JP2013033068A - 表面検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体ウェーハ検査装置10は、半導体ウェーハ100の外周エッジ部分101に対向して配置される撮像レンズ22と、撮像レンズ22を介して半導体ウェーハ100の外周端面に対向して配置される撮像面24と、半導体ウェーハ100の第1外周ベベル面101bの像を撮像レンズ22を介して撮像面24に結像させるミラー12と、半導体ウェーハ100の第2外周ベベル面101cの像を撮像レンズ22を介して撮像面24に結像させるミラー14と、半導体ウェーハ100の外周端面101aの像を撮像レンズ22の中央部を介して撮像面24に結像させる補正レンズ26と、外周端面101aより第1外周ベベル面101b及び第2外周ベベル面101cの方が明るくなるように、これらを照明する照明ライトガイド灯光部18とを有する。
【選択図】 図3
Description
板状部材の第1主面の外縁において傾斜した第1外周ベベル面、前記板状部材の第2主面の外縁において傾斜した第2外周ベベル面、及び、前記板状部材の外周端面を含む外周エッジ部を撮影して検査する表面検査装置であって、
前記板状部材の前記外周エッジ部に対向して配置される撮像レンズと、
前記撮像レンズを挟んで前記板状部材の外周エッジ部と逆側に配置される撮像面と、
前記板状部材の前記第1外周ベベル面の像を前記撮像レンズの第1周辺部を介して前記撮像面に結像させる第1光学部材と、
前記板状部材の前記第2外周ベベル面の像を前記撮像レンズの第2周辺部を介して前記撮像面に結像させる第2光学部材と、
前記板状部材の前記外周端面の像を前記撮像レンズの中央部を介して前記撮像面に結像させる第3光学部材と、
前記外周端面より前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面のそれぞれの方が明るくなるように、前記外周端面、前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面を照明する照明ユニットを有し、
前記照明ユニットは、
光源と、
該光源からの光を導入し、光の照射面としての先端から前記板状部材の前記外周エッジ部に照射する複数の光ファイバとを有し、
前記外周端面より前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面のそれぞれの方が明るくなるように、前記光源からの光を導入する前記複数の光ファイバの先端が配列された表面検査装置である。
12、14 ミラー
12a、14a 反射面
16 ライトソース
17 光ファイバ
17a 照射面
18 照明ライトガイド灯光部
19 ハーフミラー
20 シリンドリカル平凸レンズ
21 カメラ
22 撮像レンズ
24 撮像面
26 補正レンズ
28 モニタ
30 ガイドレール
32、34 支持部
36、37 軸
40、41、42、43 脚部
100 半導体ウェーハ
101 外周エッジ部分
101a 外周端面
101b 第1外周ベベル面
101c 第2外周ベベル面
102a 第1主面
102b 第2主面
Claims (1)
- 板状部材の第1主面の外縁において傾斜した第1外周ベベル面、前記板状部材の第2主面の外縁において傾斜した第2外周ベベル面、及び、前記板状部材の外周端面を含む外周エッジ部を撮影して検査する表面検査装置であって、
前記板状部材の前記外周エッジ部に対向して配置される撮像レンズと、
前記撮像レンズを挟んで前記板状部材の外周エッジ部と逆側に配置される撮像面と、
前記板状部材の前記第1外周ベベル面の像を前記撮像レンズの第1周辺部を介して前記撮像面に結像させる第1光学部材と、
前記板状部材の前記第2外周ベベル面の像を前記撮像レンズの第2周辺部を介して前記撮像面に結像させる第2光学部材と、
前記板状部材の前記外周端面の像を前記撮像レンズの中央部を介して前記撮像面に結像させる第3光学部材と、
前記外周端面より前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面のそれぞれの方が明るくなるように、前記外周端面、前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面を照明する照明ユニットを有し、
前記照明ユニットは、
光源と、
該光源からの光を導入し、光の照射面としての先端から前記板状部材の前記外周エッジ部に照射する複数の光ファイバとを有し、
前記外周端面より前記第1外周ベベル面及び前記第2外周ベベル面のそれぞれの方が明るくなるように、前記光源からの光を導入する前記複数の光ファイバの先端が配列された表面検査装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017538117A (ja) * | 2014-12-05 | 2017-12-21 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | ワークピース欠陥検出用の装置、方法及びコンピュータプログラム製品 |
KR102571868B1 (ko) * | 2022-09-20 | 2023-08-30 | 주식회사 아이엠반도체 | 웨이퍼 엣지 검사용 광원 모듈 및 웨이퍼 엣지 검사 장치 |
WO2024224992A1 (ja) * | 2023-04-28 | 2024-10-31 | 株式会社Screenホールディングス | 撮像装置、基板観察装置、基板処理装置および撮像方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5636166B2 (ja) * | 2009-04-22 | 2014-12-03 | 株式会社レイテックス | 表面検査用照明装置 |
US20110317003A1 (en) * | 2010-06-02 | 2011-12-29 | Porat Roy | Method and system for edge inspection using a tilted illumination |
US11026361B2 (en) * | 2013-03-15 | 2021-06-01 | John S. Youngquist | Linear/angular correction of pick-and-place held component and related optical subsystem |
KR20160040044A (ko) * | 2014-10-02 | 2016-04-12 | 삼성전자주식회사 | 패널 검사장치 및 검사방법 |
WO2016149016A1 (en) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | Corning Incorporated | Edge strength testing methods and apparatuses |
CN107026095A (zh) * | 2016-02-01 | 2017-08-08 | 易发精机股份有限公司 | 晶圆边缘量测模组 |
JP7161905B2 (ja) * | 2018-10-15 | 2022-10-27 | アルテミラ株式会社 | 缶蓋検査機並びにカメラ位置調整方法 |
CN114322773A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 杭州电子科技大学 | 一种用于长条薄片零件视觉检测的装置及其检测方法 |
CN115931903B (zh) * | 2023-02-02 | 2023-05-26 | 苏州高视半导体技术有限公司 | 边缘检测镜头及系统 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01233571A (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-19 | Fujitsu Ltd | ピングリッドアレイ型部品のピン曲り検出装置 |
JPH04215045A (ja) * | 1990-12-12 | 1992-08-05 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | レーザ検査装置 |
JP2002310924A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Toray Ind Inc | シートの欠陥検査装置及びシートの製造方法 |
JP2003065960A (ja) * | 2001-08-24 | 2003-03-05 | Kyoto Denkiki Kk | Led照明装置 |
JP2004191214A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd | ライン照明装置及びライン照明装置を用いた検査装置 |
JP2005069715A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー |
JP2005274462A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Ccs Inc | 光照射装置及び光照射装置用ヘッド |
WO2006059647A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Shibaura Mechatronics Corporation | 表面検査装置及び表面検査方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2999712B2 (ja) | 1996-03-29 | 2000-01-17 | 住友金属工業株式会社 | 端部欠陥検査方法とその装置 |
JP2006017685A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Nippon Electro Sensari Device Kk | 表面欠陥検査装置 |
US7280197B1 (en) * | 2004-07-27 | 2007-10-09 | Kla-Tehcor Technologies Corporation | Wafer edge inspection apparatus |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01233571A (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-19 | Fujitsu Ltd | ピングリッドアレイ型部品のピン曲り検出装置 |
JPH04215045A (ja) * | 1990-12-12 | 1992-08-05 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | レーザ検査装置 |
JP2002310924A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Toray Ind Inc | シートの欠陥検査装置及びシートの製造方法 |
JP2003065960A (ja) * | 2001-08-24 | 2003-03-05 | Kyoto Denkiki Kk | Led照明装置 |
JP2004191214A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd | ライン照明装置及びライン照明装置を用いた検査装置 |
JP2005069715A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー |
JP2005274462A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Ccs Inc | 光照射装置及び光照射装置用ヘッド |
WO2006059647A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Shibaura Mechatronics Corporation | 表面検査装置及び表面検査方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017538117A (ja) * | 2014-12-05 | 2017-12-21 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | ワークピース欠陥検出用の装置、方法及びコンピュータプログラム製品 |
US10935503B2 (en) | 2014-12-05 | 2021-03-02 | Kla Corporation | Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces |
US11105839B2 (en) | 2014-12-05 | 2021-08-31 | Kla Corporation | Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces |
JP2021175987A (ja) * | 2014-12-05 | 2021-11-04 | ケーエルエー コーポレイション | 個片化半導体デバイスの欠陥検出装置 |
JP2021182005A (ja) * | 2014-12-05 | 2021-11-25 | ケーエルエー コーポレイション | ワークピースの欠陥検出装置及び方法 |
US11726126B2 (en) | 2014-12-05 | 2023-08-15 | Kla Corporation | Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces |
JP7373527B2 (ja) | 2014-12-05 | 2023-11-02 | ケーエルエー コーポレイション | ワークピースの欠陥検出装置及び方法 |
US11892493B2 (en) | 2014-12-05 | 2024-02-06 | Kla Corporation | Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces |
KR102571868B1 (ko) * | 2022-09-20 | 2023-08-30 | 주식회사 아이엠반도체 | 웨이퍼 엣지 검사용 광원 모듈 및 웨이퍼 엣지 검사 장치 |
WO2024224992A1 (ja) * | 2023-04-28 | 2024-10-31 | 株式会社Screenホールディングス | 撮像装置、基板観察装置、基板処理装置および撮像方法 |
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