TW202433143A - 高壓洗淨裝置 - Google Patents
高壓洗淨裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202433143A TW202433143A TW112103474A TW112103474A TW202433143A TW 202433143 A TW202433143 A TW 202433143A TW 112103474 A TW112103474 A TW 112103474A TW 112103474 A TW112103474 A TW 112103474A TW 202433143 A TW202433143 A TW 202433143A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- nozzle
- aforementioned
- nozzles
- cleaning liquid
- nozzle row
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 335
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 183
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 114
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 101000827703 Homo sapiens Polyphosphoinositide phosphatase Proteins 0.000 description 1
- 102100023591 Polyphosphoinositide phosphatase Human genes 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
藉由複數個噴嘴(20),以相互平行延伸之狀態形成一對被配列成直線狀的噴嘴列(延長部(22A、22B)),該噴嘴列,係在與對象物(W)平行且與基於搬送裝置(11)的對象物(W)之搬送方向交叉的方向即交叉方向上延伸。又,複數個噴嘴(20),係分別位於構成對向之噴嘴列的相鄰之兩個噴嘴(20)的中央,並以「噴射方向與噴嘴列的延伸方向正交而延伸並且朝向對向之噴嘴列側傾斜」的狀態予以支撐。而且,自構成一對噴嘴列的一方(22A)之噴嘴(20)所噴射的洗淨液與自構成一對噴嘴列的另一方(22B)之噴嘴所噴射的洗淨液呈交叉。
Description
本發明,係關於一種「藉由經加壓的高壓洗淨液,洗淨平板狀之對象物」的高壓洗淨裝置。
在下述專利文獻1,係記載有用以洗淨液晶面板等的基板之洗淨裝置。記載於專利文獻1之洗淨裝置,係複數個平面型噴霧噴嘴朝板寬方向排列所構成的第1噴嘴列及第2噴嘴列在基板搬送方向上被配置成兩段,在上游側之第1噴嘴列中,係各噴嘴的直線狀噴霧圖案相對於板寬方向以預定角度朝同方向傾斜,在下游側之第2噴嘴列中,係來自各噴霧噴嘴的液膜以預定之重疊,沿前述板寬方向連續地形成跨及板寬方向的整個區域之簾幕狀的液膜。而且,在專利文獻1,係記載有:藉由來自第2噴嘴列之簾幕狀的液膜作為堰而發揮功能的方式,來自第1噴嘴列中之複數個平面型噴霧噴嘴的洗淨液積存於該堰之上游側,藉由來自第1噴嘴列中之複數個平面型噴霧噴嘴的洗淨液之獨立的吐出,對滯留有其洗淨液之部分賦予較大打擊力,從而產生劇烈的攪拌。又,記戴有:藉由複數個噴霧噴嘴傾斜於同方向,亦促進向基板側方的液排出。
又,在下述專利文獻2,係記載有一種「對液晶面板等的基板,噴射被使用於洗淨、圖案形成用之顯像、濕蝕刻之處理液」的液體噴射裝置。記載於該專利文獻2之裝置,係其特徵為,具備有:複數個噴嘴列,由朝向基板噴射處理液的複數個噴嘴所構成,並且沿相對於基板的搬送方向大致正交之方向排列,各噴嘴之噴射方向,係以使自該噴嘴所噴射的處理液與自對向於該噴嘴之噴嘴所噴射的處理液在基板上匯流且沿相對於基板的搬送方向大致正交之方向流動的方式,在俯視下,相對於基板的搬送方向往左右一側傾斜。如以上般,專利文獻1、2之裝置,係主要目的在於從處理對象物上排出處理液或由其所致之處理時間的縮短。
另一方面,在下述專利文獻3,係記載有一種「與記載於下述專利文獻1、2的裝置不同,藉由高壓泵對洗淨液進行加壓而供給至噴嘴,並使洗淨液碰撞對象物,藉此,去除對象物上之異物等」的洗淨裝置。在記載於該專利文獻3之高壓洗淨裝置中,係藉由自噴嘴噴射的洗淨液之液滴所具有的物理能量,去除對象物上之異物等。另外,記載於該專利文獻3之洗淨裝置,係如專利文獻1般,即便對滯留有洗淨液之部分噴射洗淨液,碰撞對象物的能量亦減少而無法獲得充分的洗淨效果。而且,本發明,係以「藉由如專利文獻3所記載般的高壓洗淨液來洗淨對象物」之高壓洗淨裝置為前提而予以發明者。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-205086號公報
[專利文獻2]日本特開平9-160006號公報
[專利文獻3]國際公開第2021/014610號
[本發明所欲解決之課題]
在記載於上述專利文獻3之洗淨裝置中,係自噴嘴以因應於其噴嘴的噴霧圖案噴射洗淨液。其噴霧圖案與對象物接觸之範圍雖成為主要的洗淨範圍,但其範圍之中心(噴嘴之軸線與對象物的交點)從噴嘴的噴射口至對象物為止之距離較短,洗淨力(異物等的去除率)最高。另一方面,越遠離其中心,洗淨力越低。例如,如上述專利文獻1的洗淨裝置中之噴嘴列般,即便設為「於俯視下,使各噴嘴從板寬方向傾斜且使相鄰之噴嘴在搬送方向上重疊」的配置,亦存在有重疊之部分均於噴嘴的洗淨範圍中遠離中心且洗淨力變低這樣的問題。又,高壓洗淨裝置,係由於來自噴嘴的噴射壓力較強,因此,恐有產生伴隨其所引起的氣流且由搬送裝置所搬送的對象物移動或浮起之虞。
本發明之課題在於提供一種「能穩定地搬送對象物並能以均等且高洗淨力來洗淨對象物上」的高壓洗淨裝置。
[用以解決課題之手段]
為了解決上述課題,本案所揭示之高壓洗淨裝置,係藉由經加壓的高壓洗淨液,對沿直線方向相對移動之平板狀的對象物進行洗淨,該高壓洗淨裝置,其特徵係,具備有:
複數個噴嘴,噴射洗淨液;及高壓泵,將洗淨液進行加壓並供給至複數個前述噴嘴,
藉由複數個前述噴嘴,以相互平行延伸之狀態形成一對被配列成直線狀的噴嘴列,該噴嘴列,係在與前述對象物平行且與前述對象物之相對移動方向交叉的方向即交叉方向上延伸,
複數個前述噴嘴,係分別位於構成對向之前述噴嘴列的相鄰之兩個前述噴嘴的中央,並以「噴射方向與前述噴嘴列的延伸方向正交而延伸並且朝向對向之前述噴嘴列側傾斜」的狀態予以支撐,
自構成一對前述噴嘴列的一方即一方側噴嘴列之前述噴嘴所噴射的洗淨液與自構成一對前述噴嘴列的另一方即另一方側噴嘴列之前述噴嘴所噴射的洗淨液呈交叉。
揭示於本案之高壓洗淨裝置,係成為「僅由一對噴嘴列所構成,以位於彼此錯開之位置的方式配列噴嘴」之構成。另外,揭示於本案之高壓洗淨裝置,係噴嘴列之延伸方向不限定於與相對移動方向正交的方向,亦可為朝相對移動搬送方向稍微傾斜的方向。又,揭示於本案之高壓洗淨裝置,係亦可為「藉由搬送裝置等,對象物相對於一對噴嘴列移動」的構成,且亦可為「該高壓洗淨裝置具有使一對噴嘴列移動之移動機構等,一對噴嘴列相對於對象物移動」的構成。
例如,在對象物被搬送的情況下,構成一對噴嘴列中之搬送方向上的上游側者(上游側噴嘴列)之噴嘴,係朝向下游側傾斜且朝向其下游側噴射洗淨液,構成一對噴嘴列中之搬送方向上的下游側者(下游側噴嘴列)之噴嘴,係朝向上游側傾斜且朝向其上游側噴射洗淨液。在以往的高壓洗淨裝置,係存在有使洗淨液從噴嘴噴射至與對象物正交之方向的構成者。在像這樣的構成的情況下,噴嘴之洗淨範圍中越遠離中心,則從中心朝向外側的洗淨液越大量存在於對象物上,且由高壓洗淨液所產生之液滴的物理能量減少而洗淨力降低。對此,揭示於本案之高壓洗淨裝置,係任一噴嘴亦傾斜,從相對於對象物傾斜的方向噴射洗淨液。亦即,在揭示於本案之高壓洗淨裝置中,係即便為在各噴嘴中遠離洗淨範圍之中心的部分,亦會產生洗淨液少的部位,可提高遠離其中心之部分的至少一部分之洗淨力。另外,噴嘴之噴霧圖案,係例如雖亦可為圓錐狀或扇狀,但最好是以扇狀之噴霧圖案進行噴射的噴嘴。在以其扇狀之噴霧圖案進行噴射的噴嘴的情況下,雖大體上直線狀地接觸於對象物而大體上形成直線狀之洗淨範圍,但由於可使洗淨液的大部分沿與其直線狀之洗淨範圍交叉的方向流動,因此,在洗淨範圍之外緣附近,可減少洗淨液的滯留而有效率地提高洗淨力。
而且,揭示於本案之高壓洗淨裝置,係如上述般,自構成上游側噴嘴列之噴嘴所噴射的洗淨液(上游側噴嘴洗淨液)與自構成下游側噴嘴列的噴嘴所噴射的洗淨液(下游側噴嘴洗淨液),係相互交叉,上游側噴嘴洗淨液,係在比下游側噴嘴洗淨液更下游側碰撞對象物而朝向下游側流動,下游側噴嘴洗淨液,係在比上游側噴嘴洗淨液更上游側碰撞對象物而朝向上游側流動。亦即,上游側噴嘴洗淨液與下游側噴嘴洗淨液,係在與對象物接觸後,不相互碰撞而順暢地流動。另外,該些上游側噴嘴洗淨液與下游側噴嘴洗淨液,係最好是被設為在碰撞對象物之前不相互接觸。又,自構成上游側噴嘴列之各噴嘴所噴射的洗淨液彼此及自構成下游側噴嘴列之各噴嘴所噴射的洗淨液彼此,係由於相鄰之噴嘴間的距離較大,因此,洗淨液碰撞對象物的洗淨範圍之間的距離亦大,可不使洗淨力相互降低而有效地進行洗淨。又,藉由相鄰之噴嘴的噴射而產生之氣流彼此的碰撞亦小,可使碰撞對象物後的洗淨液針對每個噴嘴順暢地流動。
而且,揭示於本案之高壓洗淨裝置,係雖由於噴嘴的噴射壓力較高,故在噴射之洗淨液周圍會產生氣流,但由於是以在上游側與下游側相互交叉的方式噴射洗淨液,因此,施加至對象物的力會分散,可迴避如搬送中之對象物移動或浮起這樣的事態。
在上述構成中,可設為如下構成:複數個前述噴嘴之各者,係以沿前述噴嘴列之延伸方向擴展的薄型扇狀之噴霧圖案進行噴射的噴霧噴嘴,該噴霧圖案作為與前述對象物接觸之部分而形成大體上直線狀的洗淨液碰撞圖案,構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案,係在前述相對移動方向上一部分重疊。
該構成之高壓洗淨裝置,係成為「在相對移動方向上,一方側噴嘴列的噴嘴之洗淨範圍的端部與另一方側噴嘴列的噴嘴之洗淨範圍的端部在相對移動方向上排列(在相對移動方向上重疊)」的構成。根據該構成之高壓洗淨裝置,藉由組合以扇狀之噴霧圖案進行噴射的噴霧噴嘴所致之直線狀的洗淨液碰撞圖案的方式,可確實地覆蓋噴嘴列方向整個區域,有效地洗淨對象物。
在上述構成中,可設為如下構成:構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴,係被設為「構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案不接觸,且構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案之間的與前述噴嘴列延伸之方向正交的方向上之距離變小」的關係。
當一方側噴嘴列的噴霧圖案與另一方側噴嘴列的噴霧圖案接觸時,由於自一方側噴嘴列之噴嘴所噴射的洗淨液與自另一方側噴嘴列之噴嘴所噴射的洗淨液碰撞,因此,導致該些噴霧圖案接觸的範圍中之洗淨力降低。另一方面可知,當一方側噴嘴列的洗淨液碰撞圖案與另一方側噴嘴列的洗淨液碰撞圖案之間的距離變遠時,則洗淨力在整個區域降低。因此,根據該構成之高壓洗淨裝置,可在整個區域確保高洗淨力。
在上述構成中,可設為如下構成:複數個前述噴嘴,係被設為從噴射口至前述對象物為止的距離相等,以使構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案不接觸,且構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案之間的與前述噴嘴列延伸之方向正交的方向上之距離變小的方式,決定構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的傾斜角度及構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的傾斜角度。
該構成之高壓洗淨裝置,係前述態樣中之構成一方側噴嘴列的噴嘴與構成另一方側噴嘴列的噴嘴之關係被具體化。另外,該構成之高壓洗淨裝置,係在構成一方側噴嘴列之噴嘴與構成另一方側噴嘴列之噴嘴的所有噴嘴中,被設為從噴射口至對象物為止的距離相等,可謀求對象物上之洗淨力的均等化,並可有效地洗淨對象物。
在上述構成中,可設為如下構成:複數個前述噴嘴,係被設為從噴射口至前述對象物為止的距離相等,前述對象物相對於前述噴嘴列移動之方向與噴射方向相同的前述噴嘴,係相對於前述對象物所成的角度被設為比「前述對象物相對於前述噴嘴列移動之方向與噴射方向相反」的前述噴嘴相對於前述對象物所成的角度小。
例如在對象物被搬送的情況下,在自構成上游側之噴嘴列的噴嘴所噴射者與自構成下游側之噴嘴列的噴嘴所噴射者中,與被搬送的對象物碰撞之洗淨液的擴展並不同。具體而言,由於洗淨液自構成下游側之噴嘴列的噴嘴被噴射至與搬送方向相反的方向,因此,碰撞其對象物之洗淨液,係成為沿搬送方向擴展的形狀,換言之,朝搬送方向之流動的偏離變大。另一方面,由於洗淨液自構成上游側之噴嘴列的噴嘴被噴射至與搬送方向相同的方向,因此,碰撞其對象物之洗淨液,係朝搬送方向之流動的偏離變小。考慮此情況,該構成之高壓洗淨裝置,係自下游側噴嘴列所噴射的洗淨液者與自上游側噴嘴列所噴射的洗淨液相比,被設為相對於對象物更窄小的角度(接近與對象物正交之方向的角度),自構成下游側噴嘴列之噴嘴碰撞對象物的洗淨液,係被設為朝搬送方向之流動的偏離不會變大。反之,從構成上游側噴嘴列之噴嘴碰撞對象物的洗淨液,係被設為朝搬送方向之流動的偏離不會變小。藉此,可謀求構成一方側噴嘴列的噴嘴之洗淨力與構成另一方側噴嘴列的噴嘴之洗淨力的均等化。
在上述構成中,可設為如下構成:由前述高壓泵的加壓所產生之來自前述噴嘴的噴射壓力,係3MPa以上30MPa以下。
該構成之高壓洗淨裝置,係即便在洗淨裝置中,噴嘴之噴射壓力亦較高且揭示於本案的構成特別有效。
[發明之效果]
根據本發明,可提供一種「能穩定地搬送對象物並能以均等且高洗淨力來洗淨對象物上」的高壓洗淨裝置。
一邊參閱圖1~圖18,一邊說明本發明之實施形態的超高壓洗淨裝置10。本實施形態之超高壓洗淨裝置10(以下,有時僅稱為「洗淨裝置10」),係如圖1所示般,以高壓~超高壓噴射洗淨液即純水,去除平板狀的洗淨對象物W上之異物或有機物等的洗淨裝置。作為洗淨對象物W,係例如可列舉出平板顯示器或半導體晶圓等。本實施形態之洗淨裝置10,係如圖2所示般,具備有:搬送裝置11,搬送洗淨對象物W;高壓泵13,對洗淨液進行高壓壓送;及複數個噴霧噴嘴20,藉由高壓泵13與高壓軟管14等所連接。
如圖1~圖3所示般,搬送裝置11,係沿搬送方向配列有複數根滾輪11c的搬送滾輪,該滾輪11c,係複數個圓環狀之支撐部11a以預定間隔被安裝於旋轉軸11b。搬送裝置11,係被設為在藉由複數個支撐部11a對洗淨對象物W的寬度方向(與搬送方向正交的方向)上之複數個部位進行點支撐的狀態下,搬送洗淨對象物W者。
高壓泵13,係將洗淨液進行加壓並供給至噴霧噴嘴20。該高壓泵13,係能以使從噴霧噴嘴20所噴射的洗淨液之噴射壓力成為3MPa以上30MPa以下的方式,將洗淨液進行加壓,本實施形態之洗淨裝置10,係能以比一般洗淨裝置高的壓力,從複數個噴霧噴嘴20噴射洗淨液。
複數個噴霧噴嘴20,係如圖1~圖3所示般,被安裝於一對延長部22A、22B。該些一對延長部22A、22B,係管狀者,將洗淨液從所連接的高壓軟管14供給至所安裝的噴霧噴嘴20。延長部22A、22B,係在搬送裝置11之上方,以與搬送裝置11所搬送的洗淨對象物W平行且沿與搬送方向交叉之方向(在本實施形態中,係被設為與搬送方向正交的正交方向)延伸的狀態予以保持。
在各延長部22A、22B,係以預定間隔安裝有複數個噴霧噴嘴20,藉此,形成一對噴嘴列。又,如圖4所示般,安裝於各延長部22A、22B之噴霧噴嘴20,係位於被安裝在對向之延長部的相鄰之兩個噴霧噴嘴20的中央。淺易地說,相對於一對延長部22A、22B,以位於彼此錯開之位置的方式配列複數個噴霧噴嘴20。
而且,複數個噴霧噴嘴20之各者,係如圖4、5所示般,往與延長部22A、22B正交的方向延伸出,並且以前端朝向對向之延長部22B、22A側傾斜的狀態予以安裝。詳細地說,安裝於位在搬送方向上的上游側之延長部22A的噴霧噴嘴20(構成上游側噴嘴列的噴霧噴嘴20,以下有時稱為「上游側噴嘴20A」),係前端朝向位於下游側的延長部22B側傾斜。另一方面,安裝於位在下游側之延長部22B的噴霧噴嘴20(構成下游側噴嘴列的噴霧噴嘴20,以下有時稱為「下游側噴嘴20B」),係前端朝向位於上游側的延長部22A側傾斜。
各噴霧噴嘴20,係如圖4所示般,以沿延長部22A、22B之延伸方向擴展的薄型扇狀之噴霧圖案進行噴射。藉由其薄型扇狀之噴霧圖案,各噴霧噴嘴20,係對於洗淨對象物W形成大體上平行於延長部22A、22B之直線狀的洗淨液碰撞圖案P
A、P
B。另外,如圖5所示般,複數個噴霧噴嘴20之各者,係從噴射口21至噴射方向上之洗淨對象物W為止的距離即噴射距離Di被設為全部相等。因此,上游側噴嘴20A之洗淨液碰撞圖案(以下,有時稱為「上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A」)與下游側噴嘴20B之洗淨液碰撞圖案(以下,有時稱為「下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B」),係成為大致相同尺寸者。
在本實施形態之洗淨裝置10中,係如上述般,由於各噴霧噴嘴20朝向對向的延長部側傾斜,因此,自噴霧噴嘴20所噴射的洗淨液,係從斜上方碰撞洗淨對象物W。因此,所噴射的洗淨液,係在碰撞洗淨對象物W後,以擴展至如圖6中概念性地表示般之範圍的方式,在洗淨對象物W上流動。例如,考慮「噴霧噴嘴朝向與洗淨對象物W正交的方向,所噴射的洗淨液垂直地碰撞洗淨對象物W」的情形。在該情況下,碰撞洗淨對象物W之洗淨液,係如圖7所示般地擴展,在洗淨對象物W上流動。藉由以薄型扇狀之噴霧圖案予以噴射的方式,越靠洗淨液碰撞圖案中之端部側,則洗淨液的碰撞方向越傾斜。因此,如圖8所示般,藉由超高壓之洗淨液去除異物的洗淨裝置中,係其洗淨液碰撞洗淨對象物W的力(沿垂直方向作用於洗淨對象物W的力)越靠洗淨液碰撞圖案中之端部側則越弱。而且,因越靠洗淨液碰撞圖案中之端部側則洗淨液的碰撞方向越傾斜,故由於使洗淨液向洗淨碰撞圖案之端部側流動的力會變得比碰撞洗淨對象物的力強,因此,導致大量的洗淨液流動而洗淨液碰撞洗淨對象物的力進一步衰減且變弱。
對此,如本洗淨裝置10般,在洗淨液從相對於洗淨對象物W傾斜之方向碰撞的情況下,係如圖6及圖9所示般,與洗淨液從正交之方向碰撞的情形相比,可使流動於洗淨液碰撞圖案P
A、P
B內的洗淨液減少。亦即,本洗淨裝置10,係在各噴霧噴嘴20之各者中,可抑制洗淨液碰撞圖案P
A、P
B中之端部側的洗淨液碰撞洗淨對象物W之力的衰減而確保洗淨力。另外,洗淨液碰撞圖案P
A、P
B內之中心部的洗淨力,係與圖7、8所示的洗淨液從正交之方向碰撞之構成的情形相比,洗淨力雖降低,但可減小洗淨液碰撞圖案P
A、P
B中之端部側的洗淨力之差,並可謀求洗淨液碰撞圖案P
A、P
B內之洗淨力的均勻化。
又,如圖5所示般,上游側噴嘴20A,係相對於洗淨對象物W所成的角度θ
A(以下,有時稱為「上游側噴嘴傾斜角度θ
A」)被設為比下游側噴嘴20B相對於洗淨對象物W所成的角度θ
B(以下,有時稱為「下游側噴嘴傾斜角度θ
B」)小。在此,考慮該些上游側噴嘴傾斜角度與下游側噴嘴傾斜角度被設為相同之傾斜角度的情形。洗淨液從上游側噴嘴20A被噴射至與搬送方向相同的方向,相對於此,洗淨液從下游側噴嘴20B被噴射至與搬送方向相反的方向。因此,藉由洗淨對象物W被搬送的方式,自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液相對於洗淨對象物W之相對速度,係比自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液相對於洗淨對象物W之相對速度大,且自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液碰撞洗淨對象物W後之洗淨液的擴展方式與自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液碰撞洗淨對象物W後之洗淨液的擴展方式並不同。具體而言,如圖10所示般,自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液,係成為沿搬送方向擴展的形狀(朝搬送方向上的上游方向之流動的偏離大),相對於此,自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液,係朝搬送方向之流動的偏離小。因此,在上游側噴嘴傾斜角度與下游側噴嘴傾斜角度被設為相同之傾斜角度的情況下,係恐有在上游側噴嘴20A的洗淨力與下游側噴嘴20B的洗淨力之間產生較大的差之虞。
在本實施形態之洗淨裝置10中,係上游側噴嘴傾斜角度θ
A被設為比下游側噴嘴傾斜角度θ
B小。具體而言,之後詳細地進行說明,如圖11所示般,以上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A與下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B之間的搬送方向上之距離Dp(以下,有時稱為「圖案間距離Dp」)成為特定的距離Dp
0作為條件,上游側噴嘴傾斜角度θ
A被設為比下游側噴嘴傾斜角度θ
B小。亦即,與圖案間距離Dp為特定的距離Dp
0且上游側噴嘴傾斜角度與下游側噴嘴傾斜角度成為相同之傾斜角度的情形相比,上游側噴嘴傾斜角度θ
A變小,下游側噴嘴傾斜角度θ
B變大。亦即,自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液,係與圖10所示的情形相比,朝搬送方向之流動的偏離變大,自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液,係朝搬送方向(上游方向)之流動的偏離變小。因此,本實施形態之洗淨裝置10,係上游側噴嘴20A之洗淨力與下游側噴嘴20B之洗淨力的差變小,可謀求洗淨對象物W上之洗淨力的均等化。
自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液與自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液,係如圖4、圖5所示般地相互交叉。換言之,於側方視下,上游側噴嘴20A的噴霧圖案與下游側噴嘴20B的噴霧圖案相互交叉。藉此,上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A,係被形成於比下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B更下游側。而且,上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A與下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B,係如圖4或圖11所示般,以端部與端部在搬送方向上重疊(lap)的方式,換言之,以端部彼此在搬送方向上隔開間隔排列的方式,設定延長部22A、22B中之噴霧噴嘴20的間隔(延長部22A、22B之長邊方向上的距離)。
另一方面,上游側噴嘴20A的噴霧圖案與下游側噴嘴20B的噴霧圖案不接觸。又,此外,以使圖案間距離Dp變小的方式,設定上游側噴嘴傾斜角度θ
A與下游側噴嘴傾斜角度θ
B。關於該圖案間距離Dp,係之後詳細地進行說明。
如以上般所構成的本實施形態之洗淨裝置10,係如圖11所示般,自上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液(以下,有時稱為「上游側噴嘴洗淨液」)與自下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液(以下,有時稱為「下游側噴嘴洗淨液」),係相互交叉,上游側噴嘴洗淨液,係在比下游側噴嘴洗淨液更下游側碰撞洗淨對象物W而朝向下游側流動,下游側噴嘴洗淨液,係在比上游側噴嘴洗淨液更上游側碰撞洗淨對象物W而朝向上游側流動。亦即,上游側噴嘴洗淨液與下游側噴嘴洗淨液,係在碰撞洗淨對象物W後,不相互碰撞而順暢地流動。又,自相鄰之上游側噴嘴20A所噴射的洗淨液彼此及自相鄰之下游側噴嘴20B所噴射的洗淨液彼此,係由於相鄰之噴霧噴嘴20間的距離較大,因此,相鄰之上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A之間的距離及相鄰之下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B之間的距離亦大,可不使洗淨力相互降低而有效地進行洗淨。又,藉由上游側噴嘴20A與下游側噴嘴20B的噴射而產生之氣流彼此的碰撞亦小,可使碰撞洗淨對象物W後的洗淨液針對每個噴霧噴嘴20順暢地流動。
而且,本實施形態之洗淨裝置10,係如在圖12中表示與搬送方向正交的方向上之異物等的去除率般,在任一位置處均成為高去除率且在正交方向上均等的去除率而具有優異的洗淨力。順帶一提,該圖12之結果,係將各噴霧噴嘴20的噴射距離Di設為40mm,將來自各噴霧噴嘴20的噴射壓力設為13MPa者。
其次,將本實施形態的洗淨裝置10之洗淨力與以往的洗淨裝置40之洗淨力進行比較。如圖13所示般,比較例之洗淨裝置40,係複數個噴霧噴嘴42在延長部44上被配列成一列的構成。各噴霧噴嘴42,係以相對於延長部44沿垂直向下延伸之狀態予以安裝。又,各噴霧噴嘴42,係與本實施形態中之噴霧噴嘴20相同地,雖為以薄型扇狀的噴霧圖案噴射洗淨液者,但被設為沿相對於延長部44之延伸方向傾斜的方向擴展。亦即,如圖13所示般,各噴霧噴嘴42之洗淨液碰撞圖案P
e,係在相對於延長部44傾斜之方向上延伸的直線狀者。各噴霧噴嘴42之洗淨液碰撞圖案P
e,係不相互接觸,成為如該些端部彼此在搬送方向上重疊般的關係。
而且,將各噴霧噴嘴42的噴射距離設為50mm、來自各噴霧噴嘴42的噴射壓力設為13MPa,進行洗淨力之計測。如圖14所示般,各噴霧噴嘴42之正下方附近的去除率雖高,但相鄰的噴霧噴嘴42之中間位置處的去除率低而發生洗淨不均勻。亦即,本實施形態之洗淨裝置10,係即便在「上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
A與下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案P
B於搬送方向上重疊」的部分亦能有效地進行洗淨,從而成為實用性高者。
其次,說明關於本實施形態之洗淨裝置10,係最好是如「上游側噴嘴20A之噴霧圖案與下游側噴嘴20B之噴霧圖案不接觸且圖案間距離Dp變小」般的構成。在此,係固定上游側噴嘴20A與下游側噴嘴20B的間隔(延長部22A、22B延伸之方向上的距離,70mm)、噴射距離Di(45mm)、噴射壓力(11.7MPa)、上游側噴嘴傾斜角度θ
A(-20°)、下游側噴嘴傾斜角度θ
B(+20°),使圖案間距離Dp於0~45mm之間變化,計測洗淨力。
在圖15,係以條形圖與折線圖(圖15中之實線)該兩者來表示圖案間距離Dp為6mm時的計測值,並分別以虛線、鏈線來表示Dp為8mm、10mm時的計測值。在該些情況下,係在與搬送方向正交之方向的任一位置處,均可確保70%以上且大致均等的去除率。另一方面,在圖案間距離Dp為0mm及4mm的情況下,係成為導致上游側噴嘴20A之噴霧圖案與下游側噴嘴20B之噴霧圖案接觸的狀態。在該些情況下,係如Dp為4mm時的計測值即圖16所示般,在上游側噴嘴20與下游側噴嘴20B之中間位置(±40mm附近)處,可確認到去除率降低。
又,當圖案間距離Dp大於10mm時,則如圖17所示般,在大致所有的區域中,可確認到去除率比圖15所示的情形降低。特別是,雖省略了圖示,但在Dp為40mm的情況下,係亦確認到去除率降低至50%左右的部分。由於圖案間距離Dp越大,則洗淨力在整個區域降低的量越大,因此,吾人認為在上游側噴嘴20A之噴霧圖案與下游側噴嘴20B之噴霧圖案不接觸的圖案間距離Dp中,圖案間距離Dp越小越好。另外,在該計測條件中,係圖案間距離Dp最好是6mm以上10mm以下。
如以上般,本實施形態之超高壓洗淨裝置10,係藉由經加壓的高壓洗淨液,對沿直線方向相對移動之平板狀的對象物W進行洗淨,該超高壓洗淨裝置10,其特徵係,具備有:複數個噴嘴20,噴射洗淨液;及高壓泵13,將洗淨液進行加壓並供給至複數個噴嘴20,藉由複數個噴嘴20,以相互平行延伸之狀態形成一對被配列成直線狀的噴嘴列(延長部22A、22B),該噴嘴列,係在與對象物W平行且與對象物W之相對移動方向(搬送裝置11之搬送方向)交叉的方向即交叉方向上延伸。又,複數個噴嘴20,係分別位於構成對向之噴嘴列的相鄰之兩個噴嘴20的中央,並以「噴射方向與噴嘴列的延伸方向正交而延伸並且朝向對向之噴嘴列側傾斜」的狀態予以支撐。而且,自構成一對噴嘴列的一方之噴嘴20所噴射的洗淨液與自構成一對噴嘴列的另一方之噴嘴所噴射的洗淨液呈交叉。
藉由像這樣的構成,本實施形態之洗淨裝置10,係能以均等且高洗淨力來洗淨對象物W上。又,本實施形態之洗淨裝置,係雖由於噴嘴20的噴射壓力較高,故在噴射之洗淨液周圍會產生氣流,但由於是以上游側噴嘴20A與下游側噴嘴20B相互交叉的方式噴射洗淨液,因此,施加至對象物的力會分散,可迴避如搬送中之對象物W移動或浮起這樣的事態。
<其他實施形態>
本發明,係並不限定於上述實施形態,能以基於該領域具有通常知識者之知識實施了各種變更、改良的各種態樣來進行實施。例如,如下述般的實施形態亦包含於本發明的技術範圍內。
(1)上述實施形態之高壓洗淨裝置10,係雖被設為形成一對噴嘴列之一對延長部22A、22B在與搬送裝置11的搬送方向正交之方向上延伸的構成,但亦可設為一對延長部22A、22B在相對於搬送方向傾斜之方向上延伸的構成。
(2)上述實施形態之高壓洗淨裝置10,係雖藉由「複數個噴霧噴嘴20被安裝於構成洗淨液之供給部的一部分之延長部22A、22B」的方式,構成一對噴嘴列,但並不限定於此。例如,亦可為複數個噴霧噴嘴20被固定於一對臂體上而洗淨液被供給至各個噴霧噴嘴20的構成,且亦可為複數個噴霧噴嘴20分別被單獨保持而配列為形成一對噴嘴列的構成。
(3)上述實施形態之高壓洗淨裝置10,係上游側噴嘴傾斜角度θ
A雖被設為比下游側噴嘴傾斜角度θ
B小,但該些亦可為相同角度。另外,在將上游側噴嘴傾斜角度θ
A設為比下游側噴嘴傾斜角度θ
B小的情況下,係最好是亦考慮相對移動速度、上述實施形態中為搬送裝置11之搬送速度來設定角度差。
(4)上述實施形態之高壓洗淨裝置10,係雖被設為藉由搬送裝置11使洗淨對象物W移動的構成,但亦可為使構成一對噴嘴列之延長部22A、22B相對於洗淨對象物W移動的構成。
10:超高壓洗淨裝置[高壓洗淨裝置]
11:搬送裝置
13:高壓泵
20:噴霧噴嘴[噴嘴]
20A:上游側噴嘴
20B:下游側噴嘴
22A,22B:一對延長部
P
A:上游側噴嘴洗淨液碰撞圖案
P
B:下游側噴嘴洗淨液碰撞圖案
θ
A:上游側噴嘴傾斜角度
θ
B:下游側噴嘴傾斜角度
Di:噴射距離
Dp:圖案間距離
[圖1]實施形態之高壓洗淨裝置的立體圖
[圖2]概略地表示實施形態之高壓洗淨裝置的正視圖
[圖3]實施形態之高壓洗淨裝置的平面圖
[圖4]放大表示實施形態之高壓洗淨裝置之洗淨液噴射部分的平面圖
[圖5]實施形態之高壓洗淨裝置的側視圖
[圖6]表示在實施形態之高壓洗淨裝置中,自噴霧噴嘴所噴射的洗淨液之擴展的概略平面圖
[圖7]表示在自垂直方向噴射洗淨液之比較例的洗淨裝置中,洗淨液之擴展的概略平面圖
[圖8]從正面側表示在自垂直方向噴射洗淨液之比較例的洗淨裝置中,自噴霧噴嘴所噴射洗淨液之擴展的概略圖
[圖9]從正面側表示在實施形態之高壓洗淨裝置中,自噴霧噴嘴所噴射的洗淨液之擴展的概略圖
[圖10]表示在實施形態之高壓洗淨裝置中,於所搬送的洗淨對象物上之自上游側噴嘴與下游側噴嘴所噴射的洗淨液之擴展的概略平面圖
[圖11]從下方側拍攝「在實施形態之高壓洗淨裝置中,洗淨對象物上的洗淨液之流動」而得到的照片
[圖12]表示實施形態之高壓洗淨裝置之洗淨力的曲線圖
[圖13]比較例之洗淨裝置的概略平面圖
[圖14]表示比較例之洗淨裝置之洗淨力的曲線圖
[圖15]表示圖案間距離為6mm、8mm、10mm時之洗淨力的曲線圖
[圖16]表示圖案間距離為4mm時之洗淨力的曲線圖
[圖17]表示圖案間距離為12mm時之洗淨力的曲線圖
[圖18]從下方側拍攝「在圖案間距離為12mm的情況下,洗淨對象物上的洗淨液之流動」而得到的照片
10:洗淨装置
11:搬送裝置
11a:支撐部
11b:旋轉軸
11c:滾輪
20A:上游側噴嘴
20B:下游側噴嘴
22A:延長部
22B:延長部
W:洗淨對象物
Claims (6)
- 一種高壓洗淨裝置,係藉由經加壓的高壓洗淨液,對沿直線方向相對移動之平板狀的對象物進行洗淨,該高壓洗淨裝置,其特徵係,具備有: 複數個噴嘴,噴射洗淨液;及高壓泵,將洗淨液進行加壓並供給至複數個前述噴嘴, 藉由複數個前述噴嘴,以相互平行延伸之狀態形成一對被配列成直線狀的噴嘴列,該噴嘴列,係在與前述對象物平行且與前述對象物之相對移動方向交叉的方向即交叉方向上延伸, 複數個前述噴嘴,係分別位於構成對向之前述噴嘴列的相鄰之兩個前述噴嘴的中央,並以「噴射方向與前述噴嘴列的延伸方向正交而延伸並且朝向對向之前述噴嘴列側傾斜」的狀態予以支撐, 自構成一對前述噴嘴列的一方即一方側噴嘴列之前述噴嘴所噴射的洗淨液與自構成一對前述噴嘴列的另一方即另一方側噴嘴列之前述噴嘴所噴射的洗淨液呈交叉。
- 如請求項1之高壓洗淨裝置,其中, 複數個前述噴嘴之各者,係以沿前述噴嘴列之延伸方向擴展的薄型扇狀之噴霧圖案進行噴射的噴霧噴嘴,該噴霧圖案作為與前述對象物接觸之部分而形成大體上直線狀的洗淨液碰撞圖案, 構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案,係在前述相對移動方向上一部分重疊。
- 如請求項2之高壓洗淨裝置,其中, 構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴,係被設為「構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案不接觸,且構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案之間的與前述噴嘴列延伸之方向正交的方向上之距離變小」的關係。
- 如請求項3之高壓洗淨裝置,其中, 複數個前述噴嘴,係被設為從噴射口至前述對象物為止的距離相等, 以使構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述噴霧圖案不接觸,且構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案與構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的前述洗淨液碰撞圖案之間的與前述噴嘴列延伸之方向正交的方向上之距離變小的方式,決定構成前述一方側噴嘴列之前述噴嘴的傾斜角度及構成前述另一方側噴嘴列之前述噴嘴的傾斜角度。
- 如請求項1~4中任一項之高壓洗淨裝置,其中, 複數個前述噴嘴,係被設為從噴射口至前述對象物為止的距離相等, 前述對象物相對於前述噴嘴列移動之方向與噴射方向相同的前述噴嘴,係相對於前述對象物所成的角度被設為比「前述對象物相對於前述噴嘴列移動之方向與噴射方向相反」的前述噴嘴相對於前述對象物所成的角度小。
- 如請求項1~5中任一項之高壓洗淨裝置,其中, 由前述高壓泵的加壓所產生之來自前述噴嘴的噴射壓力,係3MPa以上30MPa以下。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW112103474A TWI841216B (zh) | 2023-02-01 | 2023-02-01 | 高壓洗淨裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW112103474A TWI841216B (zh) | 2023-02-01 | 2023-02-01 | 高壓洗淨裝置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI841216B TWI841216B (zh) | 2024-05-01 |
TW202433143A true TW202433143A (zh) | 2024-08-16 |
Family
ID=92076810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112103474A TWI841216B (zh) | 2023-02-01 | 2023-02-01 | 高壓洗淨裝置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI841216B (zh) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060002266A (ko) * | 2004-07-01 | 2006-01-09 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치의 제조장치 |
JP4998815B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2012-08-15 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板洗浄装置及びガラス基板洗浄方法 |
TW200722854A (en) * | 2005-12-07 | 2007-06-16 | Metal Ind Res & Dev Ct | Cleaning apparatus and cleaning method for backlight module |
JP6709314B2 (ja) * | 2018-06-13 | 2020-06-10 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法、及び液晶用基板の処理装置 |
-
2023
- 2023-02-01 TW TW112103474A patent/TWI841216B/zh active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4905051B2 (ja) | 鋼板の冷却設備および冷却方法 | |
JP4642639B2 (ja) | 基板乾燥装置及び基板処理方法 | |
JP4675113B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
TWI443734B (zh) | Substrate processing device | |
TWI841216B (zh) | 高壓洗淨裝置 | |
TWI227035B (en) | Substrate processing device of transporting type | |
JP2001286925A (ja) | 鋼板の水冷装置とその水冷方法 | |
TW202433143A (zh) | 高壓洗淨裝置 | |
JP4352194B2 (ja) | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | |
TW201601850A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法 | |
KR100758220B1 (ko) | 다중 슬릿형 노즐을 가지는 기판 세정 장치 및 이를 이용한세정 방법 | |
WO2024161541A1 (ja) | 高圧洗浄装置 | |
KR101150022B1 (ko) | 에칭장치 | |
JP3916424B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006255556A (ja) | 液処理装置および液晶表示装置 | |
KR100684048B1 (ko) | 유체분사장치 | |
JP3113192B2 (ja) | 液晶用基板の液体噴射装置 | |
TWI821799B (zh) | 基板處理裝置 | |
JP2009279477A (ja) | 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法 | |
JP2005177778A (ja) | 溶接スパッタの除去方法 | |
JP2010103383A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4036818B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
KR200295029Y1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
JPH11267740A (ja) | デスケーリング装置 | |
JP2003031546A (ja) | スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置 |