TW202212759A - 間歇式熱處理爐 - Google Patents

Abstract

[課題] 抑制爐內環境的不均勻化。 [解決手段] 間歇式熱處理爐（10）包括：爐體（12），具備頂壁和側壁（14）；爐床（22），具備供被處理物載放的上表面；複數個加熱器（30），配置在爐體內，並且，配置於側壁與被處理物之間，且沿著側壁而在周向上空出間隔地配置；以及複數個氣體吹出口，用於向爐體內供給環境氣體。複數個氣體吹出口在圓柱形狀的爐內的徑向上位於加熱器與被處理物之間，且在圓柱形狀的爐內的周向上位於周向上相鄰的加熱器之間。從複數個氣體吹出口吹出氣體的氣體吹出方向為側壁的方向。

Description

間歇式熱處理爐

本說明書中公開的技術涉及一種用於對被處理物（例如：陶瓷電容器、陶瓷壓電元件、陶瓷電阻器等層積陶瓷零件等）進行熱處理的間歇式熱處理爐。

為了將被處理物的熱處理後的特性穩定化，需要使熱處理時的爐內溫度和爐內環境均勻化。專利文獻1的間歇式熱處理爐中，在周向上空出間隔地配置有複數個加熱器，在與各加熱器相對應的位置配置有氣體吹出口。氣體吹出口配置於加熱器與爐內壁面之間，來自氣體吹出口的環境氣體由加熱器進行加熱，同時向爐內供給。由此，實現了爐內溫度的均勻化和爐內環境的均勻化。 [現有技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特許公開2005－77001號公報

[發明欲解決的課題]

專利文獻1的間歇式熱處理爐中，在周向上空出間隔地配置有複數個氣體吹出口，從各氣體吹出口朝向爐內中心噴出環境氣體。因此，在載放於爐內中心的被處理物會出現：被從氣體吹出口吹出的環境氣體吹到的部分、以及沒有被從氣體吹出口吹出的環境氣體吹到的部分。結果存在如下問題：在配置有被處理物的位置，爐內環境產生偏差，爐內環境不均勻化。

本說明書公開了能夠抑制爐內環境不均勻化的技術。 [用於解決課題的手段]

本說明書中公開的間歇式熱處理爐包括：爐體，具備頂壁和側壁；爐床，具備供被處理物載放的上表面；複數個加熱器，配置在爐體內，並且，配置於側壁與被處理物之間，且沿著側壁而在周向上空出間隔地配置；以及複數個氣體吹出口，用於向爐體內供給環境氣體。由爐體和爐床形成的爐內的形狀為圓柱形狀。複數個氣體吹出口係：（1）在圓柱形狀的爐內的徑向上位於加熱器與被處理物之間；（2）在圓柱形狀的爐內的周向上位於周向上相鄰的加熱器之間。從複數個氣體吹出口吹出氣體的氣體吹出方向為側壁的方向。

上述的間歇式熱處理爐中，複數個氣體吹出口在爐內的徑向上位於加熱器與被處理物之間，從這些複數個氣體吹出口朝向側壁（爐內外側）吹出環境氣體。因此，從複數個氣體吹出口吹出的環境氣體在吹到側壁之後沿著側壁而流動，自側壁側開始趨向爐內中心依序置換爐內環境。因此，在配置有被處理物的位置，能夠抑制爐內環境產生偏差。

（特徵1）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，氣體吹出方向能夠調整。根據像這樣的構成，藉由調整氣體吹出方向，能夠調整爐內的環境氣體的流動。

（特徵2）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，可以進一步包括：複數個氣體導入管，貫穿頂壁而延伸至爐體內。氣體吹出口可以形成於氣體導入管。氣體導入管可以被支撐為能夠相對於頂壁進行旋轉，藉由氣體導入管相對於頂壁進行旋轉，能夠調整氣體吹出方向。根據像這樣的構成，能夠以簡單的構成調整氣體吹出方向。

（特徵3）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，可以進一步包括：複數個氣體導入管，貫穿側壁而延伸至爐體內。氣體吹出口可以形成於氣體導入管。根據像這樣的構成，能夠從側壁側向爐內供給環境氣體。

（特徵4）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，複數個加熱器可以包括：複數個上部加熱器，位於爐體內的上部；複數個中間部加熱器，位於爐體內的中間部；以及複數個下部加熱器，位於爐體內的下部。複數個氣體吹出口可以包括：複數個上部氣體吹出口，配置於與上部加熱器相鄰的位置；複數個中間部氣體吹出口，配置於與中間部加熱器相鄰的位置；以及複數個下部氣體吹出口，配置於與下部加熱器相鄰的位置。根據像這樣的構成，在爐內的上部、中間部及下部分別設置加熱器及氣體吹出口，因此，能夠使爐內溫度和／或爐內環境均勻化。

（特徵5）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，爐床的上表面可以具備供被處理物載放的載放部。上表面可以俯視時呈圓形，並能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的軸線進行旋轉。根據像這樣的構成，被處理物進行公轉，因此，能夠有助於將被處理物的整體均勻地進行熱處理。

（特徵6）本說明書公開的間歇式熱處理爐中，爐床的上表面可以具備：供被處理物載放的載放部、以及沒有載放被處理物的非載放部。上表面可以俯視時呈圓形，並能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的第一軸線進行旋轉。載放部可以俯視時呈圓形，並能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的第二軸線進行旋轉。藉由上表面繞著第一軸線進行旋轉，使得前放部可以進行公轉，藉由載放部繞著第二軸線進行旋轉，使得載放部可以進行自轉。載放部的公轉方向可以為與載放部的自轉方向一致或相反的方向，氣體吹出方向可以為與載放部的自轉方向一致或相反的方向。根據像這樣的構成，被處理物進行自轉及公轉，與此相應地能夠使氣體吹出方向為與自轉方向一致或相反的方向，能夠使得向爐內供給環境氣體的供給形態多樣化。 [實施例]

以下，對實施例所涉及的間歇式熱處理爐10進行說明。如第1、2圖所示，間歇式熱處理爐10包括：爐床20；爐體12，將爐床20的上方覆蓋；以及複數個加熱器30及複數個氣體導入管40，配置於在爐床20與爐體12之間形成的爐內空間S內。

爐床20由耐火物構成，且具備：主爐床22；四個副爐床24，設置於主爐床22；以及固定床26，配置於主爐床20的周圍。主爐床22具有圓板狀的外形，且配置成：其中心軸（即、從主爐床22的中心通過而在上下方向上延伸的線）與爐體12的軸線一致。主爐床22與未圖示的驅動裝置連接，能夠繞著其中心軸（爐體12的軸線）進行旋轉。

副爐床24具有圓板狀的形狀，且設置成能夠相對於主爐床22進行旋轉。本實施例中，四個副爐床24在周向上空出等間隔地進行設置（即、四個副爐床24在周向上以90°間隔進行設置。）。四個副爐床24分別與未圖示的驅動裝置連接，能夠繞著其軸線（即、從副爐床24的中心通過而在上下方向上延伸的線）進行旋轉。四個副爐床24的軸線分別與主爐床22的軸線平行，自主爐床22的軸線起算等距離地進行配置。主爐床22的上表面和副爐床24的上表面齊平，能夠在兩者的上表面載放被處理物W。

主爐床22和副爐床24能夠分別進行旋轉方向及旋轉速度的變更停止。藉由主爐床22旋轉，使得被處理物W進行所謂的公轉，藉由副爐床24旋轉，使得被處理物W進行所謂的自轉。各爐床22、24的旋轉方向可以任意設定，主爐床22及副爐床24可以按第1圖的順時針或逆時針進行旋轉，也可以為主爐床22順時針旋轉而副爐床24逆時針旋轉，還可以為主爐床22逆時針旋轉而副爐床24順時針旋轉。藉由適當控制主爐床22及副爐床24的旋轉速度及旋轉方向，能夠對在主爐床22和／或副爐床24上所載放的被處理物W均勻地進行加熱。

固定床26配置於主爐床22的周圍。具體而言，固定床26俯視時具有環形，配置於主爐床22與爐體12的側壁14之間。固定床26相對於外殼而被固定，主爐床22及副爐床24相對於固定床26進行旋轉。

爐體12由耐火物構成，且具備：圓筒狀的側壁14以及圓板狀的頂壁16。側壁14係，其下端部與固定床26抵接，其上端部延伸至頂壁16。頂壁16與側壁14的上端部抵接，且將側壁14的上端的開口部封閉。本實施例中，藉由側壁14、頂壁16以及爐床20而形成對被處理物進行處理的爐內空間S。爐床20和頂壁16呈圓板狀，側壁14呈圓筒狀，因此，爐內空間S呈圓柱形狀。由上述的說明可知：爐內空間S的軸線與爐床20的軸線一致。此外，在頂壁16的中央形成有未圖示的排氣口，能夠從排氣口將爐內空間S內的氣體向爐外排出。

複數個加熱器30因從未圖示的外部電源供給來的電力而發熱，對爐內環境溫度進行控制，以便將被處理物W進行加熱。如第2、3圖所示，複數個加熱器30被彎曲成U字狀，且具備：在被彎曲成U字狀的部分所設置的發熱部34、以及從發熱部34向上方延伸的兩個非發熱部32。發熱部34為藉由通電而成為高溫的部分，位於爐內空間S。非發熱部32是由電阻值與發熱部34相比較小的材質形成，並貫穿頂壁16，其端部位於爐外。加熱器30構成為：藉由對非發熱部32的長度進行調整，可調整發熱部34在爐內空間S內的位置（即、上下方向上的位置）。具體而言，複數個加熱器30被分類為：發熱部34位於爐內空間S的下部的下部加熱器30a、30b、30g、30h；發熱部34位於爐內空間S的中間部的中間部加熱器30c、30d、30i、30j；以及發熱部34位於爐內空間S的上部的上部加熱器30e、30f、30k、30l。

如第1、3圖所示，複數個加熱器30針對圓柱形狀的爐內空間S而在徑向上位於側壁14的內周面15與主爐床22的外周面之間（即、側壁14與被處理物W之間）。另外，複數個加熱器30針對圓柱形狀的爐內空間S而在周向上沿著側壁14的內周面15空出間隔地進行配置。具體而言，如第3圖所示，兩個下部加熱器30a、30b在周向上並排配置，與這些下部加熱器30a、30b相鄰地配置有兩個中間部加熱器30c、30d，與這些中間部加熱器30c、30d相鄰地配置有上部加熱器30e、30f，以下，同樣地，下部加熱器30g、30h、中間部加熱器30i、30j、上部加熱器30k、30l依序配置。在下部加熱器30a、30b之間、中間部加熱器30c、30d之間、上部加熱器30e、30f之間、下部加熱器30g、30h之間、中間部加熱器30i、30j之間、上部加熱器30k、30l之間，分別在周向上設置有間隔。在下部加熱器30a、30b與中間部加熱器30c、30d之間、中間部加熱器30c、30d與上部加熱器30e、30f之間、上部加熱器30e、30f與下部加熱器30g、30h之間、下部加熱器30g、30h與中間部加熱器30i、30j之間、中間部加熱器30i、30j與上部加熱器30k、30l之間，分別在周向上設置有間隔。

複數個氣體導入管40與未圖示的氣體供給源連接，將從氣體供給源供給來的環境氣體朝向爐內空間S供給。如第2、3圖所示，複數個氣體導入管40分別貫穿頂壁16而進入爐內空間S，其下端延伸至爐床20的附近。由於貫穿頂壁16地配置氣體導入管40，所以氣體導入管40的配置位置的設計自由度提高，能夠在爐內的所期望的位置配置氣體導入管40。如第2圖所示，複數個氣體導入管40a～40l針對爐內空間S而在徑向上配置於加熱器30與主爐床22的外周面之間（即、加熱器30與被處理物W之間），更詳細而言，配置於加熱器30與主爐床22的外周面之間的中間位置。另外，氣體導入管40a～40l針對爐內空間S而在周向上分別配置於周向上相鄰的加熱器30a～30l之間。具體而言，配置於上部加熱器30l與下部加熱器30a之間、下部加熱器30a與下部加熱器30b之間、下部加熱器30b與中間部加熱器30c之間，以下，同樣地配置於全部的相鄰的加熱器30之間。因此，複數個氣體導入管40還能夠沿著側壁14的內周面15以不會與加熱器30重疊的方式在周向上空出間隔地進行配置。

如第5圖所示，在氣體導入管40形成有複數個氣體吹出口42。從氣體供給源供給至氣體導入管40的環境氣體從氣體吹出口42朝向爐內空間S吹出。藉由針對氣體導入管40而調整氣體吹出口42的形成位置（高度方向上的位置），可對朝向爐內空間S供給環境氣體的高度方向上的位置進行調整。具體而言，如第3圖所示，在上部加熱器30l與下部加熱器30a之間所配置的氣體導入管40a中，在與上部加熱器30l的發熱部和下部加熱器30a的發熱部34相同的高度（即、爐內空間S的上部和下部）形成有氣體吹出口42。在下部加熱器30a與下部加熱器30b之間所配置的氣體導入管40b中，在與下部加熱器30a、30b的發熱部34相同的高度（即、爐內空間S的下部）形成有氣體吹出口42。以下，同樣地，氣體導入管40c～40l中，在與此氣體導入管相鄰的加熱器的發熱部的對應位置形成有氣體吹出口42。此外，本實施例中，雖然在氣體導入管40形成有複數個氣體吹出口42（第5圖），不過，不侷限於像這樣的例子，例如，可以在氣體導入管40形成有在氣體導入管40的軸線方向上延伸的狹縫狀的開口。

另外，如第4圖所示，藉由針對氣體導入管40而調整氣體吹出口42的形成位置（氣體導入管40的周向上的位置），可對朝向爐內空間S吹出環境氣體的方向進行調整。本實施例中，如第1、4圖所示，從氣體吹出口42吹出氣體的方向被調整為朝向側壁14的內周面15的方向（即、爐內空間S的徑向）。由第3圖可知：從氣體導入管40a～40l各自的氣體吹出口42吹出的環境氣體從與此氣體導入管相鄰的加熱器之間通過而衝撞側壁14的內周面。

利用上述的間歇式熱處理爐10對被處理物W進行熱處理的情況下，首先，使爐床20相對於爐體12而向下方移動，接下來，使爐床20在水平方向上移動後，將被處理物W載放在爐床20上。例如，將被處理物W載放在副爐床24的上表面。其次，使爐床20在水平方向上移動而配置於爐體12的正下方後，使爐床20向上方移動而與爐體12嵌合，由此將爐內空間S密閉。當將爐內空間S密閉後，從氣體導入管40朝向爐內空間S供給環境氣體，並且，從頂壁16的排氣口將爐內空間S內的氣體排出，將爐內空間S用環境氣體進行置換。此時，從氣體導入管40的氣體吹出口42朝向爐體12的側壁14吹出環境氣體，因此，爐內空間S從側壁14側趨向爐內中心而逐漸地用環境氣體進行置換。另外，氣體導入管40a～40l中的六根氣體導入管40a、40b、40c、40g、40h、40i朝向爐內下部吹出環境氣體，氣體導入管40a～40l中的六根氣體導入管40c、40d、40e、40i、40j、40k朝向爐內中間部吹出環境氣體，氣體導入管40a～40l中的六根氣體導入管40a、40e、40f、40g、40k、40l朝向爐內上部吹出環境氣體。因此，從爐內空間S的上部至下部，均等地以短時間被置換為環境氣體。

當爐內空間S用環境氣體置換後，接下來，向加熱器30供電，一邊對被處理物W進行加熱，一邊將爐內環境升溫到規定的溫度。此時，藉由主爐床22及副爐床24進行旋轉，使得被處理物W進行公轉及自轉，被處理物W的整體被均勻地加熱。另外，加熱器30a、30b、30g、30h對被處理物W的下部進行加熱，加熱器30c、30d、30i、30j對被處理物W的中間部進行加熱，加熱器30e、30f、30k、30l對被處理物W的上部進行加熱。因此，可將被處理物W從其上部至下部無偏差地進行加熱。此外，加熱器W的輸出以預先設定的模式進行控制，據此，被處理物W的溫度按照預先設定的溫度曲線進行變化。由此，對被處理物W實施所期望的熱處理。當被處理物W的熱處理結束後，使爐床20相對於爐體12而向下方移動，從爐內空間S取出被處理物W。

此處，在對被處理物W實施熱處理時，有時將爐內空間S的環境氣體從大氣狀態置換為新的環境氣體。這種情況下，同樣地，從氣體導入管40朝向爐內空間S供給環境氣體，並且，從頂壁16的排氣口將爐內空間S內的氣體（置換前的環境氣體）排出，將爐內空間S置換為新的環境氣體。此時，向加熱器30供電，對從氣體導入管40向爐內空間S供給的環境氣體進行加熱。即，來自氣體導入管40的氣體吹出口42的環境氣體朝向爐體12的側壁14吹出，衝撞側壁14，沿著側壁14的內周面15進行流動。也從相鄰的氣體導入管40的氣體吹出口42朝向側壁14吹出環境氣體。因此，沿著側壁14流動的環境氣體接下來改變朝向爐內中心流動的方向。此時，在環境氣體流動的位置存在著加熱器30的加熱部34。因此，從氣體導入管40的氣體吹出口42所吹出的環境氣體一邊由加熱器30的發熱部34進行加熱，一邊向爐內空間S的中心流動。據此，爐內空間S藉由從氣體吹出口42吹出且由加熱器30加熱的環境氣體，而從側壁14側趨向爐中央依序進行置換。另外，從複數個氣體導入管40a～40l朝向爐內空間S供給環境氣體，因此，從爐內空間S的上部至下部無偏差地被置換為環境氣體。因此，在載放有被處理物W的位置的周邊，其環境溫度在周向及上下方向上變得不均勻係得以抑制。據此，能夠提高被處理物W的熱處理品質。

上述的間歇式熱處理爐10中，氣體導入管40和加熱器30配置於周向上錯開的位置。因此，能夠在適合於被處理物W加熱及爐內環境溫度控制的位置，配置加熱器30，另一方面，能夠在適合於爐內環境控制的位置，配置氣體導入管40。據此，能夠將爐內溫度及爐內環境控制為所期望的狀態。

另外，間歇式熱處理爐10中，從氣體導入管40的氣體吹出口42朝向爐內空間S的側壁14吹出環境氣體。據此，爐內環境從側壁14側趨向爐中心而依序置換，能夠抑制爐內環境在被處理物W的配置位置沿著周向而發生偏差。

另外，上述的實施例中，主爐床22及副爐床24係，藉由變更驅動連結方法，能夠使從氣體吹出口42吹出環境氣體的方向為與主爐床22和／或副爐床24的旋轉方向相同方向或相反方向。即，可以使主爐床22及副爐床24沿著氣體吹出方向旋轉，也可以使主爐床22及副爐床24沿著與氣體吹出方向相反的方向旋轉。或者，可以使主爐床22和副爐床24中的一者沿著氣體吹出方向旋轉，而使主爐床22和副爐床24中的另一者沿著與氣體吹出方向相反的方向旋轉。此外，不僅主爐床22和副爐床24的旋轉方向可以變更，旋轉速度也可以變更。藉由像這樣相對於氣體吹出方向而獨立地調整主爐床22和副爐床24的旋轉方向和／或旋轉速度，能夠將爐內環境及爐內溫度控制為所期望的狀態。

此外，上述的實施例所涉及的間歇式熱處理爐10中，從氣體吹出口42吹出環境氣體的方向被固定，不過，本說明書中公開的技術不侷限於像這樣的例子。例如，可以將氣體導入管40支撐為能夠相對於頂壁16進行旋轉，藉由使氣體導入管40繞著其軸線進行旋轉，可以變更從氣體吹出口42吹出環境氣體的方向。如果採用這樣的構成，則可以根據間歇式熱處理爐的運轉狀況而使環境氣體的吹出方向為與主爐床22的旋轉方向（被處理物W的公轉方向）相同或相反的方向，或者為與副爐床24的旋轉方向（被處理物W的自轉方向）相同或相反的方向。據此，能夠將被處理物W周邊的環境溫度及環境氣體控制為所期望的狀態。另外，如果採用該構成，則藉由調整氣體導入管40相對於頂壁16的旋轉角度，還能夠將環境氣體朝向爐中心進行供給。這種情況下，從氣體導入管40趨向爐中心而供給的環境氣體藉由因主爐床22及副爐床24的旋轉而公轉及自轉的被處理物W進行迅速的攪拌，能夠將爐中心的環境氣體以短時間進行置換。

另外，上述的實施例所涉及的間歇式熱處理爐10中，氣體導入管40的爐內徑向上的位置位於加熱器30與主爐床22的外周面的中間，不過，本說明書中公開的技術不侷限於像這樣的例子。例如，可以使氣體導入管40的爐內徑向上的位置為與加熱器30相同的位置，或者配置於更靠近側壁14內周面的位置。

另外，上述的間歇式熱處理爐10中，氣體導入管40配置成貫穿頂壁16，不過，本說明書中公開的技術不侷限於像這樣的例子。例如，如第6、7圖所示，可以按貫穿爐體12的側壁14的方式配置氣體導入管44。氣體導入管44可以構成為：如第9圖所示，包括水平管46和與水平管46的前端連接的垂直管48。這種情況下，水平管46貫穿側壁14，垂直管48位於爐內空間S。在垂直管48形成有複數個氣體吹出口49a、49b，複數個氣體吹出口49a、49b朝向側壁14呈開口。藉由配置像這樣的氣體導入管44，能夠朝向爐體12的側壁14吹出環境氣體。此外，如第8圖所示，氣體導入管44與上述的實施例不同，僅配置於：周向上相鄰的下部加熱器（30a、30b）、（30g、30h）之間、周向上相鄰的下部加熱器（30a、30b）、（30g、30h）之間、周向上相鄰的上部加熱器（30e、30f）、（30k、30l）之間。即，在下部加熱器30b與中間部加熱器30c之間、中間部加熱器30d與上部加熱器30e之間等、在不同的高度設置有發熱部34的相鄰的加熱器30之間，未配置氣體導入管44。據此，能夠使垂直管48的長度為與各加熱器的發熱部相同程度的長度。

藉由像這樣的構成，也能夠發揮出與上述實施例同樣的作用效果。此外，在氣體導入管44貫穿側壁14的情況下，同樣地，可以將氣體導入管44支撐為能夠相對於側壁14而繞著其軸線進行旋轉，藉由使氣體導入管44繞著其軸線進行旋轉，可以變更氣體吹出方向。

另外，上述的實施例中，氣體吹出口42的位置（高度方向上的位置）設置於與加熱器30的發熱部34相對應的位置（高度方向上的位置），不過，本說明書中公開的技術不侷限於像這樣的例子。例如，氣體吹出口可以設置於與非發熱部的位置相對應的高度，也可以設置成遍及發熱部和非發熱部。此外，在與上部加熱器或中間部加熱器相鄰的氣體導入管所設置的氣體吹出口可以設置於：未設置有上部加熱器或中間部加熱器的位置（高度）。例如，與上部加熱器相鄰的氣體導入管可以在爐內空間S的中間的高度或者下部的高度形成氣體吹出口。

以上，雖然對本說明書中公開的技術的具體例詳細地進行了說明，不過，這些只不過是示例，並不限定於申請專利範圍。申請專利範圍中記載的技術中包括將以上例示的具體例進行各種變形、變更得到的例子。另外，本說明書或圖式中說明的技術要素單獨或者藉由各種組合而發揮出技術有用性，並不限定於申請時之申請專利範圍中記載的組合。

10:間歇式熱處理爐10 12:爐體 14:側壁 15:內周面 16:頂壁 20:爐床 22:主爐床 24:副爐床 26:固定床 30:加熱器 30a,30b,30g,30h:下部加熱器 30c,30d,30i,30j:中間部加熱器 30e,30f,30k,30l:上部加熱器 32:非發熱部 34:發熱部 40:氣體導入管 40a～40l:氣體導入管 42:氣體吹出口 44:氣體導入管 46:水平管 48:垂直管 49a,49b:氣體吹出口 S:爐內空間

第1圖是實施例所涉及的間歇式熱處理爐的橫剖面圖。 第2圖是實施例所涉及的間歇式熱處理爐的縱剖面圖。 第3圖是用於說明實施例所涉及的間歇式熱處理爐中的、加熱器與氣體導入管的周向上的位置關係的圖，且是將從熱處理爐的軸線觀察側壁的狀態在周向上展開得到的圖。 第4圖是用於說明從氣體導入管吹出環境氣體的方向的圖。 第5圖是將氣體導入管和在氣體導入管所形成的氣體吹出口放大示出的圖。 第6圖是變形例所涉及的間歇式熱處理爐的橫剖面圖。 第7圖是變形例所涉及的間歇式熱處理爐的縱剖面圖。 第8圖是用於說明變形例所涉及的間歇式熱處理爐中的、加熱器與氣體導入管的周向上的位置關係的圖，且是將從熱處理爐的軸線觀察側壁的狀態在周向上展開得到的圖。 第9圖是將側壁和貫穿側壁的氣體導入管放大示出的圖。

10:間歇式熱處理爐

12:爐體

14:側壁

15:內周面

22:主爐床

24:副爐床

26:固定床

30:加熱器

40:氣體導入管

Claims (7)

1. 一種間歇式熱處理爐，其特徵在於，包括： 爐體，具備頂壁和側壁； 爐床，具備供被處理物載放的上表面； 複數個加熱器，配置在所述爐體內，並且，配置於所述側壁與所述被處理物之間，且沿著所述側壁而在周向上空出間隔地配置；以及 複數個氣體吹出口，用於向所述爐體內供給環境氣體， 由所述爐體和所述爐床形成的爐內的形狀為圓柱形狀， 所述複數個氣體吹出口在所述圓柱形狀的爐內的徑向上位於所述加熱器與所述被處理物之間，且在所述圓柱形狀的爐內的周向上位於周向上相鄰的所述加熱器之間， 從所述複數個氣體吹出口吹出氣體的氣體吹出方向為所述側壁的方向。
2. 如請求項1所述的間歇式熱處理爐，其中， 所述氣體吹出方向能夠調整。
3. 如請求項2所述的間歇式熱處理爐，更包括： 複數個氣體導入管，貫穿所述頂壁而延伸至所述爐體內， 所述氣體吹出口形成於所述氣體導入管， 所述氣體導入管被支撐為能夠相對於所述頂壁進行旋轉，藉由所述氣體導入管相對於所述頂壁進行旋轉，能夠調整所述氣體吹出方向。
4. 如請求項2所述的間歇式熱處理爐，更包括： 複數個氣體導入管，貫穿所述側壁而延伸至所述爐體內， 所述氣體吹出口形成於所述氣體導入管。
5. 如請求項1～4中的任一項所述的間歇式熱處理爐，其中， 所述複數個加熱器包括： 複數個上部加熱器，位於所述爐體內的上部； 複數個中間部加熱器，位於所述爐體內的中間部；以及 複數個下部加熱器，位於所述爐體內的下部， 所述複數個氣體吹出口包括： 複數個上部氣體吹出口，配置於與所述上部加熱器相鄰的位置； 複數個中間部氣體吹出口，配置於與所述中間部加熱器相鄰的位置；以及 複數個下部氣體吹出口，配置於與所述下部加熱器相鄰的位置。
6. 如請求項1～5中的任一項所述的間歇式熱處理爐，其中， 所述爐床的上表面具備供所述被處理物載放的載放部， 所述上表面俯視時呈圓形，能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的軸線進行旋轉。
7. 如請求項6所述的間歇式熱處理爐，其中， 所述爐床的上表面具備：供所述被處理物載放的載放部、以及不載放所述被處理物的非載放部， 所述上表面俯視時呈圓形，能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的第一軸線進行旋轉， 所述載放部俯視時呈圓形，能夠繞著從其中心通過而在上下方向上延伸的第二軸線進行旋轉， 藉由所述上表面繞著所述第一軸線進行旋轉，使得所述載放部進行公轉， 藉由所述載放部繞著所述第二軸線進行旋轉，使得所述載放部進行自轉， 所述載放部的公轉方向為與所述載放部的自轉方向一致或相反的方向， 所述氣體吹出方向為與所述載放部的自轉方向一致或相反的方向。

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