-31 1994-10-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical detection device for screening magnetic tape
JPH07225434A (ja) * 1994-02-14 1995-08-22 Fuji Photo Film Co Ltd 画像読取装置
US5760950A (en) * 1996-07-25 1998-06-02 Advanced Scanning, Ltd. Scanning confocal microscope
JP3411780B2 (ja) * 1997-04-07 2003-06-03 レーザーテック株式会社 レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置
JPH1115915A (ja) * 1997-06-23 1999-01-22 C C S Kk 記号読み取り用照明装置
CN1314997A (zh) 1998-06-16 2001-09-26 奥宝科技有限公司 检查基本平坦平面的发光器

Also Published As

Publication number Publication date
IL131284A0 (en) 2001-01-28
US6832843B2 (en) 2004-12-21
US6437312B1 (en) 2002-08-20
IL131284A (en) 2003-05-29
JP3354131B2 (ja) 2002-12-09
JP2001050899A (ja) 2001-02-23
US20020181233A1 (en) 2002-12-05

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