JPS6017044B2 - 印刷配線板のパタ−ン検査装置 - Google Patents
印刷配線板のパタ−ン検査装置Info
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- JPS6017044B2 JPS6017044B2 JP54092676A JP9267679A JPS6017044B2 JP S6017044 B2 JPS6017044 B2 JP S6017044B2 JP 54092676 A JP54092676 A JP 54092676A JP 9267679 A JP9267679 A JP 9267679A JP S6017044 B2 JPS6017044 B2 JP S6017044B2
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷配線板に形成された配線パターンの欠陥を
検査する装置に関する。
検査する装置に関する。
一般的な印刷配線板の構成を第1図、第2図に示し、第
1図は配線面2から見た平面図であり、第2図はそのA
ーバ断面図である。
1図は配線面2から見た平面図であり、第2図はそのA
ーバ断面図である。
これら図に於いて、4,5は銅等の導体箔からなる配線
パターン、6は髪の配線面3と電気的接続を行なうため
のスルーホール、7は絶縁基材、13,14はグランド
層・電源層として使われる内層パターンで、配線パター
ン4,5と同じく、鋼等の導体箔からなるものである。
第1図に示す配線パターンは、一般に第1図の実線(大
綾を除く)と点線で示すパターンを、写真原版(マスク
)によりエッチングレジストパターンとして鋼箔上に写
しとり、エッチング処理することにより形成される。こ
の形成過程で、写真原版にゴミが付着したり、写真原版
に優が生じたりすると微小付着8、微小欠け9、微小突
起10が生じ、エッチング不足ではパターンの太り11
が生じ、エッチング過多ではパターンの細り12が生ず
る。これらの欠陥があると、微小欠け9、細り12では
回路抵抗増、電流容量減、印刷配線板取扱い時の接触程
度で断線する等、微小付着8、微小突起10、太り11
では、回路の短絡、半田付け時の半田ブリッジが発生す
る等、印刷配線板本釆の正しい配線路を構成することが
できなくなってしまう。これらの欠陥は、特に最近のよ
うに高密度実装が徹底して行なわれ、例えば、パターン
中が0.1側程度になってくると、わずかな欠陥であっ
ても正確に見逃すことなく検査されなければならず、も
はや目視検査では不可能である。従ってかような検査を
機械で行なわせようとするために、第3図の如く、被検
査印刷配線板1と、別に設けられた比較照合用印刷配線
板1′との各々の配線面を光学像として捕え比較照合す
る方法がある。以下に、この従来方法について説明する
。第3図に於いて、電気信号比較照合装置27を除き同
じ構成のものが左右に配置されており、左側(被検査印
刷配線板側)の各部分に対応する右側の部分には同一符
号でダッシュを付してある。
パターン、6は髪の配線面3と電気的接続を行なうため
のスルーホール、7は絶縁基材、13,14はグランド
層・電源層として使われる内層パターンで、配線パター
ン4,5と同じく、鋼等の導体箔からなるものである。
第1図に示す配線パターンは、一般に第1図の実線(大
綾を除く)と点線で示すパターンを、写真原版(マスク
)によりエッチングレジストパターンとして鋼箔上に写
しとり、エッチング処理することにより形成される。こ
の形成過程で、写真原版にゴミが付着したり、写真原版
に優が生じたりすると微小付着8、微小欠け9、微小突
起10が生じ、エッチング不足ではパターンの太り11
が生じ、エッチング過多ではパターンの細り12が生ず
る。これらの欠陥があると、微小欠け9、細り12では
回路抵抗増、電流容量減、印刷配線板取扱い時の接触程
度で断線する等、微小付着8、微小突起10、太り11
では、回路の短絡、半田付け時の半田ブリッジが発生す
る等、印刷配線板本釆の正しい配線路を構成することが
できなくなってしまう。これらの欠陥は、特に最近のよ
うに高密度実装が徹底して行なわれ、例えば、パターン
中が0.1側程度になってくると、わずかな欠陥であっ
ても正確に見逃すことなく検査されなければならず、も
はや目視検査では不可能である。従ってかような検査を
機械で行なわせようとするために、第3図の如く、被検
査印刷配線板1と、別に設けられた比較照合用印刷配線
板1′との各々の配線面を光学像として捕え比較照合す
る方法がある。以下に、この従来方法について説明する
。第3図に於いて、電気信号比較照合装置27を除き同
じ構成のものが左右に配置されており、左側(被検査印
刷配線板側)の各部分に対応する右側の部分には同一符
号でダッシュを付してある。
従って、右側の各部分の機能、動作は、左側の各部分の
機能動作を説明することによって、その説明中の符号に
ダッシュを付加して右側の説明に代えられるので、左側
の説明で代表する。印刷配線板1の配線面2の上方には
側方から与えられる光源21の光を反射して配線面2に
照射し、該配線面からの反射光を上方へ通過せしめるハ
ーフミラー23と、該ミラー23から上方に通過した光
を集め光学像を結ぶレンズ24と該光学像が結ばれる位
置し、該像の明暗を多数の電気信号26に変換するイメ
ージセンサ25が設けられており、左側のイメージセン
サ25から得られる電気信号26と、右側のイメージセ
ンサ25′から得られる電気信号26′とを、配線パタ
ーンとして認識し、比較照合する比較照合装置27が設
けられており、この比較照合装置27により、欠陥部分
の有無内至欠陥箇所の指摘がなされる。例えば、第4図
aに示す如き印刷配線板を検査する場合、第3図の光源
21から出た光はしンズ22を通過して、ミラー23で
下方に向きを変えられ、第4図の光線31,32,33
として印刷配線板1の配線面2の各部分に照射される。
光線31は絶縁基材7の低反射率により低レベルの反射
光41を生じ、光線32は銅等の金属でなる配線パター
ン5の高反射率により高レベルの反射光42を生じ、光
線33はスルーホール6則ち貫通孔を通して髪の配線面
3に通過するため反射光は生じない。このようにして上
方に反射された光線41,42は「第3図のハーフミラ
ー23,レンズ24を介してイメージセンサ25上に光
学像として結ばれる。イメージセンサ25は多数の微小
受光素子を一直線上に配列したもので、例えば5柳の長
さに256ケの素子を並べたもの等がある。第4図bは
かようなイメージセンサ25面に第4図aの前記反射光
41,42が像形成された時現われる電気信号を、全受
光素子についてプロットしたものであり、縦軸に電気信
号レベルをとり、機軸にイメージセンサの素子位置を示
してある。同図に於いて、1,は、貫通孔位置の電気信
号レベルを示し、配線面からの反射光が殆どないため低
レベルである。12は、絶系菱基材7からの反射光41
が電気信号に変換されたもので、1,よりは高いが低レ
ベルである。
機能動作を説明することによって、その説明中の符号に
ダッシュを付加して右側の説明に代えられるので、左側
の説明で代表する。印刷配線板1の配線面2の上方には
側方から与えられる光源21の光を反射して配線面2に
照射し、該配線面からの反射光を上方へ通過せしめるハ
ーフミラー23と、該ミラー23から上方に通過した光
を集め光学像を結ぶレンズ24と該光学像が結ばれる位
置し、該像の明暗を多数の電気信号26に変換するイメ
ージセンサ25が設けられており、左側のイメージセン
サ25から得られる電気信号26と、右側のイメージセ
ンサ25′から得られる電気信号26′とを、配線パタ
ーンとして認識し、比較照合する比較照合装置27が設
けられており、この比較照合装置27により、欠陥部分
の有無内至欠陥箇所の指摘がなされる。例えば、第4図
aに示す如き印刷配線板を検査する場合、第3図の光源
21から出た光はしンズ22を通過して、ミラー23で
下方に向きを変えられ、第4図の光線31,32,33
として印刷配線板1の配線面2の各部分に照射される。
光線31は絶縁基材7の低反射率により低レベルの反射
光41を生じ、光線32は銅等の金属でなる配線パター
ン5の高反射率により高レベルの反射光42を生じ、光
線33はスルーホール6則ち貫通孔を通して髪の配線面
3に通過するため反射光は生じない。このようにして上
方に反射された光線41,42は「第3図のハーフミラ
ー23,レンズ24を介してイメージセンサ25上に光
学像として結ばれる。イメージセンサ25は多数の微小
受光素子を一直線上に配列したもので、例えば5柳の長
さに256ケの素子を並べたもの等がある。第4図bは
かようなイメージセンサ25面に第4図aの前記反射光
41,42が像形成された時現われる電気信号を、全受
光素子についてプロットしたものであり、縦軸に電気信
号レベルをとり、機軸にイメージセンサの素子位置を示
してある。同図に於いて、1,は、貫通孔位置の電気信
号レベルを示し、配線面からの反射光が殆どないため低
レベルである。12は、絶系菱基材7からの反射光41
が電気信号に変換されたもので、1,よりは高いが低レ
ベルである。
13は、配線パターン5からの反射光42が電気信号に
変換されたもので高レベルである。
変換されたもので高レベルである。
かような各種レベルを比較照合し易すくために、明レベ
ルと賭しベルの2種、即ち2値に変換する必要がある。
このため第4図bに示す如く、電気信号レベルがlsよ
り高いとき明レベル、それ以下を賭しベルとするように
例えば電圧比較器からなる2値化回路28により変換を
行なうと、配線パターン5は期しベル(2進“1”)、
絶縁基材7、スルーホール6は隠しベル(2進“0”)
の2値信号に変換される。この様にして得られた2値信
号はイメージセンサ25の受光面が線形であるため、綾
情報(第1図のパターンをA−A′線で見たような線状
の情報)となっている。従って、印刷配線板を該配線面
に沿って平行移動し乍ら、前記2値信号をメモリ29に
記憶して行くことにより、該メモリ29に面情報が得ら
れる。しかる後談メモリ29に記憶された面情報を、パ
ターン比較回路30で比較照合し、一致しない部分を欠
陥として表示する。以上の様な検査装置によれば第4図
に示すごとく配線面2に対して入射光31,32のごと
く上方から光が照射されるので、該配線面が平坦な面で
ある限り反射光41,42は上方へ反射され、レンズ2
4にうまく集光されて光学像が結ばれ、該像の明暗はイ
メージセンサ25の各受光素子によって電気信号26に
変換される。ところが、第2図に示すごとく、スルーホ
ール肩部15は配線パターン5からスルーホール6にか
かる領域で曲線を描いているため、スルーホール層部1
5の曲面に入射した光は、光の反射の法則により上方へ
反射せず、従ってレンズ24に集光されないためパター
ン情報として獲得されず実際のスルーホール径よりも大
きい径で認識される。それ故に従来の検査装置のごとき
節縦裏面に対して上方から光を照射する構成に於いては
、スルーホール肩部のパターン情報は検査の対象となら
ないという問題があった。第5図にスルーホール肩部の
欠陥について示す。
ルと賭しベルの2種、即ち2値に変換する必要がある。
このため第4図bに示す如く、電気信号レベルがlsよ
り高いとき明レベル、それ以下を賭しベルとするように
例えば電圧比較器からなる2値化回路28により変換を
行なうと、配線パターン5は期しベル(2進“1”)、
絶縁基材7、スルーホール6は隠しベル(2進“0”)
の2値信号に変換される。この様にして得られた2値信
号はイメージセンサ25の受光面が線形であるため、綾
情報(第1図のパターンをA−A′線で見たような線状
の情報)となっている。従って、印刷配線板を該配線面
に沿って平行移動し乍ら、前記2値信号をメモリ29に
記憶して行くことにより、該メモリ29に面情報が得ら
れる。しかる後談メモリ29に記憶された面情報を、パ
ターン比較回路30で比較照合し、一致しない部分を欠
陥として表示する。以上の様な検査装置によれば第4図
に示すごとく配線面2に対して入射光31,32のごと
く上方から光が照射されるので、該配線面が平坦な面で
ある限り反射光41,42は上方へ反射され、レンズ2
4にうまく集光されて光学像が結ばれ、該像の明暗はイ
メージセンサ25の各受光素子によって電気信号26に
変換される。ところが、第2図に示すごとく、スルーホ
ール肩部15は配線パターン5からスルーホール6にか
かる領域で曲線を描いているため、スルーホール層部1
5の曲面に入射した光は、光の反射の法則により上方へ
反射せず、従ってレンズ24に集光されないためパター
ン情報として獲得されず実際のスルーホール径よりも大
きい径で認識される。それ故に従来の検査装置のごとき
節縦裏面に対して上方から光を照射する構成に於いては
、スルーホール肩部のパターン情報は検査の対象となら
ないという問題があった。第5図にスルーホール肩部の
欠陥について示す。
第5図aは配線面2から見た平面図であり第5図bはそ
のB−B′断面図である。第5図aに示す如きスルーホ
ール肩部の欠陥16は、ドライフィルムをエッチングレ
ジストとする印刷配線板の製造方法に於いて、スルーホ
ール保護の目的でスルーホール上に張ったドライフィル
ムテントがエッチング処理中に破損する場合に良く発生
する欠陥であり、該欠陥が存在すると印刷配線板への部
品取付け時の半田付けがうまくいか.なかったり、スル
ーホール肩部で破断が生じ易いとい「う問題がある。本
発明の目的は、上記欠点を除去し、スルーホール肩部の
欠陥を欠陥として検知できる様にスルーホール肩部のパ
ターン情報を獲得できる検査装置を提供することにある
。
のB−B′断面図である。第5図aに示す如きスルーホ
ール肩部の欠陥16は、ドライフィルムをエッチングレ
ジストとする印刷配線板の製造方法に於いて、スルーホ
ール保護の目的でスルーホール上に張ったドライフィル
ムテントがエッチング処理中に破損する場合に良く発生
する欠陥であり、該欠陥が存在すると印刷配線板への部
品取付け時の半田付けがうまくいか.なかったり、スル
ーホール肩部で破断が生じ易いとい「う問題がある。本
発明の目的は、上記欠点を除去し、スルーホール肩部の
欠陥を欠陥として検知できる様にスルーホール肩部のパ
ターン情報を獲得できる検査装置を提供することにある
。
上記目的を達成するために、本発明は、印刷配線板の配
線面に光を照射する手段として、配線面に対いまぼ垂直
方向から光を照射する第1の照射手段と、該配線面に対
し入射角の大きい角度から光を照射する第2の照射手段
とを設け、これら入射角度の違う両者の光から得られる
1つの反射映像に基づいて配線パターンの欠陥を判定す
るよう構成した印刷配線板のパターン検査装置を特徴と
する。
線面に光を照射する手段として、配線面に対いまぼ垂直
方向から光を照射する第1の照射手段と、該配線面に対
し入射角の大きい角度から光を照射する第2の照射手段
とを設け、これら入射角度の違う両者の光から得られる
1つの反射映像に基づいて配線パターンの欠陥を判定す
るよう構成した印刷配線板のパターン検査装置を特徴と
する。
以下図に従い本発明の実施例を詳細に説明する。
第6図は本発明の一実施例を示すもので、第7図はその
一部詳細図、第8図は第6図の動作を説明するための図
である。第6図に於いて51,51′は21,21′と
は別の配線面2に対して低い角度で光を照射するための
光源であり、52,52′は前記光源51,51′から
出た光を配線面2の検査対象エリアに導くための光ファ
イバーである。ただし光源51,51′は光源21,2
1′を兼ねても良いし、また配線面2に対して低い角度
で光を照射する目的を別の手段、例えばプリズムや鏡を
使用して達成可能ならば、光ファイバー52,52′の
使用を制限されるものではない。他の部分21〜26,
21′〜26′,27,28,28′,29,30は第
3図の同一符号部分と同じものであるため、ここでの説
明は省略する。第7図に於いて光ファイバー52から供
給される光は、入射角約70度(一点鎖線で示す)を有
し、入射角60度の入射光35と入射角75度の入射光
34に包含された範囲の光東の光となって印刷配線板1
の配線面2に照射される。配線面2に対して低い角度で
照射される光は入射角90度に近い方が、スルーホール
肩部のパターン情報の獲得領域が大きくなるのであるが
、印刷配線板1の固定拾具等の検査装置の他の構成部品
の配置上、配線面から適当な間隙を設ける必要があり、
第7図に於いては入射角約70度の例を示した。次に第
8図を用いて動作を説明する。第8図は、第2図に於け
るスルーホール肩部15の周辺を拡大した断面図であり
、ハッチングを施した領域は鋼等の導体金属であること
を示す。入射光34,35は第7図に示した入射光34
,35と同じものであり、スルーホール眉部15の入射
点A,Bに破線で示した垂線に対しそれぞれ75度、6
0度の角度を有する。該入射光34,35はスルーホー
ル肩部15で反射し、反射光44,45になってレンズ
24に集光される。該反射光44,45が入射点A,B
に破線で示した垂線に対し、14度の角度を有している
のは、例えばレンズ24として日本光学製リプロニツコ
−ル85肋F/1.0を倍率×1で使用した場合の画角
が14度であることを示す。従って、配線面の上方から
のみ光を照射していた従来の検査装鷹では配線パターン
5が平坦面である部分則ち、配線パターン5からスルー
ホール肩部15の曲面にさしかかる手前の点Cまでのパ
ターン情報しか得られていなかったものが、本発明の配
線面に対する低い角度での光の照射によりスルーホール
肩部15の中ほどの点Aまでのパターン情報が得られる
ようになった。従って配線パターンを平面的にとらえた
場合、点Cを垂直に降ろして導体金属と絶系該基材7と
の境界線と交わる点Dと点Aを垂直に降ろして前記境界
線の延長線と交わる点Eまでの距離L‘こあたるパター
ン情報が得られたことになり、これによってスルーホー
ル肩部の欠陥を欠陥として検知可能となった。第9図は
イメージセンサ25面に形成された光学像に対応して現
われる電気信号をイメージセンサの全受光素子について
プロットした図であり、縦軸に電気信号レベルをとり、
機軸にイメージセンサの素子位置を示したものである。
一部詳細図、第8図は第6図の動作を説明するための図
である。第6図に於いて51,51′は21,21′と
は別の配線面2に対して低い角度で光を照射するための
光源であり、52,52′は前記光源51,51′から
出た光を配線面2の検査対象エリアに導くための光ファ
イバーである。ただし光源51,51′は光源21,2
1′を兼ねても良いし、また配線面2に対して低い角度
で光を照射する目的を別の手段、例えばプリズムや鏡を
使用して達成可能ならば、光ファイバー52,52′の
使用を制限されるものではない。他の部分21〜26,
21′〜26′,27,28,28′,29,30は第
3図の同一符号部分と同じものであるため、ここでの説
明は省略する。第7図に於いて光ファイバー52から供
給される光は、入射角約70度(一点鎖線で示す)を有
し、入射角60度の入射光35と入射角75度の入射光
34に包含された範囲の光東の光となって印刷配線板1
の配線面2に照射される。配線面2に対して低い角度で
照射される光は入射角90度に近い方が、スルーホール
肩部のパターン情報の獲得領域が大きくなるのであるが
、印刷配線板1の固定拾具等の検査装置の他の構成部品
の配置上、配線面から適当な間隙を設ける必要があり、
第7図に於いては入射角約70度の例を示した。次に第
8図を用いて動作を説明する。第8図は、第2図に於け
るスルーホール肩部15の周辺を拡大した断面図であり
、ハッチングを施した領域は鋼等の導体金属であること
を示す。入射光34,35は第7図に示した入射光34
,35と同じものであり、スルーホール眉部15の入射
点A,Bに破線で示した垂線に対しそれぞれ75度、6
0度の角度を有する。該入射光34,35はスルーホー
ル肩部15で反射し、反射光44,45になってレンズ
24に集光される。該反射光44,45が入射点A,B
に破線で示した垂線に対し、14度の角度を有している
のは、例えばレンズ24として日本光学製リプロニツコ
−ル85肋F/1.0を倍率×1で使用した場合の画角
が14度であることを示す。従って、配線面の上方から
のみ光を照射していた従来の検査装鷹では配線パターン
5が平坦面である部分則ち、配線パターン5からスルー
ホール肩部15の曲面にさしかかる手前の点Cまでのパ
ターン情報しか得られていなかったものが、本発明の配
線面に対する低い角度での光の照射によりスルーホール
肩部15の中ほどの点Aまでのパターン情報が得られる
ようになった。従って配線パターンを平面的にとらえた
場合、点Cを垂直に降ろして導体金属と絶系該基材7と
の境界線と交わる点Dと点Aを垂直に降ろして前記境界
線の延長線と交わる点Eまでの距離L‘こあたるパター
ン情報が得られたことになり、これによってスルーホー
ル肩部の欠陥を欠陥として検知可能となった。第9図は
イメージセンサ25面に形成された光学像に対応して現
われる電気信号をイメージセンサの全受光素子について
プロットした図であり、縦軸に電気信号レベルをとり、
機軸にイメージセンサの素子位置を示したものである。
第9図aは、配線面の上方からのみ光を照射していた従
釆の検査装置のイメージセンサ25に現われた電気信号
を示し、第9図bは、本発明の特徴である配線面に対す
る低い角度での光の照射によりイメージセンサ25に現
われた電気信号を示し、第9図cは、配線面の上方から
の光の照射と配線面に対する低い角度での光の照射の両
者を併せた即ち、本発明の検査装置のイメージセンサ2
5に現われた電気信号を示す。従って第9図cに示され
た電気信号は、第9図aに示された電気信号と第9図b
に示された電気信号の和をとったものである。同図に於
いて1,,1,′,1,″は貫通孔位置の電気信号レベ
ルを示し、配線面からの反射光が殆どないため1,,1
,′,1,″とも同等の電気信号レベルである。従って
1,=1,′=1,″ 12,12′,1,″は、絶縁基村7からの電気信号レ
ベルを示し、12′と12″は同等の電気信号レベルで
ある。
釆の検査装置のイメージセンサ25に現われた電気信号
を示し、第9図bは、本発明の特徴である配線面に対す
る低い角度での光の照射によりイメージセンサ25に現
われた電気信号を示し、第9図cは、配線面の上方から
の光の照射と配線面に対する低い角度での光の照射の両
者を併せた即ち、本発明の検査装置のイメージセンサ2
5に現われた電気信号を示す。従って第9図cに示され
た電気信号は、第9図aに示された電気信号と第9図b
に示された電気信号の和をとったものである。同図に於
いて1,,1,′,1,″は貫通孔位置の電気信号レベ
ルを示し、配線面からの反射光が殆どないため1,,1
,′,1,″とも同等の電気信号レベルである。従って
1,=1,′=1,″ 12,12′,1,″は、絶縁基村7からの電気信号レ
ベルを示し、12′と12″は同等の電気信号レベルで
ある。
12′=12〃
12の電気信号レベルよりもL′,12″の電気信号レ
ベルが高い原因は、絶黍菱基材7の表面凹凸が10数ミ
クロンあるため、低い角度で入射した光の乱反射光がレ
ンズ24に集光されイメージセンサ25にとらえられる
ためである。
ベルが高い原因は、絶黍菱基材7の表面凹凸が10数ミ
クロンあるため、低い角度で入射した光の乱反射光がレ
ンズ24に集光されイメージセンサ25にとらえられる
ためである。
13は、配線パターン位置からの電気信号レベルを示し
、13′はスルーホール肩部からの電気信号レベルを示
す。
、13′はスルーホール肩部からの電気信号レベルを示
す。
13′の電気信号レベルが13の電気信号レベルよりも
高い原因は、配線パターン表面の凹凸に比べ、スルーホ
ール肩部の表面凹凸が小さく乱反射が起こりにくいから
である。
高い原因は、配線パターン表面の凹凸に比べ、スルーホ
ール肩部の表面凹凸が小さく乱反射が起こりにくいから
である。
第10図は配線面を照射する光の入射角の違いによって
絶糸該基材の電気信号レベルがどの様に変化するかを示
した図であり、縦軸に絶縁基材の電気信号レベルを示し
、機軸に配線面を照射する光の入射角を示した。
絶糸該基材の電気信号レベルがどの様に変化するかを示
した図であり、縦軸に絶縁基材の電気信号レベルを示し
、機軸に配線面を照射する光の入射角を示した。
配線面に対して上方から光を照射する瓢ち、光の入射角
が0度に近い場合には、絶縁基村の電気信号レベルは低
レベルにあるが、入射角が大きくなるにつれて高レベル
に推移し、入射角60度を頂点にして入射角が更に大き
くなると逆に低レベルに推移する特性を示している。従
って配線面に対して低い角度で光を照射する即ち、光の
入射角が90度に近い場合にも絶縁基材の電気信号レベ
ルは低レベルである。絶黍廉基村の電気信号レベルが高
レベルになると配線パターンの電気信号レベルとの差が
なくなるため、2値化回路による、配線パターンは明レ
ベル(2進“1”)、絶縁基材は脂レベル(2進“0”
)の2値化が不可能になる。従って絶縁基材の電気信号
レベルはできるかぎり低レベルに保つ必要があり、その
意味では配線面に対する低い角度での光の照射は都合が
良い。第11図は配線面を照射する光の入射角の違いに
よって貫通孔の電気信号レベルから配線パターンの電気
信号レベルまでの電気信号の平均立ち上がり傾斜量がど
の様に変化するかを示した図であり、縦軸に単位長あた
りの電気信号数を示し、縦軸に配線面に照射する光の入
射角を示した。配線面に対して上方から光を照関する即
ち、光の入射角が0度に近い場合には単位長あたりの電
気信号数が多く、即ち電気信号の立上がり頃斜が緩やか
であることが分る。配線面に照射する光の入射角が大き
くなるにつれて単位長あたりの電気信号数が減少し、即
ち電気信号の立ち上がり傾斜が急激になることが分かる
。第9図aに於ける、貫通孔位置の電気信号レベル1,
から配線パターン位置の電気信号レベル13まで電気信
号レベルが上昇するのにイメージセンサの受光素子1ケ
ずつに対応してプロットされた電気信号数は平均5.4
ポイントであるが「第9図bに於いて、同機の、貫通孔
位置の電気信号レベル1,′から、スルーホール肩部か
らの電気信号レベルb′までの電気信号レベルが上昇す
るのに平均1.9ポイントである。従ってその差の3.
5ポイント分に相当する電気信号数、距離に換算して(
受光素子ピッチが20〆であるから)20×3.5=7
0仏mが配線面に対して低い角度で光を照射することに
よってスルーホール肩部から得られたパターン情報にあ
たり、スルーホール径が従来例よりも70A小さくなり
実際の径に近ずし、て認識できることが分かる。以上述
べた如く、本発明によれば次の効果がある。
が0度に近い場合には、絶縁基村の電気信号レベルは低
レベルにあるが、入射角が大きくなるにつれて高レベル
に推移し、入射角60度を頂点にして入射角が更に大き
くなると逆に低レベルに推移する特性を示している。従
って配線面に対して低い角度で光を照射する即ち、光の
入射角が90度に近い場合にも絶縁基材の電気信号レベ
ルは低レベルである。絶黍廉基村の電気信号レベルが高
レベルになると配線パターンの電気信号レベルとの差が
なくなるため、2値化回路による、配線パターンは明レ
ベル(2進“1”)、絶縁基材は脂レベル(2進“0”
)の2値化が不可能になる。従って絶縁基材の電気信号
レベルはできるかぎり低レベルに保つ必要があり、その
意味では配線面に対する低い角度での光の照射は都合が
良い。第11図は配線面を照射する光の入射角の違いに
よって貫通孔の電気信号レベルから配線パターンの電気
信号レベルまでの電気信号の平均立ち上がり傾斜量がど
の様に変化するかを示した図であり、縦軸に単位長あた
りの電気信号数を示し、縦軸に配線面に照射する光の入
射角を示した。配線面に対して上方から光を照関する即
ち、光の入射角が0度に近い場合には単位長あたりの電
気信号数が多く、即ち電気信号の立上がり頃斜が緩やか
であることが分る。配線面に照射する光の入射角が大き
くなるにつれて単位長あたりの電気信号数が減少し、即
ち電気信号の立ち上がり傾斜が急激になることが分かる
。第9図aに於ける、貫通孔位置の電気信号レベル1,
から配線パターン位置の電気信号レベル13まで電気信
号レベルが上昇するのにイメージセンサの受光素子1ケ
ずつに対応してプロットされた電気信号数は平均5.4
ポイントであるが「第9図bに於いて、同機の、貫通孔
位置の電気信号レベル1,′から、スルーホール肩部か
らの電気信号レベルb′までの電気信号レベルが上昇す
るのに平均1.9ポイントである。従ってその差の3.
5ポイント分に相当する電気信号数、距離に換算して(
受光素子ピッチが20〆であるから)20×3.5=7
0仏mが配線面に対して低い角度で光を照射することに
よってスルーホール肩部から得られたパターン情報にあ
たり、スルーホール径が従来例よりも70A小さくなり
実際の径に近ずし、て認識できることが分かる。以上述
べた如く、本発明によれば次の効果がある。
m 配線面に対する低い角度での光の照射により、スル
ーホール肩部からのパターン情報が得られ、実際のスル
ーホール径に近い認識ができると共にスルーホール肩部
の欠陥を検出できる。
ーホール肩部からのパターン情報が得られ、実際のスル
ーホール径に近い認識ができると共にスルーホール肩部
の欠陥を検出できる。
第1図は一般的な印刷配線板の一部拡大平面図、第2図
はそのA−A′断面図、第3図、第4図は従来の検査装
置を説明するための図、第5図はスルーホール肩部の欠
陥を説明するための図、第6図は本発明の一実施例であ
る検査装置を説明するための図、第7図はその一部詳細
図第8図は動作を説明するための図、第9図、第10図
、第11図は本発明の一実施例である検査装置で得られ
た電気信号を説明するための図である。 1,1′……印刷配線板、2,3……配線面、4,5・
…・・配線パターン、6・・・・・・スルーホール、7
・・・・・・絶縁基材、8〜12・・・・・・欠陥部分
、15・・・・・・スルーホール肩部、16・・…・ス
ルーホール肩部の欠陥、21,21′・・・・・・光源
、22,22′・・・・・・レンズ、23,23′……
ハーフミラー、24,24′・・・・・・結像レンズ、
25,25′……イメージセンサ、26,26…・・・
電気信号出力、27・..・.・比較照合装置、28,
28′・…・・2値化回路、29・・・・・・メモリ、
30・・・・・・パターン比較回路、31〜35・・・
・・・入射光、41,42,44,45・・・・・・反
射光、51,51′…・・・光源、52,52′・・・
・・・光ファイバー。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図 第11図
はそのA−A′断面図、第3図、第4図は従来の検査装
置を説明するための図、第5図はスルーホール肩部の欠
陥を説明するための図、第6図は本発明の一実施例であ
る検査装置を説明するための図、第7図はその一部詳細
図第8図は動作を説明するための図、第9図、第10図
、第11図は本発明の一実施例である検査装置で得られ
た電気信号を説明するための図である。 1,1′……印刷配線板、2,3……配線面、4,5・
…・・配線パターン、6・・・・・・スルーホール、7
・・・・・・絶縁基材、8〜12・・・・・・欠陥部分
、15・・・・・・スルーホール肩部、16・・…・ス
ルーホール肩部の欠陥、21,21′・・・・・・光源
、22,22′・・・・・・レンズ、23,23′……
ハーフミラー、24,24′・・・・・・結像レンズ、
25,25′……イメージセンサ、26,26…・・・
電気信号出力、27・..・.・比較照合装置、28,
28′・…・・2値化回路、29・・・・・・メモリ、
30・・・・・・パターン比較回路、31〜35・・・
・・・入射光、41,42,44,45・・・・・・反
射光、51,51′…・・・光源、52,52′・・・
・・・光ファイバー。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図 第11図
Claims (1)
- 1 印刷配線板の配線面からの反射光を検出することに
よつて該印刷配線板の配線パターンを検査する装置にお
いて、前記印刷配線板の配線面に対しほぼ垂直方向から
光を照射する第1の照射手段と、前記配線面に対し入射
角の大きい角度から光を照射する第2の照射手段と、前
記第1の照射手段および第2の照射手段によつて上記配
線面から得られる反射光による1つの反射映像に基づい
て前記配線面の配線パターンの欠陥を判定する手段とを
有することを特徴とする印刷配線板のパターン検査装置
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54092676A JPS6017044B2 (ja) | 1979-07-23 | 1979-07-23 | 印刷配線板のパタ−ン検査装置 |
| US06/171,265 US4421410A (en) | 1979-07-23 | 1980-07-22 | Method and apparatus for inspecting printed wiring boards |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54092676A JPS6017044B2 (ja) | 1979-07-23 | 1979-07-23 | 印刷配線板のパタ−ン検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5616804A JPS5616804A (en) | 1981-02-18 |
| JPS6017044B2 true JPS6017044B2 (ja) | 1985-04-30 |
Family
ID=14061078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54092676A Expired JPS6017044B2 (ja) | 1979-07-23 | 1979-07-23 | 印刷配線板のパタ−ン検査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4421410A (ja) |
| JP (1) | JPS6017044B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63152315U (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-06 | ||
| JP2006017726A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Ajuhitek Inc | 印刷回路基板の微細パターンを検査するための照明装置と、これを具備する自動光学検査システムおよびそれの検査方法 |
Families Citing this family (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5999304A (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-08 | Asahi Optical Co Ltd | 顕微鏡系のレーザ光による比較測長装置 |
| US4614430A (en) * | 1983-04-28 | 1986-09-30 | Hitachi Ltd. | Method of detecting pattern defect and its apparatus |
| DE3422395A1 (de) * | 1983-06-16 | 1985-01-17 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren und vorrichtung zum ermitteln von verdrahtungsmustern |
| JPS60119407A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-26 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 比較検査装置 |
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1979
- 1979-07-23 JP JP54092676A patent/JPS6017044B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-07-22 US US06/171,265 patent/US4421410A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5616804A (en) | 1981-02-18 |
| US4421410A (en) | 1983-12-20 |
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