TW202229472A - 光固化墨水、圖案化方法、與封裝結構 - Google Patents
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Abstract
Description
本揭露關於噴墨印刷(IJP)製程所用的光固化墨水,更特別關於採用光固化墨水的圖案化製程與封裝結構。
目前抗蝕刻材料多是網印材料或乾膜材料,另有少數為雷射成型材料。若採用噴墨印刷(IJP)的方式施加抗蝕刻材料,通常需以溶劑溶解抗蝕刻材料而有揮發性有機物(VOC)的問題,甚至造成廢水的環保問題。另一方面,網印材料需要網版,而乾膜材料需要光罩。雷射成型雖然無廢水等問題,但速度較慢。
綜上所述,目前需新的抗蝕刻材料解決上述問題。
本揭露一實施例提供之光固化墨水,包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑,其中樹脂的化學結構為
或
,R
1係C
2-16的烷基、苯基、甲苯基、苯甲基、或
,且R
5係C
2-10的烷基;R
2係
、
、
、
、
、
、或
;以及R
3及R
4各自為H、C
1-15烷基、C
2-15烯基、或苯基,其中光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係0 mg/KOH至60 mg/KOH。
在一些實施例中,光固化墨水不含溶劑。
在一些實施例中,稀釋劑包含(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸十三烷基酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、丙烯酸異冰片酯、N-乙烯基己內醯胺、或上述之組合。
在一些實施例中,感光劑包含醯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基、羥基環己基苯基酮、羥甲基苯基丙酮、二甲氧基苯基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-基、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2(2-羥基-2-丙基)酮、二乙氧基苯基苯乙酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦、2,3-二羥基-6-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)-1,1,3-三甲基-3-[4-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)苯基]-1H-茚、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-甲基胺基)-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、α-羥基環己基苯基酮、甲基苯基縮水甘油酯、2-羥基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮、(η
5-2,4-環戊二烯-1-基)[(1,2,3,4,5, 6-η)-(1-甲基乙基)苯]-鐵(I)-六氟銻酸鹽、甲基苯基乙醛酸酯/羥基苯基(1-羥基)環己基苯基酮+二苯甲酮、雙(η
5-環戊二烯)-雙(2,6-二氟-3-[吡咯-1-基]-苯基)鈦酸鹽、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙基-1-酮、二苯基(4-苯基硫基)苯基鋶六氟銻酸鹽+(巰基-4,1-苯撐基)雙(二苯基鋶)二六氟銻酸鹽、2-異丙基噻吨酮、乙基(2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基次磷酸鹽、2,2-二甲基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫化物、2,4-二乙基噻吨酮、異丙基噻吨酮、甲基-鄰-苯甲醯基苯甲酸酯、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基次磷酸鹽氧化物、或上述之組合。
本揭露一實施例提供之圖案化方法,包括噴墨印刷光固化墨水於無機材料層上,並即時光固化光固化墨水以形成圖案;以及蝕刻圖案未覆蓋的無機材料層,以形成圖案化的無機材料層,其中光固化墨水包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑,其中樹脂的化學結構為
或
,R
1係C
2-16的烷基、苯基、甲苯基、苯甲基、或
,且R
5係C
2-10的烷基;R
2係
、
、
、
、
、
、或
;以及R
3及R
4各自為H、C
1-15烷基、C
2-15烯基、或苯基,其中光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係20 mg/KOH至60 mg/KOH。
在一些實施例中,圖案化方法更包括剝離圖案化的無機材料層上的圖案。
在一些實施例中,圖案的厚度為1μm至10μm。
本發明一實施例提供之封裝結構,包括:光電元件;保護層,覆蓋光電元件;以及阻氣層,覆蓋保護層,其中保護層係由光固化墨水固化而成,且光固化墨水包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑,其中樹脂的化學結構為
或
,R
1係C
2-16的烷基、苯基、甲苯基、苯甲基、或
,且R
5係C
2-10的烷基;R
2係
、
、
、
、
、
、或
;以及R
3及R
4各自為H、C
1-15烷基、C
2-15烯基、或苯基,其中光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係0 mg/KOH至40 mg/KOH。
在一些實施例中,保護膜的厚度為1 μm至10 μm。
在一些實施例中,光電元件包括發光二極體、量子點發光二極體、有機發光二極體、液晶顯示器、或光感測器。
本揭露一實施例提供之光固化墨水,包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑。若稀釋劑的用量過低,則合成出來的聚合物室溫黏度高無法噴印。若感光劑的用量過低,則光固化墨水的感光能力變差會導致攤流,無法精細的控制線寬。若感光劑的用量過高,則會生成不溶的結晶物會導致噴頭阻塞與儲存安定性變差。
在一實施例中,樹脂的化學結構為
或
。R
1係C
2-16的烷基、苯基、甲苯基、苯甲基、或
,且R
5係C
2-10的烷基;R
2係
、
、
、
、
、
、或
;以及R
3及R
4各自為H、C
1-15烷基、C
2-15烯基、或苯基。
在一實施例中,上述樹脂的形成方法如下。首先,取縮水甘油醚與丙烯酸反應之後,再與酸酐反應以形成樹脂。值得注意的是,不可將上述三者直接混合而需依序反應,否則無法合成所需結構,分子鏈段會產生錯亂無序的組合,分子量無法控制,聚合度無法控制,且無再現性。上述反應如下所示:
或
上述光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係0 mg/KOH至60 mg/KOH。若光固化墨水的黏度過低,則噴頭會造成無法吸墨,會有漏墨與滴墨的產生,這時會導致更多散點的發生。若光固化墨水的室溫黏度過高,則噴墨流暢度不佳而易堵塞。若光固化墨水的酸價過高,則銅箔表面會產生微蝕刻造成粗糙度大影響電性。在一些實施例中,光固化墨水不含溶劑。若光固化墨水含溶劑,則在噴墨之後須烘烤移除溶劑,而無法即時光固化。
在一些實施例中,稀釋劑包含(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸十三烷基酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、丙烯酸異冰片酯、N-乙烯基己內醯胺、或上述之組合。
在一些實施例中,感光劑包含醯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基、羥基環己基苯基酮、羥甲基苯基丙酮、二甲氧基苯基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-基、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2(2-羥基-2-丙基)酮、二乙氧基苯基苯乙酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦、2,3-二羥基-6-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)-1,1,3-三甲基-3-[4-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)苯基]-1H-茚、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-甲基胺基)-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、α-羥基環己基苯基酮、甲基苯基縮水甘油酯、2-羥基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮、(η
5-2,4-環戊二烯-1-基)[(1,2,3,4,5, 6-η)-(1-甲基乙基)苯]-鐵(I)-六氟銻酸鹽、甲基苯基乙醛酸酯/羥基苯基(1-羥基)環己基苯基酮+二苯甲酮、雙(η
5-環戊二烯)-雙(2,6-二氟-3-[吡咯-1-基]-苯基)鈦酸鹽、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙基-1-酮、二苯基(4-苯基硫基)苯基鋶六氟銻酸鹽+(巰基-4,1-苯撐基)雙(二苯基鋶)二六氟銻酸鹽、2-異丙基噻吨酮、乙基(2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基次磷酸鹽、2,2-二甲基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫化物、2,4-二乙基噻吨酮、異丙基噻吨酮、甲基-鄰-苯甲醯基苯甲酸酯、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基次磷酸鹽氧化物、或上述之組合。
本揭露一實施例提供之圖案化方法,包括噴墨印刷上述光固化墨水於無機材料層(比如金屬層如Cu或其他陶瓷材料如ITO)上,並即時光固化光固化墨水以形成圖案。接著蝕刻圖案未覆蓋的無機材料層,以形成圖案化的無機材料層。光固化墨水,包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑。樹脂的化學結構同上,在此不贅述。光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係20 mg/KOH至60 mg/KOH。若光固化墨水的酸價過低,則在蝕刻製程之後難以剝除。若光固化墨水的酸價過高,則銅箔表面會被微蝕刻,造成表面粗糙度大影響電性。在一些實施例中,圖案的厚度為1 μm至10 μm之間。若圖案的厚度過小,則抵擋金屬蝕刻液的效果差,會有剝落的風險,導致金屬線路的斷線疑慮。若圖案的厚度過大,則鹼液剝除的製程時間需要拉長,量產速度會變慢。
在一些實施例中,圖案化方法更包括在蝕刻無機材料層之後,剝離圖案化的無機材料層上的圖案。剝離圖案的步驟可採用鹼如碳酸鈉、或0.05%~5%KOH或1%~2.3%TMAH的水溶液。
本發明一實施例提供之封裝結構,包括:光電元件;保護層,覆蓋光電元件;以及阻氣層,覆蓋保護層,其中保護層係由光固化墨水固化而成,且光固化墨水包括:1重量分的樹脂;1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及0.25至1.5重量分的感光劑。樹脂的化學結構同上,在此不贅述。光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及其中光固化墨水的酸價係0 mg/KOH至40 mg/KOH。若光固化墨水的酸價過高,則過多的酸基會有破壞光電元件的可能性。
在一些實施例中,保護膜的厚度為1 μm至10 μm。若保護膜的厚度過小,則無法有效覆蓋元件,會導致氣體或水分子從側面入侵而導致光電元件受損。若保護膜的厚度過大,則會與阻氣層材料的應力發生不匹配,且可視區域的光穿透度也會下降。在一些實施例中,光電元件包括發光二極體、量子點發光二極體、有機發光二極體、液晶顯示器、或光感測器。在一些實施例中,阻氣層包括溶液塗佈型阻氣層、氧化矽(SiO
2)或氮化矽(Si
xN
y)。在另一實施例中,阻氣層為溶液塗佈型阻氣層(solution coated gas barrier),其組成與形成方法可參考FlexUP™ with Solution-coated Gas Barrier Technology (https://www.itri.org.tw/english/ListStyle.aspx?DisplayStyle=01_content&SiteID=1&MmmID=1037333526356626457&MGID=746506075040501237)。
為讓本揭露之上述內容和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂,下文特舉出較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:
[ 實施例 ]
在以下實施例中,室溫黏度的量測方法為BROOKFIELD的儀器,Spindle為18號的轉子下,50~100rpm下,室溫25℃所量測出來的黏度值,而酸價的量測標方法為將測試樣品溶解於甲苯與乙醇混合溶液中(甲苯:乙醇=7:3),使用電位差自動滴定儀(AT500N)以0.1N KOH-乙醇溶液進行滴定。
製備例1
取80g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.05g的對苯二酚(HQ)加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將38g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入81g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得199g的樹脂,其酸價為176 mg/KOH,分子量為570,而室溫黏度為1845 cps。上述反應如下:
製備例2
取80g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.05g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將38g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入90g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得208g的樹脂,其酸價為172 mg/KOH,分子量為570,而室溫黏度為1400 cps。上述反應如下:
製備例3
取80g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.05g的 HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將38g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入83g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得201g的樹脂,其酸價為164 mg/KOH,分子量為564,而室溫黏度為1038 cps。上述反應如下:
製備例4
取106g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.05g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將27g的丙烯酸加入反應2至6小時。之後加入57g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應6小時以得190g的樹脂,其酸價為125 mg/KOH,分子量為685,而室溫黏度為1260 cps。上述反應如下:
製備例5
取118g的縮水甘油醚(n=9~12)加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.05g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將27g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入57g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得202g的樹脂,其酸價為110 mg/KOH,分子量為1453,而室溫黏度為54488 cps。上述反應如下:
製備例6
取81g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.3g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將38g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入82g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得200g的樹脂,其酸價為115 mg/KOH,分子量為2578,而室溫黏度為569000 cps。上述反應如下:
製備例7
取106g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.3g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將27g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入63g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得196g的樹脂,其酸價為116 mg/KOH,分子量為709,而室溫黏度為1620 cps。上述反應如下:
製備例8
取106g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.3g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將27g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入62g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得195g的樹脂,其酸價為121 mg/KOH,分子量為674,而室溫黏度為1087 cps。上述反應如下:
製備例9
取70g的縮水甘油醚加熱到120℃並攪拌(轉速250rpm)。取0.3g的HQ加入縮水甘油醚中攪拌5分鐘。接著將33g的丙烯酸加入反應6小時。之後加入78g的酸酐攪拌(轉速300rpm)並反應2~6小時以得181g的樹脂,其酸價為164 mg/KOH,分子量為561,而室溫黏度為1240 cps。上述反應如下:
比較例1
取35g的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、50g的1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)作為稀釋劑、與15g的2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(TPO)作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為0 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試,固化的墨水圖案覆著性為2B (100%附著為5B;95%~90%附著為4B;90%~80%附著為3B;80%~60%附著為2B)。固化的墨水圖案會溶於丁醚,因此不適用在固化的墨水圖案上形成溶液塗佈型的阻氣層(solution coated gas barrier,SGB)以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),但無法以碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水不適於噴墨印刷的圖案化製程,亦不適於搭配SGB形成封裝結構。
比較例2
取50g的DPHA、35g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度>15cps且酸價為0 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性不良。固化的墨水圖案覆著性為3B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案會溶於丁醚,因此不適用在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),但無法以碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水不適於噴墨印刷的圖案化製程,亦不適於搭配SGB形成封裝結構。
比較例3
取20g的製備例5所得的樹脂、200g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度>15cps且酸價為9.3 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性不良。固化的墨水圖案覆著性為3B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),但無法以碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水不適於噴墨印刷的圖案化製程。
比較例4
取20g的製備例6所得的樹脂、400g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度>15cps且酸價為5.2 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性不良。固化的墨水圖案覆著性為3B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),但無法以碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水不適於噴墨印刷的圖案化製程。
實施例1
取20g的製備例1所得的樹脂、65g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為35.2 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例2
取20g的製備例2所得的樹脂、60g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為36.2 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例3
取20g的製備例3所得的樹脂、50g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為38.5 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例4
取20g的製備例4所得的樹脂、55g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為27.7 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例5
取20g的製備例7所得的樹脂、63g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為23.6 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例6
取20g的製備例8所得的樹脂、50g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為28.47 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
實施例7
取20g的製備例9所得的樹脂、55g的HDDA作為稀釋劑、與15g的TPO作為感光劑,混合後形成室溫黏度≦15cps且酸價為36.44 mg/KOH的光固化墨水。以噴墨印刷(IJP)將光固化墨水噴墨於10cm*10cm的FR4的銅箔基板上,控制膜厚達7~8μm。經過LED(395nm波長)的曝光燈源固化墨水形成圖案。接著以濕式蝕刻(FeCl
3)製程移除墨水圖案下的銅箔以形成線路。之後以碳酸鈉溶液剝除墨水圖案。噴墨印刷墨水的流暢性佳。固化的墨水圖案覆著性為5B (使用百格刀與3M 610 Scotch® 透明膠帶測試)。固化的墨水圖案不溶於丁醚,因此可在固化的墨水圖案上形成SGB以形成封裝結構。固化的墨水圖案可承受濕式蝕刻(FeCl
3),且可由碳酸鈉溶液剝除。綜上所述,上述墨水適於噴墨印刷的圖案化製程,亦可搭配SGB形成封裝結構。
雖然本揭露已以數個較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本揭露,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本揭露之精神和範圍內,當可作任意之更動與潤飾,因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
無。
無。
無。
Claims (10)
- 如請求項1之光固化墨水,其不含溶劑。
- 如請求項1之光固化墨水,其中該稀釋劑包含(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸十三烷基酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、丙烯酸異冰片酯、N-乙烯基己內醯胺、或上述之組合。
- 如請求項1之光固化墨水,其中該感光劑包含醯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基、羥基環己基苯基酮、羥甲基苯基丙酮、二甲氧基苯基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-基、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-基、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2(2-羥基-2-丙基)酮、二乙氧基苯基苯乙酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦、2,3-二羥基-6-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)-1,1,3-三甲基-3-[4-(2-羥基-2-甲基-1-氧基丙基)苯基]-1H-茚、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-甲基胺基)-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、α-羥基環己基苯基酮、甲基苯基縮水甘油酯、2-羥基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮、(η 5-2,4-環戊二烯-1-基)[(1,2,3,4,5, 6-η)-(1-甲基乙基)苯]-鐵(I)-六氟銻酸鹽、甲基苯基乙醛酸酯/羥基苯基(1-羥基)環己基苯基酮+二苯甲酮、雙(η 5-環戊二烯)-雙(2,6-二氟-3-[吡咯-1-基]-苯基)鈦酸鹽、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙基-1-酮、二苯基(4-苯基硫基)苯基鋶六氟銻酸鹽+(巰基-4,1-苯撐基)雙(二苯基鋶)二六氟銻酸鹽、2-異丙基噻吨酮、乙基(2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基次磷酸鹽、2,2-二甲基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫化物、2,4-二乙基噻吨酮、異丙基噻吨酮、甲基-鄰-苯甲醯基苯甲酸酯、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基次磷酸鹽氧化物、或上述之組合。
- 一種圖案化方法,包括: 噴墨印刷一光固化墨水於一無機材料層上,並即時光固化該光固化墨水以形成一圖案;以及 蝕刻該圖案未覆蓋的該無機材料層,以形成一圖案化的無機材料層, 其中該光固化墨水包括: 1重量分的樹脂; 1.5至3.5重量分的稀釋劑;以及 0.25至1.5重量分的感光劑, 其中該樹脂的化學結構為 或 , R 1係C 2-16的烷基、苯基、甲苯基、苯甲基、或 ,且R 5係C 2-10的烷基; R 2係 、 、 、 、 、 、或 ;以及 R 3及R 4各自為H、C 1-15烷基、C 2-15烯基、或苯基, 其中該光固化墨水的室溫黏度係4 cps至50 cps,以及 其中該光固化墨水的酸價係20 mg/KOH至60 mg/KOH。
- 如請求項5之圖案化方法,更包括剝離該圖案化的該無機材料層上的該圖案。
- 如請求項5之圖案化方法,其中該圖案的厚度為1 μm至10 μm。
- 如請求項8之封裝結構,其中該保護膜的厚度為1 μm至10 μm。
- 如請求項8之封裝結構,其中該光電元件包括發光二極體、量子點發光二極體、有機發光二極體、液晶顯示器、或光感測器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW110100926A TWI758062B (zh) | 2021-01-11 | 2021-01-11 | 光固化墨水、圖案化方法、與封裝結構 |
CN202110158017.XA CN114752254A (zh) | 2021-01-11 | 2021-02-04 | 光固化墨水、图案化方法、与封装结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW110100926A TWI758062B (zh) | 2021-01-11 | 2021-01-11 | 光固化墨水、圖案化方法、與封裝結構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI758062B TWI758062B (zh) | 2022-03-11 |
TW202229472A true TW202229472A (zh) | 2022-08-01 |
Family
ID=81710665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110100926A TWI758062B (zh) | 2021-01-11 | 2021-01-11 | 光固化墨水、圖案化方法、與封裝結構 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114752254A (zh) |
TW (1) | TWI758062B (zh) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59204668A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-20 | Nippon Paint Co Ltd | 鋼板潤滑処理用エネルギー線硬化型アルカリ脱膜型一時被覆組成物 |
JPH0253238A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光記録媒体 |
JPWO2006025221A1 (ja) * | 2004-08-30 | 2008-05-08 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 画像記録方法 |
CN1693382A (zh) * | 2005-05-23 | 2005-11-09 | 容大油墨(惠州)有限公司 | 一种光固化抗蚀刻油墨 |
CN100589031C (zh) * | 2006-12-15 | 2010-02-10 | 北京化工大学 | 一种用于印刷电路板的光固化喷墨抗蚀剂及其制备方法 |
JP2009116111A (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びその硬化物パターン、並びに該硬化物パターンを具備するプリント配線板 |
JP5712003B2 (ja) * | 2010-04-07 | 2015-05-07 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物およびインプリント用重合性単量体の製造方法 |
TWI681468B (zh) * | 2016-12-09 | 2020-01-01 | 南韓商Lg化學股份有限公司 | 有機電子裝置之製法 |
CN112063226B (zh) * | 2020-10-23 | 2022-03-01 | 无锡博加电子新材料有限公司 | 一种光固化pcb线路板保护油墨 |
-
2021
- 2021-01-11 TW TW110100926A patent/TWI758062B/zh active
- 2021-02-04 CN CN202110158017.XA patent/CN114752254A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114752254A (zh) | 2022-07-15 |
TWI758062B (zh) | 2022-03-11 |
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